JP2010027860A - フォーカスリング及び基板載置台、並びにそれらを備えたプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被処理基板15を載置する基板載置台2上で被処理基板15を囲む位置に配置され、前記被処理基板15に対してプラズマ処理を施す際にプラズマを前記被処理基板に集束させるフォーカスリング5において、前記被処理基板のプラズマ処理中において、全周にわたって、その径方向外側領域が高温領域となり、径方向内側領域が低温領域となるよう、前記径方向内側領域と前記基板載置台2との間に熱伝達手段を設けるとともに、前記径方向外側領域と前記径方向内側領域との間に全周にわたって溝を設ける。
【選択図】図1
Description
図3は、本発明の一実施例として、プラズマ処理中に、フォーカスリング5に温度差が生じる2つの領域を形成するための構造を示した図である。このフォーカスリング5は、図3に示すように、フォーカスリング5の外周から径方向内側の全幅の約1/3の地点に、溝を全周にわたって環状に形成した構造となっている。
図9は、口径300mmのブランケットウェハにより、図4に示した構造のフォーカスリングと従来のフォーカスリングのエッチングレートについて比較実験を行った結果を示したグラフである。酸化膜のエッチングレートの比較実験結果を図9(a)に、フォトレジストのエッチングレートの比較実験結果を図9(b)に示す。横軸の0点はブランケットウェハの中心点を示し、±150の点はブランケットウェハの両端を示す。また、図9(a)の縦軸は、酸化膜のエッチングレートであり、中心の値をもとに規格化している。中心よりもエッチングレートが速くなると1より大きな値となり、遅くなると1より小さな値となる。
2 下部電極(サセプタ;載置台)
3 筒状保持部
4 筒状支持部
5 フォーカスリング
6 排気路
7 バッフル板
8 排気管
9 排気装置
10 ウェハの搬入出口
11 ゲートバルブ
12 高周波電源
13 整合器
14 給電棒
15 ウェハ(基板)
16 静電チャック
17 内部電極
18 熱媒体流路
20 配管
21 上部電極
22 ガス噴出孔
23 ガス導入管
24 ガス供給管
25 カバーリング
50a コールド部
50b ホット部
100a,100b 溝
101 熱伝達シート
102 高温化部材
103a,103b 加熱用ヒータ
104a,104b 吸着用電極
105 T型のホット部
106 ホット部
Claims (20)
- 被処理基板を載置する基板載置台上で被処理基板を囲む位置に配置され、前記被処理基板に対してプラズマ処理を施す際にプラズマを前記被処理基板に集束させるフォーカスリングにおいて、
前記被処理基板のプラズマ処理中において、全周にわたって、その径方向に温度差が生じるように構成されていることを特徴とするフォーカスリング。 - 径方向外側領域が高温領域となり、径方向内側領域が低温領域となるよう構成されていることを特徴とする請求項1に記載のフォーカスリング。
- 前記径方向外側領域と前記径方向内側領域との間に全周にわたって溝が設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載のフォーカスリング。
- 前記溝がその全周にわたり、上面及び/又は下面から内部方向に形成され、かつ外縁まで貫通せずに形成されていることを特徴とする請求項3に記載のフォーカスリング。
- 前記溝が外縁まで貫通し、2体に分割されていることを特徴とする請求項3に記載のフォーカスリング。
- ラビディンス形状に分割されたことを特徴とする請求項5に記載のフォーカスリング。
- 前記基板載置台と、該基板載置台に接する前記径方向内側領域の接触面との間に、熱伝達手段が設けられ、前記基板載置台との熱伝達により、前記低温領域が形成されることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のフォーカスリング。
- 一部に高温化部材が載置され、プラズマ処理におけるイオン衝撃により前記高温化部材が加熱され前記高温領域が形成されることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のフォーカスリング。
- 一部に段差部が設けられ、該段差部に高温化部材が前記段差部を埋めるように載置され、プラズマ処理におけるイオン衝撃により前記高温化部材が加熱され前記高温領域が形成されることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のフォーカスリング。
- 請求項1から9のいずれかに記載のフォーカスリングを備えた基板載置台。
- フォーカスリングを囲むように配置されるフォーカスリングのカバーリングの上面に、その外縁全周にわたって環状に配置された部材が載置されていることを特徴とする請求項10に記載の基板載置台。
- 処理容器内にて処理ガスを高周波電力によりプラズマ化し、該プラズマにより基板載置台上に載置された被処理基板を処理するプラズマ処理装置の基板載置台に、前記被処理基板の周囲を囲むように載置されるフォーカスリングを備えたプラズマ処理装置であって、
前記フォーカスリングは、前記被処理基板のプラズマ処理中において、その全周にわたって、径方向に、温度の異なる少なくとも2つの領域が生じるように構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記フォーカスリングの全周にわたって、外縁から径方向内側の所定点までを径方向外側領域、前記所定点から内縁までを径方向内側領域とした場合に、前記径方向外側領域の温度が、前記径方向内側領域の温度よりも高温となるように構成されていることを特徴とする請求項12に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングには、前記径方向外側領域と前記径方向内側領域との間に、その全周にわたって環状に溝が設けられていることを特徴とする請求項12又は13に記載のプラズマ処理装置。
- 前記溝がその全周にわたり、上面及び/又は下面から内部方向に形成され、かつ外縁まで貫通せずに形成されていることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ処理装置。
- 前記溝が外縁まで貫通し、2体に分割されていることを特徴とする請求項14に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングが、ラビディンス形状に分割されたことを特徴とする請求項16に記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングの一部に高温化部材が載置され、プラズマ処理におけるイオン衝撃により前記高温化部材が加熱され前記高温領域が形成されることを特徴とする請求項12から17のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記フォーカスリングの一部に段差部が設けられ、該段差部に高温化部材が前記段差部を埋めるように載置されていることを特徴とする請求項12から17のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- フォーカスリングを囲むように配置されるフォーカスリングのカバーリングの上面に、その外縁全周にわたって環状に配置された部材が載置されていることを特徴とする請求項12から19のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
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