JP2010010181A - 薄膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】薄膜Rを担持させたPVDF樹脂シートフィルムFをウエハWに密着させてなるワークWKを複数枚、DMAまたはDMF溶剤L3を貯留する溶剤槽3に浸漬することでシートフィルムFのみを溶解させる。その後、アセトンによるリンス処理、純水による洗浄処理および乾燥処理を行うことで、表面に薄膜Rが形成されたウエハWを得る。
【選択図】図3
Description
2…紫外線源
3…溶剤槽
4…リンス槽
5…洗浄槽
F…シートフィルム
L3…溶剤
R…薄膜
W…半導体ウエハ(基板)
WK…ワーク(密着体)
Claims (7)
- 基板表面に樹脂材料による薄膜を形成する薄膜形成方法において、
所定の溶剤に対し可溶性を有するシートフィルムの表面に薄膜状に担持させた前記樹脂材料の層を前記基板表面に密着させる転写工程と、
前記薄膜を担持する前記シートフィルムと前記基板とを密着させた密着体を一体的に前記溶剤中に浸漬して、前記シートフィルムを前記溶剤により溶解させる溶解工程と、
前記溶解工程後に前記基板表面に残留付着した前記樹脂材料による薄膜と前記基板とを一体的に前記溶剤から取り出す取り出し工程と
を備えることを特徴とする薄膜形成方法。 - 前記溶解工程では、前記溶剤を貯留する溶剤槽内に複数の前記密着体を浸漬する請求項1に記載の薄膜形成方法。
- 前記溶解工程の後に、前記薄膜を形成された前記基板をリンス液によりリンス処理するリンス工程を備える請求項1または2に記載の薄膜形成方法。
- 前記リンス液は親水性溶媒である請求項3に記載の薄膜形成方法。
- 前記転写工程と前記溶解工程との間に、前記溶剤に対する前記樹脂材料の溶解度を低下させる難溶化工程を備える請求項1ないし4のいずれかに記載の薄膜形成方法。
- 前記シートフィルムがポリフッ化ビニリデン樹脂であり、前記溶剤がジメチルアセトアミドまたはN,N−ジメチルホルムアミドである請求項1ないし5のいずれかに記載の薄膜形成方法。
- 基板表面に樹脂材料による薄膜を形成する薄膜形成方法において、
ポリフッ化ビニリデン樹脂製のシートフィルムに薄膜状に担持させた前記樹脂材料の層を前記基板表面に密着させる転写工程と、
前記転写工程後に、前記シートフィルムをジメチルアセトアミドまたはN,N−ジメチルホルムアミドにより溶解させて、前記基板表面に前記樹脂材料の薄膜を残存させる溶解工程と
を備えることを特徴とする薄膜形成方法。
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2008
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