JP2013129198A - Formed body - Google Patents

Formed body Download PDF

Info

Publication number
JP2013129198A
JP2013129198A JP2013006392A JP2013006392A JP2013129198A JP 2013129198 A JP2013129198 A JP 2013129198A JP 2013006392 A JP2013006392 A JP 2013006392A JP 2013006392 A JP2013006392 A JP 2013006392A JP 2013129198 A JP2013129198 A JP 2013129198A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
protrusions
cured film
film
meth
acrylate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013006392A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hideko Okamoto
英子 岡本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Rayon Co Ltd filed Critical Mitsubishi Rayon Co Ltd
Priority to JP2013006392A priority Critical patent/JP2013129198A/en
Publication of JP2013129198A publication Critical patent/JP2013129198A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a formed body having a cured film with salients formed irregularly in arrangement on a surface of the cured film and being spaced apart averagely by 100 nm or more from each other, and to provide a method of manufacturing the formed body simply.SOLUTION: In a formed body having salients formed on a surface, the salients are two or more aggregated protrusions formed on the surface of the formed body and composed of a hardened matter of an active energy ray-curable resin composition, the average interval of the protrusions is ≤400 nm, and the average interval of the salients is ≤400 nm.

Description

本発明は、表面に微細な凸部が形成された硬化膜を有する成形体に関する。   The present invention relates to a molded body having a cured film having fine convex portions formed on the surface.

近年、光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する材料は、反射防止機能、Lotus効果等の機能性を発現することから、その有用性が注目されている。特に、略円錐形状、三角錐形状、四角錐形状等の突起を並べたMoth−Eye構造と呼ばれる微細凹凸構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。   In recent years, a material having a surface with a fine concavo-convex structure having a period equal to or shorter than the wavelength of light exhibits functionality such as an antireflection function, a Lotus effect, and the like. In particular, a fine concavo-convex structure called the Moth-Eye structure in which protrusions such as a substantially conical shape, a triangular pyramid shape, and a quadrangular pyramid shape are arranged is effective by continuously increasing from the refractive index of air to the refractive index of the material. It is known to become a means for preventing reflection.

材料表面に微細凹凸構造を形成する方法としては、下記方法が知られている。
(1)電子ビームリソグラフィー法を用いてモールドを作製して、該モールドの反転構造を転写する方法。
(2)レーザー光干渉法によって、微細凹凸構造に対応した反転構造を有するモールドを作製し、該モールドの反転構造を転写する方法(特許文献1)。
(3)アルミニウムを陽極酸化して得られた、表面に細孔を有する陽極酸化アルミナ(以下、単に陽極酸化アルミナという。)をモールドとして用い、該モールドの細孔を転写して突起を形成する方法(特許文献2)。
The following method is known as a method for forming a fine relief structure on the material surface.
(1) A method of producing a mold using an electron beam lithography method and transferring an inverted structure of the mold.
(2) A method in which a mold having a reversal structure corresponding to a fine concavo-convex structure is produced by laser beam interferometry, and the reversal structure of the mold is transferred (Patent Document 1).
(3) Anodized alumina having pores on the surface (hereinafter simply referred to as anodized alumina) obtained by anodizing aluminum is used as a mold, and the pores of the mold are transferred to form protrusions. Method (Patent Document 2).

(1)、(2)の方法によれば、周期、高さ、形状を変えたモールドを作製することは可能だが、大面積化が困難であるだけでなく、転写して得られた微細凹凸構造の規則性が高いため、干渉色が生じ、例えば反射防止膜等の用途で外観上の問題となる。   According to the methods (1) and (2), it is possible to produce molds with different periods, heights and shapes, but it is not only difficult to increase the area, but also fine irregularities obtained by transfer. Since the regularity of the structure is high, an interference color is generated, which causes an appearance problem in applications such as an antireflection film.

(3)の方法は、モールドの大面積化、大型化が可能である点、継ぎ目のないロール状モールドの作製が容易である点から、他の方法に比べ、工業的に生産性よく材料表面に微細凹凸構造を形成できる方法である。また、自己組織化的に細孔が形成されるため長距離の規則性はなく、転写面に干渉色も生じない。   In the method (3), the surface of the material is industrially more productive than other methods because the area of the mold can be increased, the size can be increased, and a seamless roll-shaped mold can be easily produced. In this method, a fine uneven structure can be formed. Further, since the pores are formed in a self-organized manner, there is no long-range regularity, and no interference color is generated on the transfer surface.

陽極酸化アルミナは、シュウ酸を電解液として用い、化成電圧40Vでアルミニウムを陽極酸化した場合、周期が100nm程度の規則性の高い細孔が表面に形成され、硫酸を電解液として用い、化成電圧25Vでアルミニウムを陽極酸化した場合、周期が63nm程度の規則性の高い細孔が表面に形成されることが知られている(非特許文献1)。   Anodized alumina uses oxalic acid as an electrolytic solution, and when anodized aluminum is formed at a formation voltage of 40 V, highly regular pores with a period of about 100 nm are formed on the surface, and sulfuric acid is used as an electrolytic solution. When aluminum is anodized at 25 V, it is known that highly regular pores with a period of about 63 nm are formed on the surface (Non-patent Document 1).

しかしながら、前記電解液と化成電圧との組み合わせ以外でアルミニウムを陽極酸化した場合、細孔の規則性が低下するだけでなく、細孔の直行性が低下したり、細孔が分岐したりするため、周期が100nm程度、63nm程度以外の細孔を有し、反射防止等の光学用途に使用する成形体のモールドとして使用できる陽極酸化アルミナは、事実上得ることができなかった。そのため、周期が100nm程度、63nm程度以外の突起を有する成形体、特に、100nmより大きい周期の突起を有する成形体を得ることはできなかった。   However, when aluminum is anodized by a combination other than the combination of the electrolytic solution and the formation voltage, not only the regularity of the pores but also the straightness of the pores or the pores branch. Anodized alumina that has pores with periods other than about 100 nm and about 63 nm and can be used as a mold for a molded article used for optical applications such as antireflection, could not be obtained in practice. For this reason, it has not been possible to obtain a molded article having protrusions with a period other than about 100 nm or 63 nm, particularly a molded article having protrusions with a period greater than 100 nm.

なお、アルミニウムの陽極酸化に先立ち、電子ビームリソグラフィー等で作製した突起有する基板を、アルミニウム表面に押し付けて微細な窪みを形成し、該窪みを陽極酸化の細孔発生点にすることで、周期が100nm程度、63nm程度以外の細孔を形成する方法が提案されている(特許文献3)。   Prior to the anodic oxidation of aluminum, a substrate having protrusions produced by electron beam lithography or the like is pressed against the aluminum surface to form fine dents, and the pits are used as pore generation points for anodic oxidation, so that the period is increased. A method of forming pores other than about 100 nm and about 63 nm has been proposed (Patent Document 3).

しかしながら、該方法では、突起を有する基板を電子ビームリソグラフィー等で作製する必要があるため、モールドのような大面積化には対応できない。仮に、小面積で得られたものをモールドとして用いたとしても、転写によって得られた微細凹凸構造は、規則性が非常に高く、干渉色が生じ、反射防止膜等への適用には問題があった。
したがって、上述のように従来知られている(1)〜(3)の方法では、周期が100nm以上の規則性のない突起構造を形成することは困難であった。
However, in this method, since it is necessary to produce a substrate having protrusions by electron beam lithography or the like, it cannot cope with an increase in area as in a mold. Even if a mold obtained in a small area is used as a mold, the fine concavo-convex structure obtained by transfer has very high regularity, produces interference colors, and has problems in application to antireflection films and the like. there were.
Therefore, as described above, it is difficult to form a non-regular protrusion structure with a period of 100 nm or more by the conventionally known methods (1) to (3).

特開2001−264520号公報JP 2001-264520 A 特開2005−156695号公報JP 2005-156695 A 特開平10−121292号公報JP-A-10-121292

益田、「高規則性陽極酸化ポーラスアルミナの作製とナノファブリケーションへの応用」、応用物理、2000年、第69巻、第5号、p.558Masuda, “Preparation of highly ordered anodic porous alumina and its application to nanofabrication”, Applied Physics, 2000, Vol. 69, No. 5, p. 558

よって、本発明の目的は、100nm以上の平均間隔を有し、かつ配列に規則性がない凸部が表面に形成された硬化膜を有する成形体を提供することにある。   Therefore, the objective of this invention is providing the molded object which has the cured film in which the convex part which has an average space | interval of 100 nm or more and has an arrangement | sequence regularity was formed in the surface.

本発明の成形体は、表面に凸部が形成された成形体であって、前記凸部が、下記突起が2つ以上集合してなるものであり、前記凸部の平均間隔が400nm以下であることを特徴とする。
(突起)
前記成形体の表面に形成された、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる複数の突起であり、該突起間の平均間隔が、400nm以下である突起。
The molded body of the present invention is a molded body having convex portions formed on the surface thereof, wherein the convex portions are formed by assembling two or more of the following projections, and the average interval between the convex portions is 400 nm or less. It is characterized by being.
(Projection)
A plurality of protrusions made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition formed on the surface of the molded body, and an average interval between the protrusions is 400 nm or less.

本発明の成形体は、前記凸部が形成された硬化膜が反射防止膜とされた反射防止部材であることが好ましい。
本発明の成形体は、エレクトロルミネッセンスまたは発光ダイオードの光取り出し効率を向上させる部材であることが好ましい。
The molded body of the present invention is preferably an antireflection member in which the cured film on which the convex portions are formed is an antireflection film.
The molded article of the present invention is preferably a member that improves the light extraction efficiency of electroluminescence or a light emitting diode.

本発明の成形体は、100nm以上の平均間隔を有し、かつ配列に規則性がない凸部が表面に形成された反射防止等の光学用途に使用できる硬化膜を有する。   The molded article of the present invention has a cured film having an average interval of 100 nm or more and having a convex portion having no regular arrangement on the surface, which can be used for optical applications such as antireflection.

実施例1で得られた成形体の断面の走査電子顕微鏡写真である。2 is a scanning electron micrograph of the cross section of the molded product obtained in Example 1. FIG. 陽極酸化アルミナの製造工程の一部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a part of manufacturing process of an anodized alumina. 本発明の成形体の製造方法の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the manufacturing method of the molded object of this invention. 本発明の成形体の製造方法の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the manufacturing method of the molded object of this invention.

本明細書において、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。   In this specification, (meth) acrylate means an acrylate or a methacrylate. Moreover, an active energy ray means visible light, an ultraviolet-ray, an electron beam, plasma, a heat ray (infrared rays etc.), etc.

<成形体>
本発明の成形体は、図1に示すような、突起が2つ以上集合してなる凸部(集合体)が表面に形成された硬化膜を有する成形体である。凸部は、成形体の一部の面に形成されていてもよく、全表面に形成されていてもよい。
<Molded body>
The molded body of the present invention is a molded body having a cured film on the surface of which convex portions (aggregates) formed by aggregation of two or more protrusions are formed as shown in FIG. The convex portion may be formed on a part of the surface of the molded body or may be formed on the entire surface.

突起は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる複数の突起であり、該突起間の平均間隔は、400nm以下である。突起は、陽極酸化アルミナのモールドを使用して成形した場合には、突起間の平均間隔はせいぜい100nm程度となることから、200nm以下が好ましく、150nm以下が特に好ましい。   The protrusions are a plurality of protrusions made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition, and the average interval between the protrusions is 400 nm or less. When the protrusions are formed using an anodized alumina mold, the average distance between the protrusions is at most about 100 nm, and is preferably 200 nm or less, and particularly preferably 150 nm or less.

突起のアスペクト比(高さ/周期)は、凸部を形成せずに独立していると仮定した場合、1.1以上が好ましく、1.3〜7がより好ましく、1.5〜5が特に好ましい。突起のアスペクト比が1.1未満では、突起の弾性率が低くても凸部を形成せずに1本で存在している突起(以下、単独突起と記す。)の割合が多くなる。突起のアスペクト比が7を超えるとモールドからの剥離性が著しく低下する。   Assuming that the aspect ratio (height / cycle) of the protrusion is independent without forming a convex portion, 1.1 or more is preferable, 1.3 to 7 is more preferable, and 1.5 to 5 is Particularly preferred. When the aspect ratio of the protrusions is less than 1.1, the ratio of protrusions (hereinafter referred to as single protrusions) that are present alone without forming convex portions increases even if the elastic modulus of the protrusions is low. When the aspect ratio of the protrusion exceeds 7, the releasability from the mold is remarkably lowered.

単独突起の割合は、凸部(集合体)を形成している突起および単独突起の合計(100%)のうち、40%以下が好ましく、20%未満がより好ましく、10%未満が特に好ましい。単独突起の割合が40%超では、凸部間の間隔の広い成形体で得られる性能(具体的には、全反射界面からの−1次の回折による光取り出し性能)を発現しにくくなる。   The ratio of the single protrusions is preferably 40% or less, more preferably less than 20%, and particularly preferably less than 10%, out of the total (100%) of the protrusions forming the convex portion (aggregate) and the single protrusions. When the proportion of the single protrusion is more than 40%, it becomes difficult to develop the performance (specifically, the light extraction performance due to -1st order diffraction from the total reflection interface) obtained with a molded product having a wide interval between the convex portions.

凸部を形成している突起の割合は、凸部(集合体)を形成している突起および単独突起の合計(100%)のうち、60%以上が好ましく、80%超がより好ましく、90%超が特に好ましい。凸部を形成している突起の割合が60%未満では、凸部間の間隔の広い成形体で得られる性能(具体的には、全反射界面からの−1次の回折による光取り出し性能)を発現しにくくなる。   The ratio of the protrusions forming the protrusions is preferably 60% or more, more preferably more than 80%, out of the total (100%) of the protrusions forming the protrusions (aggregates) and the single protrusions, 90% More than% is particularly preferred. When the ratio of the protrusions forming the protrusions is less than 60%, the performance obtained with a molded body having a wide interval between the protrusions (specifically, light extraction performance by -1st order diffraction from the total reflection interface) It becomes difficult to express.

凸部を形成している突起の数は、2つ以上であり、2〜10がより好ましく、2〜7が最も好ましい。凸部を形成している突起の数が増えるほど、凸部間の間隔が大きくなる。全ての凸部が同じ本数の突起の集合体でなくてもよいが、その分布はなるべく狭い方がよい。また、凸部を形成している突起同士は、融着していてもよく、融着していなくてもよい。   The number of protrusions forming the convex portion is two or more, more preferably 2 to 10, and most preferably 2 to 7. As the number of protrusions forming the convex portion increases, the interval between the convex portions increases. All the convex portions may not be an aggregate of the same number of protrusions, but the distribution should be as narrow as possible. Further, the protrusions forming the convex portion may be fused or not fused.

凸部の形状は、本発明の成形体を反射防止部材として用いる場合、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。   When the molded body of the present invention is used as an antireflection member, the shape of the convex portion is a shape in which the convex sectional area in the direction orthogonal to the height direction continuously increases from the outermost surface in the depth direction, that is, the convex portion. The cross-sectional shape in the height direction is preferably a triangle, trapezoid, bell shape or the like.

凸部間の平均間隔は、400nm以下であり、350nm以下が好ましく、300nm以下がより好ましい。凸部間の平均間隔が400nmを超えると、可視光の散乱が起こるため、反射防止部材等の光学用途に適さない。
凸部間の平均間隔は、100nm以上が好ましく、130nm以上がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。凸部間の平均間隔が100nm未満以下では、凸部間の間隔の広い成形体で得られる性能(具体的には、全反射界面からの−1次の回折による光取り出し性能)を発現しにくくなる。
凸部間の平均間隔は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔(凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
The average interval between the convex portions is 400 nm or less, preferably 350 nm or less, and more preferably 300 nm or less. When the average interval between the convex portions exceeds 400 nm, the visible light is scattered, which is not suitable for optical use such as an antireflection member.
The average interval between the convex portions is preferably 100 nm or more, more preferably 130 nm or more, and particularly preferably 150 nm or less. When the average interval between the convex portions is less than 100 nm, the performance (specifically, the light extraction performance by the first-order diffraction from the total reflection interface) that is obtained with a molded article having a wide interval between the convex portions is difficult to be exhibited. Become.
The average interval between the convex portions is obtained by measuring 50 intervals between adjacent convex portions (distance from the center of the convex portion to the center of the adjacent convex portion) by electron microscope observation, and averaging these values. .

凸部の高さは、凸部の底辺の1/2倍〜4倍が好ましい。凸部の高さが凸部の底辺の1/2倍未満では、反射防止効果が低い。凸部の高さが凸部の底辺の4倍を越えると、耐擦傷性等の機械的強度が弱くなる。
凸部の配列には、規則性がない。つまり、突起の集合は、ランダムに発生する。規則性があると干渉色が生じて反射防止膜等の最表面で使用する用途においては、外観上の問題となる。
The height of the convex part is preferably ½ to 4 times the base of the convex part. When the height of the convex portion is less than ½ times the bottom of the convex portion, the antireflection effect is low. When the height of the convex portion exceeds four times the bottom of the convex portion, mechanical strength such as scratch resistance becomes weak.
The arrangement of the convex portions has no regularity. That is, the set of protrusions is generated randomly. If there is regularity, an interference color is generated, which causes a problem in appearance in an application where it is used on the outermost surface such as an antireflection film.

硬化膜は、透明基材の表面に設けられていてもよい。透明基材としては、前記透明基材が挙げられる。
硬化膜の屈折率と透明基材の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。屈折率差が0.2を超えると、硬化膜と透明基材との界面の反射が大きくなり、反射防止部材として用いたとき、Moth−Eye構造によって硬化膜と空気との界面での反射を低く抑えたとしても、反射防止部材全体としての反射率が十分に低くならない。
The cured film may be provided on the surface of the transparent substrate. Examples of the transparent substrate include the transparent substrate.
The difference between the refractive index of the cured film and the refractive index of the transparent substrate is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, and particularly preferably 0.05 or less. When the refractive index difference exceeds 0.2, reflection at the interface between the cured film and the transparent substrate increases, and when used as an antireflection member, reflection at the interface between the cured film and air is caused by the Moth-Eye structure. Even if it is kept low, the reflectivity of the antireflection member as a whole does not become sufficiently low.

本発明の成形体は、反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、偏光分離素子、光取り出し効率向上フィルム、1/2波長板、ローパスフィルター、水晶デバイス、太陽電池等の光学物品;細胞培養シート、超撥水性フィルム、超親水性フィルム等としての用途展開が期待でき、特に、反射防止部材(反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品)としての用途に適している。
反射防止部材としては、例えば、画像表示装置(液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、エレクトロルミネッセンスディスプレイ、陰極管表示装置等。)、自動車メーターカバー、レンズ、ショーウィンドー、眼鏡、1/2波長板、ローパスフィルター等の表面に設けられる反射防止膜、反射防止フィルム、反射防止シート等が挙げられる。
画像表示装置に用いる場合は、最表面上に反射防止膜を貼り付けてもよく、直接最表面を形成する材料上に反射防止膜を形成してもよく、画像表示装置の前面板に反射防止膜を設けてもよい。
The molded article of the present invention includes an antireflection film, an antireflection film, an antireflection article, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, a polarization separation element, a light extraction efficiency improving film, a half-wave plate, a low-pass filter, a crystal device, and the sun. Optical articles such as batteries; application development as cell culture sheets, super-water-repellent films, super-hydrophilic films, etc. can be expected, especially for use as anti-reflective members (anti-reflective films, anti-reflective films, anti-reflective articles) Is suitable.
Examples of the antireflection member include an image display device (liquid crystal display device, plasma display panel, electroluminescence display, cathode tube display device, etc.), automobile meter cover, lens, show window, glasses, half-wave plate, Examples thereof include an antireflection film, an antireflection film, and an antireflection sheet provided on the surface of a low-pass filter.
When used in an image display device, an antireflection film may be applied on the outermost surface, or an antireflection film may be formed directly on the material forming the outermost surface, and the antireflection film is formed on the front plate of the image display device. A film may be provided.

<成形体の製造方法1>
本発明の成形体の製造方法は、表面に凸部が形成された硬化膜を有する成形体の製造方法であって、下記工程を有する方法が一例として挙げられる。
(i)表面に細孔を有するモールドの表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を接触させる工程。
(ii)前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が前記モールドの表面に接触した状態で、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて、前記細孔に対応する突起を有する硬化膜を形成する工程。
(iii)前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の平滑硬化膜の弾性率が1GPa未満となる温度にて、前記硬化膜と前記モールドとを分離することによって、前記硬化膜の表面の突起が2つ以上集合してなる凸部を形成する工程。
<Method 1 for producing molded article>
The method for producing a molded product of the present invention is a method for producing a molded product having a cured film having a convex portion formed on the surface, and includes a method having the following steps as an example.
(I) A step of bringing the active energy ray-curable resin composition into contact with the surface of the mold having pores on the surface.
(Ii) In the state where the active energy ray-curable resin composition is in contact with the surface of the mold, the active energy ray-curable resin composition is irradiated with active energy rays to cure the active energy ray-curable resin composition. And forming a cured film having protrusions corresponding to the pores.
(Iii) By separating the cured film and the mold at a temperature at which the elastic modulus of the smooth cured film of the active energy ray-curable resin composition is less than 1 GPa, the protrusions on the surface of the cured film are 2 The process of forming the convex part formed by gathering two or more.

(i)工程:
モールドは、特に限定されず、電子ビーム描画で作製されたもの、レーザー光干渉法によって作製されたもの、陽極酸化アルミナ等が挙げられ、大面積化が可能であり、ロールモールドの作製が簡便である点から、陽極酸化アルミナが好ましい。
(I) Process:
The mold is not particularly limited, and examples include molds produced by electron beam drawing, those produced by laser beam interferometry, anodized alumina, etc., which can increase the area, and make roll molds easy. From a certain point, anodized alumina is preferable.

(陽極酸化アルミナ)
陽極酸化アルミナは、アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト)である。
(Anodized alumina)
Anodized alumina is a porous oxide film (alumite) of aluminum.

陽極酸化アルミナは、例えば、下記(a)〜(e)工程を経て製造できる。
(a)アルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)アルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)細孔の径を拡大させる工程。
(e)前記(c)工程と(d)工程を繰り返し行う工程。
Anodized alumina can be produced, for example, through the following steps (a) to (e).
(A) A step of forming an oxide film by anodizing aluminum in an electrolytic solution under a constant voltage.
(B) A step of removing the oxide film and forming pore generation points for anodic oxidation.
(C) A step of anodizing aluminum again in an electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
(D) A step of enlarging the diameter of the pores.
(E) A step of repeatedly performing the steps (c) and (d).

(a)工程:
アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、硫酸、シュウ酸等が挙げられる。
(A) Process:
The purity of aluminum is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more, and particularly preferably 99.8% or more. When the purity of aluminum is low, when anodized, an uneven structure having a size to scatter visible light may be formed due to segregation of impurities, or the regularity of pores obtained by anodization may be lowered.
Examples of the electrolytic solution include sulfuric acid and oxalic acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合:
シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が30〜60Vの時、周期が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using oxalic acid as electrolyte:
The concentration of oxalic acid is preferably 0.7 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.7M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough.
When the formation voltage is 30 to 60 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 100 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

硫酸を電解液として用いる場合:
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が25〜30Vの時、周期が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using sulfuric acid as the electrolyte:
The concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage.
When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or lower, and more preferably 20 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

(b)工程:
酸化皮膜を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点にすることで細孔の規則性を向上することができる。
(B) Process:
The regularity of the pores can be improved by once removing the oxide film and using this as the pore generation point for anodic oxidation.

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、アルミナを選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。   Examples of the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves alumina and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.

(c)工程:
図2に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム12を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔14を有する酸化皮膜16が形成される。
陽極酸化は、(a)工程と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
(C) Process:
As shown in FIG. 2, when the aluminum 12 from which the oxide film has been removed is anodized again, an oxide film 16 having cylindrical pores 14 is formed.
Anodization may be performed under the same conditions as in step (a). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

(d)工程:
図2に示すように、細孔14の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、アルミナを溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
(D) Process:
As shown in FIG. 2, a process for expanding the diameter of the pores 14 (hereinafter referred to as a pore diameter expanding process) is performed. The pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving alumina. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass.
The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.

(e)工程:
図2に示すように、(c)工程の陽極酸化と、(d)工程の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔14を有する陽極酸化アルミナ(モールド10)が得られる。
繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された硬化膜(反射防止膜)の反射率低減効果が劣る。
(E) Process:
As shown in FIG. 2, when the anodic oxidation in the step (c) and the pore diameter expansion process in the step (d) are repeated, the pores 14 have a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening. Anodized alumina (mold 10) is obtained.
The total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more. When the number of repetitions is 2 times or less, the diameter of the pores decreases discontinuously. Therefore, the effect of reducing the reflectivity of a cured film (antireflection film) manufactured using anodized alumina having such pores is obtained. Inferior.

陽極酸化アルミナの表面は、硬化膜との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。処理方法としては、例えば、シリコーン系ポリマーまたはフッ素ポリマーをコーティングする方法、フッ素化合物を蒸着する方法、フッ素系シランカップリング剤またはフッ素シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。
陽極酸化アルミナの形状は、平板状、円柱状、円筒形状等が挙げられる。円柱状または円筒形状のモールドは、円柱状または円筒形状のアルミニウムからなるモールド、または円柱状または円筒形状の支持体の表面にアルミニウム層を有するモールドが挙げられる。
The surface of the anodized alumina may be treated with a release agent so as to facilitate separation from the cured film. Examples of the treatment method include a method of coating a silicone polymer or a fluorine polymer, a method of depositing a fluorine compound, a method of coating a fluorine silane coupling agent or a fluorine silicone silane coupling agent, and the like.
Examples of the shape of the anodized alumina include a flat plate shape, a columnar shape, and a cylindrical shape. Examples of the columnar or cylindrical mold include a mold made of columnar or cylindrical aluminum, or a mold having an aluminum layer on the surface of a columnar or cylindrical support.

モールドの細孔の形状としては、円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、本発明の成形体を反射防止部材として用いる場合、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
図2に示すような細孔14を有するモールド10を用いて製造された硬化膜の表面は、いわゆるMoth−Eye構造となり、有効な反射防止の手段となる。
Examples of the shape of the mold pore include a cone shape, a pyramid shape, and a cylindrical shape. When the molded body of the present invention is used as an antireflection member, the shape is perpendicular to the depth direction, such as a cone shape or a pyramid shape. A shape in which the cross-sectional area of the pores in the direction to be continuously decreased from the outermost surface in the depth direction is preferable.
The surface of the cured film manufactured using the mold 10 having the pores 14 as shown in FIG. 2 has a so-called Moth-Eye structure, which is an effective antireflection means.

モールドの細孔の深さは、60nm以上が好ましく、100nm以上がより好ましい。細孔の深さが90nm以上であれば、得られる硬化膜(反射防止膜)の反射率が十分に低くなる。
モールドの細孔のアスペクト比(深さ/周期)は、1.1以上が好ましく、1.3〜7がより好ましく、1.5〜5が特に好ましい。細孔のアスペクト比が1.1未満では、突起の弾性率が低くても単独突起の割合が多くなる。細孔のアスペクト比が7を超えるとモールドからの剥離性が著しく低下する。
The depth of the mold pores is preferably 60 nm or more, and more preferably 100 nm or more. When the depth of the pores is 90 nm or more, the reflectance of the obtained cured film (antireflection film) is sufficiently low.
The aspect ratio (depth / period) of the pores of the mold is preferably 1.1 or more, more preferably 1.3 to 7, and particularly preferably 1.5 to 5. When the aspect ratio of the pores is less than 1.1, the ratio of single protrusions increases even if the elastic modulus of the protrusions is low. When the aspect ratio of the pores exceeds 7, the releasability from the mold is significantly lowered.

(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)
活性エネルギー線硬化性組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。
(Active energy ray-curable resin composition)
The active energy ray curable composition contains a polymerizable compound and a polymerization initiator.
Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule.
The active energy ray-curable composition may contain a non-reactive polymer, an active energy ray sol-gel reactive composition.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミドなどの(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( )) (Meth) acrylate derivatives such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, α -Styrene derivatives such as methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。   Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( Ta) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ) Butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, propylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, neopentyl glycol di (meth) hydroxypivalate Bifunctional monomers such as acrylate, divinylbenzene, and methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide Functional tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate and other trifunctional monomers; succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 4 or more functional monomers such as dipentaerystol hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate; bifunctional or more Urethane acrylates, bifunctional or higher functional polyester acrylates, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。   Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。   Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.

非反応性のポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、例えば、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
Non-reactive polymers include acrylic resins, styrene resins, polyurethane resins, cellulose resins, polyvinyl butyral resins, polyester resins, thermoplastic elastomers, and the like.
Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkylsilicate compounds.

アルコキシシラン化合物としては、下記式(1)の化合物が挙げられる。
Si(OR’) ・・・(1)。
ただし、R、R’は、それぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、x、yは、x+y=4の関係を満たす整数を表す。
As an alkoxysilane compound, the compound of following formula (1) is mentioned.
R x Si (OR ′) y (1).
However, R and R ′ each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and x and y represent integers satisfying the relationship of x + y = 4.

アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−iso−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetra-iso-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert-butoxysilane, methyltriethoxysilane, Examples include methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.

アルキルシリケート化合物としては、下記式(2)の化合物が挙げられる。
O[Si(OR)(OR)O] ・・・(2)。
ただし、R〜Rは、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは、3〜20の整数を表す。
Examples of the alkyl silicate compound include a compound of the following formula (2).
R 1 O [Si (OR 3 ) (OR 4 ) O] z R 2 (2).
However, R < 1 > -R < 4 > represents a C1-C5 alkyl group, respectively, and z represents the integer of 3-20.

アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。   Examples of the alkyl silicate compound include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.

光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When using a photocuring reaction, examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxy. Acetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- Carbonyl compounds such as 1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoic acid Diethoxy phosphine oxide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When using an electron beam curing reaction, examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthone such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholy Phenyl) -butanone and other acetophenones; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and other benzoin ethers; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, 9-phenyl Examples include acridine. These may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。   When utilizing a thermosetting reaction, examples of the thermal polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, organic peroxides such as t-butylperoxybenzoate and lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N, N-dimethylaniline, N, N-dimethyl-p- Examples thereof include a redox polymerization initiator combined with an amine such as toluidine.

重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。   As for the quantity of a polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the amount of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed. When the amount of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured film may be colored or the mechanical strength may be lowered.

活性エネルギー線硬化性組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤;微粒子、少量の溶剤を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable composition may contain an antistatic agent, a release agent, an additive such as a fluorine compound for improving antifouling properties, fine particles, and a small amount of a solvent, if necessary.

モールドの表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を接触させる方法としては、下記(I)〜(III)の方法が挙げられる。
(I)図3に示すように、モールド10と透明基材24との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20を供給し、ニップロール等で圧延する方法。
(II)図3に示すように、モールド10の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20を塗布する方法。モールド10の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20を塗布した後、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20の塗膜を透明基材24で覆ってもよい。
(III)図4に示すように、透明基材24上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20を塗布した後、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20の塗膜にモールド10を押し付ける方法。
Examples of the method of bringing the active energy ray-curable resin composition into contact with the surface of the mold include the following methods (I) to (III).
(I) A method of supplying an active energy ray-curable resin composition 20 between a mold 10 and a transparent substrate 24 and rolling with a nip roll or the like as shown in FIG.
(II) A method of applying the active energy ray-curable resin composition 20 to the surface of the mold 10 as shown in FIG. After applying the active energy ray-curable resin composition 20 to the surface of the mold 10, the coating film of the active energy ray-curable resin composition 20 may be covered with the transparent substrate 24.
(III) A method of pressing the mold 10 against the coating film of the active energy ray curable resin composition 20 after applying the active energy ray curable resin composition 20 on the transparent substrate 24 as shown in FIG.

塗布方法としては、ローラーコート法、バーコート法、エアーナイフコート法等が挙げられる。
透明基材24としては、活性エネルギー線を透過できる基材、例えば、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン、水晶、ガラス等が挙げられる。
透明基材24の形状としては、フィルム、シート、射出成形品、プレス成形品等の溶融成形品等が挙げられる。
透明基材24の表面には、密着性を上げるための層、ハードコート層が形成されていてもよい。
Examples of the coating method include a roller coating method, a bar coating method, and an air knife coating method.
As the transparent substrate 24, a substrate capable of transmitting active energy rays, such as acrylic resin, polycarbonate, polystyrene resin, polyester, cellulose resin (such as triacetyl cellulose), polyolefin, alicyclic polyolefin, crystal, glass Etc.
Examples of the shape of the transparent substrate 24 include melt molded products such as films, sheets, injection molded products, and press molded products.
On the surface of the transparent substrate 24, a layer for improving adhesion and a hard coat layer may be formed.

(ii)工程:
活性エネルギー線の照射は、例えば、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等を用いて行い、モールド10の表面に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20が接触した状態(モールド10の表面に形成された細孔に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物20が充填された状態)で行う。
光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cmが好ましい。
(Ii) Process:
Irradiation of the active energy ray is performed using, for example, a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, etc., and the active energy ray-curable resin composition 20 is in contact with the surface of the mold 10 (pores formed on the surface of the mold 10). In a state in which the active energy ray-curable resin composition 20 is filled.
The amount of light irradiation energy is preferably 100 to 10,000 mJ / cm 2 .

(iii)工程:
硬化膜とモールドとを分離する際の温度は、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の平滑硬化膜の弾性率が1GPa未満となる温度が好ましく、0〜100℃がより好ましい。平滑硬化膜とは、表面に突起および凸部を有さない、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させてなる平滑な硬化膜を意味する。平滑硬化膜の弾性率は、例えば、フィッシャー・インストルメンツ製の超微小硬さ計等で測定できる。
(Iii) Process:
The temperature at which the cured film and the mold are separated is preferably a temperature at which the elastic modulus of the smooth cured film of the active energy ray-curable resin composition is less than 1 GPa, and more preferably 0 to 100 ° C. The smooth cured film means a smooth cured film obtained by curing an active energy ray-curable resin composition that does not have protrusions and protrusions on the surface. The elastic modulus of the smooth cured film can be measured with, for example, an ultra-micro hardness meter manufactured by Fischer Instruments.

硬化膜とモールドとを分離する際の温度における、平滑硬化膜の弾性率は1GPa未満が好ましく、0.01GPa〜0.8GPaがより好ましく、0.08GPa〜0.6GPaが最も好ましい。平滑硬化膜の弾性率が0.01GPa以上であれば、硬化膜の耐摩擦性等が十分となる。平滑硬化膜の弾性率が1GPa未満であれば、硬化膜とモールドとを分離した際に、硬化膜の表面の突起が2つ以上集合して、凸部が形成される。   The elastic modulus of the smooth cured film at the temperature when separating the cured film and the mold is preferably less than 1 GPa, more preferably 0.01 GPa to 0.8 GPa, and most preferably 0.08 GPa to 0.6 GPa. If the elastic modulus of the smooth cured film is 0.01 GPa or more, the cured film has sufficient friction resistance and the like. If the elastic modulus of the smooth cured film is less than 1 GPa, when the cured film and the mold are separated, two or more protrusions on the surface of the cured film are aggregated to form a convex portion.

以上説明した本発明の成形体の製造方法にあっては、平滑硬化膜の弾性率が1GPa未満となる温度にて、硬化膜とモールドとを分離しているため、硬化膜の表面の突起が2つ以上集合してなる凸部が形成され、その結果、100nm以上の平均間隔を有し、かつ配列に規則性がない凸部が表面に形成された硬化膜を有する成形体が簡便に得られる。   In the manufacturing method of the molded body of the present invention described above, the cured film and the mold are separated at a temperature at which the elastic modulus of the smooth cured film is less than 1 GPa. As a result, a molded body having a cured film having a convex portion formed on the surface having convex portions having an average interval of 100 nm or more and having no regular arrangement is formed. It is done.

<成形体の製造方法2>
本発明の成形体の他の製造方法の例として下記工程を有する方法である。
(iv)表面にアスペクト比(深さ/周期)が3.1以上の細孔を有するモールドの表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を接触させる工程。
(v)前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が前記モールドの表面に接触した状態で、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させて、前記細孔に対応する突起を有する硬化膜を形成する工程。
(vi)前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の平滑硬化膜の弾性率が1GPa以上となる温度にて、前記硬化膜と前記モールドとを分離することによって、前記硬化膜の表面の突起が2つ以上集合してなる凸部を形成する工程。
<Method 2 for producing molded body>
It is the method which has the following process as an example of the other manufacturing method of the molded object of this invention.
(Iv) A step of bringing the active energy ray-curable resin composition into contact with the surface of a mold having pores having an aspect ratio (depth / cycle) of 3.1 or more on the surface.
(V) In the state where the active energy ray-curable resin composition is in contact with the surface of the mold, the active energy ray-curable resin composition is irradiated with active energy rays to cure the active energy ray-curable resin composition. And forming a cured film having protrusions corresponding to the pores.
(Vi) By separating the cured film and the mold at a temperature at which the elastic modulus of the smooth cured film of the active energy ray-curable resin composition is 1 GPa or more, 2 protrusions on the surface of the cured film are formed. The process of forming the convex part formed by gathering two or more.

(iv)工程:
モールドの細孔のアスペクト比以外は、上述の(i)工程と同様である。
モールドの細孔のアスペクト比(深さ/周期)は、3.1以上であり、3.1〜7がより好ましく、3.1〜5が特に好ましい。細孔のアスペクト比が1.1未満では、突起の弾性率が低くても単独突起の割合が多くなる。細孔のアスペクト比が7を超えるとモールドからの剥離性が著しく低下する。
(Iv) Process:
Except for the aspect ratio of the pores of the mold, it is the same as the above-described step (i).
The aspect ratio (depth / cycle) of the pores of the mold is 3.1 or more, more preferably 3.1 to 7, and particularly preferably 3.1 to 5. When the aspect ratio of the pores is less than 1.1, the ratio of single protrusions increases even if the elastic modulus of the protrusions is low. When the aspect ratio of the pores exceeds 7, the releasability from the mold is significantly lowered.

(v)工程:
上述の(ii)工程と同様である。
(V) Process:
This is the same as step (ii) described above.

(vi)工程:
平滑硬化膜の弾性率以外は、上述の(iii)工程と同様である。
硬化膜とモールドとを分離する際の温度における、平滑硬化膜の弾性率は1GPa以上が好ましく、1GPa〜8GPaがより好ましく、1GPa〜5GPaが最も好ましい。平滑硬化膜の弾性率が高すぎると、モールドからの剥離時に硬化膜にクラックが入ることがある。平滑硬化膜の弾性率が1GPa以上でもアスペクト比が3.1以上であれば、硬化膜とモールドとを分離した際に、硬化膜の表面の突起が2つ以上集合して、凸部が形成される。
(Vi) Process:
Except for the elastic modulus of the smooth cured film, it is the same as the above-mentioned step (iii).
The elastic modulus of the smooth cured film at the temperature when separating the cured film and the mold is preferably 1 GPa or more, more preferably 1 GPa to 8 GPa, and most preferably 1 GPa to 5 GPa. If the elastic modulus of the smooth cured film is too high, the cured film may crack when peeled from the mold. If the elastic modulus of the smooth cured film is 1 GPa or more and the aspect ratio is 3.1 or more, when the cured film and the mold are separated, two or more protrusions on the surface of the cured film are aggregated to form a convex portion. Is done.

以上説明した本発明の成形体の製造方法にあっては、モールドの細孔のアスペクト比が3.1以上であれば、平滑硬化膜の弾性率が1GPa以上でも、硬化膜の表面の突起が2つ以上集合してなる凸部が形成され、その結果、100nm〜400nmの平均間隔を有し、かつ規則性がない凸部が表面に形成された硬化膜を有する成形体が簡便に得られる。   In the method for producing a molded body of the present invention described above, if the aspect ratio of the pores of the mold is 3.1 or more, even if the elastic modulus of the smooth cured film is 1 GPa or more, the protrusions on the surface of the cured film are Convex portions formed by aggregation of two or more are formed, and as a result, a molded body having a cured film having an average interval of 100 nm to 400 nm and having convex portions having no regularity formed on the surface can be easily obtained. .

以下に本発明の実施例を示す。ただし、本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例中における各種測定、評価は、下記方法にしたがって行った。
Examples of the present invention are shown below. However, the present invention is not limited to these.
Various measurements and evaluations in the examples were performed according to the following methods.

(陽極酸化アルミナの細孔)
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧3.00kVの条件にて、断面を観察し、細孔の周期、細孔の深さを測定した。
(Pores of anodized alumina)
A part of the anodized alumina is shaved, platinum is vapor-deposited on the cross section for 1 minute, and the cross section is subjected to an acceleration voltage of 3.00 kV using a field emission scanning electron microscope (JSM-7400F, manufactured by JEOL Ltd.). Observed and measured the period of the pores and the depth of the pores.

(硬化膜の凸部)
成形体の破断面にプラチナを10分間蒸着し、陽極酸化アルミナと同様に断面を観察し、凸部(または単独突起)の平均間隔、凸部(または単独突起)の高さを測定した。各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。
(Convex part of cured film)
Platinum was vapor-deposited on the fracture surface of the molded body for 10 minutes, and the cross-section was observed in the same manner as in anodized alumina, and the average interval between the convex portions (or single projections) and the height of the convex portions (or single projections) were measured. Each measurement was performed for 50 points, and the average value was obtained.

(加重平均反射率)
透明基材の裏面を粗面化した後、つや消し黒色に塗った成形体について、分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角5°、波長380〜780nmの範囲で相対反射率を測定し、JIS R3106に準拠して算出した。
(Weighted average reflectance)
After the back surface of the transparent base material is roughened, the molded body coated with matte black is used with a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000), with an incident angle of 5 ° and a wavelength range of 380 to 780 nm. The reflectance was measured and calculated according to JIS R3106.

(平滑硬化膜の弾性率)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をアルミニウム鏡面板とフィルムの間に充填してフィルム側から所定の積算光量の紫外線を照射することによって得られた、表面に凸部を有さない硬化膜について、超微小硬さ計(フィッシャー・インストルメンツ社製、フィッシャースコープHM2000)を用い、下記条件にて20℃で測定した。照射する紫外線の積算光量はモールド転写時の紫外線の積算光量と同様にした。
荷重速度:1mN/10秒、
保持時間:10秒、
荷重除荷速度:1mN/10秒、
圧子:ビッカース。
(Elastic modulus of smooth cured film)
About the cured film having no projection on the surface, obtained by filling the active energy ray-curable resin composition between the aluminum mirror plate and the film and irradiating the film side with ultraviolet rays of a predetermined integrated light amount, The measurement was performed at 20 ° C. under the following conditions using an ultrafine hardness meter (Fischer Instruments HM2000, manufactured by Fischer Instruments). The integrated amount of ultraviolet light to be irradiated was the same as the integrated amount of ultraviolet light during mold transfer.
Loading speed: 1 mN / 10 seconds,
Holding time: 10 seconds,
Load unloading speed: 1 mN / 10 seconds,
Indenter: Vickers.

(光取り出し効率向上率)
有機EL表示装置の最表面に本発明のフィルムを屈折率1.47の光学用両面テープで貼り付け5Vの電圧で全面駆動させ、輝度を測定した。
(Light extraction efficiency improvement rate)
The film of the present invention was attached to the outermost surface of the organic EL display device with a double-sided optical tape having a refractive index of 1.47, and the entire surface was driven at a voltage of 5 V, and the luminance was measured.

〔モールドの製造〕
純度99.99%のアルミニウム圧延板を、過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨した。
(a)工程:
該アルミニウム板について、0.5Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で6時間陽極酸化を行った。
(b)工程:
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
[Mold production]
An aluminum rolled plate having a purity of 99.99% was electropolished in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio).
(A) Process:
The aluminum plate was anodized in a 0.5 M oxalic acid aqueous solution for 6 hours under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(B) Process:
The aluminum plate on which the oxide film was formed was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution for 6 hours to remove the oxide film.

(c)工程:
該アルミニウム板について、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で陽極酸化を表1に示す時間行った。
(d)工程:
酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、32℃の5質量%リン酸に表1に示す時間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
(C) Process:
The aluminum plate was subjected to anodization in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C. for the time shown in Table 1.
(D) Process:
The aluminum plate on which the oxide film was formed was immersed in 5% by mass phosphoric acid at 32 ° C. for the time shown in Table 1 to carry out pore diameter expansion treatment.

(e)工程:
前記(c)工程および(d)工程を合計で5回繰り返し、表1に示す周期、深さを有する略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナa〜eを得た。
陽極酸化アルミナを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。
(E) Process:
The steps (c) and (d) were repeated 5 times in total to obtain anodized alumina a to e having substantially conical pores having the period and depth shown in Table 1.
Anodized alumina was immersed in a 0.1% by weight diluted solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemicals Sales Co., Ltd.) and air-dried overnight to subject the oxide film surface to fluorination treatment.

〔活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の調整〕
表2、表3に示す割合で各成分を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物A〜Fを調製した。
[Adjustment of active energy ray-curable resin composition]
Each component was mixed in the ratio shown in Table 2 and Table 3, and active energy ray-curable resin composition AF was prepared.

〔フィルムの製造〕
メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、1,3−ブタジエンおよびメタクリル酸アリルを重合してなるゴム含有多段重合体の75質量部、およびアクリル樹脂(三菱レイヨン社製、BR80)の25質量部をあらかじめ溶融押し出しした後、製膜して、厚さ200μmのアクリル樹脂フィルムを得た。
[Production of film]
75 parts by mass of a rubber-containing multistage polymer obtained by polymerizing methyl methacrylate, butyl acrylate, methyl acrylate, 1,3-butadiene and allyl methacrylate, and 25 parts by mass of an acrylic resin (BR80 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) The part was melt-extruded in advance and then formed into a 200 μm thick acrylic resin film.

〔実施例1〕
(i)工程:
陽極酸化アルミナbの表面に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを数滴垂らし、ポリエチレンテレフタレートフィルム(東洋紡社製、A4300)(以下、PETフィルムと記す。)を被せ、陽極酸化アルミナb全面に行き渡るようローラーで押し広げた。
(ii)工程:
PETフィルム側から、積算光量3200mJ/cmの紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの塗膜に照射し、硬化性樹脂組成物Aの硬化を行った。
[Example 1]
(I) Process:
A few drops of the active energy ray-curable resin composition A are dropped on the surface of the anodized alumina b, and a polyethylene terephthalate film (A4300, manufactured by Toyobo Co., Ltd.) (hereinafter referred to as a PET film) is placed on the entire surface of the anodized alumina b. I spread it with a roller to spread.
(Ii) Process:
The curable resin composition A was cured by irradiating the coating film of the active energy ray-curable resin composition A with ultraviolet rays having an integrated light amount of 3200 mJ / cm 2 from the PET film side.

(iii)工程:
20℃で硬化膜と陽極酸化アルミナbとを分離し、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
(Iii) Process:
The cured film and the anodized alumina b were separated at 20 ° C. to obtain a molded body composed of a cured film having a convex portion formed on the surface and a PET film. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例2〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
[Example 2]
Except having used active energy ray hardening resin composition B, it carried out similarly to Example 1, and obtained the molding which consists of a cured film by which the convex part was formed in the surface, and PET film. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例3〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Cを用いた以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 3
Except having used active energy ray hardening resin composition C, it carried out similarly to Example 1, and obtained the molding which consists of a cured film by which the convex part was formed on the surface, and PET film. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例4〕
陽極酸化アルミナaを用いた以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 4
Except having used anodized alumina a, it carried out similarly to Example 1, and obtained the molded object which consists of a cured film with which the convex part was formed in the surface, and PET film. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例5〕
陽極酸化アルミナc、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Cを用いた以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 5
Except for using the anodized alumina c and the active energy ray-curable resin composition C, a molded body composed of a cured film having a convex portion formed on the surface and a PET film was obtained in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例6〕
陽極酸化アルミナd、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Dを用いた以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 6
Except for using the anodized alumina d and the active energy ray-curable resin composition D, a molded body composed of a cured film having a convex portion formed on the surface and a PET film was obtained in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例7〕
陽極酸化アルミナe、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Eを用いた以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 7
Except for using the anodized alumina e and the active energy ray-curable resin composition E, a molded body composed of a cured film having a convex portion formed on the surface and a PET film was obtained in the same manner as in Example 1. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例8〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Fを用いた以外は、実施例7と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 8
Except having used active energy ray hardening resin composition F, it carried out similarly to Example 7, and obtained the molding which consists of a cured film by which the convex part was formed on the surface, and PET film. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔実施例9〕
PETフィルムの代わりに、アクリル樹脂フィルムを用い、紫外線の積算光量を400mJ/cmにした以外は、実施例1と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とアクリル樹脂フィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率、光取り出し効率向上率を表4に示す。
Example 9
Instead of the PET film, an acrylic resin film was used, and a cured film having a convex portion formed on the surface and the acrylic resin film were used in the same manner as in Example 1 except that the cumulative amount of ultraviolet light was 400 mJ / cm 2. A molded body was obtained. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusions, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, the reflectance, and the light extraction efficiency improvement rate.

〔実施例10〕
PETフィルムの代わりに、アクリル樹脂フィルムを用い、紫外線の積算光量を400mJ/cmにした以外は、実施例2と同様にして、表面に凸部が形成された硬化膜とアクリル樹脂フィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、凸部の構造、凸部間の平均間隔、凸部の高さ、反射率を表4に示す。
Example 10
Instead of the PET film, an acrylic resin film was used, and a cured film having a convex portion formed on the surface and an acrylic resin film were used in the same manner as in Example 2 except that the cumulative amount of ultraviolet light was 400 mJ / cm 2. A molded body was obtained. Table 4 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusion, the structure of the protrusions, the average interval between the protrusions, the height of the protrusions, and the reflectance.

〔比較例1〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Eを用い、紫外線の積算光量を400mJ/cmにした以外は、実施例1と同様にして、表面に単独突起が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、単独突起間の平均間隔、単独突起の高さ、反射率を表5に示す。
[Comparative Example 1]
The active energy ray-curable resin composition E was used, and a cured film having a single protrusion formed on the surface and a PET film were formed in the same manner as in Example 1 except that the cumulative amount of ultraviolet light was 400 mJ / cm 2. A molded body was obtained. Table 5 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusions, the average interval between the single protrusions, the height of the single protrusions, and the reflectance.

〔比較例2〕
陽極酸化アルミナcを用いた以外は、比較例1と同様にして、表面に単独突起が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、単独突起間の平均間隔、単独突起の高さ、反射率を表5に示す。
[Comparative Example 2]
Except for using anodized alumina c, a molded body made of a cured film having a single protrusion formed on the surface and a PET film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1. Table 5 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusions, the average interval between the single protrusions, the height of the single protrusions, and the reflectance.

〔実施例11〕
陽極酸化アルミナdを用いた以外は、比較例1と同様にして、表面に単独突起が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、単独突起間の平均間隔、単独突起の高さ、反射率を表5に示す。
Example 11
Except for using anodized alumina d, a molded body composed of a cured film having a single protrusion formed on the surface and a PET film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1. Table 5 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusions, the average interval between the single protrusions, the height of the single protrusions, and the reflectance.

〔比較例4〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Fを用いた以外は、実施例11と同様にして、表面に単独突起が形成された硬化膜とPETフィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、単独突起間の平均間隔、単独突起の高さ、反射率を表5に示す。
[Comparative Example 4]
Except having used active energy ray hardening resin composition F, it carried out similarly to Example 11, and obtained the molding which consists of a cured film and PET film in which the single processus | protrusion was formed in the surface. Table 5 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusions, the average interval between the single protrusions, the height of the single protrusions, and the reflectance.

〔比較例5〕
PETフィルムの代わりに、アクリル樹脂フィルムを用いた以外は、比較例1と同様にして、表面に単独突起が形成された硬化膜とアクリル樹脂フィルムとからなる成形体を得た。平滑硬化膜の弾性率、単独突起の割合、単独突起間の平均間隔、単独突起の高さ、反射率、光取り出し効率向上率を表5に示す。
[Comparative Example 5]
A molded body comprising a cured film having a single protrusion formed on the surface and an acrylic resin film was obtained in the same manner as in Comparative Example 1 except that an acrylic resin film was used instead of the PET film. Table 5 shows the elastic modulus of the smooth cured film, the ratio of the single protrusions, the average interval between the single protrusions, the height of the single protrusions, the reflectance, and the light extraction efficiency improvement rate.

本発明の製造方法で製造された成形体は、反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品、光導波路、レリーフホログラム、レンズ、自動車メーターカバー、偏光分離素子、有機エレクトロルミネッセンスの光取り出し効率向上フィルム、1/2波長板、ローパスフィルター、水晶デバイス等の光学物品;細胞培養シート、超撥水性フィルム、超親水性フィルム等としての用途展開が期待でき、特に、反射防止フィルム、反射防止膜、反射防止物品としての用途に適している。   The molded article produced by the production method of the present invention is an antireflection film, an antireflection film, an antireflection article, an optical waveguide, a relief hologram, a lens, an automobile meter cover, a polarization separation element, and an organic electroluminescence light extraction efficiency improving film. , Half-wave plates, low-pass filters, crystal devices, and other optical articles; cell culture sheets, super-water-repellent films, super-hydrophilic films, etc. Suitable for use as a preventive article.

10 モールド
14 細孔
20 活性エネルギー線硬化性樹脂組成物
10 Mold 14 Pore 20 Active energy ray-curable resin composition

Claims (3)

表面に凸部が形成された成形体であって、
前記凸部が、下記突起が2つ以上集合してなるものであり、
前記凸部の平均間隔が400nm以下である、成形体。
(突起)
前記成形体の表面に形成された、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる複数の突起であり、該突起間の平均間隔が、400nm以下である突起。
A molded body having convex portions formed on the surface,
The convex portion is formed by aggregating two or more of the following protrusions,
The molded object whose average space | interval of the said convex part is 400 nm or less.
(Projection)
A plurality of protrusions made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition formed on the surface of the molded body, and an average interval between the protrusions is 400 nm or less.
前記凸部が形成された硬化膜が反射防止膜とされた反射防止部材である、請求項1に記載の成形体。   The molded body according to claim 1, wherein the cured film on which the convex portions are formed is an antireflection member in which an antireflection film is used. エレクトロルミネッセンスまたは発光ダイオードの光取り出し効率を向上させる部材である、請求項1に記載の成形体。   The molded article according to claim 1, which is a member for improving light extraction efficiency of electroluminescence or a light emitting diode.
JP2013006392A 2007-01-10 2013-01-17 Formed body Pending JP2013129198A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013006392A JP2013129198A (en) 2007-01-10 2013-01-17 Formed body

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007002212 2007-01-10
JP2007002212 2007-01-10
JP2013006392A JP2013129198A (en) 2007-01-10 2013-01-17 Formed body

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008002333A Division JP2008189914A (en) 2007-01-10 2008-01-09 Formed body and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013129198A true JP2013129198A (en) 2013-07-04

Family

ID=39750306

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008002333A Pending JP2008189914A (en) 2007-01-10 2008-01-09 Formed body and method for manufacturing the same
JP2013006392A Pending JP2013129198A (en) 2007-01-10 2013-01-17 Formed body

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008002333A Pending JP2008189914A (en) 2007-01-10 2008-01-09 Formed body and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (2) JP2008189914A (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101677118B (en) * 2008-09-18 2011-03-16 广镓光电股份有限公司 Semiconductor luminous element
JP5605223B2 (en) * 2009-06-23 2014-10-15 三菱レイヨン株式会社 Antireflection article and display device
KR20130114642A (en) * 2010-09-30 2013-10-17 미쯔비시 레이온 가부시끼가이샤 Mold having fine irregular structure on surface, method of producing product having fine irregular structure on surface, use of product, stack expressing heterochromia and surface emitting member
JP2015129957A (en) * 2015-02-18 2015-07-16 リコーイメージング株式会社 light transmissive optical member
US11903243B2 (en) 2018-01-03 2024-02-13 Lg Chem, Ltd. Optical film
JP7123605B2 (en) * 2018-03-30 2022-08-23 日本パーカライジング株式会社 A substrate at least all or part of the surface of which is made of a metallic material, the substrate having pores on the surface of the metallic material, and a substrate-resin cured product composite comprising the substrate and a cured resin product

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006059686A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Sharp Kabushiki Kaisha Reflection preventing material, optical element, display device, stamper manufacturing method, and reflection preventing material manufacturing method using the stamper

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006059686A1 (en) * 2004-12-03 2006-06-08 Sharp Kabushiki Kaisha Reflection preventing material, optical element, display device, stamper manufacturing method, and reflection preventing material manufacturing method using the stamper

Also Published As

Publication number Publication date
JP2008189914A (en) 2008-08-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4658129B2 (en) Mold, mold manufacturing method and sheet manufacturing method
JP6032196B2 (en) Stamper manufacturing method and molded body manufacturing method
JP5742220B2 (en) Film production method
JP5162344B2 (en) Anti-reflective article and automotive parts equipped with the same
JP5605223B2 (en) Antireflection article and display device
JP6092775B2 (en) MOLD MANUFACTURING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING MOLDED BODY HAVING FINE Roughness Structure
JP2014005341A (en) Article having fine uneven structure on surface
JP2013129198A (en) Formed body
JP2009271782A (en) Conductive transparent substrate and touch panel
JP5630104B2 (en) Molded body and manufacturing method thereof
JP2009174007A (en) Template and method of manufacturing the same and method of manufacturing formed body
JP5521354B2 (en) Transparent film having fine concavo-convex structure on surface and method for producing the same
JP2008209540A (en) Reflection preventing article
JP5716410B2 (en) Replica mold, molded article having fine concavo-convex structure on its surface, and method for producing the same
JP5271790B2 (en) Aluminum base material for stamper manufacture, and method for manufacturing stamper
JP2011026648A (en) Method of manufacturing stamper and method of manufacturing formed product
JP2009271298A (en) Antifogging transparent member and article equipped with the same
JP2009271205A (en) Optical mirror
JP5832066B2 (en) Molded body and manufacturing method thereof
JP2009109572A (en) Antireflection article
JP6308754B2 (en) Aluminum prototype for stamper and manufacturing method thereof, stamper and manufacturing method thereof, and manufacturing method of transcript
JP2011245767A (en) Laminate, and article having the same
JP2012140001A (en) Mold and method for manufacturing the same, and method for manufacturing article which has minute unevenness structure in surface
JP2014051710A (en) Production method of anodic oxidation porous alumina, production method of mold, and compact with fine uneven structures on the surface
JP2011224900A (en) Mold, manufacturing method and treating method for the same, and manufacturing method for article

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20131212

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20131217

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140206

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140527

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140701

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141104

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20150317