JP2013224015A - Light transmissive film and method for manufacturing the same - Google Patents

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覚 小澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for continuously manufacturing a light transmissive film having fine uneven structures with different heights on a surface from a single mold, and to provide the light transmissive film.SOLUTION: In a method for manufacturing a light transmissive film 40, a cured resin layer 44 where reversed structures of a mold are transferred is formed on a surface of a base film 42 so that fine uneven structures having different heights are formed in the longitudinal direction F of the film while repeating: a holding step of holding a fine uneven structure raw material containing a mold dissolving ingredient between the mold having a reversed structure of the fine uneven structure on its surface and the base film 42; a transferring step of obtaining the light transmissive film 40 where the cured resin layer 44 in which the reversed structure of the mold is transferred is formed on the surface of the base film 42 by heating and/or curing the fine uneven structure raw material; and a separating step of separating the light transmissive film 40 and the mold. In the light transmissive film 40, heights of the fine uneven structures are different in the longitudinal direction F of the film.

Description

本発明は、微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to a light transmissive film having a fine concavo-convex structure on its surface and a method for producing the same.

近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムなどの物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。   In recent years, it has been known that an article such as a light transmissive film having a fine concavo-convex structure with a period equal to or less than the wavelength of visible light on the surface exhibits an antireflection effect, a lotus effect, and the like. In particular, it is known that a concavo-convex structure called a moth-eye structure is an effective antireflection means by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material of the article.

微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムの製造方法としては、例えば、下記の工程(i)〜(iii)を有する方法、すなわち光ナノインプリント法が知られている(特許
文献1)。
(i)表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと、光透過性フィルムの本体となる基材フィルムとの間に、活性エネルギー線硬化性組成物を挟持する工程。
(ii)活性エネルギー線硬化性組成物に紫外線などの活性エネルギー線を照射し、該活性エネルギー線硬化性組成物を硬化させて微細凹凸構造を有する硬化樹脂層を形成し、光透過性フィルムを得る工程。
(iii)光透過性フィルムとモールドとを分離する工程。
As a method for producing a light transmissive film having a fine concavo-convex structure on its surface, for example, a method having the following steps (i) to (iii), that is, a photo nanoimprint method is known (Patent Document 1).
(I) A step of sandwiching an active energy ray-curable composition between a mold having an inverted structure of a fine concavo-convex structure on the surface and a base film serving as a main body of the light transmissive film.
(Ii) The active energy ray-curable composition is irradiated with active energy rays such as ultraviolet rays, and the active energy ray-curable composition is cured to form a cured resin layer having a fine concavo-convex structure; Obtaining step.
(Iii) A step of separating the light transmissive film and the mold.

また、活性エネルギー線硬化性組成物の代わりに熱可塑性樹脂を用い、熱可塑性樹脂が流動する温度にモールドを加熱し、微細凹凸構造を転写する熱ナノインプリント法も知られている(特許文献2)。   Also known is a thermal nanoimprint method in which a thermoplastic resin is used instead of the active energy ray-curable composition, the mold is heated to a temperature at which the thermoplastic resin flows, and the fine concavo-convex structure is transferred (Patent Document 2). .

特開2007−076089号公報JP 2007-076089 A 特開2001−26052号公報JP 2001-26052 A

ところで、光透過性フィルムの微細凹凸構造の高さの最適値は、微細凹凸構造のピッチや、光透過性フィルムの用途によって異なる。例えば、同じピッチで比較した場合、微細凹凸構造の高さが高い方がアスペクト比は高くなり、より高い反射防止性能を得ることができる。しかし、微細凹凸構造の高さを高くしすぎると耐擦傷性が低下するなどの問題も生じてくる。
従って、光透過性フィルムの用途によって最適な微細凹凸構造の高さは変わってくる。
By the way, the optimum value of the height of the fine concavo-convex structure of the light transmissive film varies depending on the pitch of the fine concavo-convex structure and the use of the light transmissive film. For example, when compared at the same pitch, the higher the fine concavo-convex structure, the higher the aspect ratio, and the higher antireflection performance can be obtained. However, when the height of the fine concavo-convex structure is too high, problems such as a decrease in scratch resistance also occur.
Therefore, the optimum height of the fine concavo-convex structure varies depending on the use of the light transmissive film.

しかしながら、特許文献1に記載の光ナノインプリント法や、特許文献2に記載の熱ナノインプリント法では、通常、1つのモールドから転写される微細凹凸構造の形状(高さ)は1種類であり、異なる高さの微細凹凸構造が転写された光透過性フィルムを得ることはできない。
そのため、それぞれの用途に応じた光透過性フィルムを製造するためには、用途に最適な高さの微細凹凸構造の反転構造を有するモールドを用意する必要があった。
However, in the optical nanoimprint method described in Patent Document 1 and the thermal nanoimprint method described in Patent Document 2, the shape (height) of the fine concavo-convex structure transferred from one mold is usually one type, and different heights. It is not possible to obtain a light transmissive film to which the fine concavo-convex structure is transferred.
Therefore, in order to manufacture a light-transmitting film according to each application, it is necessary to prepare a mold having an inverted structure of a fine concavo-convex structure having a height optimal for the application.

本発明は、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造する方法、および光透過性フィルムを提供する。   The present invention provides a method for continuously producing a light transmissive film having a fine concavo-convex structure with different heights on a surface from a single mold, and a light transmissive film.

本発明者らは鋭意検討した結果、モールド表面を溶解させる成分を活性エネルギー線硬化性組成物、あるいは熱可塑性樹脂等の微細凹凸構造原料に配合させて、賦形中にモールド表面を溶解させることで、モールドの表面形状が変化し、その結果、高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムが得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies, the present inventors have incorporated a component that dissolves the mold surface into an active energy ray-curable composition or a fine concavo-convex structure raw material such as a thermoplastic resin to dissolve the mold surface during shaping. Thus, the surface shape of the mold was changed, and as a result, it was found that a light transmissive film having a fine concavo-convex structure with a different height on the surface was obtained, and the present invention was completed.

すなわち、本発明の光透過性フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムを製造する方法であって、表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程と、前記微細凹凸構造原料を加熱して、および/または、微細凹凸構造原料に活性エネルギー線を照射して硬化させて、前記モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムを得る転写工程と、得られた光透過性フィルムとモールドとを分離する分離工程とを有し、前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することを特徴とする。
ここで、前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さが連続的に変化する微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することが好ましい。
また、前記モールド表面の微細凹凸構造の反転構造が、陽極酸化アルミナからなることが好ましい。
さらに、前記モールド溶解成分が、下記条件(a)を満たすリン酸エステル化合物であることが好ましい。
条件(a):50℃のリン酸エステル化合物中にモールドを22時間浸漬させた後のモールド質量が、浸漬前に比べて0.01%以上減少すること。
That is, the method for producing a light transmissive film of the present invention is a method for producing a light transmissive film in which a cured resin layer having a fine concavo-convex structure is formed on the surface of a base film, and the fine concavo-convex on the surface. A sandwiching step of sandwiching a fine concavo-convex structure raw material containing a mold-dissolving component between a mold having an inverted structure of the structure and a substrate film, heating the fine concavo-convex structure raw material, and / or fine concavo-convex structure raw material A transfer process for obtaining a light transmissive film in which a cured resin layer having a reverse structure of the mold transferred thereon is formed on the surface of the base film by irradiating with active energy rays and curing, and the obtained light transmissive film And a separation step for separating the mold, and while repeating the sandwiching step, the transfer step, and the separation step, fine uneven structures having different heights are formed in the longitudinal direction of the film. So that the, and forming a cured resin layer inversion structure is transferred in the mold to the substrate film surface.
Here, as the pinching process, the transfer process, and the separation process are repeated, the inversion structure of the mold is transferred so that a fine concavo-convex structure whose height continuously changes in the longitudinal direction of the film is formed. It is preferable to form a resin layer on the substrate film surface.
Moreover, it is preferable that the inverted structure of the fine concavo-convex structure on the mold surface is made of anodized alumina.
Furthermore, it is preferable that the mold dissolving component is a phosphate ester compound that satisfies the following condition (a).
Condition (a): The mold mass after dipping the mold in a phosphoric acid ester compound at 50 ° C. for 22 hours is reduced by 0.01% or more compared with that before dipping.

また、前記リン酸エステル化合物が、下記式(1)で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that the said phosphate ester compound is a polyoxyethylene alkyl phosphate ester compound represented by following formula (1).

式(1)中、R1はアルキル基であり、mは1〜20であり、nは1〜3である。   In Formula (1), R1 is an alkyl group, m is 1-20, and n is 1-3.

また、本発明の光透過性フィルムは、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムであって、前記微細凹凸構造は、モールド表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが異なることを特徴とする。
ここで、フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが連続的に変化していることが好ましい。
The light transmissive film of the present invention is a light transmissive film in which a cured resin layer having a fine concavo-convex structure is formed on the surface of a base film, and the fine concavo-convex structure is a fine concavo-convex structure on a mold surface. The height of the fine concavo-convex structure is different in the longitudinal direction of the film.
Here, it is preferable that the height of the fine concavo-convex structure continuously changes in the longitudinal direction of the film.

本発明によれば、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造する方法、および光透過性フィルムを提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the method of manufacturing continuously the light transmissive film which has the fine concavo-convex structure in which height differs from a single mold on the surface, and a light transmissive film can be provided.

表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the mold which has an anodized alumina on the surface. 光透過性フィルムの製造装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the manufacturing apparatus of a light transmissive film. 本発明の光透過性フィルムの一定領域部分の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the fixed area | region part of the light transmissive film of this invention. 連続して製造された本発明の光透過性フィルムの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the light transmissive film of this invention manufactured continuously. 光透過性フィルムの他の製造方法を説明する図である。It is a figure explaining the other manufacturing method of a light transmissive film. 浸漬試験前のモールド表面の走査型電子顕微鏡像である。It is a scanning electron microscope image of the mold surface before an immersion test.

以下、本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートを意味し、「光透過性」とは、少なくとも波長400〜1170nmの光を透過することを意味し、「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present specification, “(meth) acrylate” means acrylate and methacrylate, and “light-transmitting” means that light having a wavelength of at least 400 to 1170 nm is transmitted. "Means visible light, ultraviolet light, electron beam, plasma, heat ray (infrared ray, etc.) and the like.

[光透過性フィルムの製造方法]
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムをナノインプリント法により製造する方法である。
なお、本発明で用いるナノインプリント法は、光ナノインプリント法であっても、熱ナノインプリント法であっても構わないが、転写性、生産性の観点から光ナノインプリント法を用いることが好ましい。以下、光ナノインプリント法の例に沿って本発明を詳細に説明する。
また、本発明により得られる光透過性フィルムの微細凹凸構造は、凸型でも凹型も構わない。凸型では表面に付着した汚れがとれやすい利点が、凹型では耐擦傷性に優れる利点が考えられるため、光透過性フィルムの用途に応じて適切な型を選択できる。以下の例では凸型の微細凹凸構造を有する光透過性フィルムの製造方法の一例を説明する。
[Method for producing light transmissive film]
The manufacturing method of the light transmissive film of this invention is a method of manufacturing the light transmissive film by which the cured resin layer which has a fine concavo-convex structure was formed in the surface of a base film by the nanoimprint method.
The nanoimprint method used in the present invention may be an optical nanoimprint method or a thermal nanoimprint method, but the optical nanoimprint method is preferably used from the viewpoint of transferability and productivity. Hereinafter, the present invention will be described in detail along an example of an optical nanoimprint method.
Moreover, the fine concavo-convex structure of the light-transmitting film obtained by the present invention may be convex or concave. The convex mold has the advantage of easily removing dirt adhered to the surface, and the concave mold has the advantage of excellent scratch resistance. Therefore, an appropriate mold can be selected according to the use of the light-transmitting film. The following example demonstrates an example of the manufacturing method of the light transmissive film which has a convex-shaped fine uneven structure.

本発明の光透過性フィルムの製造方法は、下記の工程(i)〜(iii)を有する。
(i)表面に微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程。
(ii)微細凹凸構造原料に活性エネルギー線を照射し、微細凹凸構造原料を硬化させて、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムを得る転写工程。
(iii)得られた光透過性フィルムとモールドとを分離する分離工程。
The manufacturing method of the light transmissive film of this invention has the following process (i)-(iii).
(I) A sandwiching step of sandwiching a fine concavo-convex structure raw material containing a mold dissolution component between a mold having a reverse structure of a fine concavo-convex structure on the surface and a base film.
(Ii) Irradiating active energy rays to the fine concavo-convex structure raw material, curing the fine concavo-convex structure raw material, and obtaining a light-transmitting film in which a cured resin layer to which the inverted structure of the mold is transferred is formed on the surface of the base film Transfer process.
(Iii) A separation step of separating the obtained light transmissive film and the mold.

本発明の光透過性フィルムの製造方法は、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することを特徴とする。
ここで、「フィルムの長手方向」とは、光透過性フィルムの製造方向である。
また、「微細凹凸構造の高さ」とは、微細凹凸構造が凸型の場合は該微細凹凸構造を構成する凸部の高さのことであり、微細凹凸構造が凹型の場合は該微細凹凸構造を構成する凹部の深さのことである。
In the method for producing a light transmissive film of the present invention, the mold inversion structure is formed so that a fine concavo-convex structure having different heights is formed in the longitudinal direction of the film while the pinching process, the transfer process, and the separation process are repeated. The transferred cured resin layer is formed on the substrate film surface.
Here, the “longitudinal direction of the film” is the production direction of the light transmissive film.
Further, the “height of the fine concavo-convex structure” means the height of the convex portion constituting the fine concavo-convex structure when the fine concavo-convex structure is convex, and the fine concavo-convex structure when the fine concavo-convex structure is concave. It is the depth of the recessed part which comprises a structure.

すなわち、本発明では、光透過性フィルムを製造するにつれて微細凹凸構造の高さが変化、具体的には高さが減少するように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する。このとき、フィルムの長手方向に高さが連続的に変化する微細凹凸構造が形成されるように硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することが好ましく、一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連
続的に減少する微細凹凸構造が形成されるように硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成することが特に好ましい。一定領域において高さの均一な微細凹凸構造が形成されれば、得られる光透過性フィルムの性能が安定しやすくなる。特に、0.5cm2以上の領域において高さの均一な微細凹凸構造が形成されるようにすることが好ましく、より好ましくは1.0cm2以上の領域である。一定領域の上限については特に制限されず、光透過性フィルムの用途に応じて設定すればよい。
That is, in the present invention, as the light-transmitting film is manufactured, the cured resin layer to which the reversal structure of the mold is transferred is used as the base film so that the height of the fine uneven structure changes, specifically, the height decreases. Form on the surface. At this time, it is preferable to form a cured resin layer on the surface of the base film so that a fine uneven structure whose height continuously changes in the longitudinal direction of the film is formed. It is particularly preferable to form the cured resin layer on the surface of the base film so that a fine concavo-convex structure in which the height continuously decreases for each certain region while the concavo-convex structure is formed. If a fine concavo-convex structure having a uniform height is formed in a certain region, the performance of the obtained light-transmitting film is easily stabilized. In particular, it is preferable that a fine concavo-convex structure having a uniform height is formed in a region of 0.5 cm 2 or more, and a region of 1.0 cm 2 or more is more preferable. The upper limit of the certain region is not particularly limited, and may be set according to the use of the light transmissive film.

なお、本発明において「高さの均一な微細凹凸構造」とは、微細凹凸構造の高さの差が10nm以下である状態とする。
また、微細凹凸構造のピッチが同じ場合、微細凹凸構造の高さによって反射率が変化することから、光透過性フィルムの反射率を微細凹凸構造の高さの指標として用いることができる。本発明では、波長550nmの反射率の斑が0.5%以内の場合を微細凹凸構造の高さが均一である状態とする。
In the present invention, the “fine concavo-convex structure having a uniform height” refers to a state in which the difference in height of the fine concavo-convex structure is 10 nm or less.
In addition, when the pitch of the fine concavo-convex structure is the same, the reflectance varies depending on the height of the fine concavo-convex structure, and thus the reflectance of the light transmissive film can be used as an index of the height of the fine concavo-convex structure. In the present invention, the case where the unevenness of reflectance at a wavelength of 550 nm is within 0.5% is defined as a state in which the height of the fine concavo-convex structure is uniform.

本発明の光透過性フィルムの製造方法は、上述したように、転写工程においてモールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を用い、かつ、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する。モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を用いることで、光透過性フィルムの製造を続けていくうちにモールド表面がモールド溶解成分によって溶解し、モールドの反転構造(微細凹凸構造)が変化、具体的には減少する。その結果、単一のモールドからフィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムが連続的に得られる。
以下、本発明に用いる微細凹凸構造原料、基材フィルム、モールド、製造装置について、具体的に説明する。
As described above, the method for producing a light-transmitting film of the present invention uses a fine concavo-convex structure raw material containing a mold-dissolving component in the transfer step, and repeats the sandwiching step, the transfer step, and the separation step. A cured resin layer to which the inverted structure of the mold is transferred is formed on the surface of the base film so that fine uneven structures having different heights in the longitudinal direction are formed. By using a material with fine concavo-convex structure containing a mold-dissolving component, the mold surface dissolves due to the mold-dissolving component while manufacturing the light-transmitting film, and the mold reversal structure (fine concavo-convex structure) changes. Will decrease. As a result, a light-transmitting film having a fine concavo-convex structure with different heights on the surface in the longitudinal direction of the film can be continuously obtained from a single mold.
Hereinafter, the fine concavo-convex structure raw material, the base film, the mold, and the manufacturing apparatus used in the present invention will be specifically described.

<微細凹凸構造原料>
光ナノインプリント法により光透過性フィルムを製造する場合、微細凹凸構造原料としては、活性エネルギー線硬化性組成物を用いる。
活性エネルギー線硬化性組成物(以下、単に「硬化性組成物」という。)は、モールド溶解成分と、重合性化合物と、重合開始剤とを含有する。
<Fine uneven structure material>
When producing a light-transmitting film by the optical nanoimprint method, an active energy ray-curable composition is used as the fine concavo-convex structure raw material.
The active energy ray-curable composition (hereinafter simply referred to as “curable composition”) contains a mold-dissolving component, a polymerizable compound, and a polymerization initiator.

(モールド溶解成分)
モールド溶解成分としては、モールドを溶解することができれば特に限定されず、用いるモールドの材質に応じて適宜選択される。モールドの材質としては、金属(表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。)、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられるが、後述するように陽極酸化アルミナを用いることが好適である。
陽極酸化アルミナに適したモールド溶解成分としては、リン酸あるいはリン酸を含むリン酸エステル化合物が好適である。リン酸エステル化合物のその他の機能としては特に限定されないが、例えば内部離型剤として用いることができる。
以下、モールドとして表面に陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造が形成されたモールド、モールド溶解成分としてリン酸を用いた場合を例にとり、さらに具体的に説明する。
(Mold melting component)
The mold dissolving component is not particularly limited as long as it can dissolve the mold, and is appropriately selected according to the material of the mold to be used. Examples of the material of the mold include metals (including those having an oxide film formed on the surface), quartz, glass, resin, ceramics, and the like, but it is preferable to use anodized alumina as described later.
As a mold dissolution component suitable for anodized alumina, phosphoric acid or a phosphoric acid ester compound containing phosphoric acid is suitable. Although it does not specifically limit as another function of a phosphate ester compound, For example, it can use as an internal mold release agent.
Hereinafter, the case where a fine concavo-convex structure made of anodized alumina is formed on the surface as a mold and the case where phosphoric acid is used as a mold dissolution component will be described in more detail.

アルミナは酸やアルカリに溶解することが知られており、その中でもリン酸は溶解力が高い(非特許文献(空気調和・衛生工学、第79巻、第9号、p70)参照)。モールド表面が溶解し、モールドの反転構造(微細凹凸構造)が変化することによって、異なる高さの微細凹凸構造を単一つのモールドから連続的に転写することができる。   Alumina is known to dissolve in acids and alkalis, and among them, phosphoric acid has a high dissolving power (see non-patent literature (Air Conditioning / Hygiene Engineering, Vol. 79, No. 9, p70)). When the mold surface is melted and the reversal structure (fine concavo-convex structure) of the mold is changed, fine concavo-convex structures having different heights can be continuously transferred from a single mold.

従って、陽極酸化アルミナからなる微細凹凸構造が形成されたモールドを用いる場合には、モールド溶解成分としてリン酸を含む硬化性組成物を用いるのが好ましい。モールド
溶解成分としてはリン酸そのものを硬化性組成物に添加してもよいが、リン酸を硬化性組成物に均一に溶解させることが困難であったり、リン酸の添加によって硬化性組成物に水分が混入したりする可能性がある。そこで、リン酸を含むリン酸エステル化合物を硬化性組成物に添加させることが好適である。さらに、リン酸エステル化合物を均一に溶解させるため、硬化性組成物の調製の段階で、リン酸エステル化合物と他の成分(後述する重合性化合物や重合開始剤など)とを混合しておくことが好ましい。
Therefore, when using a mold having a fine concavo-convex structure made of anodized alumina, it is preferable to use a curable composition containing phosphoric acid as a mold dissolving component. As the mold dissolving component, phosphoric acid itself may be added to the curable composition, but it is difficult to uniformly dissolve phosphoric acid in the curable composition, or the phosphoric acid is added to the curable composition. There is a possibility of water mixing. Therefore, it is preferable to add a phosphate ester compound containing phosphoric acid to the curable composition. Furthermore, in order to uniformly dissolve the phosphate ester compound, the phosphate ester compound and other components (such as a polymerizable compound and a polymerization initiator described later) are mixed in the stage of preparing the curable composition. Is preferred.

本発明で用いるリン酸エステル化合物は、モールド表面を溶解させることが必須である。モールドを溶解させるかどうかはリン酸エステル化合物に含まれるリン酸量などに影響されるが、実際にリン酸エステル化合物にモールドを浸漬させ、質量変化を調べ判断することが好ましい。
溶解力が大きいほど光透過性フィルムの製造中に早くモールドが溶解する傾向がある。溶解力が低いとモールド表面が溶解されずモールドの微細凹凸構造が変化しにくいため、硬化樹脂層に転写される微細凹凸構造の高さも変化しにくい。一方、溶解力が大きすぎるとモールド表面が過剰に溶解され、モールドの微細凹凸構造が大幅に変化する(高さが極端に小さくなる)こととなり、硬化樹脂層に転写される微細凹凸構造に大きな斑が生じやすくなる。
It is essential for the phosphate ester compound used in the present invention to dissolve the mold surface. Whether or not the mold is dissolved is affected by the amount of phosphoric acid contained in the phosphate ester compound, but it is preferable to actually immerse the mold in the phosphate ester compound and examine the mass change for judgment.
There exists a tendency for a mold to melt | dissolve early, during manufacture of a light transmissive film, so that a dissolving power is large. When the dissolving power is low, the mold surface is not melted and the fine uneven structure of the mold is difficult to change, so the height of the fine uneven structure transferred to the cured resin layer is also difficult to change. On the other hand, if the dissolving power is too large, the mold surface will be excessively dissolved, and the fine concavo-convex structure of the mold will change drastically (the height will become extremely small), which is large in the fine concavo-convex structure transferred to the cured resin layer. Spots are likely to occur.

そこで、本発明では、溶解力の指標となる下記条件(a)を満たすリン酸エステル化合物をモールド溶解成分として用いることが好ましい。
条件(a):50℃のリン酸エステル化合物中にモールドを22時間浸漬させた後のモールド質量が、浸漬前に比べて0.01%以上減少すること。
Therefore, in the present invention, it is preferable to use a phosphate ester compound that satisfies the following condition (a), which serves as an index of dissolving power, as a mold dissolving component.
Condition (a): The mold mass after dipping the mold in a phosphoric acid ester compound at 50 ° C. for 22 hours is reduced by 0.01% or more compared with that before dipping.

条件(a)を満たすかどうかは、以下のようにして判断できる。
すなわち、50℃のリン酸エステル化合物中にモールドを22時間浸漬させて浸漬試験を行った後、モールドを取り出して洗浄し、浸漬試験前と洗浄後のモールドの質量を測定し、下記式より減少率を求める。減少率が0.01%以上であれば、条件(a)を満たすものと判断する。
減少率(%)={(浸漬前のモールドの質量−洗浄後のモールドの質量)/浸漬前のモールドの質量}×100
Whether the condition (a) is satisfied can be determined as follows.
That is, after the mold was immersed in a phosphoric ester compound at 50 ° C. for 22 hours and subjected to the immersion test, the mold was taken out and washed, and the mass of the mold before and after the immersion test was measured. Find the rate. If the reduction rate is 0.01% or more, it is determined that the condition (a) is satisfied.
Reduction rate (%) = {(Mass of mold before immersion−Mass of mold after washing) / Mass of mold before immersion} × 100

減少率が0.01%以上であれば、リン酸エステル化合物が適度な溶解力を有するため、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、モールド表面が適度な速さで溶解しやすくなる。従って、フィルムの長手方向において高さの異なる微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムが得られやすくなる。減少率は0.1%以上が好ましい。
一方、減少率の上限値については、モールド表面を過剰に溶解するのを抑制する観点から、1%以下が好ましく、0.7%以下がより好ましい。
If the reduction rate is 0.01% or more, the phosphate ester compound has an appropriate dissolving power, so the mold surface is easily dissolved at an appropriate speed while repeating the sandwiching process, the transfer process and the separation process. Become. Therefore, it becomes easy to obtain a light-transmitting film in which a cured resin layer to which a fine concavo-convex structure having a different height in the longitudinal direction of the film is transferred is formed on the surface of the base film. The reduction rate is preferably 0.1% or more.
On the other hand, the upper limit of the reduction rate is preferably 1% or less, more preferably 0.7% or less, from the viewpoint of suppressing excessive dissolution of the mold surface.

なお、リン酸エステル化合物が液体の場合には、そのままモールドを浸漬させればよい。一方、リン酸エステル化合物が固体の場合には、リン酸エステル化合物を加熱したり減圧したりして液体とするか、モールドに影響がない溶媒にリン酸エステル化合物を溶解させて溶液として、これらにモールドを浸漬させればよい。特に、溶媒にリン酸エステル化合物を溶解させる場合には、リン酸エステル化合物の濃度はできるだけ高い方が、モールドに対するリン酸エステル化合物の溶解力を素早く判断できる。   In addition, what is necessary is just to immerse a mold as it is, when a phosphoric acid ester compound is a liquid. On the other hand, when the phosphate ester compound is solid, the phosphate ester compound is heated or depressurized to form a liquid, or the phosphate ester compound is dissolved in a solvent that does not affect the mold as a solution. What is necessary is just to immerse a mold in. In particular, when the phosphate ester compound is dissolved in the solvent, the higher the concentration of the phosphate ester compound as possible, the quicker the determination of the solubility of the phosphate ester compound in the mold can be made.

リン酸エステル化合物としては、条件(a)を満たすものが好ましいが、その中でも特に、下記式(1)で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物(以下、「化合物(1)」という。)を用いると、離型剤としての効果も発揮するため好ましい。   As the phosphate ester compound, those satisfying the condition (a) are preferable, and among them, a polyoxyethylene alkyl phosphate compound represented by the following formula (1) (hereinafter referred to as “compound (1)”) is particularly preferable. Is preferably used because it also exhibits an effect as a release agent.

式(1)中、R1はアルキル基である。R1はとしては、炭素数3〜18のアルキル基が好ましい。
また、式(1)中、mはエチレンオキサイドの平均付加モル数を示し、1〜20であり、1〜10が好ましい。一方、nは1〜3である。
In formula (1), R1 is an alkyl group. R1 is preferably an alkyl group having 3 to 18 carbon atoms.
Moreover, in Formula (1), m shows the average addition mole number of ethylene oxide, is 1-20, and 1-10 are preferable. On the other hand, n is 1-3.

化合物(1)は、モノエステル体、ジエステル体、トリエステル体の何れであってもよい。また、ジエステル体またはトリエステル体である場合、1分子中の複数のポリオキシエチレンアルキル残基は、それぞれ異なっていてもよい。   Compound (1) may be a monoester, a diester, or a triester. Moreover, when it is a diester body or a triester body, several polyoxyethylene alkyl residues in 1 molecule may each differ.

モールド溶解成分として化合物(1)を用いれば、硬化性組成物の硬化物である硬化樹脂層とモールドとの離型性がより向上し、微細凹凸構造の成形に好適である。また、モールドから離型する際の負荷が極めて低くなるので、欠陥の少ない微細凹凸構造が転写された光透過性フィルムを生産性よく得られる。さらに、化合物(1)を用いることで、離型性能を長時間に渡って維持することができる。   If compound (1) is used as a mold-dissolving component, the releasability between the cured resin layer, which is a cured product of the curable composition, and the mold is further improved, and it is suitable for forming a fine concavo-convex structure. Moreover, since the load at the time of releasing from a mold becomes very low, the light transmissive film in which the fine concavo-convex structure with few defects was transferred can be obtained with high productivity. Furthermore, the release performance can be maintained for a long time by using the compound (1).

化合物(1)のうち、上述した条件(a)を満たし、かつモールド溶解成分として用いることが可能な化合物は、市販品として入手できる。例えば、日光ケミカルズ株式会社製の「TDP−10」、「TDP−8」、「TDP−6」、「TDP−2」、「DDP−10」、「DDP−8」、「DDP−6」、「DDP−4」、「DDP−2」;アクセル社製の「INT−1856」;城北化学工業株式会社製の「JP506−H」などが挙げられる。
化合物(1)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
Among the compounds (1), a compound that satisfies the above-mentioned condition (a) and can be used as a mold dissolving component can be obtained as a commercial product. For example, “TDP-10”, “TDP-8”, “TDP-6”, “TDP-2”, “DDP-10”, “DDP-8”, “DDP-6” manufactured by Nikko Chemicals Corporation, “DDP-4”, “DDP-2”; “INT-1856” manufactured by Accel Corporation; “JP506-H” manufactured by Johoku Chemical Industry Co., Ltd.
A compound (1) may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

ところで、モールドの溶解速度は、硬化性組成物中のモールド溶解成分の含有量や、転写工程時にモールドと接触する側の表面にモールド溶解成分が染み出てくる(ブリードアウト)量などに依存する。従って、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに高さの異なる微細凹凸構造を硬化樹脂層に転写するには、モールド溶解成分の含有量やブリードアウト量が重要となる。
ブリードアウト量は、重合性化合物とモールド溶解成分の相溶性に依存する。相溶性が悪いほどブリードアウト量が多くなるため、モールドの溶解が起りやすい。特に、モールド溶解成分としてリン酸を含むリン酸エステル化合物を用いた場合は重合性化合物との相溶性によってブリードアウト量が顕著に変わる。従って、リン酸を含むリン酸エステル化合物と重合性化合物との組み合わせを調節することで、モールドの溶解速度を制御することもできる。
By the way, the mold dissolution rate depends on the content of the mold-dissolving component in the curable composition, the amount of the mold-dissolving component oozing out (bleed out) on the surface in contact with the mold during the transfer process, and the like. . Therefore, in order to transfer the fine uneven structure having different heights to the cured resin layer while repeating the sandwiching process, the transfer process, and the separation process, the content of the mold dissolving component and the amount of bleed out are important.
The amount of bleed out depends on the compatibility of the polymerizable compound and the mold dissolving component. Since the amount of bleed out increases as the compatibility is poor, the mold is likely to melt. In particular, when a phosphoric acid ester compound containing phosphoric acid is used as a mold dissolving component, the amount of bleed out changes significantly depending on the compatibility with the polymerizable compound. Therefore, the dissolution rate of the mold can be controlled by adjusting the combination of the phosphoric acid ester compound containing phosphoric acid and the polymerizable compound.

リン酸を含むリン酸エステル化合物の相溶性を確認する方法として、硬化性組成物にリン酸エステル化合物を添加し、攪拌した際の透明性で判断する方法が考えられる。相溶性が高いほど硬化性組成物の透明性が高い。透明性の評価としては、光散乱や分光光度計を用いて透過率を測定する方法が挙げられる。また、実際のリン酸を含むリン酸エステル化合物の添加量が少ない場合には、試験的にそれ以上に添加して相溶性を判断しても構わない。例えば、透明性を透過率で判断する場合、硬化性組成物にリン酸を含むリン酸エステル化合物を3質量部添加・攪拌した際の波長500nmにおける透過率が95%以上であると、相溶性が良いためブリードアウト量が抑制されモールド溶解が起りにくくなる。一方、透過率が95%より小さいと、相溶性が悪いためブリードアウトしやくなり、モールド溶解が起りやすくなるため好ましい。挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに高さの異なる微細凹凸構造を効率的に硬化樹脂層に転写するためには、前記透過率が50%以下であるとさらに好ましい。   As a method for confirming the compatibility of the phosphoric acid ester compound containing phosphoric acid, a method may be considered in which the phosphoric acid ester compound is added to the curable composition and judged by transparency when stirred. The higher the compatibility, the higher the transparency of the curable composition. Examples of the evaluation of transparency include a method of measuring transmittance using light scattering or a spectrophotometer. Moreover, when there is little addition amount of the phosphoric acid ester compound containing an actual phosphoric acid, it may be added more experimentally and a compatibility may be judged. For example, when the transparency is judged by the transmittance, if the transmittance at a wavelength of 500 nm when adding 3 parts by mass of a phosphate ester compound containing phosphoric acid to the curable composition and stirring is 95% or more, the compatibility Therefore, the amount of bleed-out is suppressed and mold dissolution is difficult to occur. On the other hand, a transmittance of less than 95% is preferable because the compatibility is poor and the bleed-out is likely to occur and the mold melts easily. In order to efficiently transfer the fine concavo-convex structure having different heights to the cured resin layer while repeating the sandwiching process, the transfer process, and the separation process, the transmittance is more preferably 50% or less.

モールド溶解成分の含有量は、後述する重合性化合物100質量部に対して0.01質量部以上が好ましく、0.5質量部以上がより好ましい。モールド溶解成分の含有量が多くなるほど溶解速度が早くなる傾向にある。ただし、モールド溶解成分を必要以上に含有させると、モールド表面が過剰に溶解され、微細凹凸構造が消失したり、所望とする高さの微細凹凸構造が転写されなくなったりする場合がある。従って、モールド溶解成分の含有量は、3質量部以下が好ましい。
一方、ブリードアウト量は、重合性化合物とモールド溶解成分の相溶性によって変わり、相溶性が悪いほどブリードアウト量が多くなるため、溶解速度が早くなる傾向がある。特に、リン酸エステル化合物は重合性化合物との相溶性によってブリードアウト量が顕著に変わる。従って、リン酸エステル化合物と重合性化合物との組み合わせを調節することで、モールドの溶解速度を制御することもできる。
0.01 mass part or more is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds mentioned later, and, as for content of a mold melt | dissolution component, 0.5 mass part or more is more preferable. The dissolution rate tends to increase as the content of the mold dissolution component increases. However, if the mold dissolving component is contained more than necessary, the mold surface is excessively dissolved, and the fine concavo-convex structure may be lost, or the fine concavo-convex structure having a desired height may not be transferred. Therefore, the content of the mold dissolving component is preferably 3 parts by mass or less.
On the other hand, the bleed-out amount varies depending on the compatibility between the polymerizable compound and the mold-dissolving component, and the bleed-out amount increases as the compatibility becomes worse, so that the dissolution rate tends to increase. In particular, the amount of bleed out of the phosphate ester compound varies significantly depending on the compatibility with the polymerizable compound. Therefore, the dissolution rate of the mold can be controlled by adjusting the combination of the phosphate ester compound and the polymerizable compound.

(重合性化合物)
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
(Polymerizable compound)
Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。
これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( )) (Meth) acrylate derivatives such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, α -Styrene derivatives such as methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。
これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( Ta) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ) Butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, propylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, neopentyl glycol di (meth) hydroxypivalate Bifunctional monomers such as acrylate, divinylbenzene, and methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide Functional tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate and other trifunctional monomers; succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 4 or more functional monomers such as dipentaerystol hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate; bifunctional or more Urethane acrylates, bifunctional or higher functional polyester acrylates, and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサ
ゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。
Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。   Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.

(重合開始剤)
光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4'−ビス(
ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(Polymerization initiator)
When utilizing a photocuring reaction, examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxy. Acetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (
(Dimethylamino) carbonyl compounds such as benzophenone and 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenyl Examples include phosphine oxide and benzoyldiethoxyphosphine oxide.
These may be used alone or in combination of two or more.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。
これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
When using an electron beam curing reaction, examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthone such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholy Phenyl) -butanone and other acetophenones; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and other benzoin ethers; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, 9-phenyl Examples include acridine.
These may be used alone or in combination of two or more.

重合開始剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。重合開始剤の含有量が0.1質量部未満であると、重合が進行しにくい。一方、重合開始剤の含有量が10質量部を超えると、硬化樹脂層が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。   As for content of a polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the content of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed. On the other hand, when the content of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured resin layer may be colored or the mechanical strength may be lowered.

(その他の成分)
本発明の硬化性組成物は、必要に応じて、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物、紫外線吸収剤および/または光安定剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、耐衝撃性改質剤等の公知の添加剤、少量の溶媒を含んでいてもよい。
(Other ingredients)
If necessary, the curable composition of the present invention comprises a non-reactive polymer, an active energy ray sol-gel reactive composition, an ultraviolet absorber and / or a light stabilizer, a lubricant, a plasticizer, an antistatic agent, and a flame retardant. , Flame retardant aids, polymerization inhibitors, fillers, silane coupling agents, colorants, reinforcing agents, inorganic fillers, additives such as fluorine compounds to improve antifouling properties, fine particles, impact modifiers And the like, and may contain a small amount of a solvent.

非反応性のポリマー:
非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
Non-reactive polymer:
Examples of non-reactive polymers include acrylic resins, styrene resins, polyurethanes, cellulose resins, polyvinyl butyral, polyesters, thermoplastic elastomers, and the like.

活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物:
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
アルコキシシラン化合物としては、下記式(2)で表される化合物(以下、「化合物(2)」という。)が挙げられる。
R2xSi(OR3)y ・・・(2)
ただし、式(2)中、R2およびR3はそれぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、xおよびyはx+y=4の関係を満たす整数である。
Active energy ray sol-gel reactive composition:
Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkyl silicate compounds.
Examples of the alkoxysilane compound include a compound represented by the following formula (2) (hereinafter referred to as “compound (2)”).
R2xSi (OR3) y (2)
However, in Formula (2), R2 and R3 represent a C1-C10 alkyl group, respectively, and x and y are integers which satisfy | fill the relationship of x + y = 4.

化合物(2)としては、具体的に、テトラメトキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。   Specific examples of the compound (2) include tetramethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, Examples include methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.

アルキルシリケート化合物としては、下記式(3)で表される化合物(以下、「化合物(3)」という。)が挙げられる。
R4O[Si(OR6)(OR7)O]zR5 ・・・(3)
ただし、式(3)中、R4〜R7はそれぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは3〜20の整数を表す。
Examples of the alkyl silicate compound include a compound represented by the following formula (3) (hereinafter referred to as “compound (3)”).
R4O [Si (OR6) (OR7) O] zR5 (3)
However, in formula (3), R4 to R7 each represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, and z represents an integer of 3 to 20.

化合物(3)としては、具体的に、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。   Specific examples of the compound (3) include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.

紫外線吸収剤および/または光安定剤:
紫外線吸収剤および/または光安定剤は、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制等の耐候性を付与する役割を果たす。
紫外線吸収剤および/または光安定剤としては、例えばベンゾフェノン系の紫外線吸収剤、ベンゾトリアゾール系の紫外線吸収剤、ベンゾエート系の紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系の光安定剤等が挙げられる。市販品としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン400」、「チヌビン479」、「チヌビン109」;共同薬品株式会社製の「Viosorb110」等の紫外線吸収剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製の「チヌビン152」、「チヌビン292」等の光安定剤が挙げられる。
紫外線吸収剤および/または光安定剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
UV absorber and / or light stabilizer:
The ultraviolet absorber and / or the light stabilizer plays a role of imparting weather resistance such as suppression of yellowish color and suppression of increase in haze.
Examples of ultraviolet absorbers and / or light stabilizers include benzophenone ultraviolet absorbers, benzotriazole ultraviolet absorbers, benzoate ultraviolet absorbers, and hindered amine light stabilizers. Commercially available products include UV absorbers such as “Tinuvin 400”, “Tinubin 479” and “Tinubin 109” manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd .; Examples thereof include light stabilizers such as “Tinuvin 152” and “Tinuvin 292” manufactured by the company.
A ultraviolet absorber and / or a light stabilizer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

紫外線吸収剤および/または光安定剤の含有量は、重合性化合物100質量部に対して0.01〜5質量部が好ましく、0.01〜3質量部がより好ましく、0.01〜1質量部がさらに好ましく、0.01〜0.5質量部が特に好ましい。これらの含有量が0.01質量部以上であれば、黄帯色の抑制やヘイズの上昇抑制などの耐候性の向上効果が得られやすくなる。一方、これらの含有量が5質量部以下であれば、硬化性組成物が十分に硬
化するので、硬化樹脂層の耐擦傷性の低下を抑制しやすい。また、耐候性試験での指紋拭き取り性の低下も抑制できる。
The content of the ultraviolet absorber and / or the light stabilizer is preferably 0.01 to 5 parts by weight, more preferably 0.01 to 3 parts by weight, and 0.01 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound. Part is more preferable, and 0.01 to 0.5 part by mass is particularly preferable. When these contents are 0.01 parts by mass or more, it is easy to obtain an effect of improving weather resistance such as suppression of yellowish color and suppression of increase in haze. On the other hand, if these content is 5 mass parts or less, since a curable composition will fully harden | cure, it is easy to suppress the abrasion-resistant fall of a cured resin layer. Moreover, the fall of the fingerprint wiping property in a weather resistance test can also be suppressed.

(疎水性材料)
硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成し得る硬化性組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
(Hydrophobic material)
In order to set the water contact angle of the surface of the fine uneven structure of the cured resin layer to 90 ° or more, a composition containing a fluorine-containing compound or a silicone compound is used as the curable composition capable of forming a hydrophobic material. It is preferable.

フッ素含有化合物:
フッ素含有化合物としては、下記式(4)で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
−(CF2)q−X ・・・(4)
ただし、式(4)中、Xはフッ素原子または水素原子を表し、qは1以上の整数を表し、1〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜8が特に好ましい。
Fluorine-containing compounds:
As the fluorine-containing compound, a compound having a fluoroalkyl group represented by the following formula (4) is preferable.
-(CF2) q-X (4)
However, in Formula (4), X represents a fluorine atom or a hydrogen atom, q represents an integer greater than or equal to 1, 1-20 are preferable, 3-10 are more preferable, and 4-8 are especially preferable.

フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing compound include a fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agent, a fluorine-containing surfactant, and a fluorine-containing polymer.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。
Examples of the fluorine-containing monomer include a fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer and a fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer.
Examples of the fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer include fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylates, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylamides, fluoroalkyl group-substituted vinyl ethers, and fluoroalkyl group-substituted styrenes.
Examples of the fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer include fluoroalkyl group-substituted epoxy compounds, fluoroalkyl group-substituted oxetane compounds, and fluoroalkyl group-substituted oxazoline compounds.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレートが好ましく、下記式(5)で表される化合物が特に好ましい。
CH2=C(R8)C(O)O−(CH2)p−(CF2)q−X ・・・(5)
ただし、式(5)中、R8は水素原子またはメチル基を表し、Xは水素原子またはフッ素原子を表し、pは1〜6の整数を表し、1〜3が好ましく、1または2がより好ましく、qは1〜20の整数を表し、3〜10が好ましく、4〜8がより好ましい。
As the fluorine-containing monomer, a fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate is preferable, and a compound represented by the following formula (5) is particularly preferable.
CH2 = C (R8) C (O) O- (CH2) p- (CF2) q-X (5)
However, in formula (5), R8 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom or a fluorine atom, p represents an integer of 1 to 6, preferably 1 to 3, and more preferably 1 or 2. , Q represents an integer of 1 to 20, preferably 3 to 10, and more preferably 4 to 8.

フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式(6)で表される化合物が特に好ましい。
(R9)aR10bSiYc ・・・(6)
ただし、式(6)中、R9はエーテル結合またはエステル結合を1個以上含んでいてもよい炭素数1〜20のフッ素置換アルキル基を表す。R9としては、3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル基、3−トリフルオロメトキシプロピル基、3−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。
また、R10は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。R10としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
As the fluorine-containing silane coupling agent, a fluoroalkyl group-substituted silane coupling agent is preferable, and a compound represented by the following formula (6) is particularly preferable.
(R9) aR10bSiYc (6)
However, in Formula (6), R9 represents a C1-C20 fluorine-substituted alkyl group which may contain one or more ether bonds or ester bonds. Examples of R9 include 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, 3-trifluoromethoxypropyl group, 3-trifluoroacetoxypropyl group and the like. .
R10 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of R10 include a methyl group, an ethyl group, and a cyclohexyl group.

Yは、水酸基または加水分解性基を表す。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、R11C(O)O(ただし、R11は、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。)等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオ
キシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、Cl、Br、I等が挙げられる。
R11C(O)Oとしては、CH3C(O)O、C2H5C(O)O等が挙げられる。
Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, a halogen atom, and R11C (O) O (wherein R11 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).
Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, Examples include octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, and the like.
Examples of the halogen atom include Cl, Br, I and the like.
Examples of R11C (O) O include CH3C (O) O, C2H5C (O) O, and the like.

a、b、cは、a+b+c=4であり、かつa≧1、c≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、c=3が好ましい。   a, b, and c are integers satisfying a + b + c = 4 and satisfying a ≧ 1, c ≧ 1, and preferably a = 1, b = 0, and c = 3.

フッ素含有シランカップリング剤としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Fluorine-containing silane coupling agents include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriacetoxysilane, dimethyl-3,3,3-trifluoropropylmethoxysilane, Examples include decafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltriethoxysilane.

フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。
フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数2〜10のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルキル(C6〜C11)オキシ]−1−アルキル(C3〜C4)スルホン酸ナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルカノイル(C6〜C8)−N−エチルアミノ]−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル(C11〜C20)カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸(C7〜C13)またはその金属塩、パーフルオロアルキル(C4〜C12)スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル(C6〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル(C6〜C10)−N−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル(C6〜C16)エチルリン酸エステル等が挙げられる。
Examples of the fluorine-containing surfactant include a fluoroalkyl group-containing anionic surfactant and a fluoroalkyl group-containing cationic surfactant.
Examples of the fluoroalkyl group-containing anionic surfactant include a fluoroalkylcarboxylic acid having 2 to 10 carbon atoms or a metal salt thereof, perfluorooctanesulfonyl glutamate disodium, 3- [omega-fluoroalkyl (C6-C11) oxy]- Sodium 1-alkyl (C3-C4) sulfonate, sodium 3- [omega-fluoroalkanoyl (C6-C8) -N-ethylamino] -1-propanesulfonate, fluoroalkyl (C11-C20) carboxylic acid or its metal Salt, perfluoroalkylcarboxylic acid (C7 to C13) or metal salt thereof, perfluoroalkyl (C4 to C12) sulfonic acid or metal salt thereof, perfluorooctanesulfonic acid diethanolamide, N-propyl-N- (2-hydroxy Ethyl) full Looctanesulfonamide, perfluoroalkyl (C6-C10) sulfonamidopropyltrimethylammonium salt, perfluoroalkyl (C6-C10) -N-ethylsulfonylglycine salt, monoperfluoroalkyl (C6-C16) ethyl phosphate, etc. Can be mentioned.

フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル(C6〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。   Examples of fluoroalkyl group-containing cationic surfactants include aliphatic quaternary ammonium salts such as fluoroalkyl group-containing aliphatic primary, secondary or tertiary amine acids, perfluoroalkyl (C6-C10) sulfonamidopropyltrimethylammonium salts. Benzalkonium salt, benzethonium chloride, pyridinium salt, imidazolinium salt and the like.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。   Fluorine-containing polymers include polymers of fluoroalkyl group-containing monomers, copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and poly (oxyalkylene) group-containing monomers, and copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and crosslinking reactive group-containing monomers. A polymer etc. are mentioned. The fluorine-containing polymer may be a copolymer with another copolymerizable monomer.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
ポリ(オキシアルキレン)基としては、下記式(7)で表される基が好ましい。
−(OR12)r− ・・・(7)
ただし、式(7)中、R12は炭素数2〜4のアルキレン基を表し、rは2以上の整数を表す。R12としては、−CH2CH2−、−CH2CH2CH2−、−CH(CH3)CH2−、−CH(CH3)CH(CH3)−等が挙げられる。
As the fluorine-containing polymer, a copolymer of a fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group-containing monomer is preferable.
As the poly (oxyalkylene) group, a group represented by the following formula (7) is preferable.
-(OR12) r -... (7)
However, in Formula (7), R12 represents a C2-C4 alkylene group, r represents an integer greater than or equal to 2. Examples of R12 include -CH2CH2-, -CH2CH2CH2-, -CH (CH3) CH2-, -CH (CH3) CH (CH3)-and the like.

ポリ(オキシアルキレン)基は、同一のオキシアルキレン単位(OR12)からなるものであってもよく、2種以上のオキシアルキレン単位(OR12)からなるものであってもよい。2種以上のオキシアルキレン単位(OR12)の配列は、ブロックであってもよ
く、ランダムであってもよい。
The poly (oxyalkylene) group may be composed of the same oxyalkylene unit (OR12) or may be composed of two or more oxyalkylene units (OR12). The arrangement of two or more oxyalkylene units (OR12) may be a block or random.

シリコーン系化合物:
シリコーン系化合物としては、(メタ)アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン(ジ)(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Silicone compounds:
Examples of the silicone compound include (meth) acrylic acid-modified silicone, silicone resin, silicone silane coupling agent and the like.
Examples of the (meth) acrylic acid-modified silicone include silicone (di) (meth) acrylate.

(親水性材料)
硬化樹脂層の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成し得る硬化性組成物として、少なくとも親水性モノマーを含む組成物を用いることが好ましい。また、耐擦傷性や耐水性付与の観点からは、架橋可能な多官能モノマーを含むものがより好ましい。なお、親水性モノマーと架橋可能な多官能モノマーは、同一(すなわち、親水性多官能モノマー)であってもよい。さらに、硬化性組成物は、その他のモノマーを含んでいてもよい。
(Hydrophilic material)
In order to make the water contact angle on the surface of the fine uneven structure of the cured resin layer 25 ° or less, it is preferable to use a composition containing at least a hydrophilic monomer as a curable composition capable of forming a hydrophilic material. . From the viewpoint of scratch resistance and imparting water resistance, those containing a cross-linkable polyfunctional monomer are more preferable. In addition, the same (namely, hydrophilic polyfunctional monomer) may be sufficient as the polyfunctional monomer which can be bridge | crosslinked with a hydrophilic monomer. Furthermore, the curable composition may contain other monomers.

親水性の材料を形成し得る硬化性組成物としては、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることがより好ましい。
4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの10〜50質量%、
2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの30〜80質量%、
単官能モノマーの0〜20質量%の合計100質量%からなる重合性化合物。
As the curable composition capable of forming a hydrophilic material, it is more preferable to use a composition containing the following polymerizable compound.
10 to 50% by mass of a tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate,
30-80% by weight of bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate,
A polymerizable compound comprising a total of 100% by mass of 0 to 20% by mass of a monofunctional monomer.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL220」、「EBECRYL1290」、「EBECRYL1290K」、「EBECRYL5129」、「EBECRYL8210」、「EBECRYL8301」、「KRM8200」)、ポリエーテルアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL81」)、変性エポキシアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL3416」)、ポリエステルアクリレート類(ダイセル・サイテック株式会社製の「EBECRYL450」、「EBECRYL657」、「EBECRYL800」、「EBECRYL810」、「EBECRYL811」、「EBECRYL812」、「EBECRYL1830」、「EBECRYL845」、「EBECRYL846」、「EBECRYL1870」)等が挙げられる。
これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、5官能以上の多官能(メタ)アクリレートがより好ましい。
Examples of tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates include ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypenta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, condensation reaction mixture of succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid in a molar ratio of 1: 2: 4, urethane acrylates ("EBECRYL220", "EBECRYL1290", "manufactured by Daicel-Cytec Corporation", " EBECRYL1290K ”,“ EBECRYL5129 ”,“ EBECRYL8210 ”,“ EBECRYL8301 ”,“ KRM8200 ”), polyether acrylates ( "EBECRYL81" manufactured by Issel Cytec Co., Ltd.), modified epoxy acrylates ("EBECRYL3416" manufactured by Daicel Cytech Co., Ltd.), polyester acrylates ("EBECRYL450", "EBECRYL657" manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., "EBECRYL800") ”,“ EBECRYL 810 ”,“ EBECRYL 811 ”,“ EBECRYL 812 ”,“ EBECRYL 1830 ”,“ EBECRYL 845 ”,“ EBECRYL 846 ”,“ EBECRYL 1870 ”), and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.
The polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups is more preferably a polyfunctional (meth) acrylate having 5 or more functional groups.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの含有量は、重合性化合物100質量%中、10〜50質量%が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、20〜50質量%がより好ましく、30〜50質量%が特に好ましい。一方、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの含有量が10質量%以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの含有量が50質量%以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。   The content of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is preferably 10 to 50% by mass in 100% by mass of the polymerizable compound, and more preferably 20 to 50% by mass from the viewpoint of water resistance and chemical resistance. 30-50 mass% is especially preferable. On the other hand, if the content of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 10% by mass or more, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved. If the content of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 50% by mass or less, it is difficult for small cracks to be formed on the surface and poor appearance.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートとしては、東亞合成株式会社製の「アロニックスM−240」、「アロニックスM260」;新中村化学工業株式会社製の「NKエス
テルAT−20E」、「NKエステルATM−35E」等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。
これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
As bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylates, “Aronix M-240” and “Aronix M260” manufactured by Toagosei Co., Ltd .; “NK Ester AT-20E” and “NK Ester” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Examples thereof include polyfunctional acrylates having a long-chain polyethylene glycol such as “ATM-35E”, polyethylene glycol dimethacrylate, and the like.
These may be used alone or in combination of two or more.

ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6〜40が好ましく、9〜30がより好ましく、12〜20が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとの相溶性が良好となり、硬化性組成物が分離しにくい。   In the polyethylene glycol dimethacrylate, the total of the average repeating units of the polyethylene glycol chain present in one molecule is preferably 6 to 40, more preferably 9 to 30, and particularly preferably 12 to 20. If the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 6 or more, the hydrophilicity is sufficient and the antifouling property is improved. If the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 40 or less, the compatibility with a polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups is good, and the curable composition is difficult to separate.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの含有量は、重合性化合物100質量%中、30〜80質量%が好ましく、40〜70質量%がより好ましい。2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの含有量が30質量%以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。一方、2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの含有量が80質量%以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。   30-100 mass% is preferable in 100 mass% of polymeric compounds, and, as for content of bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate, 40-70 mass% is more preferable. If content of bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate is 30 mass% or more, hydrophilicity will become sufficient and antifouling property will improve. On the other hand, if the content of the bifunctional or higher functional hydrophilic (meth) acrylate is 80% by mass or less, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved.

単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
親水性単官能モノマーとしては、新中村化学工業株式会社製の「M−20G」、「M−90G」「、M−230G」等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能(メタ)アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材フィルムへの密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。
As the monofunctional monomer, a hydrophilic monofunctional monomer is preferable.
Examples of the hydrophilic monofunctional monomer include monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group such as “M-20G”, “M-90G”, and “M-230G” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. Cationic monomers such as monofunctional (meth) acrylates having a hydroxyl group in the ester group such as hydroxyalkyl (meth) acrylate, monofunctional acrylamides, methacrylopropylpropyltrimethylammonium methylsulfate, methacryloyloxyethyltrimethylammonium methylsulfate, etc. It is done.
Moreover, as a monofunctional monomer, you may use viscosity modifiers, such as acryloyl morpholine and vinyl pyrrolidone, adhesive improvement agents, such as acryloyl isocyanates which improve the adhesiveness to a base film.

単官能モノマーの含有量は、重合性化合物100質量%中、0〜20質量%が好ましく、5〜15質量%がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、基材フィルムと硬化樹脂層との密着性が向上する。単官能モノマーの含有量が20質量%以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートまたは2官能以上の親水性(メタ)アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。   The content of the monofunctional monomer is preferably 0 to 20% by mass and more preferably 5 to 15% by mass in 100% by mass of the polymerizable compound. By using a monofunctional monomer, the adhesion between the base film and the cured resin layer is improved. If the content of the monofunctional monomer is 20% by mass or less, antifouling property or scratch resistance can be obtained without a shortage of polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups or hydrophilic (meth) acrylate having 2 or more functional groups. Fully express.

単官能モノマーは、1種または2種以上を(共)重合した低重合度の重合体として硬化性組成物に0〜35質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、新中村化学工業株式会社製の「M−230G」等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマー(例えばMRCユニテック株式会社製の「MGポリマー」)等が挙げられる。   The monofunctional monomer may be blended in the curable composition in an amount of 0 to 35 parts by mass as a low-polymerization polymer obtained by (co) polymerizing one type or two or more types. As a polymer having a low polymerization degree, a monofunctional (meth) acrylate having a polyethylene glycol chain in an ester group such as “M-230G” manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., and methacrylamide propyltrimethylammonium methyl sulfate 40/60 copolymer oligomer (for example, “MG polymer” manufactured by MRC Unitech Co., Ltd.) and the like.

以上説明した硬化性組成物は、モールド溶解成分を含有するため、モールド表面を適度に溶解させやすい。その結果、光透過性フィルムの製造とともにモールド表面が溶解して表面形状(微細凹凸構造)が変化するため、異なる高さの微細凹凸構造を単一の金型から連続的に転写することができる。
また、リン酸エステル化合物は離型剤の役割も果たすので、モールドと硬化樹脂層との離型性を長時間にわたって維持できる。
Since the curable composition demonstrated above contains a mold melt | dissolution component, it is easy to dissolve a mold surface moderately. As a result, the mold surface dissolves and the surface shape (fine concavo-convex structure) changes with the manufacture of the light transmissive film, so that the fine concavo-convex structure of different heights can be transferred continuously from a single mold. .
Moreover, since the phosphate ester compound also serves as a mold release agent, the mold release property between the mold and the cured resin layer can be maintained for a long time.

<基材フィルム>
基材フィルムとしては、フィルム越しに活性エネルギー線照射を行うため、光透過性の高いフィルムが好ましく、例えばアクリルフィルムやPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルム、ポリカーボネートフィルム、TAC(トリアセチルセルロース)フィルムなどを用いることができる。
<Base film>
As the base film, a film having high light transmittance is preferable because active energy ray irradiation is performed through the film. For example, an acrylic film, a PET (polyethylene terephthalate) film, a polycarbonate film, a TAC (triacetyl cellulose) film, or the like is used. be able to.

<モールド>
モールドの材料としては、金属(表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。)、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。
本発明に用いるモールドは、例えば下記に示す方法(I)、(II)によって製造できる。中でも、大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法(I)が特に好ましい。
(I)アルミニウム基材の表面に、複数の細孔(凹部)を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。
(II)基材の表面にリソグラフィ法によって微細凹凸構造を形成する方法。
<Mold>
Examples of the material for the mold include metals (including those having an oxide film formed on the surface), quartz, glass, resin, ceramics, and the like.
The mold used in the present invention can be produced by, for example, the following methods (I) and (II). Among them, the method (I) is particularly preferable from the viewpoint that the area can be increased and the production is simple.
(I) A method of forming anodized alumina having a plurality of pores (recesses) on the surface of an aluminum substrate.
(II) A method of forming a fine relief structure on the surface of a substrate by lithography.

方法(I)としては、下記の工程(a)〜(e)を有するのが好ましい。
(a)アルミニウム基材を電解液中、定電圧下で陽極酸化してアルミニウム基材の表面に酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、アルミニウム基材の表面に陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)アルミニウム基材を電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)細孔の径を拡大させる工程。
(e)工程(c)と工程(d)を繰り返し行い、複数の細孔を有する陽極酸化アルミナがアルミニウム基材の表面に形成されたモールドを得る工程。
The method (I) preferably includes the following steps (a) to (e).
(A) A step of forming an oxide film on the surface of an aluminum substrate by anodizing the aluminum substrate in an electrolytic solution under a constant voltage.
(B) A step of removing the oxide film and forming anodic oxidation pore generation points on the surface of the aluminum substrate.
(C) A step of anodizing the aluminum substrate again in the electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
(D) A step of enlarging the diameter of the pores.
(E) A step of repeatedly performing steps (c) and (d) to obtain a mold in which anodized alumina having a plurality of pores is formed on the surface of an aluminum substrate.

工程(a):
図1に示すように、アルミニウム基材10を陽極酸化すると、細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。
アルミニウム基材の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。
また、アルミニウム基材は、表面状態を平滑化にするために、機械研磨、羽布研磨、化学的研磨、電解研磨処理(エッチング処理)などで研磨されることが好ましい。また、アルミニウム基材は、所定の形状に加工する際に用いた油が付着していることがあるため、陽極酸化の前にあらかじめ脱脂処理されることが好ましい。
Step (a):
As shown in FIG. 1, when the aluminum substrate 10 is anodized, an oxide film 14 having pores 12 is formed.
Examples of the shape of the aluminum substrate include a roll shape, a circular tube shape, a flat plate shape, and a sheet shape.
The aluminum base material is preferably polished by mechanical polishing, feather polishing, chemical polishing, electrolytic polishing treatment (etching treatment) or the like in order to smooth the surface state. Moreover, since the oil used when processing an aluminum base material in a defined shape may adhere, it is preferable to degrease in advance before anodizing.

アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸、リン酸等が挙げられる。
The purity of aluminum is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more, and particularly preferably 99.8% or more. When the purity of aluminum is low, when anodized, an uneven structure having a size to scatter visible light may be formed due to segregation of impurities, or the regularity of pores obtained by anodization may be lowered.
Examples of the electrolytic solution include sulfuric acid, oxalic acid, and phosphoric acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合:
シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が30〜60Vの時、平均間隔が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が
溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using oxalic acid as electrolyte:
The concentration of oxalic acid is preferably 0.7 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.7M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough.
When the formation voltage is 30 to 60 V, anodized alumina having highly regular pores with an average interval of 100 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

硫酸を電解液として用いる場合:
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が25〜30Vの時、平均間隔が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がより好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using sulfuric acid as the electrolyte:
The concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage.
When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with an average interval of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or less, and more preferably 20 ° C. or less. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

工程(b):
図1に示すように、酸化皮膜14を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点16にすることで細孔の規則性を向上することができる。なお、それほど高い規則性が必要とされない場合、酸化皮膜14の少なくとも一部を除去しても良く、工程(a)の後に、後述する工程(d)を行っても構わない。
酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。
Step (b):
As shown in FIG. 1, the regularity of the pores can be improved by removing the oxide film 14 once and using it as the pore generation points 16 for anodic oxidation. In addition, when not so high regularity is required, you may remove at least one part of the oxide film 14, and you may perform the process (d) mentioned later after a process (a).
Examples of the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves the oxide film and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.

工程(c):
図1に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム基材10を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成される。
陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
Step (c):
As shown in FIG. 1, when the aluminum substrate 10 from which the oxide film has been removed is anodized again, an oxide film 14 having cylindrical pores 12 is formed.
Anodization may be performed under the same conditions as in step (a). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

工程(d):
図1に示すように、細孔12の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
Step (d):
As shown in FIG. 1, a process for expanding the diameter of the pores 12 (hereinafter referred to as a pore diameter expansion process) is performed. The pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving the oxide film. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass.
The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.

工程(e):
図1に示すように、工程(c)の陽極酸化と、工程(d)の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔12を有する酸化皮膜14が形成され、アルミニウム基材10の表面に陽極酸化アルミナ(アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト))を有するモールド本体18が得られる。
Step (e):
As shown in FIG. 1, when the anodization in the step (c) and the pore diameter expansion process in the step (d) are repeated, the pores 12 have a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening. An oxide film 14 is formed, and a mold body 18 having anodized alumina (aluminum porous oxide film (alumite)) on the surface of the aluminum substrate 10 is obtained.

繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて形成された微細凹凸構造(モスアイ構造)の反射率低減効果は不十分である。   The total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more. When the number of repetitions is 2 times or less, the diameter of the pores decreases discontinuously. Therefore, the reflectance reduction effect of the fine uneven structure (moth eye structure) formed using anodized alumina having such pores is It is insufficient.

細孔12の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。   Examples of the shape of the pore 12 include a substantially conical shape, a pyramid shape, a cylindrical shape, and the like, and a cross-sectional area of the pore in a direction orthogonal to the depth direction such as a conical shape and a pyramid shape has a depth from the outermost surface. A shape that continuously decreases in the direction is preferred.

細孔12間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。細孔1
2間の平均間隔は、20nm以上が好ましい。
細孔12間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する細孔12間の間隔(細孔12の中心から隣接する細孔12の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
The average interval between the pores 12 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. Pore 1
The average distance between the two is preferably 20 nm or more.
The average interval between the pores 12 was measured by measuring the distance between adjacent pores 12 (distance from the center of the pore 12 to the center of the adjacent pore 12) by electron microscope observation, and averaging these values. It is a thing.

細孔12の深さは、平均間隔が100nmの場合は、80〜500nmが好ましく、120〜400nmがより好ましく、150〜300nmが特に好ましい。
細孔12の深さは、電子顕微鏡観察によって倍率30000倍で観察したときにおける、細孔12の最底部と、細孔12間に存在する凸部の最頂部との間の距離を測定した値である。
細孔12のアスペクト比(細孔の深さ/細孔間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が特に好ましい。
When the average interval is 100 nm, the depth of the pores 12 is preferably 80 to 500 nm, more preferably 120 to 400 nm, and particularly preferably 150 to 300 nm.
The depth of the pore 12 is a value obtained by measuring the distance between the bottom of the pore 12 and the top of the convex portion existing between the pores 12 when observed with an electron microscope at a magnification of 30000 times. It is.
The aspect ratio of the pores 12 (depth of pores / average interval between pores) is preferably 0.8 to 5.0, more preferably 1.2 to 4.0, and 1.5 to 3.0. Is particularly preferred.

その他の工程:
本発明においては、工程(e)にて得られたモールド本体18をそのままモールドとしてもよいが、モールド本体18の微細凹凸構造が形成された側の表面を離型剤(外部離型剤)で処理してもよい。
離型剤としては、アルミニウム基材の陽極酸化アルミナと化学結合を形成し得る官能基を有するものが好ましい。具体的には、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられ、離型性に優れる点、モールド本体との密着性に優れる点から、シラノール基あるいは加水分解性シリル基を有することが好ましく、その中でも加水分解性シリル基を有するフッ素化合物が特に好ましい。
加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の市販品としては、フルオロアルキルシラン、信越化学工業株式会社製の「KBM−7803」;ダイキン工業株式会社製の「オプツール」シリーズ;住友スリーエム株式会社製の「ノベックEGC−1720」等が挙げられる。
Other processes:
In the present invention, the mold body 18 obtained in the step (e) may be used as a mold as it is. However, the surface of the mold body 18 on which the fine uneven structure is formed is formed with a release agent (external release agent). It may be processed.
As the release agent, those having a functional group capable of forming a chemical bond with the anodized alumina of the aluminum substrate are preferable. Specifically, silicone resin, fluororesin, fluorine compound and the like can be mentioned. From the viewpoint of excellent releasability and excellent adhesion to the mold body, it is preferable to have a silanol group or a hydrolyzable silyl group. Among these, a fluorine compound having a hydrolyzable silyl group is particularly preferable.
Commercially available fluorine compounds having hydrolyzable silyl groups include fluoroalkyl silane, “KBM-7803” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; “OPTOOL” series manufactured by Daikin Industries, Ltd .; “manufactured by Sumitomo 3M Limited” Novec EGC-1720 "and the like.

離型剤による処理方法としては、下記の方法1、方法2が挙げられ、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面をムラなく離型剤で処理できる点から、方法1が特に好ましい。
方法1:離型剤の希釈溶液にモールド本体を浸漬する方法。
方法2:離型剤またはその希釈溶液を、モールド本体の微細凹凸構造が形成された側の表面に塗布する方法。
Examples of the treatment method using a release agent include the following Method 1 and Method 2, and Method 1 is particularly preferable because the surface of the mold body on which the fine concavo-convex structure is formed can be treated with a release agent without unevenness. .
Method 1: A method in which a mold body is immersed in a dilute solution of a release agent.
Method 2: A method in which a release agent or a diluted solution thereof is applied to the surface of the mold body on the side where the fine relief structure is formed.

方法1としては、下記の工程(f)〜(j)を有する方法が好ましい。
(f)モールド本体を水洗する工程。
(g)モールド本体にエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した水滴を除去する工程。
(h)加水分解性シリル基を有するフッ素化合物を溶媒で希釈した希釈溶液に、モールド本体を浸漬する工程。
(i)浸漬したモールド本体をゆっくりと溶液から引き上げる工程。
(j)モールド本体を乾燥させる工程。
As the method 1, a method having the following steps (f) to (j) is preferable.
(F) A step of washing the mold main body with water.
(G) A step of blowing water on the mold body to remove water droplets attached to the surface of the mold body.
(H) A step of immersing the mold body in a diluted solution obtained by diluting a fluorine compound having a hydrolyzable silyl group with a solvent.
(I) A step of slowly lifting the immersed mold body from the solution.
(J) A step of drying the mold body.

工程(f):
モールド本体には、多孔質構造を形成する際に用いた薬剤(細孔径拡大処理に用いたリン酸水溶液等)、不純物(埃等)等が付着しているため、水洗によってこれを除去する。
Step (f):
Since the chemical | medical agent (Phosphate aqueous solution etc. which were used for the pore diameter expansion process), impurities (dust etc.), etc. which were used when forming a porous structure are adhering to a mold main body, this is removed by water washing.

工程(g):
モールド本体にエアーを吹き付け、目に見える水滴はほぼ除去する。
Step (g):
Air is blown onto the mold body to remove almost all visible water droplets.

工程(h):
希釈用の溶媒としては、フッ素系溶媒、アルコール系溶媒等の公知の溶媒を用いればよい。中でも、適度な揮発性、濡れ性等を有するため、外部離型剤溶液を均一に塗布できる点で、フッ素系溶媒が好ましい。フッ素系溶媒としては、ハイドロフルオロポリエーテル、パーフルオロヘキサン、パーフルオロメチルシクロヘキサン、パーフルオロ−1,3−ジメチルシクロヘキサン、ジクロロペンタフルオロプロパン等が挙げられる。
加水分解性シリル基を有するフッ素化合物の濃度は、希釈溶液(100質量%)中、0.01〜0.2質量%が好ましい。
浸漬時間は、1〜30分が好ましい。
浸漬温度は、0〜50℃が好ましい。
Step (h):
As a solvent for dilution, a known solvent such as a fluorine-based solvent or an alcohol-based solvent may be used. Among these, a fluorine-based solvent is preferable because it has appropriate volatility, wettability, and the like, and can be applied uniformly with an external release agent solution. Examples of the fluorine-based solvent include hydrofluoropolyether, perfluorohexane, perfluoromethylcyclohexane, perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane, dichloropentafluoropropane, and the like.
As for the density | concentration of the fluorine compound which has a hydrolyzable silyl group, 0.01-0.2 mass% is preferable in a diluted solution (100 mass%).
The immersion time is preferably 1 to 30 minutes.
As for immersion temperature, 0-50 degreeC is preferable.

工程(i):
浸漬したモールド本体を溶液から引き上げる際には、電動引き上げ機等を用いて、一定速度で引き上げ、引き上げ時の揺動を抑えることが好ましい。これにより塗布ムラを少なくできる。
引き上げ速度は、1〜10mm/秒が好ましい。
Step (i):
When the soaked mold body is pulled up from the solution, it is preferable to pull up at a constant speed using an electric puller or the like to suppress swinging during the pulling. This can reduce coating unevenness.
The pulling speed is preferably 1 to 10 mm / second.

工程(j):
モールド本体を乾燥させる工程では、モールド本体を風乾させてもよく、乾燥機等で強制的に加熱乾燥させてもよい。
乾燥温度は、30〜150℃が好ましい。
乾燥時間は、5〜300分が好ましい。
Step (j):
In the step of drying the mold body, the mold body may be air-dried or forcibly heated and dried with a dryer or the like.
The drying temperature is preferably 30 to 150 ° C.
The drying time is preferably 5 to 300 minutes.

なお、モールド本体の表面が離型剤で処理されたことは、モールド本体の表面の水接触角を測定することによって確認できる。離型剤で処理されたモールド本体の表面の水接触角は、60°以上が好ましく、90°以上がより好ましい。水接触角が 60°以上であれば、モールド本体の表面が離型剤で十分に処理され、離型性が良好となる。   In addition, it can confirm that the surface of the mold main body was processed with the mold release agent by measuring the water contact angle of the surface of the mold main body. The water contact angle on the surface of the mold body treated with the release agent is preferably 60 ° or more, and more preferably 90 ° or more. When the water contact angle is 60 ° or more, the surface of the mold body is sufficiently treated with a release agent, and the release property is improved.

<製造装置>
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、上述したモールド溶解成分を含む硬化性組成物を用い、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返し行う。
各工程は、例えば図2に示す製造装置を用いて、下記のように行われる。
<Manufacturing equipment>
The method for producing a light-transmitting film of the present invention uses the above-described curable composition containing a mold-dissolving component, and repeatedly performs a sandwiching step, a transfer step, and a separation step.
Each process is performed as follows, for example using the manufacturing apparatus shown in FIG.

表面に微細凹凸構造(図示略)を有するロール状モールド20と、ロール状モールド20の表面に沿って移動する帯状の基材フィルム42との間に、タンク22から硬化性組成物38を供給する。   The curable composition 38 is supplied from the tank 22 between the roll-shaped mold 20 having a fine concavo-convex structure (not shown) on the surface and the strip-shaped base film 42 that moves along the surface of the roll-shaped mold 20. .

ロール状モールド20と、空気圧シリンダ24によってニップ圧が調整されたニップロール26との間で、基材フィルム42および硬化性組成物38をニップし、硬化性組成物38を基材フィルム42とロール状モールド20との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド20の微細凹凸構造の凹部内に充填する。   The base film 42 and the curable composition 38 are nipped between the roll-shaped mold 20 and the nip roll 26 whose nip pressure is adjusted by the pneumatic cylinder 24, and the curable composition 38 is rolled with the base film 42. At the same time, it is uniformly distributed between the mold 20 and the concave portion of the fine concavo-convex structure of the roll-shaped mold 20 is filled.

ロール状モールド20の下方に設置された活性エネルギー線照射装置28から、基材フィルム42を通して硬化性組成物38に活性エネルギー線を照射し、硬化性組成物38を硬化させることによって、ロール状モールド20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成する。
剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成された基材フィルム42をロール状モールド20から剥離することによって、図3に示すような、一定領域において高さの均一な微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルム40を得る。
そして、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すことで、図4に示すように、フィ
ルムの長手方向Fにおいて微細凹凸構造の高さが異なる光透過性フィルム40が得られる。
By irradiating the active energy ray to the curable composition 38 through the base film 42 from the active energy ray irradiating device 28 installed below the roll-shaped mold 20 to cure the curable composition 38, the roll-shaped mold is obtained. The cured resin layer 44 to which the fine concavo-convex structure on the surface of 20 is transferred is formed.
By peeling the base film 42 having the cured resin layer 44 formed on the surface thereof from the roll-shaped mold 20 by the peeling roll 30, a surface having a uniform fine concavo-convex structure having a uniform height as shown in FIG. A light-transmitting film 40 is obtained.
Then, by repeating the sandwiching step, the transfer step, and the separation step, as shown in FIG. 4, a light transmissive film 40 having a different fine concavo-convex structure height in the longitudinal direction F of the film is obtained.

活性エネルギー線照射装置28としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cm2が好ましい。   As the active energy ray irradiation device 28, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like is preferable. In this case, the amount of light irradiation energy is preferably 100 to 10,000 mJ / cm 2.

<作用効果>
以上説明した本発明の光透過性フィルムの製造方法によれば、モールド溶解成分を含む硬化性組成物を用い、挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する。このように挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すと、モールド表面がモールド溶解成分によって適度に溶解される。その結果、光透過性フィルムの製造とともにモールド表面が溶解して表面形状(微細凹凸構造)が変化するため、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルムの表面に形成できる。
従って、本発明であれば、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを連続的に製造できる。これにより、例えば光透過性フィルムの用途に応じて反射防止性能と耐擦傷性とのバランスを変えた微細凹凸構造を有する光透過性フィルムを単一のモールドから効率的に製造できるので、微細凹凸構造の高さが異なる複数のモールドを準備する必要がない。
<Effect>
According to the method for producing a light-transmitting film of the present invention described above, a curable composition containing a mold-dissolving component is used, and the height in the longitudinal direction of the film is repeated while repeating the sandwiching process, the transfer process, and the separation process. The cured resin layer to which the reversal structure of the mold is transferred is formed on the surface of the base film so that the fine concavo-convex structures having different sizes are formed. When the sandwiching step, the transfer step, and the separation step are repeated in this manner, the mold surface is appropriately dissolved by the mold dissolving component. As a result, the mold surface dissolves and the surface shape (fine concavo-convex structure) changes with the manufacture of the light-transmitting film. It can be formed on the surface of a film.
Therefore, if it is this invention, the light transmissive film which has the fine concavo-convex structure from which a height differs in the surface from a single mold can be manufactured continuously. Thus, for example, a light transmissive film having a fine concavo-convex structure in which the balance between antireflection performance and scratch resistance is changed according to the use of the light transmissive film can be efficiently produced from a single mold. There is no need to prepare a plurality of molds having different structure heights.

特に、硬化性組成物中のモールド溶解成分の含有量やブリードアウト量を調整したり、条件(a)における減少率を調整したリン酸エステル化合物を用いたりすれば、モールド表面の溶解速度を制御できるので、図4に示すように一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連続的に減少する微細凹凸構造が形成されるように硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成できる。   In particular, the mold surface dissolution rate can be controlled by adjusting the mold dissolution component content and bleed-out amount in the curable composition, or by using a phosphate ester compound with an adjusted reduction rate in condition (a). Therefore, as shown in FIG. 4, the cured resin layer is formed so that a fine concavo-convex structure having a uniform height is formed in a certain region, and a fine concavo-convex structure in which the height continuously decreases in each constant region. Can be formed on the substrate film surface.

<他の実施形態>
本発明の光透過性フィルムの製造方法は、上述した方法に限定されない。上述した方法では、図2に示す製造装置を用い、基材フィルム42に活性エネルギー線を照射して光透過性フィルム40を製造しているが、例えば支持フィルムに支持された基材フィルムを用い、以下のようにして光透過性フィルムを製造してもよい。
すなわち、図5に示すように、支持フィルム48によって裏面側から支持された基材フィルム42の表面と、ロール状モールド20との間に、硬化性組成物38を供給し、支持フィルム48を通して硬化性組成物38に活性エネルギー線を照射して、基材フィルム42の表面に微細凹凸構造を有する硬化樹脂層44が形成された光透過性フィルム40を製造する。このようにして得られた光透過性フィルム40は支持フィルム48で支持されており、必要に応じて支持フィルム48を光透過性フィルム40から剥離する。
支持フィルム48としては、剥離可能なフィルムであれば特に限定されないが、例えばPETフィルム、ポリカーボネートフィルム等が挙げられる。
支持フィルム48は、単層フィルムであってもよいし、多層フィルムであってもよい。
<Other embodiments>
The manufacturing method of the light transmissive film of this invention is not limited to the method mentioned above. In the method described above, the manufacturing apparatus shown in FIG. 2 is used to manufacture the light transmissive film 40 by irradiating the base film 42 with active energy rays. For example, the base film supported by the support film is used. The light transmissive film may be manufactured as follows.
That is, as shown in FIG. 5, the curable composition 38 is supplied between the surface of the base film 42 supported from the back surface side by the support film 48 and the roll-shaped mold 20, and cured through the support film 48. The active composition 38 is irradiated with active energy rays to produce a light transmissive film 40 in which a cured resin layer 44 having a fine concavo-convex structure is formed on the surface of the base film 42. The light transmissive film 40 thus obtained is supported by the support film 48, and the support film 48 is peeled off from the light transmissive film 40 as necessary.
The support film 48 is not particularly limited as long as it is a peelable film, and examples thereof include a PET film and a polycarbonate film.
The support film 48 may be a single layer film or a multilayer film.

また、上述した方法は光ナノインプリント法を用いた方法であるが、熱ナノインプリント法を用いてもよい。この場合、上述した硬化性組成物の代わりに、モールド溶解成分を含む熱可塑性樹脂を用い、該熱可塑性樹脂が流動する温度にモールドを加熱して、モールドの反転構造を硬化樹脂層に転写する。   Moreover, although the method mentioned above is the method using the optical nanoimprint method, you may use the thermal nanoimprint method. In this case, instead of the curable composition described above, a thermoplastic resin containing a mold-dissolving component is used, the mold is heated to a temperature at which the thermoplastic resin flows, and the inverted structure of the mold is transferred to the cured resin layer. .

[光透過性フィルム]
図3、4は、本発明の光透過性フィルムの一例を示す断面図である。なお、図3はフィ
ルムの長手方向における一定領域部分を示す図であり、図4は連続的に製造された光透過性フィルムを示す図である。
図3、4に示す光透過性フィルム40は、基材フィルム42の表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層44が形成されている。
[Light transmissive film]
3 and 4 are cross-sectional views showing an example of the light transmissive film of the present invention. In addition, FIG. 3 is a figure which shows the fixed area | region part in the longitudinal direction of a film, and FIG. 4 is a figure which shows the transparent film manufactured continuously.
In the light transmissive film 40 shown in FIGS. 3 and 4, a cured resin layer 44 having a fine concavo-convex structure is formed on the surface of a base film 42.

基材フィルム42は、光透過性を有するフィルムである。基材フィルムの材料としては、アクリルフィルム、PETフィルム、ポリカーボネートフィルム、TACフィルムなどが挙げられる。   The base film 42 is a film having optical transparency. Examples of the material for the base film include an acrylic film, a PET film, a polycarbonate film, and a TAC film.

硬化樹脂層44は、上述した硬化性組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。
陽極酸化アルミナのモールドを用いた場合の光透過性フィルム40の表面の微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、硬化性組成物の硬化物からなる複数の凸部46を有する。
The cured resin layer 44 is a film made of a cured product of the curable composition described above, and has a fine uneven structure on the surface.
The fine concavo-convex structure on the surface of the light-transmitting film 40 when an anodized alumina mold is used is formed by transferring the fine concavo-convex structure on the surface of the anodized alumina, and is a cured product of the curable composition. A plurality of convex portions 46 are formed.

微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起(凸部)が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。   As the fine concavo-convex structure, a so-called moth-eye structure in which a plurality of protrusions (convex portions) having a substantially conical shape or a pyramid shape are arranged is preferable. It is known that the moth-eye structure in which the distance between the protrusions is less than or equal to the wavelength of visible light is an effective anti-reflection measure by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material. It has been.

凸部間の平均間隔は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均間隔は100から200nm程度となることから、250nm以下が特に好ましい。
また、凸部間の平均間隔は、凸部の形成のしやすさの点から、20nm以上が好ましい。
凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔(凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
The average interval between the convex portions is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. When the convex portions are formed using an anodized alumina mold, the average distance between the convex portions is about 100 to 200 nm, and is particularly preferably 250 nm or less.
Further, the average interval between the convex portions is preferably 20 nm or more from the viewpoint of easy formation of the convex portions.
The average interval between the convex portions is obtained by measuring 50 intervals between adjacent convex portions (distance from the center of the convex portion to the center of the adjacent convex portion) by electron microscope observation, and averaging these values. .

本発明の光透過性フィルムは、フィルムの長手方向において微細凹凸構造の高さが連続的に変化していることが好ましく、より好ましくは、図4に示すように、一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連続的に減少していることが好ましい。特に、0.5cm2以上の領域において高さの均一な微細凹凸構造が形成されていることが好ましく、より好ましくは1.0cm2以上の領域である。一定領域の上限については特に制限されず、光透過性フィルムの用途に応じて設定すればよい。   In the light transmissive film of the present invention, it is preferable that the height of the fine concavo-convex structure continuously changes in the longitudinal direction of the film, and more preferably, as shown in FIG. It is preferable that the height continuously decreases for each predetermined region while a uniform fine uneven structure is formed. In particular, it is preferable that a fine uneven structure having a uniform height is formed in a region of 0.5 cm 2 or more, and more preferably a region of 1.0 cm 2 or more. The upper limit of the certain region is not particularly limited, and may be set according to the use of the light transmissive film.

凸部の高さは、フィルムの長手方向Fにおいて異なっていれば特に制限されないが、凸部間の平均間隔が100nmの場合は、80〜500nmが好ましく、120〜400nmがより好ましく、150〜300nmが特に好ましい。凸部の高さが80nm以上であれば、反射率が十分低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが500nm以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
凸部の高さは、電子顕微鏡によって倍率30000倍で観察したときにおける、凸部の最頂部と、凸部間に存在する凹部の最底部との間の距離を測定した値である。
The height of the convex portion is not particularly limited as long as it is different in the longitudinal direction F of the film. However, when the average interval between the convex portions is 100 nm, 80 to 500 nm is preferable, 120 to 400 nm is more preferable, and 150 to 300 nm. Is particularly preferred. If the height of the convex portion is 80 nm or more, the reflectance is sufficiently low and the wavelength dependency of the reflectance is small. If the height of a convex part is 500 nm or less, the scratch resistance of a convex part will become favorable.
The height of the convex portion is a value obtained by measuring the distance between the topmost portion of the convex portion and the bottommost portion of the concave portion existing between the convex portions when observed with an electron microscope at a magnification of 30000 times.

また、凸部のアスペクト比(凸部の高さ/凸部間の平均間隔)は、0.8〜5.0が好ましく、1.2〜4.0がより好ましく、1.5〜3.0が特に好ましい。凸部のアスペクト比が0.8以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が5.0以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。   Moreover, 0.8-5.0 are preferable, as for the aspect ratio (height of a convex part / average interval between convex parts) of a convex part, 1.2-4.0 are more preferable, and 1.5-3. 0 is particularly preferred. If the aspect ratio of the convex portion is 0.8 or more, the reflectance is sufficiently low. If the aspect ratio of the convex portion is 5.0 or less, the scratch resistance of the convex portion is good.

凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状
が好ましい。
The shape of the convex part is a shape in which the convex sectional area in the direction perpendicular to the height direction continuously increases in the depth direction from the outermost surface, that is, the sectional shape in the height direction of the convex part is a triangle, trapezoid, A shape such as a bell shape is preferred.

硬化樹脂層44の屈折率と基材フィルム42の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。屈折率差が0.2以下であれば、硬化樹脂層44と基材フィルム42との界面における反射が抑えられる。   The difference between the refractive index of the cured resin layer 44 and the refractive index of the base film 42 is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, and particularly preferably 0.05 or less. When the refractive index difference is 0.2 or less, reflection at the interface between the cured resin layer 44 and the base film 42 is suppressed.

表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。   When the surface has a fine concavo-convex structure, if the surface is made of a hydrophobic material, super water repellency can be obtained by the lotus effect, and if the surface is made of a hydrophilic material, super hydrophilicity can be obtained. It is known that

硬化樹脂層44の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、90°以上が好ましく、110°以上がより好ましく、120°以上が特に好ましい。水接触角が90°以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。   When the material of the cured resin layer 44 is hydrophobic, the water contact angle on the surface of the fine concavo-convex structure is preferably 90 ° or more, more preferably 110 ° or more, and particularly preferably 120 ° or more. If the water contact angle is 90 ° or more, water stains are less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. Moreover, since water does not adhere easily, anti-icing can be expected.

硬化樹脂層44の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、25°以下が好ましく、23°以下がより好ましく、21°以下が特に好ましい。水接触角が25°以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂層44の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3°以上が好ましい。   When the material of the cured resin layer 44 is hydrophilic, the water contact angle on the surface of the fine uneven structure is preferably 25 ° or less, more preferably 23 ° or less, and particularly preferably 21 ° or less. If the water contact angle is 25 ° or less, the dirt adhering to the surface is washed away with water and oil dirt is less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. The water contact angle is preferably 3 ° or more from the viewpoint of suppressing the deformation of the fine concavo-convex structure due to water absorption of the cured resin layer 44 and the accompanying increase in reflectance.

<作用効果>
以上説明した本発明の光透過性フィルムは、単一のモールドから得られたものであり、フィルムの長手方向において微細凹凸構造の高さが異なる。従って、各用途に適した高さの領域毎に本発明の光透過性フィルムを切断することで、1つのフィルムから様々な用途に適したフィルムが得られる。
<Effect>
The light-transmitting film of the present invention described above is obtained from a single mold, and the height of the fine concavo-convex structure is different in the longitudinal direction of the film. Therefore, the film suitable for various uses can be obtained from one film by cutting the light transmissive film of the present invention for each region having a height suitable for each use.

光透過性フィルムの用途としては、反射防止物品、防曇性物品、防汚性物品、撥水性物品、より具体的にはディスプレー用反射防止フィルム、自動車メーターカバー、自動車ミラー、自動車窓、有機または無機エレクトロルミネッセンスの光取り出し効率向上部材、太陽電池部材等が挙げられる。   Applications of light transmissive films include antireflective articles, antifogging articles, antifouling articles, water repellent articles, more specifically antireflection films for displays, automobile meter covers, automobile mirrors, automobile windows, organic or Examples include inorganic electroluminescence light extraction efficiency improving members, solar cell members, and the like.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

(モールドの細孔の平均間隔および深さの測定)
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子株式会社製、「JSM−7400F」)を用いて、加速電圧3.00kVの条件にて断面を観察し、細孔の平均間隔および細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ5点について行い、平均値を求めた。
(Measurement of average interval and depth of mold pores)
A portion of the anodized alumina is shaved, platinum is deposited on the cross section for 1 minute, and a field emission scanning electron microscope (“JSM-7400F”, manufactured by JEOL Ltd.) is used at an acceleration voltage of 3.00 kV. The cross section was observed, and the average interval between the pores and the depth of the pores were measured. Each measurement was performed for 5 points, and the average value was obtained.

(光透過性フィルムの凸部の平均間隔および高さの測定)
光透過性フィルムの破断面にプラチナを10分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、「JSM−7400F」)を用いて、加速電圧:3.00kVの条件にて断面を観察し、凸部の平均間隔および凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ5点について行い、平均値を求めた。
(Measurement of average distance and height of convex parts of light-transmitting film)
Platinum is deposited on the fracture surface of the light transmissive film for 10 minutes, and the cross section is observed under the condition of acceleration voltage: 3.00 kV using a field emission scanning electron microscope (“JSM-7400F” manufactured by JEOL Ltd.). Then, the average interval between the convex portions and the height of the convex portions were measured. Each measurement was performed for 5 points, and the average value was obtained.

(モールド溶解による減少率の測定)
リン酸エステル化合物にモールドを50℃の条件で22時間浸漬させて浸漬試験を行っ
た。浸漬試験後、モールドを取り出し、アセトン、クロロホルムを用いて洗浄した。浸漬前と洗浄後のモールドの質量を測定し、減少率を下記式より求めた。また、洗浄後のモールドについて、走査型電子顕微鏡観察を行った。
減少率(%)={(浸漬前のモールドの質量−洗浄後のモールドの質量)/浸漬前のモールドの質量}×100
(Measurement of reduction rate due to mold dissolution)
The immersion test was conducted by immersing the mold in a phosphate ester compound at 50 ° C. for 22 hours. After the immersion test, the mold was taken out and washed with acetone and chloroform. The mass of the mold before immersion and after cleaning was measured, and the reduction rate was obtained from the following formula. Further, the cleaned mold was observed with a scanning electron microscope.
Reduction rate (%) = {(Mass of mold before immersion−Mass of mold after washing) / Mass of mold before immersion} × 100

(モールド溶解成分と重合性化合物の相溶性評価:透過率の測定)
モールド溶解成分を重合性化合物の混合液100質量部に対して3質量部添加し攪拌させた混合液を石英セルに充填し、リファレンスを空の石英セルとして、分光光度計U−3300(株式会社日立製作所製)を用いて、波長200〜800nmの範囲、スキャンスピード300nm/分の条件で透過率を測定した。
(Compatibility evaluation of mold melting component and polymerizable compound: measurement of transmittance)
A spectrophotometer U-3300 (Co., Ltd.) was prepared by adding 3 parts by mass of a mold-dissolving component to 100 parts by mass of a polymerizable compound mixture and stirring the mixture, and filling the quartz cell with the reference as an empty quartz cell. Hitachi, Ltd.) was used to measure the transmittance under conditions of a wavelength of 200 to 800 nm and a scan speed of 300 nm / min.

(反射率の測定)
微細凹凸構造が形成されていない側の面を黒く塗った光透過性フィルムについて、分光光度計(株式会社日立製作所製、「U−4100」)を用いて、入射角5°の条件で波長380nm〜780nmの間の相対反射率を測定した。
(Measurement of reflectance)
For a light-transmitting film in which the surface on which the fine uneven structure is not formed is painted black, using a spectrophotometer (“U-4100”, manufactured by Hitachi, Ltd.), a wavelength of 380 nm under the condition of an incident angle of 5 °. The relative reflectance between ˜780 nm was measured.

(モールドの作製)
純度99.9%のアルミニウムインゴットに鍛造処理を施して、直径:200mm、長さ350mmに切断した圧延痕のない平均結晶粒径:40μmの円筒状アルミニウム原型に、羽布研磨処理を施した後、これを過塩素酸/エタノール混合溶液中(体積比:1/4)で電解研磨し、鏡面化したものをアルミニウム基材として用いた。
工程(a):
該アルミニウム原型について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で30分間陽極酸化を行った。
工程(b):
厚さ3μmの酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に2時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
工程(c):
該アルミニウム原型について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。
工程(d):
酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、30℃の5質量%リン酸水溶液に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
工程(e):
前記工程(c)および工程(d)を合計で5回繰り返し、平均間隔:100nm、深さ:160nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状のモールド本体を得た。
(Mold production)
After forging a 99.9% pure aluminum ingot, applying a blanket polishing treatment to a cylindrical aluminum prototype with a diameter of 200 mm and a length of 350 mm, and an average crystal grain size without rolling marks: 40 μm Then, this was electropolished in a perchloric acid / ethanol mixed solution (volume ratio: 1/4) and mirror-finished and used as an aluminum substrate.
Step (a):
The aluminum prototype was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 minutes under conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
Step (b):
The aluminum prototype on which the oxide film having a thickness of 3 μm was formed was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution for 2 hours to remove the oxide film.
Step (c):
The aluminum prototype was anodized for 30 seconds in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
Step (d):
The aluminum prototype on which the oxide film was formed was immersed in a 5% by mass phosphoric acid aqueous solution at 30 ° C. for 8 minutes to carry out pore size expansion treatment.
Step (e):
The step (c) and the step (d) are repeated a total of 5 times, and a roll-shaped mold body having anodized alumina having substantially conical pores with an average interval of 100 nm and a depth of 160 nm formed on the surface is provided. Obtained.

工程(f):
シャワーを用いてモールド本体の表面のリン酸水溶液を軽く洗い流した後、モールド本体を流水中に10分間浸漬した。
工程(g):
モールド本体にエアーガンからエアーを吹き付け、モールド本体の表面に付着した水滴を除去した。
工程(h):
モールド本体を、オプツールDSX(ダイキン化成品販売株式会社製)を希釈剤HD−ZV(株式会社ハーベス製)で0.1質量%に希釈した溶液に室温で10分間浸漬した。工程(i):
モールド本体を希釈溶液から3mm/秒でゆっくりと引き上げた。
工程(j):
モールド本体を一晩風乾して、離型剤で処理されたモールドを得た。
Step (f):
The phosphoric acid aqueous solution on the surface of the mold main body was gently washed away using a shower, and then the mold main body was immersed in running water for 10 minutes.
Step (g):
Air was blown from the air gun to the mold body to remove water droplets adhering to the surface of the mold body.
Step (h):
The mold body was immersed for 10 minutes at room temperature in a solution obtained by diluting OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemicals Sales Co., Ltd.) to 0.1% by mass with a diluent HD-ZV (manufactured by Harves Co., Ltd.). Step (i):
The mold body was slowly pulled up from the diluted solution at 3 mm / second.
Step (j):
The mold body was air-dried overnight to obtain a mold treated with a release agent.

得られたモールドの走査型電子顕微鏡像を図6に示す。
なお、モールド溶解性の評価には、50mm×50mm×厚さ0.3mmのアルミニウム板(純度99.99%)をアルミニウム基材として使用し、上記工程(c)まで実施し
たものを用いた。
A scanning electron microscope image of the obtained mold is shown in FIG.
For evaluation of mold solubility, an aluminum plate (purity 99.99%) having a size of 50 mm × 50 mm × thickness 0.3 mm was used as the aluminum base material, and the ones implemented up to the step (c) were used.

[実施例1]
<硬化性組成物の調製>
重合性化合物としてポリエチレングリコールジアクリレート(東亜合成株式会社製、「アロニックスM260」)20質量部と、トリメチロールエタン/アクリル酸/無水コハク酸の縮合反応物(大阪有機化学工業株式会社製、「TAS」)70質量部と、ヒドロキシエチルアクリレート(大阪有機化学工業株式会社製)3質量部と、メチルアクリレート(三菱化学株式会社製)7質量部とを混合して混合液を調製した。
この混合液に、重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、「IRGACURE184」)1.0質量部と、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、IRGACURE819)0.1質量部と、モールド溶解成分としてリン酸エステル化合物(アクセル社製、「INT−1856」)0.3質量部と、紫外線吸収剤(共同薬品株式会社、「Viosorb110」)0.2質量部とを添加し、硬化性組成物を調製した。
なお、モールド溶解成分として用いたリン酸エステル化合物について、モールド溶解による減少率の測定したところ、0.41%であった。
さらにモールド溶解成分の重合性化合物の相溶性を調べるため、INT−1856を重合性化合物の混合液100質量部に対して3質量部添加し攪拌させた混合液の500nmにおける透過率を測定したところ、透過率は47%であり、内部離型剤と重合性化合物との相溶性が悪く、ブリードしやすいという結果が得られた。
[Example 1]
<Preparation of curable composition>
As a polymerizable compound, 20 parts by mass of polyethylene glycol diacrylate (“Aronix M260” manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.) and a condensation reaction product of trimethylolethane / acrylic acid / succinic anhydride (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., “TAS”) “) 70 parts by mass, 3 parts by mass of hydroxyethyl acrylate (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) and 7 parts by mass of methyl acrylate (Mitsubishi Chemical Co., Ltd.) were mixed to prepare a mixed solution.
In this mixed solution, 1.0 part by mass of 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., “IRGACURE184”) as a polymerization initiator and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenyl 0.1 parts by mass of phosphine oxide (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., IRGACURE819), 0.3 parts by mass of a phosphoric acid ester compound (manufactured by Accel Corp., “INT-1856”) as a mold dissolving component, and an ultraviolet absorber (Kyodo Pharmaceutical Co., Ltd., “Viosorb110”) was added in an amount of 0.2 parts by mass to prepare a curable composition.
In addition, about the phosphate ester compound used as a mold melt | dissolution component, it was 0.41% when the reduction rate by mold melt | dissolution was measured.
Furthermore, in order to investigate the compatibility of the polymerizable compound of the mold-dissolving component, the transmittance at 500 nm of the mixed liquid obtained by adding 3 parts by mass of INT-1856 to 100 parts by mass of the mixed liquid of the polymerizable compound was measured. The transmittance was 47%, and the result was that the compatibility between the internal mold release agent and the polymerizable compound was poor and bleeding was easy.

<光透過性フィルムの製造>
図4に示す製造装置を用い、以下のようにして光透過性フィルムを製造した。
ロール状モールド20としては、先に作製したモールドを用いた。
基材フィルム42としては、アクリルフィルム(三菱レイヨン株式会社製、「アクリプレンHBS010」、厚さ:100μm)を用い、その裏面に、支持フィルム48として粘着剤付きPETフィルム(株式会社サンエー化研製、「SAT−116T」、厚さ:38μm)を貼り合わせた。
<Manufacture of light transmissive film>
Using the production apparatus shown in FIG. 4, a light transmissive film was produced as follows.
As the roll-shaped mold 20, the previously produced mold was used.
As the base film 42, an acrylic film (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., “Acryprene HBS010”, thickness: 100 μm) is used. On the back surface thereof, a PET film with an adhesive as a support film 48 (manufactured by Sanei Kaken Co., Ltd. SAT-116T ", thickness: 38 [mu] m).

ロール状モールド20と、ロール状モールド20の表面に沿って移動する、帯状の支持フィルム48によって裏面側から支持された帯状の基材フィルム42との間に、タンク22から硬化性組成物38を供給した。
ついで、ロール状モールド20の下方に設置された活性エネルギー線照射装置28より、支持フィルム48側から基材フィルム42を通して硬化性組成物38に、積算光量800mJ/cm2の紫外線を照射し、硬化性組成物38を硬化させることによって、ロール状モールド20の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂層44を形成した。
剥離ロール30により、表面に硬化樹脂層44が形成された基材フィルム42を支持フィルム48と共にロール状モールド20から剥離することによって、支持フィルム48で支持された光透過性フィルム40を得た。
The curable composition 38 is transferred from the tank 22 between the roll-shaped mold 20 and the belt-shaped base film 42 supported from the back side by the belt-shaped support film 48 that moves along the surface of the roll-shaped mold 20. Supplied.
Next, the active energy ray irradiation device 28 installed below the roll-shaped mold 20 irradiates the curable composition 38 from the support film 48 side through the base film 42 with ultraviolet light having an accumulated light amount of 800 mJ / cm 2, and is curable. By curing the composition 38, the cured resin layer 44 to which the fine uneven structure on the surface of the roll-shaped mold 20 was transferred was formed.
By peeling the base film 42 having the cured resin layer 44 formed on the surface thereof from the roll-shaped mold 20 together with the support film 48 by the release roll 30, the light transmissive film 40 supported by the support film 48 was obtained.

その結果、10000mの光透過性フィルムを連続的に、かつ安定的に製造できた。
得られた光透過性フィルムの、製造開始から900m経過した付近の凸部間の平均間隔は100nmであり、凸部の高さは160nmであり、波長550nmの反射率は0.1%であった。
2700m付近の凸部間の平均間隔は100nmであり、凸部の高さは130nmであり、波長550nmの反射率は0.2%であった。
4500mでの付近の凸部間の平均間隔は100nmであり、凸部の高さは100nmであり、波長550nmの反射率は0.4%であった。
6300m付近の凸部間の平均間隔は100nmであり、凸部の高さは95nmであり、波長550nmの反射率は0.8%であった。
7200m付近の凸部間の平均間隔は100nmであり、凸部の高さは90nmであり、波長550nmの反射率は1.2%であった。
10000m付近の凸部間の平均間隔は100nmであり、凸部の高さは70nmであ
り、波長550nmの反射率は2.6%であった。
また、前記測定した付近それぞれにおける1cm2内おいて、凸部の高さで10nm超、反射率で0.5%超の斑は確認されなかった。
As a result, a 10,000 m light transmissive film could be produced continuously and stably.
In the obtained light-transmitting film, the average distance between convex portions in the vicinity of 900 m after the start of production was 100 nm, the height of the convex portions was 160 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was 0.1%. It was.
The average interval between the convex portions near 2700 m was 100 nm, the height of the convex portions was 130 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was 0.2%.
The average interval between the convex portions in the vicinity at 4500 m was 100 nm, the height of the convex portions was 100 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was 0.4%.
The average interval between the convex portions near 6300 m was 100 nm, the height of the convex portions was 95 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was 0.8%.
The average interval between the protrusions near 7200 m was 100 nm, the height of the protrusions was 90 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was 1.2%.
The average interval between the convex portions near 10000 m was 100 nm, the height of the convex portions was 70 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm was 2.6%.
In addition, within 1 cm 2 in each of the measured vicinity, spots with a height of the convex portion exceeding 10 nm and a reflectance exceeding 0.5% were not confirmed.

以上の結果より、実施例1の場合、一定領域においては高さの均一な微細凹凸構造が形成されつつ、一定領域毎に高さが連続して減少している微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを単一のモールドから製造することができた。   From the above results, in the case of Example 1, the light having the fine concavo-convex structure on the surface, in which the fine concavo-convex structure having a uniform height is formed in the constant region, and the height continuously decreases in each constant region. A permeable film could be produced from a single mold.

[比較例1]
重合性化合物としてトリメチロールエタン/アクリル酸/無水コハク酸の縮合反応物(大阪有機化学工業株式会社製、「TAS」)45質量部、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート(大阪有機化学工業社製)の45質量部、ラジカル重合性シリコーンオイル(信越化学工業社製、X−22−1602)の10質量部を混合して混合液を調製した。
この混合液に、重合開始剤として1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、「IRGACURE184」)3.0質量部と、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製、IRGACURE819)0.2質量部と、モールド溶解成分としてリン酸エステル化合物(アクセル社製、「INT−1856」)0.1質量部とを添加し、硬化性組成物を調製した。
また、INT−1856を重合性化合物の混合液100質量部に対して3質量部添加し攪拌させた混合液の500nmにおける透過率を測定したところ、透過率は95%であった。従って、モールド溶解成分と重合性化合物の相溶性は良く、ブリードしにくいという結果が得られた。
[Comparative Example 1]
As a polymerizable compound, a condensation reaction product of trimethylolethane / acrylic acid / succinic anhydride (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., “TAS”) 45 parts by mass, 1,6-hexanediol diacrylate (manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.) ) And 10 parts by mass of radical polymerizable silicone oil (X-22-1602, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) were mixed to prepare a mixed solution.
In this mixed solution, 3.0 parts by mass of 1-hydroxycyclohexyl-phenylketone (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., “IRGACURE184”) as a polymerization initiator and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenyl 0.2 parts by mass of phosphine oxide (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, IRGACURE 819) and 0.1 parts by mass of a phosphoric acid ester compound (manufactured by Axel, “INT-1856”) as a mold dissolving component, A curable composition was prepared.
Further, the transmittance at 500 nm of a mixture obtained by adding 3 parts by mass of INT-1856 to 100 parts by mass of the mixture of polymerizable compounds and stirring the mixture was measured, and the transmittance was 95%. Therefore, the compatibility between the mold-dissolving component and the polymerizable compound was good, and the result that bleeding was difficult was obtained.

得られた硬化性組成物を用いた以外は、実施例1と同様の方法で光透過性フィルムを10000m作製した。
その結果、製造開始直後から10000mまで、凸部間の平均周期は100nmであり、凸部の高さは150nmであり、波長550nmの反射率は0.1%であり、いずれも変化してなかった。
以上の結果より、比較例1の場合、硬化性組成物中のリン酸エステル化合物の含有量が少なく、さらにリン酸エステル化合物のブリードアウト量が少なかったため、モールド表面の溶解が起らなかったと考えられる。そのため、単一のモールドから高さの異なる微細凹凸構造を表面に有する光透過性フィルムを製造することはできなかった。
A light-transmissive film having a thickness of 10,000 m was produced in the same manner as in Example 1 except that the obtained curable composition was used.
As a result, from the start of production to 10000 m, the average period between the protrusions is 100 nm, the height of the protrusions is 150 nm, and the reflectance at a wavelength of 550 nm is 0.1%, neither of which has changed. It was.
From the above results, in the case of Comparative Example 1, the content of the phosphate ester compound in the curable composition was small, and further, the amount of bleedout of the phosphate ester compound was small, so that the mold surface did not dissolve. It is done. Therefore, it was not possible to produce a light transmissive film having a fine concavo-convex structure with different heights on the surface from a single mold.

14 陽極酸化アルミナ
20 ロール状モールド
38 活性エネルギー線硬化性組成物
40 光透過性フィルム
42 基材フィルム
44 硬化樹脂層
F 長手方向
14 Anodized alumina 20 Roll mold 38 Active energy ray curable composition 40 Light transmissive film 42 Base film 44 Cured resin layer F Longitudinal direction

Claims (7)

基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムを製造する方法であって、
表面に前記微細凹凸構造の反転構造を有するモールドと基材フィルムとの間に、モールド溶解成分を含む微細凹凸構造原料を挟持させる挟持工程と、
前記微細凹凸構造原料を加熱して、および/または、微細凹凸構造原料に活性エネルギー線を照射して硬化させて、前記モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層が基材フィルム表面に形成された光透過性フィルムを得る転写工程と、
得られた光透過性フィルムとモールドとを分離する分離工程とを有し、
前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さの異なる微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する、光透過性フィルムの製造方法。
A method for producing a light-transmitting film in which a cured resin layer having a fine concavo-convex structure is formed on the surface of a base film,
A sandwiching step of sandwiching a fine concavo-convex structure raw material containing a mold melting component between a mold having a reverse structure of the fine concavo-convex structure on the surface and a base film,
By heating the fine concavo-convex structure raw material and / or curing the fine concavo-convex structure raw material by irradiating active energy rays, a cured resin layer to which the inverted structure of the mold is transferred is formed on the base film surface. A transfer process to obtain a light transmissive film;
A separation step of separating the obtained light transmissive film and the mold,
While repeating the sandwiching step, the transfer step, and the separation step, the cured resin layer to which the inverted structure of the mold is transferred is formed on the surface of the base film so that a fine uneven structure having a different height is formed in the longitudinal direction of the film. A method for producing a light transmissive film.
前記挟持工程と転写工程と分離工程とを繰り返すうちに、フィルムの長手方向に高さが連続的に変化する微細凹凸構造が形成されるように、モールドの反転構造が転写された硬化樹脂層を基材フィルム表面に形成する、請求項1に記載の光透過性フィルムの製造方法。   The cured resin layer to which the reversal structure of the mold is transferred is formed so that a fine uneven structure whose height continuously changes in the longitudinal direction of the film is formed while repeating the sandwiching process, the transfer process, and the separation process. The manufacturing method of the light transmissive film of Claim 1 formed in the base film surface. 前記モールド表面の微細凹凸構造の反転構造が、陽極酸化アルミナからなる、請求項1または2に記載の光透過性フィルムの製造方法。   The method for producing a light transmissive film according to claim 1, wherein the inverted structure of the fine concavo-convex structure on the mold surface is made of anodized alumina. 前記モールド溶解成分が、下記条件(a)を満たすリン酸エステル化合物である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光透過性フィルムの製造方法。
条件(a):50℃のリン酸エステル化合物中にモールドを22時間浸漬させた後のモールド質量が、浸漬前に比べて0.01%以上減少すること。
The manufacturing method of the light transmissive film as described in any one of Claims 1-3 whose said mold melt | dissolution component is a phosphate ester compound which satisfy | fills the following conditions (a).
Condition (a): The mold mass after dipping the mold in a phosphoric acid ester compound at 50 ° C. for 22 hours is reduced by 0.01% or more compared with that before dipping.
前記リン酸エステル化合物が、下記式(1)で表わされるポリオキシエチレンアルキルリン酸エステル化合物である、請求項4に記載の光透過性フィルムの製造方法。

[式(1)中、R1はアルキル基であり、mは1〜20であり、nは1〜3である。]
The manufacturing method of the light transmissive film of Claim 4 whose said phosphate ester compound is a polyoxyethylene alkyl phosphate ester compound represented by following formula (1).

[In Formula (1), R1 is an alkyl group, m is 1-20, and n is 1-3. ]
基材フィルムの表面に、微細凹凸構造を有する硬化樹脂層が形成された光透過性フィルムであって、
前記微細凹凸構造は、モールド表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、
フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが異なる、光透過性フィルム。
A light-transmitting film in which a cured resin layer having a fine concavo-convex structure is formed on the surface of a base film,
The fine uneven structure is formed by transferring the fine uneven structure on the mold surface,
A light transmissive film in which the height of the fine concavo-convex structure is different in the longitudinal direction of the film.
フィルムの長手方向において、前記微細凹凸構造の高さが連続的に変化している、請求項6に記載の光透過性フィルム。   The light transmissive film according to claim 6, wherein a height of the fine concavo-convex structure continuously changes in a longitudinal direction of the film.
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