JP2010017606A - ゼオライト分離膜の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多孔質支持体上にゼオライト膜を形成してなる分離膜の製造方法において、多孔質支持体表面にゼオライトの種結晶を担持する工程と、種結晶から水熱合成法により多孔質支持体上にゼオライト膜を形成する工程とを含み、前記多孔質支持体表面へのゼオライト種結晶の担持工程でゼオライト種結晶と共にAl2O3および/またはZrO2を担持することを特徴とするゼオライト分離膜の製造方法。
【選択図】 図1
Description
Okamoto et al. Ind. Eng. Chem. Res. 2001, 40,163-175 Kita et al. Separation Purification Technology 25(2001)261-268
A型ゼオライト種結晶(東ソー社製)を純イオン水中に分散させた懸濁液(濃度:重量%)に、粒度D50 = 0.50μmのAl2O3を0.02重量%〜1重量%添加し、この懸濁液にアルミナセラミックからなる多孔質支持管(外径16mm、内径12mm、平均細孔径=1.0μm)を浸漬し、これにゼオライトの種結晶および結合剤を担持した。
A型ゼオライト種結晶(東ソー社製)を純イオン水中に分散させた懸濁液(濃度:重量%)に、Al2O3の代わりに、粒度D50 = 0.53μm のZrO2を0.01重量%〜5重量%添加した以外、実施例1と同様の操作を行った。
A型ゼオライト種結晶(東ソー社製)を純イオン水中に分散させた懸濁液に、Al2O3およびZrO2を添加しなかった以外、実施例1と同様の操作を行った。
実施例および比較例で得られた分離膜について、分離膜の一端部を緻密質アルミナからなる封止栓(材質は特に限定されない)により封止するとともに、分離膜の他端部とこれに接続すべき管部材との接続のための、緻密質アルミナからなる接続管(材質は特に限定されない)を設けた膜モジュールを得た。
エタノール/水=90重量% / 10重量%
反応温度=75℃
CWater : 水の濃度
CEtOH : エタノール濃度
Claims (4)
- 多孔質支持体上にゼオライト膜を形成してなる分離膜の製造方法において、多孔質支持体表面にゼオライトの種結晶を担持する工程と、種結晶から水熱合成法により多孔質支持体上にゼオライト膜を形成する工程とを含み、前記多孔質支持体表面へのゼオライト種結晶の担持工程でゼオライト種結晶と共にAl2O3および/またはZrO2を担持することを特徴とするゼオライト分離膜の製造方法。
- 前記多孔質支持体表面へのゼオライト種結晶の担持工程で、ゼオライト種結晶を分散させた種結晶担持用の懸濁液にAl2O3を0.02重量%〜1重量%および/またはZrO2を0.01重量%〜5重量%添加し、同懸濁液に多孔質支持体を浸漬することを特徴とする請求項1記載のゼオライト分離膜の製造方法。
- 請求項1または2記載の方法で得られたゼオライト分離膜。
- 前記ゼオライト分離膜を具備した膜モジュール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP (1) | JP5121605B2 (ja) |
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2008
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| KR102432100B1 (ko) | 2019-05-09 | 2022-08-17 | 가부시키가이샤 미쯔이 이앤에스 머시너리 | 제올라이트막의 제조 방법 |
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