JP2010000719A - Film-like replica mold, its manufacturing method, and manufacturing method of film product having fine uneven structure - Google Patents

Film-like replica mold, its manufacturing method, and manufacturing method of film product having fine uneven structure Download PDF

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Inventor
Yutaka Ishihara
Masatoshi Kamata
Osamu Kawai
Katsuhiro Kojima
Yuji Matsubara
Go Morinaka
Masa Nakamura
Hideko Okamoto
Yoshihiro Uozu
雅 中村
克宏 小嶋
英子 岡本
治 川合
雄二 松原
剛 森中
豊 石原
正俊 鎌田
吉弘 魚津
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Mitsubishi Rayon Co Ltd
三菱レイヨン株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a film-like replica mold which is inexpensive and can be enlarged (rendered seamless), its manufacturing method, and a method of manufacturing film products having a fine uneven structure at low costs and at the large area (seamless).
SOLUTION: The film-like replica mold 10 has the fine uneven structure on its surface, the fine uneven structure is formed by transcribing the fine uneven structure of the surface of anodized alumina. The manufacturing method of film products having the fine uneven structure includes a step of transcribing the fine uneven structure of the surface of the film-like replica mold 10 to the surface of a film-like substrate.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、フィルム状レプリカモールド、その製造方法、および該フィルム状レプリカモールドを用いた、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法に関する。 The present invention is a film-like replica mold, a method of manufacturing the same, and with the film-like replica mold, a method of manufacturing a film product having a fine uneven structure.

凸部間の平均間隔が可視光の波長以下である微細凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。 Fine unevenness average distance is less than the wavelength of visible light between protrusions, that a means of effective anti-reflection By continuously refractive index to the refractive index of the material from the refractive index of the air is gradually increased It has been known. 該微細凹凸構造する方法としては、微細凹凸構造が形成されたモールドを用い、該モールドの微細凹凸構造を被転写体の表面に転写する、いわゆるナノインプリント法が注目されている。 As a method for the fine concavo-convex structure, using a fine uneven structure is formed mold, transferring a fine concavo-convex structure of the mold on the surface of the transfer receiving material, so-called nanoimprinting attracts attention.

また、微細凹凸構造が形成されたモールドが高価であることから、該モールドをマスターモールドとし、該マスターモールドの表面の微細凹凸構造をナノインプリント法にて被転写体に転写して、該被転写体をレプリカモールドとして用いることが行われている。 Further, since the mold fine uneven structure is formed is expensive, the mold is a master mold, and transferred to a transfer medium a fine concavo-convex structure of the master mold surface by nanoimprinting, 該被 transcript It has been made to use as a replica mold. または、マスターモールドの表面の微細凹凸構造をナノインプリント法にて被転写体に転写して、該被転写体をマザーモールドとし、該マザーモールドの表面の微細凹凸構造をナノインプリント法にて被転写体に転写して、該被転写体をレプリカモールドとして用いることが行われている(例えば、特許文献1、2)。 Or, is transferred to the transfer member a fine concavo-convex structure of the master mold surface by nanoimprinting, the 該被 transcript and mother mold, a fine unevenness of the mother mold surface onto a transfer member by nanoimprinting transfer to, the use of 該被 transfer member as a replica mold is being performed (for example, Patent documents 1 and 2).

しかし、微細凹凸構造を有するマスターモールドを用いたナノインプリント法には、下記の問題がある。 However, the nano-imprint method using a master mold having a fine concavo-convex structure has the following problems.
マスターモールドの微細凹凸構造を電子ビーム描画法やレーザー描画法で形成しているため、マスターモールドを簡便に製造できない。 Since the fine concavo-convex structure of the master mold are formed by electron beam lithography or laser lithography, it can not easily produce a master mold. そのため、マスターモールドのコストが高く、また大面積化が困難である。 Therefore, high cost of the master mold, also it is difficult to a large area. その結果、微細凹凸構造が転写されたマザーモールド、レプリカモールド、さらには微細凹凸構造が形成された反射防止フィルム等のフィルム製品もまた、コストが高く、大面積化が困難である。 As a result, a mother mold having a fine concavo-convex structure has been transferred, the replica mold, further also the film product, such as an antireflection film fine uneven structure is formed, the cost is high, it is difficult to a large area. また、大面積化する場合は、マスターモールドの微細凹凸構造を被転写体に繰り返し転写しなければならず、微細凹凸構造をシームレスで連続して形成できない。 In the case of large area, the fine concavo-convex structure of the master mold must be repeatedly transferred to the transfer medium, can not be formed continuously fine unevenness seamless.
特開2007−216493号公報 JP 2007-216493 JP 特開2007−245684号公報 JP 2007-245684 JP

本発明は、低コストであり、大面積化(シームレス化)が可能であるフィルム状レプリカモールド、その製造方法、および微細凹凸構造を有するフィルム製品を低コストで、大面積(シームレス)で製造できる方法を提供する。 The present invention is a low-cost, large area (seamless) can be a film-like replica mold, a manufacturing method at low cost film product having and fine uneven structure, it can be manufactured in large areas (Seamless) to provide a method.

本発明のフィルム状レプリカモールドは、表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであることを特徴とする。 Film-like replica mold of the present invention is a film-like replica mold having a fine uneven structure on the surface, said fine concavo-convex structure, and is formed by transferring the fine unevenness on the surface of the anodized alumina the features.
また、本発明のフィルム状レプリカモールドは、表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成された、マザーモールドの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであることを特徴とする。 The film-like replica mold of the present invention is a film-like replica mold having a fine uneven structure on the surface, the fine concavo-convex structure is formed by transferring the fine unevenness on the surface of the anodized alumina, Mother characterized in that the fine concavo-convex structure of the mold surface and is formed by transferring.

本発明のフィルム状レプリカモールドの製造方法は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写することを特徴とする。 The method of the film-like replica mold produced according to the invention is characterized in that for transferring the fine unevenness on the surface of the anodized alumina on the surface of the film-shaped molded body.
また、本発明のフィルム状レプリカモールドの製造方法は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を被転写体の表面に転写して、表面に微細凹凸構造を有するマザーモールドを作製し、該マザーモールドの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写することを特徴とする。 Further, a method of film-like replica mold production present invention, the fine uneven structure of the surface of the anodized alumina and transferred to the surface of the transfer receiving material, to prepare a mother mold having a fine uneven structure on the surface, the mother mold characterized by transferring the fine unevenness on the surface of the surface of the film-shaped molded body.

前記微細凹凸構造の転写に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いることが好ましい。 The transfer of the fine uneven structure, it is preferable to use an active energy ray curable resin composition.
前記微細凹凸構造の転写に、溶融状態のフッ素系樹脂を用いてもよい。 The transfer of the fine uneven structure may be used a fluorine-based resin in a molten state.
前記微細凹凸構造を、フィルム状のモールド本体および/または被転写体の表面に熱インプリント法にて転写してもよい。 The fine unevenness may be transferred to the surface of the film-shaped molded body and / or the transfer member by thermal imprinting.

本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法は、本発明のフィルム状レプリカモールドの表面の微細凹凸構造を、フィルム状の基材の表面に転写することを特徴とする。 The method of manufacturing a film product having a fine concave-convex structure of the present invention, the fine unevenness of the film-like replica mold surface of the present invention, characterized by transferring the surface of the film-like substrate.
本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法においては、シームレスのフィルム状レプリカモールドを用いて、連続で微細凹凸構造をフィルム状の基材の表面に転写することが好ましい。 In the production method of the film product having a fine uneven structure of the present invention, using a seamless film-like replica mold, it is preferable to transfer the fine uneven structure in a continuous on the surface of the film-like substrate.
前記シームレスのフィルム状レプリカモールドは、前記フィルム状レプリカモールドをロールへ貼着させてロール状にしたもの、またはフィルム状レプリカモールドをベルト状にしたものであることが好ましい。 Film-like replica mold of the seamless, it is preferable that the film-like replica mold by adhering to the roll that the roll, or the film-like replica mold is obtained by the belt.

本発明のフィルム状レプリカモールドは、低コストであり、大面積化(シームレス化)が可能である。 Film-like replica mold of the present invention is a low cost, it can have a large area (seamless).
本発明のフィルム状レプリカモールドの製造方法によれば、フィルム状レプリカモールドを低コストで、大面積(シームレス)で製造できる。 According to the manufacturing method of the film-like replica mold of the present invention, the film-like replica mold at low cost, can be produced in a large area (seamless).
本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法によれば、微細凹凸構造を有するフィルムを、低コストで、大面積(シームレス)で製造できる。 According to the manufacturing method of the film product having a fine uneven structure of the present invention, a film having a fine uneven structure, a low cost, can be produced in a large area (seamless).

本明細書において、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。 In the present specification, (meth) acrylate means acrylate or methacrylate. また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。 The active energy ray refers to visible rays, ultraviolet rays, electron beams, plasma, heat rays (infrared rays) and the like.

〔第1の実施形態〕 First Embodiment
本発明の第1の実施形態は、陽極酸化アルミナをマスターモールドとし、該マスターモールドを用いてフィルム状レプリカモールドを製造する実施形態である。 A first embodiment of the present invention, the anodized alumina as a master mold, which is an embodiment for producing a film-like replica mold using the master mold.

<フィルム状レプリカモールド> <Film-like replica mold>
図1は、本発明のフィルム状レプリカモールドの一例を示す断面図である。 Figure 1 is a cross-sectional view showing an example of a film-like replica mold of the present invention. フィルム状レプリカモールド10は、フィルム状のモールド本体12と、モールド本体12の表面に形成された、微細凹凸構造を有する樹脂膜14とを有する。 Filmy replica mold 10 has a film-like molded body 12, formed on the surface of the mold body 12, and a resin film 14 having a fine uneven structure. また、フィルム状レプリカモールド10は表面に微細凹凸構造を形成されたフィルム状のモールド本体12のみで形成されていてもよい。 The film-like replica mold 10 may be formed only in the film-shaped mold body 12 formed with fine unevenness on the surface.

(モールド本体) (Mold body)
モールド本体12は、光を透過できるフィルムである。 Mold body 12 is a film that can transmit light.
モールド本体12の材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。 The material of the mold body 12, acrylic resin, polycarbonate, styrene resin, polyester, cellulose-based resin (triacetyl cellulose), polyolefin, alicyclic polyolefin and the like.

モールド本体12は、所定長の枚葉フィルムであってもよく、不定長の帯状(ウェブ状)フィルムであってもよい。 The mold body 12 may be a sheet film having a predetermined length, it may be a band-like (like web) film indefinite length. 大面積化(シームレス化)の点からは、帯状フィルムが好ましい。 In terms of large-area (seamless), filmstrip is preferred.

(樹脂膜) (Resin film)
硬化樹脂膜14は、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物またはフッ素系樹脂からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。 Cured resin film 14 is a film made of a cured product or a fluorine-based resin of the active energy ray curable resin composition which will be described later, has a fine uneven structure on the surface.
微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物またはフッ素系樹脂からなる複数の凸部16を有する。 Fine unevenness has been formed by transferring the fine unevenness on the surface of the anodized alumina having a plurality of convex portions 16 made of a cured product or a fluorine-based resin of the active energy ray curable resin composition.

微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の凸部16が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。 The fine unevenness, substantially conical, lined plurality of protrusions 16, such as a pyramid shape, a so-called moth-eye structure is preferable. 凸部16間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。 Moth-eye structure spacing between the convex portions 16 are equal to or less than the wavelength of visible light, to be a means of effective anti-reflection By continuously refractive index to the refractive index of the material from the refractive index of the air is gradually increased Are known.

凸部16間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましい。 Average distance between the convex portions 16, the wavelength of visible light or less, that is preferably not more than 400 nm. 陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部16を形成した場合、凸部16間の平均間隔は100nm程度となることから、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。 When forming the projecting portion 16 by using a mold of anodized alumina, since the average interval between the convex portion 16 is about 100 nm, more preferably not more than 200 nm, and particularly preferably 150 nm.

凸部16間の平均間隔は、凸部16の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましい。 Average distance between the convex portion 16, from the viewpoint of the ease of formation of the convex portion 16 is preferably at least 20 nm.
凸部16間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部16間の間隔(凸部16の中心から隣接する凸部16の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。 Average distance between the convex portions 16, the spacing between the convex portions 16 adjacent the electron microscopic observation (distance to the center of the convex portions 16 adjacent the center of the convex portion 16) was measured at 50 points, the average of these values one in which the.

凸部16の高さは、平均間隔が100nmの場合は、80〜500nmが好ましく、120〜400nmがより好ましく、150〜300nmが特に好ましい。 Height of the convex portion 16, if the average interval is 100 nm, preferably from 80 to 500 nm, more preferably 120~400Nm, 150 to 300 nm is particularly preferred. 凸部16の高さが80nm以上であれば、得られるフィルム製品の反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。 If the height of the convex portion 16 is 80nm or more, the reflectance of the resultant film product becomes sufficiently low, and is small wavelength dependence of the reflectance. 凸部16の高さが500nm以下であれば、凸部16の耐擦傷性が良好となる。 If the height of the convex portion 16 is 500nm or less, the scratch resistance of the convex portion 16 is improved.
凸部16の高さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときに凸部16の最頂部と、凸部16間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。 Height of the convex portion 16 is a value obtained by measuring the distance between the highest portion of the convex portion 16, and the lowermost portion of the recess present between the convex portions 16 when observed with a magnification of 30,000 by electron microscopy .

凸部16のアスペクト比(凸部16の高さ/凸部16間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が特に好ましい。 The aspect ratio of the protrusions 16 (average interval between the height / convex portions 16 of the convex portion 16) is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, 1.5 to 3 .0 is particularly preferred. 凸部16のアスペクト比が1.0以上であれば、得られるフィルム製品の反射率が十分に低くなる。 If the aspect ratio of the protrusions 16 is 1.0 or more, the reflectance of the resultant film product is sufficiently low. 凸部16のアスペクト比が5.0以下であれば、凸部16の耐擦傷性が良好となる。 If the aspect ratio of the protrusions 16 is 5.0 or less, the scratch resistance of the convex portion 16 is improved.

凸部16の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部16の断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部16の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。 The shape of the convex portion 16, the shape of the cross-sectional area of ​​the direction of the convex portion 16 perpendicular to the height direction increases continuously in the depth direction from the outermost surface, i.e., the height direction of the cross-sectional shape of the convex portion 16, triangular, trapezoidal, the shape of the bell-shaped or the like.

<フィルム状レプリカモールドの製造方法> <Method of producing a film-like replica mold>
フィルム状レプリカモールド10は、例えば、図2に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。 Filmy replica mold 10, for example, by using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2, are prepared as follows.
回転する、表面に微細凹凸構造(図示略)を有するロール状モールド22と、ロール状モールド22の表面に沿って移動する帯状のモールド本体12との間に、タンク24から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。 Rotates, the roll-like mold 22 having a fine concavo-convex structure (not shown) on the surface, between the belt-like mold body 12 which moves along the surface of the roll-like mold 22, the active energy ray curable resin from the tank 24 supplying the composition.

ロール状モールド22と、空気圧シリンダ26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、モールド本体12および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、モールド本体12とロール状モールド22との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド22の微細凹凸構造の凹部内に充填する。 A roll-shaped mold 22, between the nip roll 28 of the nip pressure is adjusted by a pneumatic cylinder 26, the mold body 12 and the active energy ray curable resin composition nip, the active energy ray curable resin composition, the mold and at the same time spread to a uniform between the body 12 and the roll-shaped mold 22 is filled in the recess of the fine unevenness of the rolled mold 22.

ロール状モールド22の下方に設置された活性エネルギー線照射装置30から、モールド本体12を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状モールド22の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜14を形成する。 An active energy ray irradiation device 30 installed below the rolled mold 22, the active energy ray is irradiated, curing the active energy ray curable resin composition to the active energy ray-curable resin composition through the mold body 12 by forming a resin film 14 which fine unevenness of the surface of the roll-shaped mold 22 is transferred.
剥離ロール32により、表面に樹脂膜14が形成されたモールド本体12を剥離することによって、フィルム状レプリカモールド10を得る。 The peeling roll 32, by peeling off the mold body 12 in which the resin film 14 is formed on the surface to obtain a film-like replica mold 10.

活性エネルギー線照射装置30としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cm が好ましい。 The active energy ray irradiation device 30, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp are preferable, irradiation energy amount in this case is, 100~10000mJ / cm 2 is preferred.

また、フィルム状レプリカモールド10は、例えば、図3に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。 The film-like replica mold 10, for example, by using the manufacturing apparatus shown in FIG. 3, is prepared as follows.
回転するロール状モールド22と、ロール状モールド22の表面に沿って移動する帯状のモールド本体12との間に、押出機のダイス64から溶融状態のフッ素系樹脂を供給する。 A roll-shaped mold 22 rotating, between the belt-like mold body 12 which moves along the surface of the roll-like mold 22, and supplies a fluorine-based resin in a molten state from a die 64 of the extruder.

ロール状モールド22と、空気圧シリンダ26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、モールド本体12および溶融状態のフッ素系樹脂をニップし、溶融状態のフッ素系樹脂を、モールド本体12とロール状モールド22との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド22の微細凹凸構造の凹部内に充填する。 A roll-shaped mold 22, between the nip roll 28 of the nip pressure is adjusted by a pneumatic cylinder 26, nipping the mold body 12 and a fluorine-based resin in a molten state, a fluorine-based resin in a molten state, and the mold body 12 rolls and at the same time spread to a uniform between Jo mold 22 is filled in the recess of the fine unevenness of the rolled mold 22.

ロール状モールド22の表面に沿って移動させながらフッ素系樹脂を冷却、固化させることによって、ロール状モールド22の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜14を形成する。 While moving along the surface of the roll-like mold 22 cooled fluororesin, by solidifying, to form a resin film 14 which the fine uneven structure of the surface is transferred to a roll mold 22.
剥離ロール32により、表面に樹脂膜14が形成されたモールド本体12を剥離することによって、フィルム状レプリカモールド10を得る。 The peeling roll 32, by peeling off the mold body 12 in which the resin film 14 is formed on the surface to obtain a film-like replica mold 10.

また、フィルム状レプリカモールド10は、例えば、図4に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。 The film-like replica mold 10, for example, by using the manufacturing apparatus shown in FIG. 4, are prepared as follows.
回転するロール状モールド22と、モールド本体12の接触面において、モールド本体12を構成する樹脂のガラス転移点以上になるようにモールド本体12を加熱する。 A roll-shaped mold 22 rotating, heated at the contact surface of the mold body 12, the mold body 12 so that the above glass transition point of the resin constituting the mold body 12.

ロール状モールド22と、空気圧シリン26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、モールド本体12をニップし、軟化状態にあるモールド本体12の樹脂を、ロール状モールド22の微細凹凸構造の凹部内に充填する。 A roll-shaped mold 22, between the nip roll 28 of the nip pressure is adjusted by a pneumatic cylinder 26, the mold body 12 to nip the mold body 12 in a softened state of the resin, the fine unevenness of the rolled mold 22 filling in the recess.

ロール状モールド22の表面に沿って移動させながらモールド本体12の樹脂をガラス転移点以下に冷却、固化させることによって、ロール状モールド22の表面の微細凹凸構造をモールド本体12の表面に形成する。 While moving along the surface of the roll-like mold 22 cooled resin mold body 12 below the glass transition point, by solidifying, to form a fine concavo-convex structure on the surface of the roll-like mold 22 to the surface of the mold body 12.
剥離ロール32により、表面に微細凹凸構造が形成されたモールド本体12を剥離することによって、フィルム状レプリカモールド10を得る。 The peeling roll 32, by peeling off the mold body 12 having a fine uneven structure on the surface is formed to obtain a film-like replica mold 10.

また、フィルム状レプリカモールドの製造方法は、ロール状モールドを用いた連続式であってもよく、平板状モールドを用いたバッチ式であってもよい。 A method of manufacturing a film-like replica mold can be a continuous type using a roll-shaped mold, or may be a batch type using a flat mold.

(ロール状モールド) (Roll-shaped mold)
ロール状モールド22は、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドである。 The roll mold 22 is a mold having an anodized alumina on the surface. 表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、大面積化が可能であり、作製が簡便である。 Mold having anodized alumina on the surface is can have a large area, making is simple.

陽極酸化アルミナは、アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト)であり、表面に複数の細孔(凹部)を有する。 Anodized alumina is an oxide film of porous aluminum (alumite), having a plurality of pores (recesses) on the surface.

表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、例えば、下記(a)〜(e)工程を経て製造できる。 Mold having anodized alumina on the surface, for example, it can be produced through the following (a) ~ (e) step.
(a)ロール状のアルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。 (A) an electrolyte in the form of aluminum roll, forming an oxide film by anodic oxidation under a constant voltage.
(b)酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。 (B) an oxide film is removed, forming a pore generating points of anodizing.
(c)ロール状のアルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。 (C) an electrolyte in the form of aluminum roll, anodized again, forming an oxide film having pores in the pore generating points.
(d)細孔の径を拡大させる工程。 Step (d) to expand the diameter of the pores.
(e)前記(c)工程と(d)工程を繰り返し行う工程。 (E) the step (c) and step (d) repeating the steps.

(a)工程: Step (a):
図5に示すように、アルミニウム34を陽極酸化すると、細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。 As shown in FIG. 5, when the aluminum 34 is anodized, an oxide film 38 having pores 36 is formed.
アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。 Purity aluminum is preferably at least 99%, more preferably at least 99.5%, particularly preferably at least 99.8%. アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。 When the purity of aluminum is low, when anodized, or uneven structure sized to scatter visible light is formed by segregation of impurities, regularity of pores obtained by the anodization may be lowered.
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。 As an electrolytic solution, sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合: When using the oxalic acid as an electrolytic solution:
シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。 The concentration of oxalic acid is preferably equal to or less than 0.7M. シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。 If the concentration of oxalic acid is more than 0.7M, there may be a surface of the oxide film becomes too high current value becomes rough.
化成電圧が30〜60Vの時、周期が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。 When the formation voltage is 30~60V, cycle can be obtained anodized alumina having a high pore regularity of 100 nm. 化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。 Formation voltage tends to increase even lower with regularity lower than this range.
電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。 Temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or less, more preferably 45 ° C. or less. 電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。 If the temperature of the electrolytic solution is higher than 60 ° C., a phenomenon so-called "scorching" or broken pores, may be distorted or regularity of the pores melt surface.

硫酸を電解液として用いる場合: When using sulfuric acid as the electrolyte solution:
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。 The concentration of sulfuric acid is preferably not more than 0.7M. 硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。 If the concentration of sulfuric acid is more than 0.7M, it may not be maintained a constant voltage becomes too high current.
化成電圧が25〜30Vの時、周期が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。 When the formation voltage is 25~30V, can be periodically obtain an anodized alumina having a high pore regularity of 63 nm. 化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。 High formation voltage than this range regularity be also lower it tends to decrease.
電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がよりに好ましい。 Temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or less, preferably more that 20 ° C. or less. 電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。 If the temperature of the electrolytic solution is more than 30 ° C., a phenomenon so-called "scorching" or broken pores, it may be distorted or regularity of the pores melt surface.

(b)工程: (B) Step:
図5に示すように、酸化皮膜38を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点40にすることで細孔の規則性を向上することができる。 As shown in FIG. 5, an oxide film 38 is removed once, which can improve the regularity of the pores by the pore generating points 40 for anodization.

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。 As a method for removing the oxide film, without dissolving the aluminum, and a method of removing dissolved in a solution which selectively dissolves the oxide film. このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。 As such a solution, for example, chromic acid / phosphoric acid mixture and the like.

(c)工程: (C) process:
図5に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム34を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。 As shown in FIG. 5, the aluminum 34 is removed the oxide film again to anodic oxidation, oxide film 38 having a cylindrical pores 36 are formed.
陽極酸化は、(a)工程と同様な条件で行えばよい。 Anodization may be carried out under the same conditions as step (a). 陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。 It is possible to obtain a deep pores the longer the anodization time.

(d)工程: Step (d):
図5に示すように、細孔36の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。 As shown in FIG. 5, the processing for enlarging the diameter of the pores 36 (hereinafter, referred to as the pore diameter enlargement treatment.) Is performed. 細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。 Pore ​​diameter enlargement process is a process to expand the diameter of the pores obtained by immersing the anodized in a solution that dissolves the oxide film. このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。 Such solutions include, for example, aqueous phosphoric acid of about 5 mass%.
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。 The longer the time of the pore diameter enlargement process, the pore size is increased.

(e)工程: (E) steps:
図5に示すように、(c)工程の陽極酸化と、(d)工程の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔36を有する陽極酸化アルミナが形成され、表面に陽極酸化アルミナを有するモールド(ロール状モールド22)が得られる。 As shown in FIG. 5, has an anode oxidation of step (c), (d) is repeated a pore diameter enlargement treatment step, the pore 36 having a shape diameter continuously decreases in the depth direction from the opening anodized alumina is formed, a mold having anodized alumina on the surface (rolled mold 22) is obtained.
繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。 Number of repetitions is preferably at least 3 times in total, more preferably at least 5 times. 繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された微細凹凸構造の反射率低減効果は不十分である。 The following number of repetitions is two, since the diameter of the non-continuous pores is reduced, the reflectance reducing effect of such a pore fine unevenness fabricated using anodized alumina having is insufficient .

陽極酸化アルミナの表面は、樹脂膜14またはモールド本体12との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。 The surface of the anodized alumina, as the separation of the resin film 14 or the mold body 12 is facilitated, may be treated with a release agent. 処理方法としては、例えば、シリコーン樹脂またはフッ素含有ポリマーをコーティングする方法、フッ素含有化合物を蒸着する方法、フッ素含有シランカップリング剤またはフッ素含有シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。 As processing methods, for example, a method of coating a silicone resin or fluorine-containing polymer, a method of depositing a fluorine-containing compound, and a method of coating a fluorine-containing silane coupling agent or a fluorine-containing silicone-based silane coupling agents.

細孔36の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。 The shape of the pores 36, a substantially conical shape, pyramid shape, cylindrical shape, and the like, conical shape, as such pyramid, the depth in the direction of the pores sectional area is the outermost surface perpendicular to the depth direction of shape that continuously decreases in the direction is preferable.
細孔36間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましい。 Average distance between the pores 36, the wavelength of visible light or less, that is preferably not more than 400 nm. 細孔36間の平均間隔は、20nm以上が好ましい。 Average distance between the pores 36 is preferably at least 20 nm.
細孔36間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔36間の間隔(細孔36の中心から隣接する細孔36の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。 Average distance between the pores 36, the distance between the pores 36 adjacent the electron microscopy (distance to the center of the pore 36 adjacent the center of the pores 36) was measured at 50 points, the average of these values one in which the.

細孔36の深さは、平均間隔が100nmの場合、80〜500nmが好ましく、120〜400nmがより好ましく、150〜300nmが特に好ましい。 The depth of the pores 36, if the average interval is 100 nm, preferably from 80 to 500 nm, more preferably 120~400Nm, 150 to 300 nm is particularly preferred.
細孔36の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときに細孔36間に存在する凸部の最頂部と、細孔36の最底部との間の距離を測定した値である。 The depth of the pores 36, and the highest portion of the convex portion present between the pores 36 when observed at a magnification of 30,000 by electron microscopy, a value obtained by measuring the distance between the lowest portion of the pores 36 is there.
細孔36のアスペクト比(細孔の深さ/細孔間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が特に好ましい。 The aspect ratio of the pores 36 (average spacing between the pores of the depth / pores) is preferably from 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, 1.5 to 3.0 It is particularly preferred.
図5に示すような細孔36を転写して形成された硬化樹脂膜14の表面は、いわゆるモスアイ構造となる。 The surface of the cured resin film 14 formed by transferring the pores 36 as shown in FIG. 5, a so-called moth-eye structure.

また、ロール状モールドは、平板状モールドを円筒状に巻き付けた形態のものであってもよいが、シームレスで連続的な製造を考えるとロール状アルミニウムから得るロール状モールドのほうが好ましい。 Further, a roll mold, the plate-like mold may be of a form wound into a cylindrical shape but, given the continuous production seamless towards the roll-like mold obtained from a roll of aluminum are preferred.
平板状モールドは、平板状アルミニウムを用いてロール状モールド22と同様な上述の方法で製造できる。 Flat mold may be prepared in a similar above-described method and a roll mold 22 by using a flat aluminum.

(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物) (Active energy ray curable resin composition)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。 The active energy ray curable resin composition comprises a polymerizable compound and a polymerization initiator.
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。 As the polymerizable compound, a monomer having a radically polymerizable bond and / or cationically polymerizable bond in the molecule, oligomer and reactive polymer.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。 The active energy ray curable resin composition, non-reactive polymers may contain an active energy ray sol-gel reaction composition.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。 Examples of the monomer having a radically polymerizable bond, monofunctional monomer, a polyfunctional monomer.
単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル( Examples of the monofunctional monomer, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n- butyl (meth) acrylate, i- butyl (meth) acrylate, s- butyl (meth) acrylate, t- butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( タ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。 Data) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate of (meth) acrylate derivative; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, alpha - styrene derivatives such as methylstyrene, (meth) acrylamide, N- dimethyl (meth) acrylamide, N- diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide, (meth) acrylamide derivatives. これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 These may be used alone, or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−( Examples of the polyfunctional monomer include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, ethylene isocyanurate oxide-modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxy polyethoxy phenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxy ethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( タ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド Data) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy ) butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct of bisphenol a di (meth) acrylate, propylene oxide adduct of bisphenol a di (meth) acrylate, hydroxypivalic acid neopentyl glycol di (meth) acrylate, divinylbenzene, difunctional monomers such as methylene bis-acrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide 性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。 Succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid; sex tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide-modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide-modified triacrylate, trifunctional monomers such as isocyanuric acid ethylene oxide-modified tri (meth) acrylate condensation reaction mixture, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethane tetra (meth) tetrafunctional or higher monomers such as acrylate; bifunctional or higher urethane acrylate, difunctional or more polyester acrylate. これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。 These may be used alone, or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。 Examples of the monomer having a cationically polymerizable bond, an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, and a monomer having a vinyloxy group, a monomer having an epoxy group is particularly preferable.

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。 The oligomers or reactive polymers, unsaturated polyesters condensates of polyhydric alcohols and unsaturated dicarboxylic acids, polyesters (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, a cationic polymerization type epoxy compounds, alone or a copolymer of the aforementioned monomers having a radically polymerizable bond in a side chain, and the like.

非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマーが挙げられる。 The non-reactive polymers, acrylic resins, styrene resins, polyurethane, cellulose resin, polyvinyl butyral, polyesters, thermoplastic elastomers.
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。 The active energy ray sol-gel reaction composition, alkoxysilane compounds, alkyl silicate compounds, and the like.

アルコキシシラン化合物としては、下記式(1)の化合物が挙げられる。 Examples of alkoxysilane compounds include compounds of formula (1).
11 Si(OR 12・・・(1)。 R 11 x Si (OR 12) y ··· (1).
ただし、R 11 、R 12は、それぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、x、yは、x+y=4の関係を満たす整数を表す。 However, R 11, R 12 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, x, y represents an integer satisfying the relation of x + y = 4.

アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。 Examples of alkoxysilane compounds include tetramethoxysilane, tetra -i- propoxysilane, tetra -n- propoxysilane, tetra -n- butoxysilane, tetra -sec- butoxysilane, tetra -t- butoxysilane, methyltriethoxysilane, methyl tripropoxysilane, methyl tributoxysilane silane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, trimethyl-butoxy silane, and the like.

アルキルシリケート化合物としては、下記式(2)の化合物が挙げられる。 The alkyl silicate compounds include compounds of the following formula (2).
21 O[Si(OR 23 )(OR 24 )O] 22・・・(2)。 R 21 O [Si (OR 23 ) (OR 24) O] z R 22 ··· (2).
ただし、R 21 〜R 24は、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは、3〜20の整数を表す。 However, R 21 to R 24 each represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, z is an integer of 3 to 20.

アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。 The alkyl silicate compounds, methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n- propyl silicate, n- butyl silicate, n- pentyl silicate, and acetyl silicate, and the like.

光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4'−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイル When using a light curing reaction, as the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p- methoxy benzophenone, 2,2-diethoxy acetophenone, alpha, alpha-dimethoxy -α- phenylacetophenone, methylphenyl glyoxylate, ethylphenyl glyoxylate, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl - carbonyl compounds 1-one and the like; tetramethylthiuram monosulfide, sulfur compounds such as tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenyl phosphine oxide, benzoyl ジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。 Diethoxy phosphine oxide, and the like. これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 These may be used alone or in combination of two or more thereof.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリ When using an electron beam curing reaction, the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethyl benzophenone, methyl ortho-benzoyl benzoate, 4-phenyl benzophenone, t- butyl anthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethyl thioxanthone, isopropyl thioxanthone, thioxanthone such as 2,4-dichloro thioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-benzyl dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl - phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4 Moruhori フェニル)−ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。 - phenyl) acetophenone such as butanone; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin ethers such as benzoin isobutyl ether; 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) - 2,4,4-trimethylpentyl phosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) - acylphosphine oxides such as triphenylphosphine oxide; methylbenzoyl formate, 1,7-bis acridinyl heptane, 9-phenyl acridine, and the like. これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 These may be used alone or in combination of two or more thereof.

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。 When using a thermosetting reaction, a thermal polymerization initiator, for example, methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t- butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t- butyl peroxy octoate, t- butyl peroxybenzoate, organic peroxides such as lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N to the organic peroxide, N- dimethylaniline, N, N- dimethyl -p- redox polymerization initiator combining amines such as toluidine and the like.

重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。 The amount of the polymerization initiator, the polymerizable compound 100 parts by weight, preferably 0.1 to 10 parts by weight. 重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。 If the amount is less than 0.1 part by weight of the polymerization initiator, the polymerization is difficult to proceed. 重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。 If the amount of the polymerization initiator exceeds 10 parts by weight, the cured film is colored or mechanical strength may be lowered.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤;微粒子、少量の溶剤を含んでいてもよい。 The active energy ray curable resin composition, if necessary, an antistatic agent, a release agent, additives of fluorinated compounds for improving stain resistance; fine particles may contain a small amount of solvent.

(フッ素系樹脂) (A fluorine-containing resin)
フッ素系樹脂としては、フッ化ビニル樹脂、三フッ化塩化エチレン−エチレン共重合樹脂、三フッ化塩化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、四フッ化エチレン−エチレン共重合樹脂、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合樹脂、四フッ化エチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合樹脂、四フッ化エチレン樹脂等が挙げられ、市販品としてはAF(デュポン社製)、サイトップ(旭硝子社製)等のフッ素樹脂が挙げられる。 The fluorine-based resin, polyvinyl fluoride, trifluorochloroethylene - ethylene copolymer resins, trifluorochloroethylene resins, vinylidene fluoride resins, tetrafluoroethylene - ethylene copolymer resin, tetrafluoroethylene - six hexafluoropropylene copolymer resin, tetrafluoroethylene - perfluoroalkyl vinyl ether copolymer resin, include tetrafluoroethylene resin, etc., as commercially available products (manufactured by DuPont) AF, CYTOP (Asahi Glass Co., Ltd.), such as fluorocarbon resins.

以上説明したフィルム状レプリカモールド10にあっては、表面の微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであるため、低コストであり、かつ大面積化(シームレス化)が可能である。 Or In the film-like replica mold 10 described, since the fine uneven structure of the surface, and is formed by transferring the fine unevenness on the surface of the anodized alumina, low cost, and large area (seamless) is possible.

<微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法> <Method of producing a film product having a fine uneven structure>
微細凹凸構造を有するフィルム製品は、例えば、図6に示す製造装置を用いて、下記のように連続式で製造される。 Film products having a fine uneven structure, for example, by using the manufacturing apparatus shown in FIG. 6, is manufactured in a continuous manner as described below.
フィルム状レプリカモールド10をロール66に貼着させ、ロール状レプリカモールド68とする。 The film-like replica mold 10 is adhered to the roll 66, the roll-like replica mold 68.

ロール状レプリカモールド68と、ロール状レプリカモールド68の表面に沿って移動する帯状フィルムの基材48との間に、タンク24から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。 A roll-like replica mold 68, between the base material 48 of the film strip moving along the surface of the roll-like replica mold 68, and supplies an active energy ray curable resin composition from the tank 24.

ロール状レプリカモールド68と、空気圧シリンダ26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、基材48および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、基材48とロール状レプリカモールド68との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状レプリカモールド68の微細凹凸構造の凸部間に充填する。 A roll-like replica mold 68, between the nip roll 28 of the nip pressure is adjusted by a pneumatic cylinder 26, nipping the substrate 48 and the active energy ray curable resin composition, an active energy ray curable resin composition, and at the same time spread to a uniform between the substrate 48 and the roll-like replica mold 68 is filled between the convex portions of the fine unevenness of the rolled replica mold 68.

ロール状レプリカモールド68の下方に設置された活性エネルギー線照射装置30から、基材48を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状レプリカモールド68の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜60を形成する。 An active energy ray irradiation device 30 installed below the rolled replica mold 68, the active energy ray is irradiated to the active energy ray curable resin composition through the substrate 48, curing the active energy ray curable resin composition it allows to form the resin film 60 having a fine uneven structure on the surface of the roll-like replica mold 68 is transferred.
剥離ロール32により、表面に樹脂膜60が形成された基材48を剥離することによって、微細凹凸構造を有するフィルム製品62を得る。 The peeling roll 32, by peeling off the base material 48 of the resin film 60 is formed on the surface to obtain a film product 62 having a fine uneven structure.

活性エネルギー線照射装置30としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cm が好ましい。 The active energy ray irradiation device 30, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp are preferable, irradiation energy amount in this case is, 100~10000mJ / cm 2 is preferred.

また、微細凹凸構造を有するフィルム製品は、例えば、図7に示す製造装置を用いて、下記のようにして連続式で製造される。 The film product having a fine uneven structure, for example, by using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, is manufactured in a continuous as follows.
無端ベルト42を2本のロール44に懸架した下側ベルトマシン46の上面に沿って移動する帯状フィルムの基材48の表面にタンク50から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。 Supplying the substrate 48 surface in the tank 50 the active energy ray curable resin composition from the film strip moving along the upper surface of the lower belt machine 46 was suspended endless belt 42 to the two rolls 44.

下側ベルトマシン46と、表面にフィルム状レプリカモールド10が貼着された無端ベルト52を2本のロール54に懸架した上側ベルトマシン56との間で、基材48および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物、基材48とフィルム状レプリカモールド10との間に均一に行き渡らせると同時に、フィルム状レプリカモールド10の微細凹凸構造の凸部間に充填する。 A lower belt machine 46, an endless belt 52 which the film-like replica mold 10 is adhered to the surface between the upper belt machine 56 suspended two rolls 54, substrate 48 and the active energy ray-curable resin the composition nip, the active energy ray curable resin composition, uniformly and at the same time spread, filled between the convex portions of the fine unevenness of the film-like replica mold 10 between the substrate 48 and the film-like replica mold 10 to.

上側ベルトマシン56のロール54間に設置された活性エネルギー線照射装置58から、無端ベルト52およびフィルム状レプリカモールド10を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、フィルム状レプリカモールド10の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂膜60を形成する。 An active energy ray irradiation apparatus 58 installed in between the rolls 54 of the upper belt machine 56, an active energy ray is irradiated to the active energy ray curable resin composition through the endless belt 52 and the film-like replica mold 10, the active energy ray-curable by curing the sexual resin composition, fine textured structure on the surface of the film-like replica mold 10 to form a cured resin layer 60 having been transferred.
フィルム状レプリカモールド10を硬化樹脂膜60から剥離することによって、微細凹凸構造を有するフィルム製品62を得る。 By peeling off the film-like replica mold 10 from the cured resin film 60 to obtain a film product 62 having a fine uneven structure.

活性エネルギー線照射装置58としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cm が好ましい。 The active energy ray irradiation device 58, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp are preferable, irradiation energy amount in this case is, 100~10000mJ / cm 2 is preferred.
上側ベルトマシン56の無端ベルト52としては、光を透過できるものを用いる。 The endless belt 52 of the upper belt machine 56, used as it can transmit light.

また、微細凹凸構造を有するフィルム製品は、例えば、図8に示す製造装置を用いて、下記のように連続式で製造される。 The film product having a fine uneven structure, for example, by using the manufacturing apparatus shown in FIG. 8, is produced in a continuous manner as described below.
フィルム状レプリカモールド10をロール66に貼着させ、ロール状レプリカモールド68とする。 The film-like replica mold 10 is adhered to the roll 66, the roll-like replica mold 68.

ロール状レプリカモールド68と、ロール状レプリカモールド68の表面に沿って移動する帯状フィルムの基材48との間に、押出機のダイス64から溶融状態のフッ素系樹脂を供給する。 A roll-like replica mold 68, between the base material 48 of the film strip moving along the surface of the roll-like replica mold 68, and supplies a fluorine-based resin in a molten state from a die 64 of the extruder.

ロール状レプリカモールド68と、空気圧シリンダ26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、基材48および溶融状態のフッ素系樹脂をニップし、溶融状態のフッ素系樹脂を、基材48とロール状レプリカモールド68との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状レプリカモールド68の微細凹凸構造の凸部間に充填する。 A roll-like replica mold 68, between the nip roll 28 of the nip pressure is adjusted by a pneumatic cylinder 26, nipping the substrate 48 and the fluorine-based resin in a molten state, a fluorine-based resin in a molten state, the base material 48 and at the same time spread evenly between the roll-like replica mold 68 is filled between the convex portions of the fine unevenness of the rolled replica mold 68.

ロール状レプリカモールド68の表面に沿って移動させながらフッ素系樹脂を冷却、固化させることによって、ロール状レプリカモールド68の表面の微細凹凸構造が転写された樹脂膜60を形成する。 Cooling the fluorine-based resin while moving along the surface of the roll-like replica mold 68, by solidifying, to form a resin film 60 having a fine uneven structure on the surface of the roll-like replica mold 68 is transferred.
剥離ロール32により、表面に樹脂膜60が形成された基材48を剥離することによって、微細凹凸構造を有するフィルム製品62を得る。 The peeling roll 32, by peeling off the base material 48 of the resin film 60 is formed on the surface to obtain a film product 62 having a fine uneven structure.

(フィルム状レプリカモールド) (Film-like replica mold)
フィルム状レプリカモールド10の表面は、硬化樹脂膜60との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。 Surface of the film replica mold 10, as will become easily separated from the cured resin film 60, may be treated with a release agent. 処理方法としては、例えば、シリコーン樹脂またはフッ素含有ポリマーをコーティングする方法、フッ素含有化合物を蒸着する方法、フッ素含有シランカップリング剤またはフッ素含有シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。 As processing methods, for example, a method of coating a silicone resin or fluorine-containing polymer, a method of depositing a fluorine-containing compound, and a method of coating a fluorine-containing silane coupling agent or a fluorine-containing silicone-based silane coupling agents.

(基材) (Base material)
基材48の材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。 The material of the substrate 48, acrylic resin, polycarbonate, styrene resin, polyester, cellulose-based resin (triacetyl cellulose), polyolefin, alicyclic polyolefin and the like.

(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物) (Active energy ray curable resin composition)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、上述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が挙げられる。 The active energy ray curable resin composition include actinic radiation-curable resin composition described above.

(フッ素系樹脂) (A fluorine-containing resin)
フッ素系樹脂としては、上述のフッ素系樹脂が挙げられる。 The fluorine-based resin include the above-mentioned fluorine-based resin.

(フィルム製品) (Film products)
フィルム製品62は、硬化樹脂膜60の表面に複数の凹部(図示略)を有する。 Film products 62 has a plurality of recesses (not shown) on the surface of the cured resin layer 60.

凹部の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。 The shape of the recess, substantially conical, pyramid shape, cylindrical shape, and the like, conical shape, as such pyramid shape, in the depth direction from the pore cross-sectional area in the direction orthogonal to the depth direction outermost surface continuously decreasing shape is preferred.
凹部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましい。 Average distance between wells is the wavelength of visible light or less, that is preferably not more than 400 nm. 凹部間の平均間隔は、20nm以上が好ましい。 Average spacing between recesses, more preferably 20 nm.
凹部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凹部間の間隔(凹部の中心から隣接する凹部の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。 Average spacing between recesses, the spacing between the recess adjacent the electron microscopy (distance to the center of the recess adjacent the center of the concave portion) was measured at 50 points, it is obtained by averaging these values.

凹部の深さは、平均間隔が100nmの場合は、80〜500nmが好ましく、120〜400nmがより好ましく、150〜300nmが特に好ましい。 The depth of the recess, when the average interval is 100 nm, preferably from 80 to 500 nm, more preferably 120~400Nm, 150 to 300 nm is particularly preferred.
凹部の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときに凹部間に存在する凸部の最頂部と凹部の最底部との間の距離を測定した値である。 The depth of the recess is a value obtained by measuring the distance between the lowest portion of the highest portion and the recess of the projecting portion that exists between the recess when viewed in magnification of 30,000 by electron microscopy.
凹部のアスペクト比(凹部の深さ/凹部間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が特に好ましい。 The aspect ratio of the recess (average spacing between the depth / recess of the recess) is preferably from 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, particularly preferably 1.5 to 3.0.

フィルム製品62は、前面板、内外装用部材、光学製品内部材、光学レンズ、電気製品用部材、包装容器、医療基材、雑貨等として有用である。 Film products 62, front plate, interior and exterior members, the optical product member, optical lenses, electrical products member, packaging containers, medical substrate is useful as miscellaneous goods.
前面板としては、反射防止機能を利用したフラットパネルディスプレイ(液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、PDP、リアプロ等)の前面板、モバイル機器(ゲーム機、携帯電話等)の前面板等が挙げられる。 The front plate, a flat panel display using reflection preventing function (liquid crystal display, an organic EL display, PDP, rear projection, etc.) the front plate of the mobile device (game machine, a cellular phone, etc.) the front plate or the like can be mentioned.
内外装用部材としては、建材の内外装用部材(窓、照明、壁紙等)、交通用ミラー、標識、看板、自動車内装用部材(インストルメントパネル、コンソールボックス、メーターカバー、ドアロックペゼル、ステアリングホイール、パワーウィンドウスイッチベース、センタークラスター、ダッシュボード等)、自動車外装用部材(ウェザーストリップ、バンパー、バンパーガード、サイドマッドガード、ボディーパネル、スポイラー、フロントグリル、ストラットマウント、ホイールキャップ、センターピラー、ドアミラー、センターオーナメント、サイドモール、ドアモール、ウインドモール、窓、ヘッドランプカバー、テールランプカバー、風防部品等)、自動車以外の各種乗り物(自動二輪車、電車、航空機、船舶等)の内外装用部材 The interior and exterior member, interior and exterior member of building materials (windows, lighting, wallpaper, etc.), traffic mirror, labeling, signage, automotive interior member (instrument panel, console box, meter cover, Doarokkupezeru, steering wheel, power windows switch-based, center cluster, dashboard, etc.), automotive exterior member (weather strip, bumper, bumper guard, side mudguards, body panels, spoilers, front grille, strut mount, wheel cap, the center pillar, door mirrors, center ornament, side Mall, door molding, window molding, window, head lamp cover, tail lamp cover, windshield parts, etc.), interior and exterior member of various vehicles other than motor vehicles (motorcycles, trains, aircraft, ships, etc.) が挙げられる。 And the like.
光学製品内部材としては、光学製品(カメラ等)の鏡筒、投射型表示装置(フロントプロジェクタ、リアプロジェクタ等)の内部材、これら投射型表示装置を複数備えたマルチビジョンシステムの内部材、撮像装置(デジタルスチルカメラ、ビデオカメラ等)の内部材、光ピックアップ装置の内部材、タッチパネルの内部材、太陽電池の内部材、光ファイバー通信システム等、不要光の除去が必要な全ての光学機器の内部材等が挙げられる。 The optical product in the member, the lens barrel of the optical products (cameras, etc.), a projection type display device (a front projector, rear projector, etc.) the inner member, the inner member of the multi-vision system comprising a plurality of these projection display device, imaging apparatus (digital still camera, a video camera, etc.) the inner member, inside the inner member, the inner member of the touch panel, the inner member of the solar cell, optical fiber communication systems, all optics removal requires unnecessary light of the optical pickup apparatus wood and the like.
光学レンズとしては、ピックアップレンズ、カメラ用レンズ、眼鏡レンズ等の樹脂製のレンズが挙げられる。 As the optical lenses, pickup lenses, camera lenses include resin lenses such as spectacle lenses.
電気製品用部材としては、ハウジング、ボタン、スイッチ等が挙げられる。 The members appliances, housings, buttons, switches and the like.
包装容器としては、瓶、化粧品容器、小物入れ等が挙げられる。 The packaging containers, bottles, cosmetic containers, glove compartment, and the like.
医療基材としては、生体細胞を増殖させるための培養シート等が挙げられる。 The medical substrate, cultured sheets for growing biological cells.
雑貨としては、景品、小物等が挙げられる。 The goods, premium, accessories, and the like.

以上説明したフィルム製品62の製造方法にあっては、低コストで、かつ大面積(シームレス)のフィルム状レプリカモールド10を用いているため、微細凹凸構造を有するフィルム製品62を低コストで、かつ大面積(シームレス)で製造できる。 Or the method for producing the film product 62 described, at low cost, and because of the use of film-like replica mold 10 having a large area (seamless), the film product 62 at a low cost having a fine concavo-convex structure, and It can be produced in a large area (seamless).

〔第2の実施形態〕 Second Embodiment
本発明の第2の実施形態は、第1の実施形態におけるフィルム状レプリカモールド10をマザーモールドとし、該マザーモールドを用いてフィルム状レプリカモールドを製造する実施形態である。 Second embodiment of the present invention, a film-like replica mold 10 in the first embodiment and the mother mold, which is an embodiment for producing a film-like replica mold using the mother mold.

<マザーモールドおよびその製造方法> <Mother mold and a method of manufacturing the same>
マザーモールドは、第1の実施形態におけるフィルム状レプリカモールド10と同じものであり、その説明は省略する。 Mother mold is the same as the film-like replica mold 10 in the first embodiment, description thereof will be omitted.

<フィルム状レプリカモールドおよびその製造方法> <Filmy replica mold and a manufacturing method thereof>
フィルム状レプリカモールドは、第1の実施形態におけるフィルム製品62と同じものであり、その説明は省略する。 Film-like replica mold is the same as the film product 62 of the first embodiment, description thereof will be omitted.

<微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法> <Method of producing a film product having a fine uneven structure>
微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法は、第1の実施形態における方法と同様であり、その説明は省略する。 Method for producing a film product having a fine uneven structure is similar to the method in the first embodiment, description thereof will be omitted.

ただし、第1の実施形態におけるフィルム製品62の樹脂膜60の表面に形成された複数の凹部(図示略)を転写して形成された樹脂膜の表面は、複数の凸部(図示略)を有する微細凹凸構造、いわゆるモスアイ構造となる。 However, the surface of the first plurality which is formed on the surface of the resin film 60 of the film product 62 of the embodiment of the recesses formed by transferring the (not shown) resin film, a plurality of protrusions (not shown) fine concavo-convex structure having a so-called moth-eye structure.

凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましく、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。 Average spacing between protrusions, or less than the wavelength of visible light, i.e. preferably not more than 400 nm, more preferably at most 200 nm, and particularly preferably 150 nm.
凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましい。 Average spacing between protrusions, from the viewpoint of the ease of formation of the protrusion, is preferably at least 20 nm.

凸部の高さは、平均間隔が100nmの場合は、80〜500nmが好ましく、120〜400nmがより好ましく、150〜300nmが特に好ましい。 The height of the projections, if the average interval is 100 nm, preferably from 80 to 500 nm, more preferably 120~400Nm, 150 to 300 nm is particularly preferred. 凸部の高さが80nm以上であれば、反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。 If the height of the convex portion is 80nm or more, the reflectance is sufficiently low, and is small wavelength dependence of the reflectance. 凸部の高さが500nm以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。 If the height of the convex portion is 500nm or less, the scratch resistance of the convex portion becomes good.

凸部のアスペクト比(凸部の高さ/凸部間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が特に好ましい。 The aspect ratio of the protrusions (average spacing between the convex height / convex portions) is preferably from 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, is 1.5 to 3.0 particularly preferred. 凸部のアスペクト比が1.0以上であれば、反射率が十分に低くなる。 If the aspect ratio of the protrusions is 1.0 or more, the reflectance is sufficiently low. 凸部のアスペクト比が5.0以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。 If the aspect ratio of the protrusions is 5.0 or less, the scratch resistance of the convex portion becomes good.

凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。 The shape of the convex portions, the shape of direction of the convex cross-sectional area perpendicular to the height direction increases continuously in the depth direction from the outermost surface, i.e., the height direction of the cross-sectional shape of the convex portion, triangular, trapezoidal, the shape of bell-shaped and the like are preferable.

樹脂膜の屈折率と基材の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。 The difference between the refractive index and the substrate refractive index of the resin film is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, particularly preferably 0.05 or less. 屈折率差が0.2以下であれば、樹脂膜と基材との界面における反射が抑えられる。 If the refractive index difference is 0.2 or less, reflection at the interface between the resin film and the substrate is suppressed.

表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。 If having a fine uneven structure on the surface, resulting the surface be formed of a hydrophobic material superhydrophobic is obtained by lotus effect, its surface is super-hydrophilic be formed from a hydrophilic material it is known to be.

硬化樹脂膜の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、90゜以上が好ましく、110゜以上がより好ましく、120゜以上が特に好ましい。 Water contact angle of the surface of the fine unevenness of the case material of the cured resin film is hydrophobic, preferably at least 90 °, more preferably at least 110 °, particularly preferably at least 120 °. 水接触角が90゜以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。 If water contact angle is 90 ° or more, since the water contamination is unlikely to adhere, sufficient antifouling property is exhibited. また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。 Further, since water hardly adheres, it can be expected anti-icing.

硬化樹脂膜の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、25゜以下が好ましく、23゜以下がより好ましく、21゜以下が特に好ましい。 Water contact angle of the surface of the fine unevenness of the case material of the cured resin film is hydrophilic, preferably 25 ° or less, more preferably than 23 °, and particularly preferably equal to or less than 21 °. 水接触角が25゜以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。 If water contact angle is 25 ° or less, dirt adhering to the surface is washed away with water, and because the oil stain is unlikely to adhere, sufficient antifouling property is exhibited. 該水接触角は、硬化樹脂膜14の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3゜以上が好ましい。 The water contact angle, deformation of the fine unevenness due to water absorption of the cured resin film 14, from the viewpoint of suppressing an increase in reflectance associated therewith, preferably at least 3 °.

(疎水性材料) (Hydrophobic material)
硬化樹脂膜の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。 The water contact angle of the surface of the fine unevenness of the cured resin layer to the 90 ° or higher, as the active energy ray curable resin composition capable of forming a hydrophobic material, including a fluorine-containing compound or a silicone compound it is preferable to use a composition.

フッ素含有化合物: Fluorine-containing compounds:
フッ素含有化合物としては、下記式(3)で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。 The fluorine-containing compound, compounds having a fluoroalkyl group represented by the following formula (3) is preferable.
−(CF −X ・・・(3)。 - (CF 2) n -X ··· (3).
ただし、Xは、フッ素原子または水素原子を表し、nは、1以上の整数を表し、1〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜8が特に好ましい。 However, X is a fluorine atom or a hydrogen atom, n is an integer of 1 or more, preferably 1 to 20, more preferably from 3 to 10, 4 to 8 is particularly preferred.

フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。 The fluorine-containing compounds, fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agents, fluorine-containing surfactants, fluorine-containing polymers.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。 The fluorine-containing monomer, a fluoroalkyl group-substituted vinyl monomers, fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer.
フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。 The fluoroalkyl group-substituted vinyl monomers, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylates, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylamides, fluoroalkyl group-substituted vinyl ethers, fluoroalkyl group-substituted styrene.

フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。 The fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer, a fluoroalkyl group-substituted epoxy compounds, fluoroalkyl group-substituted oxetane compounds, fluoroalkyl group-substituted oxazoline compounds, and the like.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレートが好ましく、下記式(4)の化合物が特に好ましい。 The fluorine-containing monomer, a fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate are preferable, the compound of formula (4) is particularly preferred.
CH =C(R 41 )C(O)O−(CH −(CF −X ・・・(4)。 CH 2 = C (R 41) C (O) O- (CH 2) m - (CF 2) n -X ··· (4).
ただし、R 41は、水素原子またはメチル基を表し、Xは、水素原子またはフッ素原子を表し、mは、1〜6の整数を表し、1〜3が好ましく、1または2がより好ましく、nは、1〜20の整数を表し、3〜10が好ましく、4〜8がより好ましい。 However, R 41 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom or a fluorine atom, m is an integer of 1-6, 1-3, more preferably 1 or 2, n represents an integer of 1 to 20, preferably from 3 to 10, 4 to 8 is more preferable.

フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式(5)の化合物が特に好ましい。 The fluorine-containing silane coupling agent, a fluoroalkyl group-substituted silane coupling agent is preferable, the compound of formula (5) is particularly preferred.
(R 51 SiY ・・・(5)。 (R f) a R 51 b SiY c ··· (5).

は、エーテル結合またはエステル結合を1個以上含んでいてもよい炭素数1〜20のフッ素置換アルキル基を表す。 R f is a fluorine-substituted alkyl group having ether bond or an ester bond one or more carbon atoms which may contain 1 to 20. としては、3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル基、3−トリフルオロメトキシプロピル基、3−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。 The R f, 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, 3-trifluoromethoxy-propyl group, 3-trifluoroacetoxy-propyl group and the like can exemplified It is.

51は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。 R 51 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. 51としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 The R 51, a methyl group, an ethyl group, a cyclohexyl group and the like.

Yは、水酸基または加水分解性基を表す。 Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、R 52 C(O)O(ただし、R 52は、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。)等が挙げられる。 The hydrolyzable group, an alkoxy group, a halogen atom, R 52 C (O) O ( provided that, R 52 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.), And the like.
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。 Examples of the alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, propyloxy group, i- propyloxy group, a butoxy group, i- butoxy, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, octyloxy group, a 2-ethylhexyl group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyl octyloxy group, and a lauryloxy group.
ハロゲン原子としては、Cl、Br、I等が挙げられる。 The halogen atom, Cl, Br, I, and the like.
52 C(O)Oとしては、CH C(O)O、C C(O)O等が挙げられる。 The R 52 C (O) O, CH 3 C (O) O, C 2 H 5 C (O) O , and the like.

a、b、cは、a+b+c=4であり、かつa≧1、c≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、c=3が好ましい。 a, b, c are a + b + c = 4, and represents an integer satisfying a ≧ 1, c ≧ 1, a = 1, b = 0, c = 3 is preferred.

フッ素含有シランカップリング剤としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。 The fluorine-containing silane coupling agent, 3,3,3-trifluoropropyl trimethoxy silane, 3,3,3-trifluoropropyl triacetoxy silane, dimethyl-3,3,3-trifluoropropyl silane, tri deca-1,1,2,2-tetrahydronaphthalene-octyltriethoxysilane, and the like.

フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。 Examples of the fluorine-containing surfactant include fluoroalkyl group-containing anionic surfactants include fluoroalkyl group-containing cationic surfactants, and the like.

フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数2〜10のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルキル(C 〜C 11 )オキシ]−1−アルキル(C 〜C )スルホン酸ナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルカノイル(C 〜C )−N−エチルアミノ]−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル(C 11 〜C 20 )カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸(C 〜C 13 )またはその金属塩、パーフルオロアルキル(C 〜C 12 )スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシ The fluoroalkyl group-containing anionic surfactants include fluoroalkyl carboxylic acid or a metal salt of 2 to 10 carbon atoms, disodium perfluorooctane sulfonyl glutamic acid, 3- [omega - fluoroalkyl (C 6 ~C 11) oxy ] -1-alkyl (C 3 ~C 4) sulfonate, sodium 3- [omega - fluoroalkanoyl (C 6 ~C 8) -N- ethylamino] -1-sodium sulfonic acid, fluoroalkyl (C 11 ~ C 20) carboxylic acids and metal salts thereof, perfluoroalkyl carboxylic acids (C 7 ~C 13) or metal salts thereof, perfluoroalkyl (C 4 ~C 12) sulfonic acids and metal salts thereof, diethanol perfluorooctane sulfonic acid Ami de, N- propyl-N-(2-hydroxy チル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル(C 〜C 10 )スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル(C 〜C 10 )−N−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル(C 〜C 16 )エチルリン酸エステル等が挙げられる。 Chill) perfluorooctane sulfonamide, perfluoroalkyl (C 6 -C 10) sulfonamide propyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl (C 6 -C 10)-N-ethylsulfonyl glycine salts, monoperfluoroalkyl (C 6 -C 16) ethyl phosphoric acid ester, and the like.

フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル(C 〜C 10 )スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。 The fluoroalkyl group-containing cationic surfactant include fluoroalkyl group-containing aliphatic primary, secondary or tertiary amine acids, perfluoroalkyl (C 6 ~C 10) aliphatic quaternary such sulfonamide propyl trimethyl ammonium salt ammonium salts, benzalkonium salts, benzethonium chloride, pyridinium salts, imidazolinium salts, and the like.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。 The fluorine-containing polymer, a polymer of fluoroalkyl group-containing monomer, a copolymer of a fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group containing monomer, co of the fluoroalkyl group-containing monomer and a crosslinking reactive group-containing monomer polymer, and the like. フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。 Fluorine-containing polymer may be a copolymer of other copolymerizable monomers.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体が好ましい。 The fluorine-containing polymer, a copolymer of fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group containing monomer.
ポリ(オキシアルキレン)基としては、下記式(6)で表される基が好ましい。 The poly (oxyalkylene) group, preferably a group represented by the following formula (6).
−(OR 61 − ・・・(6)。 - (OR 61) p - ··· (6).
ただし、R 61は、炭素数2〜4のアルキレン基を表し、pは、2以上の整数を表す。 However, R 61 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, p is an integer of 2 or more. 61としては、−CH CH −、−CH CH CH −、−CH(CH )CH −、−CH(CH )CH(CH )−等が挙げられる。 The R 61, -CH 2 CH 2 - , - CH 2 CH 2 CH 2 -, - CH (CH 3) CH 2 -, - CH (CH 3) CH (CH 3) - , and the like.

ポリ(オキシアルキレン)基は、同一のオキシアルキレン単位(OR 61 )からなるものであってもよく、2種以上のオキシアルキレン単位(OR 61 )からなるものであってもよい。 Poly (oxyalkylene) group may be made of the same oxyalkylene units (OR 61), or may be composed of two or more oxyalkylene units (OR 61). 2種以上のオキシアルキレン単位(OR 61 )の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。 Sequence of two or more oxyalkylene units (OR 61) may be a block, it may be random.

シリコーン系化合物: Silicone-based compounds:
シリコーン系化合物としては、(メタ)アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。 As the silicone compound, (meth) acrylic acid-modified silicones, silicone resins, and silicone-based silane coupling agent or the like.
(メタ)アクリル酸変性シリコーンとしては、X−22−1602(信越化学工業社製)等のシリコーン(ジ)(メタ)アクリレート等が挙げられる。 The (meth) acrylic acid-modified silicone, X-22-1602 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and silicone (di) (meth) acrylate.

(親水性材料) (Hydrophilic material)
樹脂膜の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。 The water contact angle of the surface of the fine concavo-convex structure of the resin film to the 25 ° or less, as the active energy ray curable resin composition capable of forming a hydrophilic material, using a composition comprising at least hydrophilic monomer it is preferable. また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むのがより好ましい。 In view of the scratch resistance and water resistance imparting, and more preferably contains a crosslinkable polyfunctional monomer. なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一(すなわち、親水性多官能モノマー)であってもよい。 Note that the polyfunctional monomer which can crosslink with the hydrophilic monomer, the same (i.e., hydrophilic polyfunctional monomer) may be used. さらに活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。 Further active energy ray curable resin composition may contain other monomers.

親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることがより好ましい。 The active energy ray curable resin composition capable of forming a hydrophilic material, it is preferable to use a composition containing a polymerizable compound described below.
4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの10〜50質量%、 Tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) 10 to 50 mass% of acrylate,
2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの30〜80質量%、 Difunctional or more hydrophilic (meth) 30 to 80 wt% of the acrylate,
単官能モノマーの0〜20質量%の合計100質量%からなる重合性化合物。 Polymerizable compound consisting of a total of 100 wt% of 0 to 20% by weight of the monofunctional monomer.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200)、ポリエーテルアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBEC 4 The functional or higher polyfunctional (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxy tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxy penta (meth) acrylate, di dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, the molar ratio of succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 1: 2: condensation reaction mixture 4, urethane acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBECRYL220, EBECRYL1290, EBECRYL1290K, EBECRYL5129, EBECRYL8210, EBECRYL8301, KRM8200), polyether acrylates (Daicel-Cytec: EBEC YL81)、変性エポキシアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL3416)、ポリエステルアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870)等が挙げられる。 YL81), modified epoxy acrylates (manufactured by Daicel-Cytec Co., Ltd.: EBECRYL3416), polyester acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL800, EBECRYL810, EBECRYL811, EBECRYL812, EBECRYL1830, EBECRYL845, EBECRYL846, EBECRYL1870) and the like include It is. これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 These may be used alone or in combination of two or more thereof.
4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、5官能以上の多官能(メタ)アクリレートがより好ましい。 The tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate, pentafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate are more preferred.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合は、10〜50質量%が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、20〜50質量%がより好ましく、30〜50質量%が特に好ましい。 The proportion of the polyfunctional (meth) acrylate 4 or tetrafunctional is preferably 10 to 50 mass%, water resistance, from the viewpoint of chemical resistance, and more preferably from 20 to 50 mass%, particularly preferably 30 to 50 wt%. 4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合が10質量%以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。 If 4 ratio of functional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 10 mass% or more, thereby improving scratch resistance elastic modulus higher. 4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合が50質量%以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。 If 4 ratio of functional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 50% by weight or less, small cracks hardly enters the surface is less likely poor appearance.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートとしては、アロニックスM−240、アロニックスM260(東亞合成社製)、NKエステルAT−20E、NKエステルATM−35E(新中村化学社製)等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。 The bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate, Aronix M-240, Aronix M260 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester AT-20E, NK ester ATM-35E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) long chain polyethylene such as multifunctional acrylate having a glycol, polyethylene glycol dimethacrylate, and the like. これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 These may be used alone or in combination of two or more thereof.
ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6〜40が好ましく、9〜30がより好ましく、12〜20が特に好ましい。 In polyethylene glycol dimethacrylate, the sum of the average repeating units of the polyethylene glycol chain present in one molecule is preferably from 6 to 40, more preferably 9 to 30, particularly preferably 12 to 20. ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。 If the average repeating units of the polyethylene glycol chain is 6 or more, hydrophilicity is sufficient, antifouling properties can be improved. ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。 If the average repeating units of the polyethylene glycol chain is 40 or less, 4 compatibility with functional or higher polyfunctional (meth) acrylate is improved, the active energy ray curable resin composition is hard to separate.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合は、30〜80質量%が好ましく、40〜70質量%がより好ましい。 The proportion of bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate is preferably from 30 to 80 wt%, more preferably 40 to 70 wt%. 2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合が30質量%以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。 If 2 or more functional groups of the hydrophilic (meth) acrylate content of 30 mass% or more, hydrophilicity is sufficient, antifouling properties can be improved. 2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合が80質量%以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。 If 2 or more functional groups of the hydrophilic (meth) following proportion 80% by weight of the acrylate, thereby improving scratch resistance elastic modulus higher.

単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。 Examples of the monofunctional monomer, preferably a hydrophilic monofunctional monomer.
親水性単官能モノマーとしては、M−20G、M−90G、M−230G(新中村化学社製)等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能(メタ)アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。 The hydrophilic monofunctional monomer, M-20G, M-90G, a monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group, such as M-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), a hydroxyalkyl (meth) acrylate monofunctional (meth) acrylate having a hydroxyl group in the ester group, monofunctional acrylamides, methacrylamidopropyl trimethyl ammonium methyl sulfate, cationic monomers such as methacryloyloxyethyl trimethyl ammonium methyl sulfate and the like.
また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。 Also, the monofunctional monomer, acryloyl morpholine, viscosity modifiers such as polyvinyl pyrrolidone, may be used an adhesion improver such as acryloyl isocyanates, and the like to improve the adhesion to the substrate.

単官能モノマーの割合は、0〜20質量%が好ましく、5〜15質量%がより好ましい。 The proportion of the monofunctional monomer is preferably 0 to 20 wt%, more preferably from 5 to 15% by mass. 単官能モノマーを用いることにより、基材と硬化樹脂との密着性が向上する。 The use of monofunctional monomer, improves the adhesion between the substrate and the cured resin. 単官能モノマーの割合が20質量%以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートまたは2官能以上の親水性(メタ)アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。 When the proportion of the monofunctional monomer is 20 mass% or less, tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate or bifunctional or higher hydrophilic (meth) without acrylate is insufficient antifouling or scratch resistance sufficient expressed in.

単官能モノマーは、1種または2種以上を(共)重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に0〜35質量部配合してもよい。 Monofunctional monomer may be blended 0 to 35 parts by weight of one or more (co) low polymerization degree of the active energy ray curable resin composition as a polymer obtained by polymerization. 低重合度の重合体としては、M−230G(新中村化学社製)等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマー(MRCユニテック社製、MGポリマー)等が挙げられる。 The polymer having a low polymerization degree, M-230G and a monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), 40/60 of methacrylamide propyl trimethyl ammonium methyl sulfate copolymerized oligomer (MRC Unitech Co., MG polymer) and the like.

(用途) (Applications)
第2の実施形態におけるフィルム製品の用途としては、第1の実施形態におけるフィルム製品と同様な用途が挙げられる。 Applications of film product according to the second embodiment include the same applications as the film product of the first embodiment.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 Following illustratively describes the invention based on examples, the present invention is not limited thereto.

(陽極酸化アルミナの細孔) (Pores of the anodized alumina)
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧3.00kVの条件にて、断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。 Cutting a portion of the anodized alumina, a platinum cross deposited 1 minute, field emission scanning electron microscope (manufactured by JEOL Ltd., JSM-7400F) with at an acceleration voltage of 3.00KV, the cross-section observed, spacing of the pores, the depth of the pores was measured. 各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。 Each measurement was performed for each of 50 points, the average value was determined.

(微細凹凸構造) (Fine uneven structure)
マザーモールド、フィルム状レプリカモールドまたはフィルム製品の破断面にプラチナを10分間蒸着し、陽極酸化アルミナと同様に断面を観察し、凸部または凹部の間隔、凸部の高さまたは凹部の深さを測定した。 Mother mold, a platinum fracture surface of the film-like replica mold or film product is deposited for 10 minutes, observing the cross section like the anodized alumina, projections or recesses of the spacing, the depth of the height or recess of the projecting portion It was measured. 各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。 Each measurement was performed for each of 50 points, the average value was determined.

(加重平均反射率) (Weighted average reflectance)
マザーモールド、フィルム状レプリカモールド、またはフィルム製品について、分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角5°、波長380〜780nmの範囲で硬化樹脂膜側の表面の相対反射率を測定し、JIS R3106に準拠して算出した。 Mother mold, film-like replica mold or for film products, spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) using an incident angle 5 °, relative reflectance of the cured resin film side of the surface in the wavelength range of 380~780nm the rate was measured and calculated in accordance with the JIS R3106.

(水接触角) (Water contact angle)
接触角測定装置(Kruss社製、DSA10−Mk2)を用い、微細凹凸構造の表面に、1.6μLの水を滴下した後、滴下の10秒後から1秒間隔で水接触角を10点測定し、平均値を求めた。 Contact angle measuring device (Kruss Co., DSA10-Mk2) used, the surface of the fine unevenness was added dropwise water 1.6MyuL, water contact angle 10 measured at 1 second intervals from 10 seconds after the dropping then, the average value was determined. さらに、水を滴下する位置を変えて同様の操作を3回行い、計4回の平均値をさらに平均した。 Further, by changing the position of dropping of water three times the same operation was further averaged mean value of four times.

〔ロール状モールドaの製造〕 Production of a roll mold a]
純度99.99%のアルミニウムからなるロールを、過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨した。 The roll of 99.99% pure aluminum, and electrolytic polishing in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio).
(a)工程: Step (a):
該ロールについて、0.5Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で6時間陽極酸化を行った。 For the roll, in 0.5M oxalic acid solution, DC 40V, 6 hours anodic oxidation at a temperature of 16 ° C. were performed.
(b)工程: (B) Step:
酸化皮膜が形成されたロールを、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。 An oxide film is formed roll was immersed for 6 hours and 1.8 wt% chromic acid mixed solution 6 wt% phosphoric acid to remove the oxide film.

(c)工程: (C) process:
該ロールについて、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。 For the roll, in 0.3M oxalic acid solution, DC 40V, for 30 seconds anodic oxidation at a temperature of 16 ° C. were performed.
(d)工程: Step (d):
酸化皮膜が形成されたロールを、32℃の5質量%リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。 An oxide film is formed roll was immersed for 8 minutes in 5 weight% phosphoric acid 32 ° C., was pore diameter enlargement treatment.

(e)工程: (E) steps:
前記(c)工程および(d)工程を合計で5回繰り返し、平均間隔:100nm、深さ:220nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状モールドaを得た。 Wherein (c) repeated 5 times step and step (d) in total, average interval: obtain a roll-shaped mold a anodized alumina formed on the surface having pores of substantially conical shape of the 220 nm: 100 nm, depth It was.
ロール状モールドaを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。 A roll mold a, immersed in a 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment in the oxide film surface.

〔ロール状モールドbの製造〕 Production of a roll mold b]
純度99.99%のアルミニウムからなる平板を、過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨した。 A plate made of 99.99% pure aluminum, and electrolytic polishing in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio).
(a)工程: Step (a):
該平板について、0.5Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で6時間陽極酸化を行った。 For tabular, in 0.5M oxalic acid solution, DC 40V, 6 hours anodic oxidation at a temperature of 16 ° C. were performed.
(b)工程: (B) Step:
酸化皮膜が形成された平板を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。 An oxide film is formed flat plate was immersed for 6 hours and 1.8 wt% chromic acid mixed solution 6 wt% phosphoric acid to remove the oxide film.

(c)工程: (C) process:
該平板について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。 For tabular, in 0.3M oxalic acid solution, DC 40V, for 30 seconds anodic oxidation at a temperature of 16 ° C. were performed.
(d)工程: Step (d):
酸化皮膜が形成された平板を、32℃の5質量%リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。 An oxide film is formed flat, and immersed for 8 minutes in 5 weight% phosphoric acid 32 ° C., was pore diameter enlargement treatment.

(e)工程: (E) steps:
前記(c)工程および(d)工程を合計で5回繰り返し、平均間隔:100nm、深さ:220nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成された平板モールドb'を得た。 Step (c) and (d) repeating 5 times a step in total, average interval: obtained anodized alumina having pores of substantially conical shape of 220nm is a flat plate mold b 'formed on the surface: 100 nm, depth It was.
平板モールドb'を、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。 The flat mold b ', were immersed in 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment in the oxide film surface.
フッ素処理を行った平板モールドb'を円筒加工して、ロール状モールドbを得た。 The flat mold b 'subjected to fluorine treatment by cylindrical machining, to obtain a roll-shaped mold b.

〔活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の調製〕 Preparation of active energy ray curable resin composition]
表1、表2に示す割合で各成分を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物A、Bを調製した。 Table 1, components were mixed in the proportions shown in Table 2, the active energy ray-curable resin composition A, B were prepared.

表中の略号は下記の通りである。 The abbreviations in the table are as follows.
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成社製、アロニックスM400)、 DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate (produced by Toagosei Co., Ltd., Aronix M400),
M260:ポリエチレングリコールジアクリレートn=13〜14(東亞合成社製、アロニックスM260)、 M260: Polyethylene glycol diacrylate n = 13 to 14 (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M260),
HEA:2−ヒドロキシエチルアクリレート、 HEA: 2- hydroxyethyl acrylate,
Ir184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)。 Ir184: 1- hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty Chemicals Inc., Irgacure 184).

表中の略号は下記の通りである。 The abbreviations in the table are as follows.
TAS:トリメチロールエタン・アクリル酸・無水コハク酸縮合エステル、 TAS: trimethylolethane-acrylic acid-succinic anhydride acid condensation esters,
C6DA:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、 C6DA: 1,6- hexanediol diacrylate,
X−22−1602:ラジカル重合性シリコーンオイル(信越化学工業社製)、 X-22-1602: the radical polymerizable silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.),
Ir184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)。 Ir184: 1- hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty Chemicals Inc., Irgacure 184).

〔フィルムの製造〕 [Production of Film]
メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、1,3−ブタジエンおよびメタクリル酸アリルを重合してなるゴム含有多段重合体の75質量部、およびアクリル樹脂(三菱レイヨン社製、BR80)の25質量部をあらかじめ溶融押し出しした後、製膜して、厚さ200μmのアクリル樹脂フィルムを得た。 Methyl methacrylate, butyl acrylate, methyl acrylate, 75 parts by weight of the rubber-containing multistage polymer obtained by polymerizing 1,3-butadiene and allyl methacrylate, and acrylic resin (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., BR80) 25 Weight of after previously melt extruded parts, and film, to obtain an acrylic resin film having a thickness of 200 [mu] m.

〔実施例1〕 Example 1
図2に示す製造装置を用いて、マザーモールドcを製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2, it was prepared the mother mold c.
図2中のロール状モールド22としては、前記ロール状モールドaを用いた。 The roll-like mold 22 in FIG. 2, with the rolled mold a.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図2中のモールド本体12としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The mold body 12 in Figure 2, using the acrylic resin film.
モールド本体12側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 From the mold body 12 side, the ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, it was cured of the active energy ray curable resin composition B.
マザーモールドcを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。 The mother mold c, was immersed in 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment of the surface.
得られたマザーモールドcについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 For mother mold c obtained, the average distance between convex portions of the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表3に示す。 The results are shown in Table 3.

図7に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドdを製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, to produce a film-like replica mold d.
図7中のフィルム状レプリカモールド10としては、前記マザーモールドcを用いた。 The film-like replica mold 10 in FIG. 7, using the mother mold c.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition A.
図7中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 7, using the acrylic resin film.
基材48側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの硬化を行った。 From the substrate 48 side, the ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition A, it was cured of the active energy ray curable resin composition A.
フィルム状レプリカモールドdを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。 The film-like replica mold d, immersed in 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment of the surface.
得られたフィルム状レプリカモールドdについて、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film-like replica mold d, the average distance between concave recess depth, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表4に示す。 The results are shown in Table 4.

図7に示す製造装置を用いて、フィルム製品62を製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, to produce a film product 62.
図7中のフィルム状レプリカモールド10としては、前記フィルム状レプリカモールドdを用いた。 The film-like replica mold 10 in FIG. 7, using the film-like replica mold d.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図7中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 7, using the acrylic resin film.
フィルム状レプリカモールド10側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 The film-like replica mold 10 side, an ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, was cured of the active energy ray curable resin composition B.
得られたフィルム製品62について、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film product 62, the average interval between the convex portions, the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表5に示す。 The results are shown in Table 5.

〔実施例2〕 Example 2
図3に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドeを製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 3, to produce a film-like replica mold e.
図3中のロール状モールド22としては、前記ロール状モールドaを用いた。 The roll-like mold 22 in FIG. 3, with the rolled mold a.
フッ素系樹脂としては、サイトップ(旭硝子社製)を用いた。 The fluorine-based resin, was used Cytop (Asahi Glass Co., Ltd.).
図3中のモールド本体12としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The mold body 12 in Figure 3, using the acrylic resin film.
フッ素系樹脂をダイス64から溶融押出し、フィルム状レプリカモールドdを得た。 Melt extruding the fluorine-based resin from a die 64 to obtain a film-like replica mold d.
得られたフィルム状レプリカモールドeについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film-like replica mold e, the average distance between convex portions of the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表3に示す。 The results are shown in Table 3.

図7に示す製造装置を用いて、フィルム製品62を製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, to produce a film product 62.
図7中のフィルム状レプリカモールド10としては、前記フィルム状レプリカモールドeを用いた。 The film-like replica mold 10 in FIG. 7, using the film-like replica mold e.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図7中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 7, using the acrylic resin film.
フィルム状レプリカモールド10側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 The film-like replica mold 10 side, an ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, was cured of the active energy ray curable resin composition B.
得られたフィルム製品62について、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film product 62, the average distance between concave recess depth, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表5に示す。 The results are shown in Table 5.

〔実施例3〕 Example 3
図4に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドfを製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 4, to produce a film-like replica mold f.
図4中のロール状モールド22としては、前記ロール状モールドaを用いた。 The roll-like mold 22 in FIG. 4, with the rolled mold a.
図4中のモールド本体12としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The mold body 12 in Figure 4, using the acrylic resin film.
モールド本体12側から130℃に加熱したニップロール28でモールド本体12をガラス転移点以上に加熱するとともに、ロール状モールド22との間でニップした。 The mold body 12 with heating above the glass transition point at nip roll 28 which is heated from the mold body 12 side 130 ° C., and the nip between the roll-shaped mold 22.
得られたフィルム状レプリカモールドfについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film-like replica mold f, average spacing between protrusions, the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表3に示す。 The results are shown in Table 3.
フィルム状レプリカモールドfを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。 The film-like replica mold f, was immersed in 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment of the surface.

図7に示す製造装置を用いて、フィルム製品62を製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, to produce a film product 62.
図7中のフィルム状レプリカモールド10としては、前記フィルム状レプリカモールドfを用いた。 The film-like replica mold 10 in FIG. 7, using the film-like replica mold f.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図7中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 7, using the acrylic resin film.
フィルム状レプリカモールド10側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 The film-like replica mold 10 side, an ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, was cured of the active energy ray curable resin composition B.
得られたフィルム製品62について、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film product 62, the average distance between concave recess depth, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表5に示す。 The results are shown in Table 5.

〔実施例4〕 Example 4
図6に示す製造装置を用いて、フィルム製品62を製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 6, a film was produced product 62.
図6中のロール状レプリカモールド68としては、ロール66の表面に前記フィルム状レプリカモールドdが貼着されたものを用いた。 The roll-like replica mold 68 in FIG. 6, was used on the surface of the roll 66 that the film-like replica mold d is stuck.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図6中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 6, using the acrylic resin film.
基材48側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 From the substrate 48 side, the ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, it was cured of the active energy ray curable resin composition B.
得られたフィルム製品62について、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film product 62, the average interval between the convex portions, the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表5に示す。 The results are shown in Table 5.

〔実施例5〕 [Example 5]
図2に示す製造装置を用いて、マザーモールドgを製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 2, it was prepared the mother mold g.
図2中のロール状モールド22としては、前記ロール状モールドbを用いた。 The roll-like mold 22 in FIG. 2, with the rolled mold b.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図2中のモールド本体12としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The mold body 12 in Figure 2, using the acrylic resin film.
モールド本体12側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 From the mold body 12 side, the ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, it was cured of the active energy ray curable resin composition B.
マザーモールドgを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。 The mother mold g, were immersed in 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment of the surface.
得られたマザーモールドgについて、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The resulting mother mold g, average spacing between protrusions, the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表3に示す。 The results are shown in Table 3.

図7に示す製造装置を用いて、フィルム状レプリカモールドhを製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, to produce a film-like replica mold h.
図7中のフィルム状レプリカモールド10としては、前記マザーモールドgを用いた。 The film-like replica mold 10 in FIG. 7, using the mother mold g.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition A.
図7中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 7, using the acrylic resin film.
基材48側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの硬化を行った。 From the substrate 48 side, the ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition A, it was cured of the active energy ray curable resin composition A.
フィルム状レプリカモールドhを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、表面のフッ素化処理を行った。 The film-like replica mold h, then immersed in 0.1 wt% dilute solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemical Sales Co., Ltd.), and air-dried overnight and subjected to fluorination treatment of the surface.
得られたフィルム状レプリカモールドhについて、凹部間の平均間隔、凹部の深さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film-like replica mold h, the average distance between concave recess depth, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表4に示す。 The results are shown in Table 4.

図7に示す製造装置を用いて、フィルム製品62を製造した。 By using the manufacturing apparatus shown in FIG. 7, to produce a film product 62.
図7中のフィルム状レプリカモールド10としては、前記フィルム状レプリカモールドhを用いた。 The film-like replica mold 10 in FIG. 7, using the film-like replica mold h.
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた。 The active energy ray curable resin composition, using the active energy ray curable resin composition B.
図7中の基材48としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。 The base material 48 in FIG. 7, using the acrylic resin film.
フィルム状レプリカモールド10側から、積算光量3200mJ/cm の紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bの硬化を行った。 The film-like replica mold 10 side, an ultraviolet integrated light quantity 3200mJ / cm 2, irradiating the coating film of the active energy ray curable resin composition B, was cured of the active energy ray curable resin composition B.
得られたフィルム製品62について、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、加重平均反射率、水接触角を測定した。 The obtained film product 62, the average interval between the convex portions, the convex height, weighted average reflectance was measured water contact angles. 結果を表5に示す。 The results are shown in Table 5.

本発明のフィルム状レプリカモールドは、表面に微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造に有用である。 Film-like replica mold of the present invention is useful in the manufacture of film products having a fine uneven structure on the surface.

本発明のフィルム状レプリカモールドの一例を示す断面図である。 It is a sectional view illustrating an example of a film-like replica mold of the present invention. 本発明のフィルム状レプリカモールドの製造装置の一例を示す構成図である。 An example of a film-like replica mold of the manufacturing apparatus of the present invention is a configuration diagram showing. 本発明のフィルム状レプリカモールドの製造装置の他の例を示す構成図である。 Another example of a film-like replica mold of the manufacturing apparatus of the present invention is a configuration diagram showing. 本発明のフィルム状レプリカモールドの製造装置の他の例を示す構成図である。 Another example of a film-like replica mold of the manufacturing apparatus of the present invention is a configuration diagram showing. 表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。 It is a sectional view showing a mold of the manufacturing process having anodized alumina on the surface. 本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造装置の一例を示す構成図である。 An example of an apparatus for producing a film product having a fine uneven structure of the present invention is a configuration diagram showing. 本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造装置の他の例を示す構成図である。 Another example of an apparatus for producing a film product having a fine uneven structure of the present invention is a configuration diagram showing. 本発明の微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造装置の他の例を示す構成図である。 Another example of an apparatus for producing a film product having a fine uneven structure of the present invention is a configuration diagram showing.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

10 フィルム状レプリカモールド 12 モールド本体 48 基材 62 フィルム製品 10 film-like replica mold 12 the mold body 48 substrate 62 film products

Claims (11)

  1. 表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、 Surface a film-like replica mold having a fine concavo-convex structure,
    前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものである、フィルム状レプリカモールド。 The fine concavo-convex structure, and is formed by transferring the fine unevenness on the surface of the anodized alumina film-like replica mold.
  2. 表面に微細凹凸構造を有するフィルム状レプリカモールドであって、 Surface a film-like replica mold having a fine concavo-convex structure,
    前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成された、マザーモールドの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものである、フィルム状レプリカモールド。 The fine concavo-convex structure, a fine uneven structure of the surface of the anodized alumina are formed by transferring, and is formed by transferring a fine concavo-convex structure of the mother mold surface, the film-like replica mold.
  3. 陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写する、フィルム状レプリカモールドの製造方法。 Transferring a fine concave-convex structure on the surface of the anodized alumina on the surface of the film-shaped molded body, method of producing a film-like replica mold.
  4. 陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を被転写体の表面に転写して、表面に微細凹凸構造を有するマザーモールドを作製し、 The fine uneven structure of the surface of the anodized alumina and transferred to the surface of the transfer receiving material, to prepare a mother mold having a fine uneven structure on the surface,
    該マザーモールドの表面の微細凹凸構造をフィルム状のモールド本体の表面に転写する、フィルム状レプリカモールドの製造方法。 Transferring a fine concavo-convex structure of the mother mold surface to the surface of the film-shaped molded body, method of producing a film-like replica mold.
  5. 前記微細凹凸構造の転写に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を用いる、請求項3または4に記載のフィルム状レプリカモールドの製造方法。 The transfer of the fine uneven structure, using the active energy ray curable resin composition, the film-like replica mold method according to claim 3 or 4.
  6. 前記微細凹凸構造の転写に、溶融状態のフッ素系樹脂を用いる、請求項3または4に記載のフィルム状レプリカモールドの製造方法。 The transfer of the fine uneven structure, using a fluorine-based resin in a molten state, the production method of the film-like replica mold according to claim 3 or 4.
  7. 前記微細凹凸構造を、フィルム状のモールド本体および/または被転写体の表面に熱インプリント法にて転写する、請求項3または4に記載のフィルム状レプリカモールドの製造方法。 The fine unevenness, is transferred to the surface of the film-shaped molded body and / or the transfer member by thermal imprinting method for producing a film-like replica mold according to claim 3 or 4.
  8. 請求項1または2に記載のフィルム状レプリカモールドの表面の微細凹凸構造を、フィルム状の基材の表面に転写する、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。 The fine uneven structure of the film-like replica mold surface according to claim 1 or 2, is transferred to the surface of the film-shaped substrate, a method of manufacturing a film product having a fine uneven structure.
  9. シームレスのフィルム状レプリカモールドを用いて、連続で微細凹凸構造をフィルム状の基材の表面に転写する、請求項8に記載の、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。 Using a seamless film-like replica mold, transferring a fine concave-convex structure in a continuous on the surface of the film-like substrate of claim 8, the manufacturing method of the film product having a fine uneven structure.
  10. 前記シームレスのフィルム状レプリカモールドが、前記フィルム状レプリカモールドをロールへ貼着させてロール状にしたものである、請求項9に記載の、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。 The seamless film-like replica mold is obtained by the film-like replica mold into a roll by sticking to the roll, according to claim 9, the manufacturing method of the film product having a fine uneven structure.
  11. 前記シームレスのフィルム状レプリカモールドが、前記フィルム状レプリカモールドをベルト状にしたものである、請求項9に記載の、微細凹凸構造を有するフィルム製品の製造方法。 The seamless film-like replica mold, the one in which the film-like replica mold was like a belt, according to claim 9, the manufacturing method of the film product having a fine uneven structure.
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