JP2010026872A - 電算機室用空調システム - Google Patents

Abstract

【課題】機器収容用ラックに収容された機器を冷却することにより暖められた空気が機器収容用ラック間の通路空間内に混入することを防止して冷却効率の向上を図ることができるとともに、必要に応じて通路の外部のガス（前述の空気や不活性ガス）を通路空間内に導入することができる電算機室用空調システムを提供する。
【解決手段】電算機室用空調システムであって、通路を挟んで両側のラックの上面間に配置された上部遮蔽体１０と、前記通路の端部に設けられた端部遮蔽体と、を有し、これら上部遮蔽体１０及び端部遮蔽体によって通路空間が画成されており、これら上部遮蔽体１０及び端部遮蔽体の少なくとも一部には、開閉自在なガス導入部１１，１２が設けられており、ガス導入部１１、１２から前記通路空間内に外部ガスを導入する構成とされていることを特徴とする。
【選択図】図２

Description

本発明は、電算機室用空調システムに関する。

従来、ある空間の空気の流れや温度を調整するための種々の空調システムが提案されている。
これら空調システムの中には、高集約化・高発熱化の傾向にあるＯＡ機器や通信装置等が設置される電算機室内において、機器周辺の空気の流れや温度を調整する電算機室用空調システムが知られている。
電算機室用空調システムとしては、通路を挟んで対向配置された複数の機器収容用ラックと、機器収容用ラックの側方であって、通路に対向配置された空気調和装置とを備えたものがある。

このような構成のもと、空気調和装置が、冷却用空気を下方に排出すると、その冷却用空気が通路に送られて、機器収容用ラックに吸い込まれる。そして、その冷却用空気は、機器収容用ラックに収容された機器を冷却することにより暖められた後、機器収容用ラックから吹き出される。そして、その暖められて吹き出された空気は、電算機室の上方空間を流動して、空気調和装置に吸い込まれて、再び冷却され排出される。
これにより、電算機室内の空気の流れや温度がコントロールされる。

ところが、暖められて機器収容用ラックから吹き出された空気の一部は、空気調和装置に送られることなく、上方空間からダイレクトに通路に還流されてしまう場合がある。その場合、通路に還流された空気は、暖められた状態のまま、再び機器収容用ラックに吸い込まれてしまうことにより、機器の冷却効率を低下させてしまう。
そこで、対向する機器収容用ラックの間の通路の上面にわたって遮蔽板を設けるとともに通路の端部に壁部を設けて通路空間内を密閉し、通路空間内に温められた空気が混入しないように構成したものが提案されている（例えば、特許文献１の第９図参照。）。
特許第３８３５６１５号公報

ところで、前述のようにＯＡ機器や通信装置等が設置される電算機室においては、消火設備として、例えば窒素ガスといった不活性ガスを高圧で吹き付ける不活性ガス供給装置が備えられている。しかしながら、前述のように、機器収容用ラック間の通路空間を密閉するように構成した場合には、不活性ガス供給装置によって通路の外部から不活性ガスを吹き出しても、通路空間内に不活性ガスを導入しにくくなるといった問題があった。
また、機器収容用ラック間の通路空間を密閉するように構成した場合において、空気調和装置等の不調によって冷却用空気が通路空間に吹き出されなくなると、外部からの空気の流れ込みもなく、通路空間内部が負圧状態となる。すると、通路空間を形成している遮蔽板、壁部、機器収容用ラック等のうち強度の低い部分が破損してしまうおそれがあった。
一方、通路の外部に吹き出される不活性ガスや外部の空気が通路空間内に導入されるように空隙等を形成した場合には、この空隙から温められた空気が通路空間内に混入することになり、折角、遮蔽板や壁部を設けたにもかかわらず冷却効率が低下してしまうことになる。このように、従来は、冷却効率の向上と外部からのガスの導入とを両立させた電算機室用空調システムは提供されていなかった。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、機器収容用ラックに収容された機器を冷却することにより暖められた空気が機器収容用ラック間の通路空間内に混入することを防止して冷却効率の向上を図ることができるとともに、必要に応じて通路の外部のガス（前述の空気や不活性ガス等）を通路空間内に導入することができる電算機室用空調システムを提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提供する。
本発明は、電算機室内において床下に内部空間を有する通路を挟んで両側に設置され、前面から給気して上面又は背面から熱を帯びた空気を吹き出す機器収容用ラックと、空気調和装置とを備え、前記空気調和装置から吹き出された冷却用空気が、前記内部空間を流動して、前記通路に設けられた孔からさらに前記通路の床上に流動し、この冷却用空気が前記ラックに収容された機器を冷却した後、前記ラックの上方の空間を流動して前記空気調和装置に再び吸引される電算機室用空調システムであって、前記通路を挟んで両側のラックの上面間に配置された上部遮蔽体と、前記通路の端部に設けられた端部遮蔽体と、を有し、これら上部遮蔽体及び端部遮蔽体によって通路空間が画成されており、これら上部遮蔽体及び端部遮蔽体の少なくとも一部には、開閉自在なガス導入部が設けられており、このガス導入部から前記通路空間内に外部ガスを導入する構成とされていることを特徴とする。

また、本発明は、前記上部遮蔽体が、前記ラックの上面から上方に向けて延設された側壁部と、この側壁部の上部に渡された天板部と、を備えていることを特徴とする。

また、本発明は、前記ガス導入部が、前記側壁部の一部に設けられていることを特徴とする。

また、本発明は、前記ガス導入部が、前記端部遮蔽体の一部に設けられていることを特徴とする。

また、本発明は、前記外部ガスの吹き出し圧力及び前記通路空間内部の圧力を感知して前記ガス導入部を開放する制御部を備えていることを特徴とする。

また、本発明は、前記ガス導入部には、複数の帯状の羽根板がそれぞれ揺動自在に並列されており、前記ガス導入部は、複数の前記羽根板によって開閉される構成とされていることを特徴とする

また、本発明は、前記羽根板は、前記通路空間の内側に向けて揺動した際に前記ガス導入部を開放し、前記通路空間の外側に向けて揺動した際に前記ガス導入部を閉止する構成とされていることを特徴とする。

また、本発明は、前記羽根板は、前記外部ガスの吹き出し圧力によって揺動する構成とされていることを特徴とする。

また、本発明は、前記ガス導入部は、収容部の内部に巻回されて前記収容部から出没可能に配置されたロールスクリーン部によって開閉される構成とされていることを特徴とする。

本発明によれば、前記通路を挟んで両側のラックの上面間に配置された上部遮蔽体と、前記通路の端部に設けられた端部遮蔽体と、によって通路空間が密閉されているので、機器収容用ラックに収容された機器を冷却することにより暖められた空気が機器収容用ラック間の通路空間内に混入することを防止して冷却効率の向上を図ることができる。
さらに、上部遮蔽体及び端部遮蔽体の少なくとも一部には、開閉自在なガス導入部が設けられており、このガス導入部が、通路空間の外部と内部との圧力差によって開放されて通路内に外部ガスを導入する構成とされているので、必要に応じて通路空間の外部ガスを通路空間内に導入することが可能となる。

（実施形態１）
以下、本発明の第１の実施形態における電算機室用空調システムについて、図面を参照して説明する。
図１に示す電算機室用空調システム１００は、箱状に形成された電算機室１０１において利用されるものである。
まず、電算機室１０１について説明する。
電算機室１０１には、床下に内部空間５を有する二重床２を備えている。二重床２には、長手方向に延びる通路４が形成されている。二重床２には、その厚さ方向に貫通する矩形状の長孔８が形成されている。そして、長孔８の縁部の全周には、この長孔８を覆う矩形板状の孔あきパネル７が嵌め込まれている。孔あきパネル７には、厚さ方向に貫通する複数の孔が形成されている。これにより、床下の内部空間５と通路４とが、それら複数の孔を介して連通している。

次いで、電算機室１０１において利用される電算機室用空調システム１００について説明する。
電算機室用空調システム１００は、通路４を挟んで両側に対向配置されたラック（機器収容用ラック）３と、空気調和装置６と、通路４を挟んで両側のラック３の上面間に配置された上部遮蔽体１０と、通路４の端部に設けられた端部遮蔽体４０と、を備えており、ラック３と上部遮蔽体１０と端部遮蔽体４０とによって通路空間Ｓが画成されている。

ラック３は、箱状に形成されており、通信装置等の各種機器を収容するものである。これらラック３は、通路４の長手方向に沿って複数配列されている。ラック３は、互いに対向する対向面に形成された給気口(不図示)から、通路空間Ｓの空気を給気し、給気した空気を上面３ａ又は背面の吹出口から上方又は後方に向けて吹き出すようになっている。

空気調和装置６は、箱状に形成されている。この空気調和装置６は、ラック３の側方であって、通路４の長手方向の一端に対向して通路空間Ｓの外部に配置されている。そして、空気調和装置６は、下面６ｂの吹出口から冷却用空気を吹き出し、電算機室１０１の上方空間を流動する空気を、その上面６ａの吸引口から吸引し、冷却した後、再び吹出口から吹き出すようになっている。

上部遮蔽体１０は、図１及び図２に示すように、ラック３の上面から上方に向けて延設される側壁部３０と、この側壁部３０の上部に渡された天板部２０と、を備えている。
天板部２０は、枠体２１と、この枠体２１に取り付けられたロールスクリーン２２と、を備えており、ロールスクリーン２２によって開閉される開口部が、本実施形態における第１ガス導入部（ガス導入部）１１とされている。

このロールスクリーン２２は、図３に示すように、矩形状のシート部２３と、このシート部２３を収容する収容部２４と、シート部２３の先端辺の全長にわたって設けられた棒状のエンドレール２５とを備えている。シート部２３は、例えばガラスクロスなどの不燃性部材からなるものである。このシート部２３は、収容部２４内において巻回部（図示なし）に巻回されている。巻回部は、付勢部材などにより、シート部２３を巻回する方向に付勢されている。

収容部２４は、箱状に延ばされて形成されており、長手方向にわたって延びるスリットが形成されている。エンドレール２５は、前記スリットの幅寸法よりも大径に形成されており、シート部２３が全て収容部２４内に入りこまないように構成されている。
また、シート部２３には、幅方向に隣り合う他のシート部２３との隙間を覆う矩形状の遮蔽シート２６が取り付けられるようになっている。遮蔽シート２６は、例えばガラスクロスなどの不燃性部材からなっている。さらに、遮蔽シート２６の短手方向の両端には、面ファスナー部（図示なし）が設けられており、この面ファスナー部により、シート部２３に着脱可能に取り付けられるようになっている。

このような構成のロールスクリーン２２は、天板部２０の枠体２１の一辺に収容部２４が固定され、この収容部２４が固定された一辺に対向する側の辺に設けられた掛止フック２７にエンドレール２５が掛止されることによって、天板部２０の開口部、つまり、第１ガス導入部１１を閉止する構成とされている。
掛止フック２７は、揺動可能とされ、エンドレール２５の掛止を解除することができる構成とされている。この掛止フック２７の揺動動作は、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏを検知する圧力センサ２９Ａ及び通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉを検知する圧力センサ２９Ｂが接続された制御部２８によって制御されている。制御部２８は、図４に示すように、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏが通路空間の内部の圧力Ｐｉよりも所定値Ｐｓ以上高くなった場合に、掛止フック２７を揺動させてエンドレール２５の掛止を解除し、第１ガス導入部１１を開放する構成とされている。

側壁部３０は、図２に示すように、枠体３１と、この枠体３１に取り付けられたブラインド部３２と、を備えており、ブラインド部３２によって開閉される開口部が、本実施形態における第２ガス導入部１２（ガス導入部）とされている。
このブラインド部３２は、図５に示すように、複数の帯状の羽根板３３と、この羽根板３３を揺動自在に支持する支持部３４と、複数の支持部３４を固定する固定部３５と、を備えている。本実施形態では、羽根板３３が横方向に延びるようにして配置され、複数の羽根板３３が縦方向に並列されている。
また、羽根板３３の長さは支持部３４同士の間隔と略同一となるように設定されており、通常、固定部３５によって揺動しないように構成されている。

固定部３５は、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏを検知する圧力センサ３９Ａ及び通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉを検知する圧力センサ３９Ｂが接続された制御部３８によって制御されている。制御部３８は、図６に示すように、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏが通路空間の内部の圧力Ｐｉよりも所定値Ｐｓ以上高くなった場合に、固定部３５が解除されて羽根板３３が揺動可能となり、この羽根板３３が通路空間Ｓの内部と外部との圧力差によって通路空間Ｓ内部側に向けて揺動されることにより、第２ガス導入部１２が開放されることになる。

端部遮蔽体４０は、図７に示すように、通路４の端部を塞ぐように配置されており、枠体４１と、枠体４１の開口部を塞ぐパネル部４２と、枠体４１の下部に設けられたブラインド部４３と、を備えている。ブラインド部４３によって開閉される開口部が、本実施形態における第３ガス導入部１３（ガス導入部）とされている。

このブラインド部４３は、図８に示すように、複数の帯状の羽根板４４と、この羽根板４４を揺動自在に支持する支持部４５と、を備えている。本実施形態では、羽根板４４が横方向に延びるようにして配置され、複数の羽根板４４が縦方向に並列されている。
ここで、羽根板４４の縦方向（図８において上下方向）長さは、並列された支持部４５の間隔よりも長く設定されており、羽根板４４の下端が、下側に隣接する支持部４５の通路空間Ｓ側に接触することで、第３ガス導入部１３を閉止するように構成されている。

このブラインド部４３は、駆動部を備えておらず、通路空間Ｓの内部と外部との圧力差によって開閉する構成とされている。一方、外部ガスが吹き出される場合、通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉが外部の圧力Ｐｏよりも低いため、図８（ｂ）に示すように、羽根板４４が通路空間Ｓの内方へと揺動し、第３ガス導入部１３がスリット状に開放される。

次に、このように構成された本実施形態における電算機室用空調システム１００の作用について説明する。
電算機室１０１において、ラック３に収容された通信装置などが動作することにより発熱し、それら各機器が熱を帯びてしまう。そのため、動作している各機器を冷却する必要がある。
そこで、空気調和装置６の下面６ｂの吹出口から、内部空間５に冷却用空気を吹き出す。この冷却用空気は、内部空間５を通って、孔あきパネル７の複数の孔から上方（通路４）に吹き出される。そして、通路４に送られた冷却用空気は、ラック３の前面の給気口から給気され、熱交換作用により、各機器を冷却する。これにより、給気された空気は、暖められて温熱空気となる。その温熱空気は、ラック３の上面３ａ又は背面の吹出口から上方に吹き出される。さらに、吹き出された温熱空気は、電算機室１０１の上方空間を流動し、空気調和装置６の上面６ａの吸引口から吸引され、冷却された後、再び下面６ｂの吹出口から吹き出される。
これにより、電算機室１０１内の空気の流れや温度がコントロールされ、各機器の良好な動作状態が維持される。

ところで、ラック３の上面３ａ又は背面から吹き出された温熱空気は、空気調和装置６に給気される前に、通路４に還流されて、ラック３の前面から給気されてしまう場合がある。
しかし、本実施形態においては、通路４を挟んで両側のラック３の上面間に配置された上部遮蔽体１０と、通路４の端部に設けられた端部遮蔽体４０と、を備え、ラック３、上部遮蔽体１０及び端部遮蔽体４０によって通路空間Ｓが画成されているので、ラック３の上面の温熱空気が通路空間Ｓに流入することが規制される。すなわち、通路空間Ｓには、二重床２の床上から上部遮蔽体１０の天板部２０にわたって、冷却用空気で常に満たされることになる。

さらに、通路４の冷却用空気が、ラック３に給気されることなく、ダイレクトに空気調和装置６に吸引されてしまう場合がある。
しかし、本実施形態においては、通路４の端部を塞ぐようにして、端部遮蔽体４０が配置され、通路空間Ｓの外部に空気調和装置６が設置されているので、通路４に向けて吹き出された冷却用空気が空気調和装置６の設置空間に流動することが規制される。

また、電算機室１０１においては、消火設備として、例えば窒素ガスといった不活性ガスを高圧で吹き出す不活性ガス供給装置（図示なし）が備えられている。この不活性ガス供給装置が作動した場合、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏが上昇することになる。
ここで、本実施形態においては、上部遮蔽体１０の天板部２０に設けられた第１ガス導入部１１が、ロールスクリーン２２の収容部２４から巻き出されたシート部２３によって閉止されている。そして、シート部２３の先端辺に設けられたエンドレール２５を掛止する掛止フック２７の揺動動作が、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏを検知する圧力センサ２９Ａ及び通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉを検知する圧力センサ２９Ｂが接続された制御部２８によって制御される構成とされているので、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏが通路空間の内部の圧力Ｐｉよりも所定値Ｐｓ以上高くなった場合に、掛止フック２７が揺動してエンドロール２５の掛止が解除され、第１ガス導入部１１が開放され、不活性ガスが通路空間Ｓ内に導入されることになる。

また、本実施形態においては、上部遮蔽体１０の側壁部３０に設けられた第２ガス導入部１２が、複数の帯状の羽根板３３と、この羽根板３３を揺動自在に支持する支持部３４と、複数の支持部３４を固定する固定部３５と、を備えたブラインド部３２で閉止されており、これら複数の羽根板３３の揺動が、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏを検知する圧力センサ３９Ａ及び通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉを検知する圧力センサ３９Ｂが接続された制御部３８によって制御される構成とされているので、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏが通路空間の内部の圧力Ｐｉよりも所定値Ｐｓ以上高くなった場合に、羽根板３３が揺動して第２ガス導入部１２が開放され、不活性ガスが通路空間Ｓ内に導入されることになる。

さらに、本実施形態においては、端部遮蔽体４０に設けられた第３ガス導入部１３が、複数の帯状の羽根板４４と、この羽根板４４を揺動自在に支持する支持部４５と、を備えたブラインド部４３によって閉止されており、これらの羽根板４４が通路空間Ｓの内部と外部の圧力差によって揺動するように構成されているので、不活性ガスの吹き出しによって通路空間Ｓの外部の圧力が通路空間Ｓ内部の圧力よりもある程度高くなった時点で、羽根板４４が通路空間Ｓの内側に向けて揺動して第３ガス導入部１３が開放され、不活性ガスが通路空間Ｓ内に導入されることになる。

また、空気調和装置６等が故障し、通路空間Ｓへの冷却用空気の吹き出しが停止した場合には、通路空間Ｓ内部が負圧となって、通路空間Ｓを形成している上部遮蔽板１０、端部遮蔽体４０、ラック３等のうち強度の低い部分が破損してしまうおそれがある。
このような場合であっても、本実施形態によれば、端部遮蔽体４０に設けられた第３ガス導入部１３が、通路空間Ｓの内部と外部の圧力差によって揺動する羽根板４４を備えたブラインド部４３によって構成されているので、羽根板４４が通路空間Ｓ内部に向けて揺動して第３ガス導入部１３が開放され、通路空間Ｓの外部の空気が通路空間Ｓ内に導入され、負圧状態を解消することができる。

以上より、本実施形態における電算機室用空調システム１００によれば、ラック３に収容された機器を冷却することにより暖められた空気がラック３間の通路４に混入することが防止されるので、冷却効率の向上を図ることができる。
さらに、上部遮蔽体１０及び端部遮蔽体４０に、開閉自在な第１、第２、第３ガス導入部１１、１２，１３が設けられており、これら第１、第２、第３ガス導入部１１、１２，１３が、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏ及び通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉに応じて開放される構成とされているので、必要に応じて通路空間Ｓの外部からガスを通路空間Ｓ内に導入することが可能となる。
特に、本実施形態では、側壁部３０に第２ガス導入部１２が設けられているので、電算機室１０１の天井部分に不活性ガス供給装置が設けられていた場合に、効率的に不活性ガスを通路空間Ｓ内に導入することができる。

（実施形態２）
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。
図９は、本発明の第２の実施形態を示したものである。
図９において、図１から図８に記載の構成要素と同一部分については同一符号を付し、その説明を省略する。
この実施形態と上記第１の実施形態とは基本的構成は同一であり、ここでは主として異なる点について説明する。

本実施形態における上部遮蔽体の側壁部２３０に設けられた第２ガス導入部２１２は、ロールスクリーン２３２によって閉止される構成とされている。
ここで、ロールスクリーン２３２は、矩形状のシート部２３３と、このシート部２３３を収容する収容部２３４と、シート部２３３の先端辺の全長にわたって設けられた棒状のエンドレール２３５とを備えている。

このロールスクリーン２３２は、ラック３ごとに分割して設けられており、シート部２３３には、幅方向に隣り合う他のシート部２３３との隙間を覆う矩形状の遮蔽シート２３６が取り付けられるようになっている。さらに、遮蔽シート２３６の短手方向の両端には、面ファスナー部が設けられており、この面ファスナー部により、シート部２３３に着脱可能に取り付けられるようになっている。
このような構成のロールスクリーン２３２は、側壁部２３０の枠体の一辺に収容部２３４が固定され、ラック３の上面に設置された掛止フック（図示なし）にエンドレール２３５が掛止されることによって、側壁部２３０の開口部、つまり、第２ガス導入部２１２を閉止する構成とされている。
掛止フックは、揺動可能とされており、掛止されたエンドレール２３５を解放することができるように構成とされている。この掛止フックの揺動動作は、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏを検知する圧力センサ及び通路空間Ｓの内部の圧力Ｐｉを検知する圧力センサが接続された制御部によって制御されている。制御部は、図４に示すように、通路空間Ｓの外部の圧力Ｐｏが通路空間の内部の圧力Ｐｉよりも所定値Ｐｓ以上高くなった場合に、掛止フックを揺動させてエンドレール２３５の掛止を解除し、第２ガス導入部２１２を開放するように構成されている。

以上より、本実施形態における電算機室用空調システム２００によれば、前述の第１の実施形態と同様の効果を奏することができる。
また、図９に示すように、高さ寸法の異なるラック３が隣接するように設置されても、ラック３の上方空間と通路４の空間とが隙間なく仕切ることができる。したがって、上部遮蔽体１０を簡易に設置することができる。

（実施形態３）
次に、本発明の第３の実施形態について説明する。
図１０は、本発明の第３の実施形態を示したものである。
図１０において、図１から図８に記載の構成要素と同一部分については同一符号を付し、その説明を省略する。
この実施形態と上記第１の実施形態とは基本的構成は同一であり、ここでは主として異なる点について説明する。

本実施形態における上部遮蔽体３１０は、側壁部を有しておらず、ラック３の上部に天板部３２０が渡された構成とされている。この天板部３２０には、第１の実施形態と同様にロールスクリーンによって閉止された第１ガス導入部が設けられている。
また、端部遮蔽体３４０には、扉３４７が設けられており、通路空間Ｓ内への出入りが可能な構成とされている。

以上より、本実施形態における電算機室用空調システム３００によれば、上記第１実施形態と同様の効果を奏することができる。
また、側壁部を有していないため、上部遮蔽体３１０が簡易な構成となり、上部遮蔽体３１０を容易に設置することができる。

以上、本発明の一実施形態である電算機室用空調システムについて説明したが、本発明の技術的範囲はこれに限定されることはなく、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。
例えば、上部遮蔽体の天板部に第１ガス導入部を設け、側壁部に第２ガス導入部を設け、端部遮蔽体に第３ガス導入部を設けたものとして説明したが、これに限定されることはなく、上部遮蔽体及び端部遮蔽体の一部にガス導入部が設けられていればよい。

また、端部遮蔽体の下部に第３ガス導入部を設けたものとして説明したが、これに限定されることはなく、例えば図１１に示すように、ロールスクリーンによって端部遮蔽体４４０を構成してもよいし、図１２に示すように、ブラインド部によって端部遮蔽体５４０を構成してもよい。
さらに、ブラインド部として羽根板を通路空間Ｓの内部と外部の圧力差によって揺動させるものとして説明したが、これに限定されることはなく、羽根板の揺動を駆動機構によって直接制御してもよい。また、ブラインド部７３２として、図１３に示すように、羽根板７３３の長さ方向中央部に揺動支持部７３４を設けた構成のものを採用してもよい。

さらに、制御部が通路空間の外部の圧力及び内部の圧力を検知してガス導入部を開放する構成として説明したが、これに限定されることはなく、例えば通路空間の内部の温度や温度上昇率、又は、空気調和装置の故障信号等を感知してガス導入部の必要箇所を開放する構成としてもよい。

本発明に係る電算機室用空調システムの第１の実施形態を示す全体構成図である。 図１に示す電算機室用空調システムに備えられた上部遮蔽体を示す斜視図である。 図２に示す上部遮蔽体に備えられたロールスクリーンの構成を示す説明図である。 図３に示すロールスクリーンの制御フロー図である。 図２に示す上部遮蔽体に備えられたブラインド部の構成を示す説明図である。 図５に示すブラインド部の制御フロー図である。 図１に示す電算機室用空調システムに備えられた端部遮蔽体を示す斜視図である。 図７に示す端部遮蔽体に備えられたブラインド部の構成を示す説明図である。 本発明に係る電算機室用空調システムの第１の実施形態における側壁部の構成を示す斜視図である。 本発明に係る電算機室用空調システムの第３の実施形態を示す全体構成図である。 本発明に係る電算機室用空調システムの端部遮蔽体の他の構成を示す斜視図である。 本発明に係る電算機室用空調システムの端部遮蔽体の他の構成を示す斜視図である。 本発明に係る電算機室用空調システムに適用されるブラインド部の他の構成を示す説明図である。

符号の説明

１００、２００、３００ 電算機室用空調システム
１０１ 電算機室
１０、３１０ 上部遮蔽体
１１ 第１ガス導入部（ガス導入部）
１２ 第２ガス導入部（ガス導入部）
１３ 第３ガス導入部（ガス導入部）
２０，３２０ 天板部
２２、２３２，３２２ ロールスクリーン
２８、３８ 制御部
２９、３９ 圧力センサ
３０、２３０ 側壁部
３２、４３、７３２ ブラインド部
３３、４４、７３３ 羽根板
４０、４４０、５４０ 端部遮蔽体

Claims (9)

1. 電算機室内において床下に内部空間を有する通路を挟んで両側に設置され、前面から給気して上面又は背面から熱を帯びた空気を吹き出す機器収容用ラックと、空気調和装置とを備え、前記空気調和装置から吹き出された冷却用空気が、前記内部空間を流動して、前記通路に設けられた孔からさらに前記通路の床上に流動し、この冷却用空気が前記ラックに収容された機器を冷却した後、前記ラックの上方の空間を流動して前記空気調和装置に再び吸引される電算機室用空調システムであって、
   前記通路を挟んで両側のラックの上面間に配置された上部遮蔽体と、前記通路の端部に設けられた端部遮蔽体と、を有し、これら上部遮蔽体及び端部遮蔽体によって通路空間が画成されており、
   これら上部遮蔽体及び端部遮蔽体の少なくとも一部には、開閉自在なガス導入部が設けられており、このガス導入部から前記通路空間内に外部ガスを導入する構成とされていることを特徴とする電算機室用空調システム。
2. 前記上部遮蔽体が、前記ラックの上面から上方に向けて延設された側壁部と、この側壁部の上部に渡された天板部と、を備えていることを特徴とする請求項１に記載の電算機室内空調システム。
3. 前記ガス導入部が、前記側壁部の一部に設けられていることを特徴とする請求項２に記載の電算機室用空調システム。
4. 前記ガス導入部が、前記端部遮蔽体の一部に設けられていることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の電算機室用空調システム。
5. 前記外部ガスの吹き出し圧力及び前記通路空間内部の圧力を感知して前記ガス導入部を開放する制御部を備えていることを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか一項に記載の電算機室用空調システム。
6. 前記ガス導入部には、複数の帯状の羽根板がそれぞれ揺動自在に並列されており、前記ガス導入部は、複数の前記羽根板によって開閉される構成とされていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の電算機室用空調システム。
7. 前記羽根板は、前記通路空間の内側に向けて揺動した際に前記ガス導入部を開放し、前記通路空間の外側に向けて揺動した際に前記ガス導入部を閉止する構成とされていることを特徴とする請求項６に記載の電算機室用空調システム。
8. 前記羽根板は、前記外部ガスの吹き出し圧力によって揺動する構成とされていることを特徴とする請求項６又は請求項７に記載の電算機室用空調システム。
9. 前記ガス導入部は、収容部と、この収容部の内部に巻回されて前記収容部から出没可能に配置されたシート部と、を有するロールスクリーンによって開閉される構成とされていることを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の電算機室用空調システム。

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