JP2010010154A - チャンバー部品を介してプロセス流体を導入する方法及びシステム - Google Patents
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Abstract
チャンバー部品を介してプロセス流体を処理システムに導入する方法及びシステムを提供する。
【解決手段】
チャンバー部品はチャンバー素子を有し、チャンバー素子は、その供給側の第1表面と、その処理側の第2表面とを有する。処理側は供給側の反対側である。さらに、チャンバー部品は、供給側から処理側までチャンバー素子を貫通して延在する流路を有し、この流路は、プロセス流体を受け入れるように構成された流入口と、このプロセス流体を分配するように構成された流出口とを有する。
【選択図】図8B
Description
10 処理チャンバー
20 基板ホルダー
25 基板
30、72、82 RF発生器
32、74、84、84’ インピーダンス整合回路
40、200、300、400、450、500、620 ガス分配系
45 処理空間
50 真空ポンプ系
55 コントローラ
70 上部電極
80”、630、730 表面波プラズマ(SWP)源
82’ マイクロ波発生器
210、310、410、460 チャンバー素子
212、312 開口の内面
214 第1表面
216 第2表面
220、320 開口
230、330 挿入素子
232、332、526 溝(流路)
234、334、522 流入端
236、336、524 流出端
240、340、440、462、464、520、655 ガス注入デバイス
405 処理チャンバー部品
510、658 ガス供給口
530 ガス注入系
532 プレナム
536 ガス分配プレート
538 開口
638 同軸フィード
640 内側導体
642 外側導体
643 電磁波ランチャー
644 遅波プレート
646 スロットアンテナ
648 スロット
650、750 共鳴器プレート
Claims (20)
- 処理チャンバーに結合されるように構成されたチャンバー部品であって:
供給側の第1表面と、前記供給側の反対側である処理側の第2表面とを有するチャンバー素子;及び
前記供給側から前記処理側まで前記チャンバー素子を貫通して延在する螺旋状流路であり、プロセス流体を受け入れるように構成された流入口と、該プロセス流体を分配するように構成された流出口とを有する螺旋状流路;
を有するチャンバー部品。 - 前記螺旋状流路は、気体、液体、固体粉末、気体中に浮遊した固体、液体中に浮遊した固体、若しくは液体中に浮遊した気体、又はこれらの2つ以上の組み合わせを含むプロセス流体を移送するように構成されている、請求項1に記載のチャンバー部品。
- 前記螺旋状流路は、前記供給側から前記処理側に延在する軸の周りで実質的に一巻きを為し、あるいは、前記螺旋状流路は、前記供給側から前記処理側に延在する軸の周りで一巻きより多くを為し、あるいは、前記螺旋状流路は、前記供給側から前記処理側に延在する軸の周りで一巻き未満を為し、あるいは、前記螺旋状流路は、前記供給側から前記処理側に延在する軸の周りで複数巻きを為す、請求項1に記載のチャンバー部品。
- 複数の螺旋状流路が前記供給側から前記処理側まで前記チャンバー素子を貫通して延在しており、前記複数の螺旋状流路の各々は、プロセス流体を受け入れるように構成された流入口と、該プロセス流体を分配するように構成された流出口とを有する、請求項1に記載のチャンバー部品。
- 前記複数の螺旋状流路は、前記供給側から前記処理側に延在する実質的に同一の軸の周りに形成されている、請求項4に記載のチャンバー部品。
- 前記複数の螺旋状流路は、異なる流出角度又は同一の流出角度を有する、請求項4に記載のチャンバー部品。
- 前記複数の螺旋状流路は、螺旋に関して異なる横方向寸法を有する、請求項4に記載のチャンバー部品。
- 前記チャンバー素子は、電力供給されたRF電極の表面若しくは内部に形成された誘電体部材を有し、あるいは、前記チャンバー素子は、スロット平面アンテナの表面上の共鳴器プレートを有する、請求項1に記載のチャンバー部品。
- チャンバー素子を貫通する流路を形成する方法であって:
前記チャンバー素子を貫通して前記チャンバー素子の供給側から前記チャンバー素子の処理側まで延在する、内面を有する開口を形成する段階;
前記開口の前記内面に合致するように構成された外面を有する挿入素子を形成する段階;
前記挿入素子の前記外面に1つ以上の溝を形成する段階であり、各々の溝が、前記供給側に形成された流入口と前記処理側に形成された流出口とを有するように、1つ以上の溝を形成する段階;及び
前記チャンバー素子の前記開口内に前記挿入素子を挿入する段階;
を有する方法。 - 前記開口を形成する段階は、先細形状にされた内面を有する先細の開口を形成することを有し、且つ、前記挿入する段階は、前記先細の開口の前記先細形状にされた内面が前記挿入素子の先細形状にされた外面を支持するように、前記チャンバー素子の前記先細の開口内に前記挿入素子を置くことを有する、請求項9に記載の方法。
- 前記挿入素子の前記外面に1つ以上の溝を形成する段階は、前記挿入素子の前記外面に1つ以上の螺旋状の溝を形成することを有する、請求項9に記載の方法。
- 前記チャンバー素子の前記開口内に前記挿入素子を挿入する段階は、前記チャンバー素子に前記挿入素子を圧入すること、前記チャンバー素子に前記挿入素子を熱的に取り付けること、又は前記チャンバー素子に前記挿入素子を融合させることを有する、請求項9に記載の方法。
- 前記チャンバー素子の前記開口内に前記挿入素子を挿入する段階は、前記チャンバー素子に前記挿入素子を溶接あるいはろう付けすることを有する、請求項9に記載の方法。
- 処理空間を収容する処理チャンバー;
前記処理チャンバーと流体的に連通し、前記処理チャンバーにプロセスガスの流れを導入するように構成されたプロセスガス供給系;
前記処理チャンバーに結合され、流入口を介して前記プロセスガスの流れを受け入れ、且つ前記プロセスガスの流れを前記処理空間に分配するように構成されたガス分配系であり、当該ガス分配系は前記流入口に結合されたガス注入デバイスを有し、且つ前記ガス注入デバイスは、流入端から流出端まで延在する螺旋状流路を有する、ガス分配系;
前記処理チャンバーに結合され、前記プロセスガスに晒すように前記処理チャンバー内で基板を支持するように構成されたホルダー;及び
前記処理チャンバーに結合され、前記処理チャンバーから気体を排出するように構成された真空ポンプ系;
を有する処理システム。 - 前記ガス分配系は、前記流入口を介して前記プロセスガスの流れを受け入れ、且つ、前記ガス注入デバイスを通過したプレナム内の前記プロセスガスの流れを、前記処理空間と流体的に連通した複数の開口へと分配する、ように構成されている、請求項14に記載の処理システム。
- 前記処理チャンバーに結合され、前記プロセスガスからプラズマを前記処理空間内に形成するように構成されたプラズマ生成系であり、表面又は内部に前記ガス分配系が形成されているプラズマ生成系;
を更に有する請求項14に記載の処理システム。 - 前記処理チャンバーに結合され、前記プロセスガスからプラズマを前記処理空間内に形成するように構成されたプラズマ生成系;
を更に有し、
前記プラズマ生成系は:
電力結合系、及び
前記電力結合系に結合され、前記電力結合系からの電磁エネルギーを前記処理空間に放射するように構成された電磁波ランチャーであり、共鳴器プレートを備えたスロット平面アンテナを有する電磁波ランチャー、
を有する表面波プラズマ(SWP)源であり、
前記流入口は前記スロット平面アンテナ内に形成されており、且つ
前記ガス注入デバイスは前記共鳴器プレートを貫通するように形成されている、
請求項14に記載の処理システム。 - 前記電力結合系はマイクロ波電力結合系を含み、
前記マイクロ波電力結合系は、2.45GHzのマイクロ波エネルギーを生成するように構成されたマイクロ波源、前記マイクロ波源の放出口に結合された導波路、前記導波路に結合され、前記マイクロ波源の方に戻るマイクロ波エネルギーの伝搬を防止するように構成されたアイソレータ、及び、前記アイソレータに結合され、前記マイクロ波エネルギーを同軸フィードに結合させるように構成された同軸変換器、を含み、且つ
前記同軸フィードは前記電磁波ランチャーに結合されている、
請求項17に記載の処理システム。 - 前記電力結合系は、電磁エネルギーを前記電磁波ランチャーに結合させる同軸フィードを有し、
前記スロット平面アンテナは、前記同軸フィードの内側導体に結合された一端と、前記同軸フィードの外側導体に結合された他端とを有し、且つ
前記スロット平面アンテナは、前記内側導体と前記外側導体との間の当該スロット平面アンテナの上方の第1の領域からの電磁エネルギーを、当該スロット平面アンテナの下方の第2の領域内の前記共鳴器プレートに結合させるように構成された1つ以上のスロットを含む、
請求項18に記載の処理システム。 - 前記流入口は前記内側導体を貫通するように形成されている、請求項19に記載の処理システム。
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