JP2011245767A - Laminate, and article having the same - Google Patents

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JP2011245767A JP2010121849A JP2010121849A JP2011245767A JP 2011245767 A JP2011245767 A JP 2011245767A JP 2010121849 A JP2010121849 A JP 2010121849A JP 2010121849 A JP2010121849 A JP 2010121849A JP 2011245767 A JP2011245767 A JP 2011245767A
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剛 大谷
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To impart an antistatic property to a film having a fine uneven structure, a laminate of the same, and an article having the same.SOLUTION: The laminate includes a film having the fine uneven structure formed on one surface and an adhesive agent layer laminated on the other surface of the film, and the laminate is stuck on a transparent base plate via the adhesive agent layer wherein the adhesive agent layer contains an antistatic agent.

Description

本発明は、積層体、およびこれを有する物品に関する。   The present invention relates to a laminate and an article having the same.

画像表示装置などの前面板に使用される部材は、太陽光線、照明光などが反射しにくい反射防止機能が求められる。   A member used for a front plate of an image display device or the like is required to have an antireflection function that hardly reflects sunlight rays, illumination light, and the like.

近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造を表面に有する物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる微細凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。   In recent years, it has been known that an article having a fine concavo-convex structure with a period equal to or shorter than the wavelength of visible light on the surface exhibits an antireflection effect, a lotus effect and the like. In particular, it is known that a fine concavo-convex structure called a moth-eye structure is an effective antireflection means by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material of the article. .

微細凹凸構造を表面に有する物品は、例えば微細凹凸構造を表面に有するフィルムを、該微細凹凸構造が形成されていない面が接するように、物品本体に貼着することによって得られる。フィルムと物品本体の貼着には、透明粘着剤や両面粘着テープなどの粘着剤が用いられる場合が多い。また、フィルムの微細凹凸構造が形成されていない面に粘着剤層を設けておき、該粘着剤層を介してフィルムを物品本体に貼着させてもよい。   An article having a fine concavo-convex structure on its surface can be obtained, for example, by sticking a film having a fine concavo-convex structure on its surface to the article main body so that the surface on which the fine concavo-convex structure is not formed is in contact. Adhesives such as transparent adhesives and double-sided adhesive tapes are often used for attaching the film and the article body. Alternatively, a pressure-sensitive adhesive layer may be provided on the surface where the fine uneven structure of the film is not formed, and the film may be attached to the article body via the pressure-sensitive adhesive layer.

微細凹凸構造を表面に有するフィルムとしては、例えば特許文献1には、陽極酸化アルミナをスタンパとして利用した転写法により形成された微細凹凸構造を表面に有する反射防止物品が開示されている。   As a film having a fine concavo-convex structure on the surface, for example, Patent Document 1 discloses an antireflection article having a fine concavo-convex structure formed on the surface by a transfer method using anodized alumina as a stamper.

特開2009−109572号公報JP 2009-109572 A

ところで、ロール形状の連続スタンパを使用し、ロール・ツー・ロールで転写法によって微細凹凸構造を表面に有するフィルムを製造する場合、フィルムをロールで搬送する際にフィルムが帯電し、その放電の跡が微細凹凸構造表面に残ることがある。   By the way, when a roll-shaped continuous stamper is used and a film having a fine concavo-convex structure on the surface is produced by a roll-to-roll transfer method, the film is charged when the film is conveyed by a roll, and the trace of the discharge May remain on the surface of the fine relief structure.

また、微細凹凸構造表面に、撥水加工を施すなどの処理が行われる場合があるが、微細凹凸構造表面にウェット塗工による加工を行なう場合、フィルムの帯電によって塗工液の濡れ性が悪化する恐れがある。   In addition, the surface of the fine concavo-convex structure may be treated with water-repellent treatment, but when the surface of the fine concavo-convex structure is processed by wet coating, the wettability of the coating liquid deteriorates due to film charging. There is a fear.

また、表面に微細凹凸構造を有するフィルムは、製造後に保護フィルムや剥離フィルムが両面に配置されるのが一般的であるが、前記剥離フィルムを剥離する際に、その剥離帯電によってフィルムにゴミが付着する恐れがある。また、フィルムの微細凹凸構造を有する面の逆の面に粘着加工を施し、剥離フィルムを設置した場合、フィルムをはがした際に粘着剤や微細凹凸構造にゴミが付着する恐れがある。   In addition, a film having a fine concavo-convex structure on the surface is generally provided with a protective film and a release film on both sides after production, but when the release film is peeled off, dust is deposited on the film due to the release charge. There is a risk of adhesion. Moreover, when adhesive processing is performed on the surface opposite to the surface having the fine concavo-convex structure of the film and a release film is installed, dust may adhere to the adhesive or the fine concavo-convex structure when the film is peeled off.

本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、微細凹凸構造を有するフィルムとその積層体、およびこれを有する物品に帯電防止性を付与することを目的とする。   This invention is made | formed in view of the said situation, and it aims at providing antistatic property to the film which has a fine uneven structure, its laminated body, and the article | item which has this.

本発明の積層体は、一方の表面に微細凹凸構造が形成されたフィルムと、該フィルムの他方の表面に積層した粘着剤層とを備え、該粘着剤層に帯電防止性付与剤を添加することで、帯電防止性を有することを特徴とする。   The laminate of the present invention comprises a film having a fine concavo-convex structure formed on one surface and an adhesive layer laminated on the other surface of the film, and an antistatic property-imparting agent is added to the adhesive layer. Therefore, it has an antistatic property.

また、本発明の積層体は、前記粘着剤層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/cm以上1.0×1015Ω/cm未満であることを特徴とする。 The laminate of the present invention is characterized in that the pressure-sensitive adhesive layer has a surface resistance value of 1.0 × 10 8 Ω / cm 2 or more and less than 1.0 × 10 15 Ω / cm 2 .

また、本発明の物品は、透明基板と、該透明基板上に粘着剤層を介して貼着された、前記積層体とを有することを特徴とする。   Moreover, the article of the present invention is characterized by having a transparent substrate and the above-mentioned laminate adhered to the transparent substrate via an adhesive layer.

本発明によれば、一方の表面に微細凹凸構造が形成されたフィルムと、該フィルムの他方の表面に積層した粘着剤層とを備え、該粘着剤層を介して透明基板上に貼着される積層体であって、前記粘着剤層が、帯電防止性付与剤を含有することを特徴とする積層体、およびこれを有する物品が得られる。   According to the present invention, a film having a fine uneven structure formed on one surface and an adhesive layer laminated on the other surface of the film are attached to a transparent substrate via the adhesive layer. The laminate is characterized in that the pressure-sensitive adhesive layer contains an antistatic property-imparting agent, and an article having the laminate is obtained.

本発明の物品の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the articles | goods of this invention. 本発明の積層体に備わるフィルムの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the film with which the laminated body of this invention is equipped. 本発明の積層体に備わるフィルムの製造装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the manufacturing apparatus of the film with which the laminated body of this invention is equipped. 表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the mold which has an anodized alumina on the surface.

本明細書において、(メタ)アクリレートは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。また、活性エネルギー線は、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。   In this specification, (meth) acrylate means an acrylate or a methacrylate. Moreover, an active energy ray means visible light, an ultraviolet-ray, an electron beam, plasma, a heat ray (infrared rays etc.), etc.

図1は、本発明の物品の一例を示す断面図である。この例の物品10は、透明基板12と、透明基板12上に貼着された本発明の積層体14を有する。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the article of the present invention. The article 10 of this example has a transparent substrate 12 and a laminate 14 of the present invention attached on the transparent substrate 12.

<透明基板>
透明基板12としては特に制限されないが、透明基板12の素材としては、無機ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
<Transparent substrate>
Although it does not restrict | limit especially as the transparent substrate 12, As a raw material of the transparent substrate 12, inorganic glass, acrylic resin, polycarbonate, a styrene resin, polyester, cellulose resin (triacetyl cellulose etc.), polyolefin, alicyclic polyolefin, etc. Is mentioned.

<積層体>
本発明の積層体14は、一方の表面に微細凹凸構造(図示略)が形成されたフィルム16と、フィルム16の他方の表面に積層した粘着剤層18とを備える。積層体14は、粘着剤層18を介して透明基板12上に貼着される。
<Laminated body>
The laminate 14 of the present invention includes a film 16 having a fine concavo-convex structure (not shown) formed on one surface, and an adhesive layer 18 laminated on the other surface of the film 16. The laminate 14 is stuck on the transparent substrate 12 via the pressure-sensitive adhesive layer 18.

(粘着剤層)
粘着剤層18は、透明基板に貼り付けた際の粘着力及び透明性が確保されれば、特に制限されるものではない。例えば、粘着剤として、アクリル系粘着剤、およびゴム系粘着剤がある。粘着剤層18には、帯電防止剤が含まれる。
(Adhesive layer)
The pressure-sensitive adhesive layer 18 is not particularly limited as long as the pressure-sensitive adhesive force and transparency when adhered to a transparent substrate are ensured. For example, as an adhesive, there are an acrylic adhesive and a rubber adhesive. The pressure-sensitive adhesive layer 18 contains an antistatic agent.

(帯電防止剤)
帯電防止剤は、粘着剤に対する相溶性があって透明性を確保でき、粘着力低下を招かなければ特に制限されるものではない。帯電防止剤は、低分子帯電防止剤、及び高分子帯電防止剤のいずれを用いても良い。
(Antistatic agent)
The antistatic agent is not particularly limited as long as it has compatibility with the pressure-sensitive adhesive, can ensure transparency, and does not cause a decrease in pressure-sensitive adhesive force. As the antistatic agent, either a low molecular antistatic agent or a high molecular antistatic agent may be used.

例えば、低分子帯電防止剤としては、ノニオン界面活性剤、アニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性イオン界面活性等の系統が挙げられる。   For example, examples of the low-molecular antistatic agent include nonionic surfactants, anionic surfactants, cationic surfactants, and zwitterionic surfactants.

また、例えば、高分子帯電防止剤としては、ノニオンポリマー系、アニオンポリマー系、カチオンポリマー系が挙げられる。   Examples of the polymer antistatic agent include nonionic polymer type, anionic polymer type, and cationic polymer type.

粘着剤層18の厚さは、5〜100μmであることが好ましく10〜50μmであることがさらに好ましい。厚さが5μm未満であれば、被着体に対して十分な密着性、接着性を得ることができないことがある。一方、100μmより厚くなると粘着剤中に含まれる微量残留溶剤量が増加し、発泡の原因となる恐れがある。   The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 18 is preferably 5 to 100 μm, and more preferably 10 to 50 μm. If the thickness is less than 5 μm, sufficient adhesion and adhesion to the adherend may not be obtained. On the other hand, if the thickness is greater than 100 μm, the amount of residual solvent contained in the adhesive increases, which may cause foaming.

粘着剤層18に混合される帯電防止剤の量は、0.01〜10.0質量部であることが好ましく、より好ましくは0.5〜4.0質量部である。   The amount of the antistatic agent mixed in the pressure-sensitive adhesive layer 18 is preferably 0.01 to 10.0 parts by mass, more preferably 0.5 to 4.0 parts by mass.

(フィルム)
図1に示すフィルム16は、フィルム本体16aと、フィルム本体16aの表面に形成された硬化樹脂膜16bとを有する。
(the film)
The film 16 shown in FIG. 1 has a film body 16a and a cured resin film 16b formed on the surface of the film body 16a.

フィルム本体16aは、光透過性を有するフィルムである。フィルム本体16aの材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。   The film body 16a is a film having optical transparency. Examples of the material for the film body 16a include acrylic resins, polycarbonates, styrene resins, polyesters, cellulose resins (such as triacetyl cellulose), polyolefins, and alicyclic polyolefins.

硬化樹脂膜16bは、後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる光透過性の膜であり、例えば図2に示すように、表面に複数の凸部19を有する。   The cured resin film 16b is a light-transmitting film made of a cured product of an active energy ray-curable resin composition described later, and has a plurality of convex portions 19 on the surface, for example, as shown in FIG.

凸部19としては、陽極酸化アルミナの表面の複数の細孔(凹部)を転写して形成されたものが好ましい。   The protrusion 19 is preferably formed by transferring a plurality of pores (recesses) on the surface of anodized alumina.

複数の凸部19は、略円錐形状、角錐形状等の複数の突起(凸部)が可視光線の波長以下の間隔で配列した、いわゆるモスアイ構造を形成していることが好ましい。モスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。   The plurality of convex portions 19 preferably form a so-called moth-eye structure in which a plurality of protrusions (convex portions) having a substantially conical shape or a pyramid shape are arranged at intervals equal to or shorter than the wavelength of visible light. It is known that the moth-eye structure becomes an effective antireflection means by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material.

凸部19間の平均周期は、可視光線の波長以下、すなわち400nm以下が好ましく、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。ここで、凸部19間の平均周期とは、硬化樹脂膜16bの断面を電子顕微鏡で観察し、隣接する凸部19間の間隔P(凸部19の中心から隣接する凸部19の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。   The average period between the convex portions 19 is preferably not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm, more preferably not more than 200 nm, and particularly preferably not more than 150 nm. Here, the average period between the convex portions 19 means that the cross section of the cured resin film 16b is observed with an electron microscope, and the interval P between the adjacent convex portions 19 (from the center of the convex portion 19 to the center of the adjacent convex portion 19). ) Is measured at 50 points, and these values are averaged.

なお、後述の陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部19を形成した場合、凸部19間の平均周期は100nm程度となり好ましい。   In addition, when the convex part 19 is formed using the mold of the anodic oxidation alumina mentioned later, the average period between the convex parts 19 becomes about 100 nm, and is preferable.

Hは、100〜500nmが好ましく、130〜400nmがより好ましい。凸部19の高さが100nm以上であれば、反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部19の高さが500nm以下であれば、凸部19の機械的強度が良好となる。   H is preferably 100 to 500 nm, and more preferably 130 to 400 nm. When the height of the convex portion 19 is 100 nm or more, the reflectance is sufficiently low and the wavelength dependence of the reflectance is small. If the height of the convex part 19 is 500 nm or less, the mechanical strength of the convex part 19 will become favorable.

HおよびWは、硬化樹脂膜16bの断面を電子顕微鏡で観察することによって測定できる。   H and W can be measured by observing the cross section of the cured resin film 16b with an electron microscope.

Wは、凸部19の周囲に形成される凹部の最底部と同一平面(以下、基準面と記す。)における幅とする。   W is a width in the same plane (hereinafter referred to as a reference plane) as the bottom of the concave portion formed around the convex portion 19.

Hは、前記基準面から凸部19の最頂部までの高さとする。   H is the height from the reference surface to the top of the convex portion 19.

H/Wは、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造条件、該モールドの細孔(凹部)内に充填される活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の粘度(特開2008−197216号公報参照)等を適宜選択することにより、調整できる。   H / W is the manufacturing condition of the mold having anodized alumina on the surface, the viscosity of the active energy ray-curable resin composition filled in the pores (recesses) of the mold (see JP 2008-197216 A) It can adjust by selecting etc. suitably.

表面にモスアイ構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。   When the surface has a moth-eye structure, if the surface is made of a hydrophobic material, super water repellency can be obtained by the lotus effect, and if the surface is made of a hydrophilic material, super hydrophilicity can be obtained. It is known.

硬化樹脂膜16bの材料が疎水性の場合のモスアイ構造の表面の水接触角は、90°以上が好ましく、100°以上がより好ましく、110°以上が特に好ましい。水接触角が90°以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。   When the material of the cured resin film 16b is hydrophobic, the water contact angle on the surface of the moth-eye structure is preferably 90 ° or more, more preferably 100 ° or more, and particularly preferably 110 ° or more. If the water contact angle is 90 ° or more, water stains are less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. Moreover, since water does not adhere easily, anti-icing can be expected.

硬化樹脂膜16bの材料が親水性の場合のモスアイ構造の表面の水接触角は、25°以下が好ましく、23°以下がより好ましく、21°以下が特に好ましい。水接触角が25°以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂膜16bの吸水によるモスアイ構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3°以上が好ましい。   When the material of the cured resin film 16b is hydrophilic, the water contact angle of the surface of the moth-eye structure is preferably 25 ° or less, more preferably 23 ° or less, and particularly preferably 21 ° or less. If the water contact angle is 25 ° or less, the dirt adhering to the surface is washed away with water and oil dirt is less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. The water contact angle is preferably 3 ° or more from the viewpoint of suppressing deformation of the moth-eye structure due to water absorption of the cured resin film 16b and the accompanying increase in reflectance.

(フィルムの製造方法)
フィルム16は、例えば図3に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
(Film production method)
The film 16 is manufactured as follows using, for example, a manufacturing apparatus shown in FIG.

複数の凸部19に対応した複数の凹部(図示略)からなる反転微細構造を表面に有するロール状のモールド22の表面と、モールド22の表面に沿って移動する帯状のフィルム本体16aとの間に、タンク24から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21を供給する。   Between the surface of the roll-shaped mold 22 having a reverse microstructure composed of a plurality of concave portions (not shown) corresponding to the plurality of convex portions 19 on the surface, and the strip-shaped film main body 16a moving along the surface of the mold 22 Then, the active energy ray-curable resin composition 21 is supplied from the tank 24.

モールド22と、空気圧シリンダ26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、フィルム本体16aおよび活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21を、フィルム本体16aとモールド22との間に均一に行き渡らせると同時に、モールド22の凹部内に充填する。   The film main body 16a and the active energy ray curable resin composition 21 are nipped between the mold 22 and the nip roll 28 whose nip pressure is adjusted by the pneumatic cylinder 26, and the active energy ray curable resin composition 21 is removed from the film. The main body 16a and the mold 22 are uniformly distributed, and at the same time, the concave portions of the mold 22 are filled.

モールド22とフィルム本体16aとの間に、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21が挟まれた状態で、モールド22の下方に設置された活性エネルギー線照射装置30を用い、フィルム本体16a側から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21を硬化させることによって、モールド22の表面の複数の凹部が転写された硬化樹脂膜16bを形成する。   The active energy ray curable resin composition 21 is sandwiched between the mold 22 and the film body 16a, and the active energy ray irradiation device 30 installed below the mold 22 is used to activate the film body 16a from the film body 16a side. By irradiating the energy ray curable resin composition 21 with active energy rays and curing the active energy ray curable resin composition 21, a cured resin film 16b to which a plurality of recesses on the surface of the mold 22 is transferred is formed. .

剥離ロール32により、表面に硬化樹脂膜16bが形成されたフィルム本体16aを剥離することによって、フィルム16を得る。   The film 16 is obtained by peeling the film body 16 a having the cured resin film 16 b formed on the surface by the peeling roll 32.

活性エネルギー線照射装置30としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cmが好ましい。なお、活性エネルギー線とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)と意味する。 The active energy ray irradiation device 30 is preferably a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like. In this case, the amount of light irradiation energy is preferably 100 to 10,000 mJ / cm 2 . In addition, an active energy ray means visible light, an ultraviolet-ray, an electron beam, plasma, a heat ray (infrared rays etc.).

(モールド)
モールド22は、最終的に得られるフィルムの表面の微細凹凸構造に対応する反転構造(以下、反転微細凹凸構造と記す。)をモールド本体の表面に有するものである。
(mold)
The mold 22 has a reversal structure (hereinafter referred to as a reversal fine concavo-convex structure) corresponding to the fine concavo-convex structure on the surface of the finally obtained film on the surface of the mold body.

モールド本体の材料としては、金属(表面に酸化皮膜が形成されたものを含む。)、石英、ガラス、樹脂、セラミックス等が挙げられる。モールド本体の形状としては、ロール状、円管状、平板状、シート状等が挙げられる。   Examples of the material for the mold main body include metals (including those having an oxide film formed on the surface), quartz, glass, resin, ceramics, and the like. Examples of the shape of the mold body include a roll shape, a circular tube shape, a flat plate shape, and a sheet shape.

モールドの作製方法としては、例えば、下記の方法(X)、(Y)が挙げられる。モールドの大面積化が可能であり、かつ作製が簡便である点から、方法(X)が好ましい。   Examples of the mold production method include the following methods (X) and (Y). The method (X) is preferable because the mold can have a large area and can be easily produced.

(X)アルミニウムからなるモールド本体の表面に、複数の細孔(凹部)を有する陽極酸化アルミナを形成する方法。     (X) A method of forming anodized alumina having a plurality of pores (concave portions) on the surface of a mold body made of aluminum.

(Y)モールド本体の表面にリソグラフィ法、電子線描画法、レーザー光干渉法等によって微細凹凸構造を直接形成する方法。     (Y) A method of directly forming a fine concavo-convex structure on the surface of a mold body by lithography, electron beam drawing, laser light interference, or the like.

方法(X)としては、下記の工程(a)〜(e)を有する方法が好ましい。   As the method (X), a method having the following steps (a) to (e) is preferable.

(a)アルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。       (A) A step of forming an oxide film by anodizing aluminum in an electrolytic solution under a constant voltage.

(b)酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。       (B) A step of removing the oxide film and forming pore generation points for anodic oxidation.

(c)アルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。       (C) A step of anodizing aluminum again in an electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.

(d)細孔の径を拡大させる工程。       (D) A step of enlarging the diameter of the pores.

(e)前記(c)工程と(d)工程を繰り返し行う工程。       (E) A step of repeatedly performing the steps (c) and (d).

工程(a):
図4に示すように、アルミニウム34を陽極酸化すると、細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。電解液としては、シュウ酸、硫酸等が挙げられる。
Step (a):
As shown in FIG. 4, when the aluminum 34 is anodized, an oxide film 38 having pores 36 is formed. Examples of the electrolytic solution include oxalic acid and sulfuric acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合:
シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
When using oxalic acid as electrolyte:
The concentration of oxalic acid is preferably 0.7 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.7M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough.

化成電圧が30〜60Vの時、周期が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。   When the formation voltage is 30 to 60 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 100 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.

電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。   The temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

硫酸を電解液として用いる場合:
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
When using sulfuric acid as the electrolyte:
The concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage.

化成電圧が25〜30Vの時、周期が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。   When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.

電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。   The temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or lower, and more preferably 20 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

工程(b):
図4に示すように、酸化皮膜38を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点40にすることで細孔の規則性を向上することができる。
Step (b):
As shown in FIG. 4, the regularity of the pores can be improved by once removing the oxide film 38 and using it as the pore generation point 40 for anodic oxidation.

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。   Examples of the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves the oxide film and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.

工程(c):
図4に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム34を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。
Step (c):
As shown in FIG. 4, when the aluminum 34 from which the oxide film has been removed is anodized again, an oxide film 38 having cylindrical pores 36 is formed.

陽極酸化は、工程(a)と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。   Anodization may be performed under the same conditions as in step (a). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

工程(d):
図4に示すように、細孔36の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
Step (d):
As shown in FIG. 4, a process for expanding the diameter of the pores 36 (hereinafter referred to as a pore diameter expanding process) is performed. The pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving the oxide film. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass. The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.

工程(e):
図4に示すように、工程(c)の陽極酸化と、工程(d)の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔36を有する陽極酸化アルミナ(アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト))が形成され、表面に反転微細凹凸構造を有するモールド22が得られる。
Step (e):
As shown in FIG. 4, when the anodic oxidation in the step (c) and the pore diameter enlargement process in the step (d) are repeated, the pores 36 have a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening. An anodized alumina (a porous oxide film of aluminum (alumite)) is formed, and a mold 22 having an inverted fine uneven structure on the surface is obtained.

繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された硬化樹脂膜の反射率低減効果は不十分である。   The total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more. When the number of repetitions is 2 times or less, the diameter of the pores decreases discontinuously. Therefore, the effect of reducing the reflectance of the cured resin film produced using the anodized alumina having such pores is insufficient. .

細孔36の形状としては、略円錐形状、角錐形状等が挙げられる。   Examples of the shape of the pores 36 include a substantially conical shape and a pyramid shape.

細孔36間の平均周期は、可視光線の波長以下、すなわち400nm以下である。細孔36間の平均周期は、25nm以上が好ましい。   The average period between the pores 36 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. The average period between the pores 36 is preferably 25 nm or more.

細孔36の深さは、100〜500nmが好ましく、150〜400nmがより好ましい。   The depth of the pores 36 is preferably 100 to 500 nm, and more preferably 150 to 400 nm.

図4に示すような細孔36を転写して形成された硬化樹脂膜16bの表面は、いわゆるモスアイ構造となる。   The surface of the cured resin film 16b formed by transferring the pores 36 as shown in FIG. 4 has a so-called moth-eye structure.

モールド22の表面は、硬化樹脂膜との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。離型剤としては、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、フッ素化合物等が挙げられる。   The surface of the mold 22 may be treated with a release agent so as to facilitate separation from the cured resin film. Examples of the release agent include silicone resins, fluororesins, and fluorine compounds.

(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
(Active energy ray-curable resin composition)
The active energy ray-curable resin composition contains a polymerizable compound and a polymerization initiator.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、フィルム本体としてアクリルフィルムを用いる場合は、フィルム本体の屈折率と硬化樹脂膜の屈折率との差が十分に小さくなる点から、アクリル系モノマーを主成分とするものが好ましい。   As an active energy ray curable resin composition, when an acrylic film is used as a film body, an acrylic monomer is a main component because the difference between the refractive index of the film body and the refractive index of the cured resin film is sufficiently small. Are preferred.

重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。   Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable resin composition may contain a non-reactive polymer and an active energy ray sol-gel reactive composition.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。   Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.

単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( )) (Meth) acrylate derivatives such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, α -Styrene derivatives such as methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1、5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1、3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2、2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2、2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2、2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1、2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1、4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( Ta) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ) Butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, propylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, neopentyl glycol di (meth) hydroxypivalate Bifunctional monomers such as acrylate, divinylbenzene, and methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide Functional tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate and other trifunctional monomers; succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 4 or more functional monomers such as dipentaerystol hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate; bifunctional or more Urethane acrylates, bifunctional or higher functional polyester acrylates, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。   Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。   Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.

非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。   Examples of non-reactive polymers include acrylic resins, styrene resins, polyurethanes, cellulose resins, polyvinyl butyral, polyesters, thermoplastic elastomers, and the like.

活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。   Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkyl silicate compounds.

アルコキシシラン化合物としては、下記式(1)の化合物が挙げられる。   As an alkoxysilane compound, the compound of following formula (1) is mentioned.

Si(OR ・・・(1)
ただし、R、Rは、それぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、x、yは、x+y=4の関係を満たす整数を表す。
R 1 x Si (OR 2 ) y (1)
However, R 1, R 2 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, x, y represents an integer satisfying the relation of x + y = 4.

アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, methyltriethoxysilane, Examples include methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.

アルキルシリケート化合物としては、下記式(2)の化合物が挙げられる。   Examples of the alkyl silicate compound include a compound of the following formula (2).

O[Si(OR)(OR)O] ・・・(2)
ただし、R〜Rは、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは、3〜20の整数を表す。
R 3 O [Si (OR 5 ) (OR 6 ) O] z R 4 (2)
However, R < 3 > -R < 6 > represents a C1-C5 alkyl group, respectively, and z represents the integer of 3-20.

アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。   Examples of the alkyl silicate compound include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.

光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2、2−ジエトキシアセトフェノン、α、α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4、4'−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2、4、6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When utilizing a photocuring reaction, examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, and 2,2-diethoxy. Acetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- Carbonyl compounds such as 1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoyl Examples include diethoxyphosphine oxide. These may be used alone or in combination of two or more.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4、4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2、4、6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2、4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2、4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2、4、6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2、6−ジメトキシベンゾイル)−2、4、4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2、4、6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1、7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When using an electron beam curing reaction, examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthone such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholy Phenyl) -butanone and other acetophenones; benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether and other benzoin ethers; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, 9-phenyl Examples include acridine. These may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN、N−ジメチルアニリン、N、N−ジメチル−p−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。前記重合開始剤は併用してもよい。   When utilizing a thermosetting reaction, examples of the thermal polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, organic peroxides such as t-butylperoxybenzoate and lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N, N-dimethylaniline, N, N-dimethyl-p- Examples thereof include a redox polymerization initiator combined with an amine such as toluidine. The polymerization initiator may be used in combination.

重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化樹脂膜が着色したり、機械的強度が低下したりすることがある。   As for the quantity of a polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the amount of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed. When the amount of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured resin film may be colored or the mechanical strength may be lowered.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤、微粒子、また少量の溶剤を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable resin composition may contain an antistatic agent, a release agent, an additive such as a fluorine compound for improving antifouling properties, fine particles, and a small amount of a solvent, if necessary. .

(疎水性材料)
硬化樹脂膜のモスアイ構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
(Hydrophobic material)
In order to set the water contact angle of the surface of the moth-eye structure of the cured resin film to 90 ° or more, the composition containing a fluorine-containing compound or a silicone compound as an active energy ray-curable resin composition capable of forming a hydrophobic material It is preferable to use a product.

フッ素含有化合物:
フッ素含有化合物としては、下記式(3)で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
Fluorine-containing compounds:
As the fluorine-containing compound, a compound having a fluoroalkyl group represented by the following formula (3) is preferable.

−(CF−X ・・・(3)
ただし、Xは、フッ素原子または水素原子を表し、nは、1以上の整数を表し、1〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜8が特に好ましい。
- (CF 2) n -X ··· (3)
However, X represents a fluorine atom or a hydrogen atom, n represents an integer greater than or equal to 1, 1-20 are preferable, 3-10 are more preferable, and 4-8 are especially preferable.

フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing compound include a fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agent, a fluorine-containing surfactant, and a fluorine-containing polymer.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing monomer include a fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer and a fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer.

フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。   Examples of the fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer include fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylates, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylamides, fluoroalkyl group-substituted vinyl ethers, and fluoroalkyl group-substituted styrenes.

フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。   Examples of the fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer include fluoroalkyl group-substituted epoxy compounds, fluoroalkyl group-substituted oxetane compounds, and fluoroalkyl group-substituted oxazoline compounds.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレートが好ましく、下記式(4)の化合物が特に好ましい。   As the fluorine-containing monomer, a fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate is preferable, and a compound of the following formula (4) is particularly preferable.

CH=C(R)C(O)O−(CH−(CF−X ・・・(4)
ただし、Rは、水素原子またはメチル基を表し、Xは、水素原子またはフッ素原子を表し、mは、1〜6の整数を表し、1〜3が好ましく、1または2がより好ましく、pは、1〜20の整数を表し、3〜10が好ましく、4〜8がより好ましい。
CH 2 = C (R 7) C (O) O- (CH 2) m - (CF 2) p -X ··· (4)
However, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom or a fluorine atom, m represents an integer of 1 to 6, preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, p Represents an integer of 1 to 20, preferably 3 to 10, and more preferably 4 to 8.

フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式(5)の化合物が特に好ましい。   As the fluorine-containing silane coupling agent, a fluoroalkyl group-substituted silane coupling agent is preferable, and a compound of the following formula (5) is particularly preferable.

(R SiY ・・・(5)
は、エーテル結合またはエステル結合を1個以上含んでいてもよい炭素数1〜20のフッ素置換アルキル基を表す。Rとしては、3、3、3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1、1、2、2−テトラヒドロオクチル基、3−トリフルオロメトキシプロピル基、3−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。
(R f ) a R 8 b SiY c (5)
R f represents a C1-C20 fluorine-substituted alkyl group which may contain one or more ether bonds or ester bonds. Examples of R f include 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, 3-trifluoromethoxypropyl group, 3-trifluoroacetoxypropyl group and the like. It is done.

は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。Rとしては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 8 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of R 2 include a methyl group, an ethyl group, and a cyclohexyl group.

Yは、水酸基または加水分解性基を表す。   Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.

加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、RC(O)O(ただし、Rは、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。)等が挙げられる。 Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, a halogen atom, and R 9 C (O) O (wherein R 3 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms).

アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3、7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。   Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, Examples include octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, and the like.

ハロゲン原子としては、Cl、Br、I等が挙げられる。   Examples of the halogen atom include Cl, Br, I and the like.

C(O)Oとしては、CHC(O)O、CC(O)O等が挙げられる。 Examples of R 9 C (O) O include CH 3 C (O) O, C 2 H 5 C (O) O, and the like.

a、b、cは、a+b+c=4であり、かつa≧1、c≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、c=3が好ましい。   a, b, and c are integers satisfying a + b + c = 4 and satisfying a ≧ 1, c ≧ 1, and preferably a = 1, b = 0, and c = 3.

フッ素含有シランカップリング剤としては、3、3、3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3、3、3−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−3、3、3−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−1、1、2、2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Fluorine-containing silane coupling agents include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriacetoxysilane, dimethyl-3,3,3-trifluoropropylmethoxysilane, tri Examples include decafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltriethoxysilane.

フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing surfactant include a fluoroalkyl group-containing anionic surfactant and a fluoroalkyl group-containing cationic surfactant.

フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数2〜10のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルキル(C〜C11)オキシ]−1−アルキル(C〜C)スルホン酸ナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルカノイル(C〜C)−N−エチルアミノ]−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル(C11〜C20)カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸(C〜C13)またはその金属塩、パーフルオロアルキル(C〜C12)スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル(C〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル(C〜C10)−N−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル(C〜C16)エチルリン酸エステル等が挙げられる。 Examples of the fluoroalkyl group-containing anionic surfactant include a fluoroalkylcarboxylic acid having 2 to 10 carbon atoms or a metal salt thereof, disodium perfluorooctanesulfonyl glutamate, 3- [omega-fluoroalkyl (C 6 -C 11 ) oxy. ] -1-alkyl (C 3 ~C 4) sulfonate, sodium 3- [omega - fluoroalkanoyl (C 6 ~C 8) -N- ethylamino] -1-sodium sulfonic acid, fluoroalkyl (C 11 ~ C 20 ) carboxylic acid or a metal salt thereof, perfluoroalkyl carboxylic acid (C 7 to C 13 ) or a metal salt thereof, perfluoroalkyl (C 4 to C 12 ) sulfonic acid or a metal salt thereof, perfluorooctane sulfonic acid diethanolamine N-propyl-N- (2-hydroxy Chill) perfluorooctane sulfonamide, perfluoroalkyl (C 6 -C 10) sulfonamide propyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl (C 6 -C 10)-N-ethylsulfonyl glycine salts, monoperfluoroalkyl (C 6 -C 16) ethyl phosphoric acid ester, and the like.

フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル(C〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。 Examples of the fluoroalkyl group-containing cationic surfactant include aliphatic quaternary compounds such as fluoroalkyl group-containing aliphatic primary, secondary or tertiary amine acids, and perfluoroalkyl (C 6 -C 10 ) sulfonamidopropyltrimethylammonium salts. Examples thereof include ammonium salts, benzalkonium salts, benzethonium chloride, pyridinium salts, imidazolinium salts, and the like.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。   Fluorine-containing polymers include polymers of fluoroalkyl group-containing monomers, copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and poly (oxyalkylene) group-containing monomers, and copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and crosslinking reactive group-containing monomers. A polymer etc. are mentioned. The fluorine-containing polymer may be a copolymer with another copolymerizable monomer.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体が好ましい。   As the fluorine-containing polymer, a copolymer of a fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group-containing monomer is preferable.

ポリ(オキシアルキレン)基としては、下記式(6)で表される基が好ましい。   As the poly (oxyalkylene) group, a group represented by the following formula (6) is preferable.

−(OR10− ・・・(6)
ただし、R10は、炭素数2〜4のアルキレン基を表し、qは、2以上の整数を表す。
10としては、−CHCH−、−CHCHCH−、−CH(CH)CH−、−CH(CH)CH(CH)−等が挙げられる。
− (OR 10 ) q − (6)
However, R 10 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, q represents an integer of 2 or more.
Examples of R 10 include —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH (CH 3 ) —, and the like.

ポリ(オキシアルキレン)基は、同一のオキシアルキレン単位(OR10)からなるものであってもよく、2種以上のオキシアルキレン単位(OR10)からなるものであってもよい。2種以上のオキシアルキレン単位(OR10)の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。 The poly (oxyalkylene) group may be composed of the same oxyalkylene unit (OR 10 ), or may be composed of two or more oxyalkylene units (OR 10 ). The arrangement of two or more oxyalkylene units (OR 10 ) may be a block or random.

シリコーン系化合物:
シリコーン系化合物としては、(メタ)アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
Silicone compounds:
Examples of the silicone compound include (meth) acrylic acid-modified silicone, silicone resin, silicone silane coupling agent and the like.

(メタ)アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン(ジ)(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the (meth) acrylic acid-modified silicone include silicone (di) (meth) acrylate.

(親水性材料)
硬化樹脂膜のモスアイ構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
(Hydrophilic material)
In order to set the water contact angle of the surface of the moth-eye structure of the cured resin film to 25 ° or less, an active energy ray-curable resin composition that can form a hydrophilic material is a composition containing the following polymerizable compound: It is preferable to use it.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの10〜50質量%、
2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの30〜80質量%、
単官能モノマーの0〜20質量%の合計100質量%からなる重合性化合物。
10 to 50% by mass of a tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate,
30-80% by weight of bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate,
A polymerizable compound comprising a total of 100% by mass of 0 to 20% by mass of a monofunctional monomer.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200)、ポリエーテルアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL81)、変性エポキシアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL3416)、ポリエステルアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870)等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Examples of tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylates include ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypenta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid molar mixture 1: 2: 4 condensation reaction mixture, urethane acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBECRYL220, EBECRYL1290K, EBECRYL1290K, EBECRYL5129, EBECRYL8210, EBECRYL 8301, KRM 8200), polyether acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBEC) YL81), modified epoxy acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBECRYL3416), polyester acrylates (manufactured by Daicel-Cytech: EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL800, EBECRYL810, EBECRYL8111, EBECRYL81L, EBECRYL81L It is done. These may be used alone or in combination of two or more.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、5官能以上の多官能(メタ)アクリレートがより好ましい。   The polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups is more preferably a polyfunctional (meth) acrylate having 5 or more functional groups.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合は、10〜50質量%が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、20〜50質量%がより好ましく、30〜50質量%が特に好ましい。4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合が10質量%以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合が50質量%以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。   The proportion of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is preferably 10 to 50% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, and particularly preferably 30 to 50% by mass from the viewpoint of water resistance and chemical resistance. If the ratio of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 10% by mass or more, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved. If the ratio of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 50% by mass or less, small cracks are hardly formed on the surface, and the appearance is hardly deteriorated.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートとしては、アロニックスM−240、アロニックスM260(東亞合成社製)、NKエステルAT−20E、NKエステルATM−35E(新中村化学社製)等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   Long-chain polyethylene such as Aronix M-240, Aronix M260 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester AT-20E, NK ester ATM-35E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Examples thereof include polyfunctional acrylates having glycol and polyethylene glycol dimethacrylate. These may be used alone or in combination of two or more.

ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6〜40が好ましく、9〜30がより好ましく、12〜20が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。   In the polyethylene glycol dimethacrylate, the total of the average repeating units of the polyethylene glycol chain present in one molecule is preferably 6 to 40, more preferably 9 to 30, and particularly preferably 12 to 20. If the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 6 or more, the hydrophilicity is sufficient and the antifouling property is improved. When the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 40 or less, the compatibility with a polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functionalities is improved, and the active energy ray-curable resin composition is hardly separated.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合は、30〜80質量%が好ましく、40〜70質量%がより好ましい。2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合が30質量%以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合が80質量%以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。   30-80 mass% is preferable and, as for the ratio of bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate, 40-70 mass% is more preferable. When the ratio of the bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate is 30% by mass or more, the hydrophilicity is sufficient and the antifouling property is improved. When the proportion of the bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate is 80% by mass or less, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved.

単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。   As the monofunctional monomer, a hydrophilic monofunctional monomer is preferable.

水性単官能モノマーとしては、M−20G、M−90G、M−230G(新中村化学社製)等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能(メタ)アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。   Examples of the aqueous monofunctional monomer include monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group such as M-20G, M-90G, and M-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and hydroxyalkyl (meth) acrylates. Examples thereof include cationic monomers such as monofunctional (meth) acrylates having a hydroxyl group in the ester group, monofunctional acrylamides, methacrylamidopropyltrimethylammonium methylsulfate, and methacryloyloxyethyltrimethylammonium methylsulfate.

また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、基材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。   Moreover, as a monofunctional monomer, you may use viscosity modifiers, such as acryloyl morpholine and vinyl pyrrolidone, adhesive improvement agents, such as acryloyl isocyanate which improves the adhesiveness to a base material, etc.

単官能モノマーの割合は、0〜20質量%が好ましく、5〜15質量%がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、部材と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が20質量%以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートまたは2官能以上の親水性(メタ)アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。   The proportion of the monofunctional monomer is preferably 0 to 20% by mass, and more preferably 5 to 15% by mass. By using a monofunctional monomer, the adhesion between the member and the cured resin is improved. When the proportion of the monofunctional monomer is 20% by mass or less, antifouling property or scratch resistance is sufficient without a shortage of tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate or bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate. Expressed in

単官能モノマーは、1種または2種以上を(共)重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に0〜35質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、M−230G(新中村化学社製)等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマー(MRCユニテック社製、MGポリマー)等が挙げられる。   The monofunctional monomer may be blended in the active energy ray-curable resin composition in an amount of 0 to 35 parts by mass as a polymer having a low polymerization degree obtained by (co) polymerizing one type or two or more types. As a polymer having a low degree of polymerization, 40/60 of monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group such as M-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and methacrylamide propyltrimethylammonium methyl sulfate. Copolymer oligomer (MRC Unitech Co., Ltd., MG polymer) and the like can be mentioned.

(積層体の製造方法)
本発明の積層体14は、剥離フィルム上に粘着剤層18を構成する粘着剤塗布液を所定の厚さに塗布・乾燥させて形成し、その粘着剤層18をフィルム16の微細凹凸構造が形成されていない側の表面に転写することで得られる。
(Laminate manufacturing method)
The laminate 14 of the present invention is formed by applying and drying a pressure-sensitive adhesive coating liquid constituting the pressure-sensitive adhesive layer 18 to a predetermined thickness on a release film, and the pressure-sensitive adhesive layer 18 has a fine uneven structure of the film 16. It is obtained by transferring to the surface on the side where it is not formed.

また、積層体14は、先に粘着剤層18をフィルム16の微細凹凸構造が形成されていない側の表面に粘着剤層18を構成する粘着剤塗布液を所定の厚さに塗布・乾燥させて形成した後、剥離フィルムを貼り合せることでも製造できる。   In addition, the laminate 14 is obtained by applying and drying the pressure-sensitive adhesive layer 18 to a predetermined thickness on the surface of the film 16 where the fine uneven structure is not formed. It can also be manufactured by bonding a release film after forming.

剥離フィルムは、樹脂フィルムなどの剥離シート用基材の表面に、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、長鎖アルキル基含有カルバメート等の剥離剤をコーティングして剥離剤層を形成させたシートが用いられる。   As the release film, a sheet in which a release agent layer is formed by coating a release agent such as a fluororesin, a silicone resin, or a long chain alkyl group-containing carbamate on the surface of a release sheet substrate such as a resin film is used. .

剥離フィルム用基材としては、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン等のポリオレフィンなどの樹脂フィルム等を用いることができる。剥離フィルム用基材の厚さは、使用する材料によって多少異なるが、通常は10〜100μm程度である。   As the release film substrate, a resin film such as a polyester such as polyethylene terephthalate, a polyolefin such as polyethylene, polypropylene, or polybutadiene can be used. Although the thickness of the base material for peeling films changes somewhat with materials to be used, it is about 10-100 micrometers normally.

粘着剤層を剥離フィルム上に形成させるには、粘着剤の塗布液を調製して、それを、通常行われているグラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ナイフコート法、エアナイフコート法、ホットメルトコート法、カーテンコート法等を用いて塗布液を塗布することができる。粘着剤の塗布液を塗布した後、溶剤や低沸点成分の残留を防ぐために、60〜150℃程度の温度で30秒〜5分間程度加熱乾燥することにより、接着性が発現して粘着剤層が形成される。   In order to form an adhesive layer on a release film, an adhesive coating solution is prepared, and the usual gravure coating method, bar coating method, spray coating method, spin coating method, roll coating method are performed. The coating liquid can be applied using a die coating method, a knife coating method, an air knife coating method, a hot melt coating method, a curtain coating method, or the like. After applying the adhesive coating solution, in order to prevent the solvent and low-boiling components from remaining, the adhesive layer is developed by heating and drying at a temperature of about 60 to 150 ° C. for about 30 seconds to 5 minutes. Is formed.

得られた積層体14は、そのまま粘着剤層18を介して透明基板12上に貼着してもよいし、一旦ロール等に巻き取って保管してもよい。保管する際は、露出した粘着剤層18上に剥離フィルム等を積層したままで保管する。   The obtained laminated body 14 may be stuck on the transparent substrate 12 through the pressure-sensitive adhesive layer 18 as it is, or may be temporarily wound around a roll or the like and stored. When storing, it is stored with the release film or the like laminated on the exposed pressure-sensitive adhesive layer 18.

また、積層体14は、フィルム16の微細凹凸構造が形成されていない側の表面に、粘着剤層18を構成する粘着剤を上記と同様の条件で塗布・乾燥して、フィルム16上に粘着剤層18を積層することででも得られる。予め剥離フィルム等に粘着剤を塗布して粘着剤層を形成しておき、該剥離紙上の粘着剤層と、フィルムの微細凹凸構造が形成されていない側の表面とを貼り合わせることで、積層体を製造してもよい。このような方法であれば、積層体の保管や搬送が容易である。   The laminate 14 is coated on the film 16 by applying and drying the pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-sensitive adhesive layer 18 on the surface of the film 16 where the fine concavo-convex structure is not formed. It can also be obtained by laminating the agent layer 18. A pressure-sensitive adhesive layer is formed in advance by applying a pressure-sensitive adhesive to a release film, etc., and laminating by bonding the pressure-sensitive adhesive layer on the release paper and the surface on the side where the fine uneven structure of the film is not formed. The body may be manufactured. If it is such a method, storage and conveyance of a laminated body are easy.

以上説明した本発明の積層体は、透明基板に対して良好な接着性を有し、かつ帯電防止性能を備えるので、透明基板との接着性が良好であると共に、積層体製造時の作業性の向上や剥離フィルムを剥離する時の帯電防止性付与が実現できる。   Since the laminate of the present invention described above has good adhesion to the transparent substrate and has antistatic performance, the adhesion to the transparent substrate is good and the workability during production of the laminate is also good. It is possible to achieve improvement in antistatic properties when peeling the release film.

また、本発明の積層体は、表面に微細凹凸構造が形成されたフィルムを備えるので、優れた反射防止機能を発揮できる。   Moreover, since the laminated body of this invention is provided with the film by which the fine uneven structure was formed in the surface, it can exhibit the outstanding antireflection function.

なお、本発明の積層体は、図示例の積層体14に限定はされない。例えば、複数の凸部19は、積層体14においては、フィルム16の硬化樹脂膜16bの表面に形成されているが、硬化樹脂膜16bを設けることなくフィルム本体16aの表面に直接形成されていてもよい。ただし、ロール状のモールド22を用いて効率よく複数の凸部19を形成できる点から、図2に示すようにフィルム16の硬化樹脂膜16bの表面に複数の凸部19が形成されていることが好ましい。   In addition, the laminated body of this invention is not limited to the laminated body 14 of the example of illustration. For example, in the laminate 14, the plurality of convex portions 19 are formed on the surface of the cured resin film 16 b of the film 16, but are directly formed on the surface of the film body 16 a without providing the cured resin film 16 b. Also good. However, a plurality of protrusions 19 are formed on the surface of the cured resin film 16b of the film 16 as shown in FIG. 2 because the plurality of protrusions 19 can be efficiently formed using the roll-shaped mold 22. Is preferred.

<物品の製造方法>
本発明の物品は、上述した本発明の積層体を、該積層体の粘着剤層を介して透明基板上に貼着することで得られる。
<Production method>
The article of the present invention is obtained by sticking the above-described laminate of the present invention onto a transparent substrate via the adhesive layer of the laminate.

積層体の粘着剤層上に剥離フィルム等が積層している場合は、剥離フィルムを積層体から剥離して粘着剤層の表面を露出させて、透明基板上に貼着させる。   When a release film or the like is laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the laminate, the release film is peeled from the laminate to expose the surface of the pressure-sensitive adhesive layer and adhered onto the transparent substrate.

本発明の物品は、反射防止機能が求められる画像表示装置などの部材として好適に用いることができる。本発明の部材を用いれば、太陽光線、照明光などが反射しにくいので、視認性を維持できる。   The article of the present invention can be suitably used as a member of an image display device or the like that requires an antireflection function. If the member of this invention is used, since a sunlight ray, illumination light, etc. are hard to reflect, visibility can be maintained.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto.

(陽極酸化アルミナの細孔)
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧:3.00kVの条件にて断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。
(Pores of anodized alumina)
Part of the anodized alumina is shaved, platinum is deposited on the cross section for 1 minute, and the cross section is subjected to acceleration voltage: 3.00 kV using a field emission scanning electron microscope (JSM-7400F, manufactured by JEOL Ltd.). Observed and measured pore spacing and pore depth. Each measurement was performed for 50 points, and the average value was obtained.

(硬化樹脂膜の凸部)
硬化樹脂膜の破断面にプラチナを5分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧:3.00kVの条件にて断面を観察し、凸部の平均間隔、凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ5点について行い、平均値を求めた。
(Convex part of cured resin film)
Platinum is vapor-deposited on the fracture surface of the cured resin film for 5 minutes, and the cross-section is observed using a field emission scanning electron microscope (JSM-7400F, JSM-7400F) under an acceleration voltage of 3.00 kV. The average interval between the parts and the height of the convex part were measured. Each measurement was performed for 5 points, and the average value was obtained.

(屈折率)
フィルム本体および硬化樹脂膜の屈折率は、アッベ屈折率計(アタゴ社製、NAR−2)を用いて測定した。
(Refractive index)
The refractive indexes of the film body and the cured resin film were measured using an Abbe refractometer (NAR-2, manufactured by Atago Co., Ltd.).

(透過率)
粗面化する前のフィルム本体およびフィルムの全光線透過率は、JIS K7361−1に準拠したヘイズメーター(スガ試験機社製)を用いて測定した。
(Transmittance)
The total light transmittance of the film main body before film roughening and the film was measured using a haze meter (manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd.) according to JIS K7361-1.

(動的粘弾性)
JIS K7244−4に準拠して、測定周波数0.1Hzの条件で損失係数tanδを測定した。
(Dynamic viscoelasticity)
In accordance with JIS K7244-4, the loss factor tan δ was measured under the condition of a measurement frequency of 0.1 Hz.

(フィルムの反射率)
分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角:5°、波長380〜780nmの範囲で硬化樹脂膜の表面の相対反射率を測定し、JIS R3106に準拠して視感度反射率を算出した。
(Film reflectivity)
Using a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000), the relative reflectance of the surface of the cured resin film was measured in the range of incident angle: 5 ° and wavelength of 380 to 780 nm. Visibility according to JIS R3106 The reflectance was calculated.

(接着性)
実施例および比較例で作製した積層体の粘着剤層と反対の面に、粘着テープ(日東電工社製、品名31B)を貼付し、25mm×250mmのサイズに切り出して粘着力評価用の粘着シートとした。粘着シートから剥離フィルムを剥離して表出した粘着剤層の面を、アクリル板(三菱レイヨン社製、品名:アクリライトL#001、70mm×150mmサイズ)に貼付した。その後、23℃、相対湿度50%の環境下で24時間放置したのち、同環境下で、引張試験機(オリエンテック社製、装置名テンシロン)を用いて、JIS Z0237に準じて剥離速度300mm/分、剥離角度180°の条件で測定した値(N/25mm)を粘着力とした。
(Adhesiveness)
A pressure-sensitive adhesive tape (product name 31B, manufactured by Nitto Denko Co., Ltd.) is pasted on the surface opposite to the pressure-sensitive adhesive layer of the laminates produced in Examples and Comparative Examples, and cut into a size of 25 mm × 250 mm to be used for pressure-sensitive adhesive evaluation. It was. The surface of the pressure-sensitive adhesive layer exposed by peeling the release film from the pressure-sensitive adhesive sheet was attached to an acrylic plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd., product name: Acrylite L # 001, 70 mm × 150 mm size). Thereafter, after being left for 24 hours in an environment of 23 ° C. and a relative humidity of 50%, a peeling speed of 300 mm / in accordance with JIS Z0237 is used in the same environment using a tensile tester (Orientec Co., Ltd., device name: Tensilon). The value (N / 25 mm) measured under the condition of minute and peeling angle of 180 ° was defined as the adhesive strength.

(帯電防止性)
実施例及び比較例で作製した積層体の粘着剤層の帯電防止性能評価は、粘着剤面の表面抵抗値を表面抵抗率計(東亜電気工業社製、装置名ULTRA MEGOHMMETER MODEL SM-10E)で測定することで行なった。測定は、室温22℃、湿度55%の恒温恒湿条件下で行なった。
(Antistatic property)
The antistatic performance evaluation of the pressure-sensitive adhesive layer of the laminates produced in the examples and comparative examples was performed using a surface resistivity meter (manufactured by Toa Electric Industry Co., Ltd., device name: ULTRA MEGOHMMETER MODEL SM-10E). This was done by measuring. The measurement was performed under constant temperature and humidity conditions of room temperature 22 ° C. and humidity 55%.

(モールドaの製造方法)
純度99.99%のアルミニウムインゴットを直径:200mm、長さ350mmに切断した圧延痕のない円筒状アルミニウム原型に、羽布研磨処理を施した後、これを過塩素酸/エタノール混合溶液中(体積比:1/4)で電解研磨し、鏡面化した。
(Manufacturing method of mold a)
After applying a blanket polishing treatment to an aluminum ingot having a diameter of 200 mm and a length of 350 mm cut from a 99.99% pure aluminum ingot, a rubbing treatment was applied to the aluminum ingot in a perchloric acid / ethanol mixed solution (volume Ratio: 1/4) was electropolished and mirror finished.

工程(a):
該アルミニウム原型について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30分間陽極酸化を行った。
Step (a):
The aluminum prototype was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution under the conditions of DC: 40 V and temperature: 16 ° C. for 30 minutes.

工程(b):
厚さ3μmの酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に浸漬して、酸化皮膜を除去した。
Step (b):
The aluminum original mold on which the oxide film having a thickness of 3 μm was formed was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution to remove the oxide film.

工程(c):
該アルミニウム原型について、0.3Mシュウ酸水溶液中で、直流:40V、温度:16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。
Step (c):
The aluminum prototype was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 seconds under the conditions of DC: 40 V and temperature: 16 ° C.

工程(d):
酸化皮膜が形成されたアルミニウム原型を、30℃の5質量%リン酸水溶液に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
Step (d):
The aluminum prototype on which the oxide film was formed was immersed in a 5% by mass phosphoric acid aqueous solution at 30 ° C. for 8 minutes to carry out pore size expansion treatment.

工程(e):
前記工程(c)および工程(d)を合計で5回繰り返し、平均周期:100nm、深さ:200nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状のモールドaを得た。
Step (e):
The step (c) and the step (d) are repeated 5 times in total, and a roll-shaped mold a having anodized alumina having substantially conical pores with an average period of 100 nm and a depth of 200 nm formed on the surface is obtained. Obtained.

モールドaを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に室温で10分間浸漬し、引き上げた。一晩風乾して、離型剤で処理されたモールドaを得た。   The mold a was dipped in a 0.1% by mass diluted solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemicals Sales) for 10 minutes at room temperature and pulled up. The mold a treated with a release agent was obtained by air drying overnight.

(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の調製)
以下の組成からなる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物A(表1)を調製した。
(Preparation of active energy ray-curable resin composition)
An active energy ray-curable resin composition A (Table 1) having the following composition was prepared.

Figure 2011245767
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを硬化させてなる厚さ5μmの硬化樹脂膜は、透明であり、屈折率は1.51であった。
Figure 2011245767
The cured resin film having a thickness of 5 μm obtained by curing the active energy ray-curable resin composition A was transparent and had a refractive index of 1.51.

[実施例1]
図2に示す製造装置を用いて、フィルムを製造した。
[Example 1]
The film was manufactured using the manufacturing apparatus shown in FIG.

ロール状のモールド22としては、前記モールドaを用いた。   As the roll-shaped mold 22, the mold a was used.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物21としては、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを用いた。   As the active energy ray curable resin composition 21, the active energy ray curable resin composition A was used.

フィルム本体16aとしては、両面に易接着加工してあるポリエステルフィルムを用いた。   As the film main body 16a, a polyester film which is easily bonded on both sides was used.

フィルム本体16a側から、積算光量1000mJ/cmの紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの塗膜に照射し、活性エネルギー線化性樹脂組成物Aの硬化を行い、硬化樹脂膜16bを形成した。 The coating film of the active energy ray-curable resin composition A is irradiated from the film body 16a side with an ultraviolet ray having an integrated light amount of 1000 mJ / cm 2 to cure the active energy ray-curable resin composition A, and the cured resin film 16b. Formed.

得られたフィルム16の凸部間の平均周期は100nmであり、凸部の高さは200nmであった。フィルム16について視感度反射率および全光線透過率を測定したところ、視感度反射率は0.09%、全光線透過率95.5%であった。   The average period between the convex parts of the obtained film 16 was 100 nm, and the height of the convex parts was 200 nm. When the visibility reflectance and the total light transmittance of the film 16 were measured, the visibility reflectance was 0.09% and the total light transmittance was 95.5%.

アクリル酸ブチル(BA)、アクリル酸メチル(MA)をBA/MA=95/5(質量比)で共重合して得られたアクリル酸エステル系共重合体(重量平均分子量:70万)の100質量部、アルミニウムキレート架橋剤(綜研化学株式会社、品名:M5A)の1.0質量部、陰イオン系帯電防止剤(花王株式会社、エレクトロストリッパーME)の1.0質量部を混合し、次いでメチルエチルケトンにて希釈して不揮発分濃度20質量%の粘着剤塗布液を作製した。   100 of acrylic acid ester copolymer (weight average molecular weight: 700,000) obtained by copolymerizing butyl acrylate (BA) and methyl acrylate (MA) at BA / MA = 95/5 (mass ratio). Part by mass, 1.0 part by mass of an aluminum chelate cross-linking agent (Soken Chemical Co., Ltd., product name: M5A), 1.0 part by mass of an anionic antistatic agent (Kao Corporation, Electro Stripper ME) were mixed, and then Diluted with methyl ethyl ketone to prepare a pressure-sensitive adhesive coating solution having a nonvolatile content concentration of 20% by mass.

ナイフコーターを用いて、この粘着剤塗布液を剥離フィルム(リンテック社製、品名:SP−PET381031C、厚み:38μm)の剥離剤処理面に、乾燥後の厚みが25μmとなるように塗布し、90℃で60秒間乾燥した。次いで、得られたフィルム16の硬化樹脂膜16bと反対の面(フィルム本体16a側の面)に粘着剤層を貼合して転写し、剥離フィルムの付いた積層体を作製した。得られた積層体について、接着性と帯電防止性を評価した。結果を表2に示す。   Using a knife coater, this adhesive coating solution was applied to the release agent-treated surface of a release film (manufactured by Lintec Corporation, product name: SP-PET 381031C, thickness: 38 μm) so that the thickness after drying was 25 μm. Dry at 60 ° C. for 60 seconds. Next, the pressure-sensitive adhesive layer was bonded to the surface opposite to the cured resin film 16b of the obtained film 16 (the surface on the film body 16a side) and transferred to prepare a laminate with a release film. About the obtained laminated body, adhesiveness and antistatic property were evaluated. The results are shown in Table 2.

また、この剥離フィルムの付いた積層体は、ロールでのフィルム搬送時に静電気が発生せず、積層体の微細凹凸表面にさらにウェットコーティングを施した時にも優れた濡れ性を発揮した。   In addition, the laminate with the release film did not generate static electricity when the film was conveyed on a roll, and exhibited excellent wettability even when wet coating was further applied to the fine uneven surface of the laminate.

[比較例1]
アクリル酸ブチル(BA)、アクリル酸メチル(MA)をBA/MA=95/5(質量比)で共重合して得られたアクリル酸エステル系共重合体(重量平均分子量:70万)の100質量部、アルミニウムキレート架橋剤(綜研化学株式会社、品名:M5A)の1.2質量部を混合し、次いでメチルエチルケトンにて希釈して作製した不揮発分濃度25質量%の粘着剤塗布液を使用した以外は、実施例1と同様にして積層体を作製し、評価を行った。結果を表2に示す。
[Comparative Example 1]
100 of acrylic acid ester copolymer (weight average molecular weight: 700,000) obtained by copolymerizing butyl acrylate (BA) and methyl acrylate (MA) at BA / MA = 95/5 (mass ratio). A pressure-sensitive adhesive coating solution having a nonvolatile content concentration of 25% by mass was prepared by mixing 1.2 parts by mass of an aluminum chelate crosslinking agent (Soken Chemical Co., Ltd., product name: M5A) and then diluting with methyl ethyl ketone. Except for the above, a laminate was prepared and evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 2.

また、この剥離フィルムの付いた積層体は、ロールでのフィルム搬送時に静電気が発生し、静電気の放電跡がフィルム表面に残った。積層体の微細凹凸表面にさらにウェットコーティングを施した時にも塗工液のはじきは発生し、均一な塗工ができなかった。   In addition, the laminate with the release film generated static electricity when the film was conveyed on a roll, and static discharge traces remained on the film surface. Even when wet coating was further applied to the fine uneven surface of the laminate, the coating liquid repelled and uniform coating could not be achieved.

Figure 2011245767
表2から明らかなように、実施例1では、透明基板に対する粘着力に優れており、且つ帯電防止性能を有している。
Figure 2011245767
As is clear from Table 2, Example 1 has excellent adhesion to the transparent substrate and has antistatic performance.

一方、比較例1では、静電気の発生により、微細凹凸構造の表面に、跡がついた。また、ウェット塗工での作業性も悪化した。   On the other hand, in Comparative Example 1, traces were made on the surface of the fine concavo-convex structure due to the generation of static electricity. In addition, workability in wet coating deteriorated.

10 物品
12 透明基板
14 積層体
16 フィルム
18 粘着剤層
10 Article 12 Transparent substrate 14 Laminate 16 Film 18 Adhesive layer

Claims (3)

一方の表面に微細凹凸構造が形成されたフィルムと、該フィルムの他方の表面に積層した粘着剤層とを備え、該粘着剤層を介して透明基板上に貼着される積層体であって、
前記粘着剤層が、帯電防止性付与剤を含有することを特徴とする積層体。
A laminate comprising a film having a fine concavo-convex structure formed on one surface and a pressure-sensitive adhesive layer laminated on the other surface of the film, and is attached to a transparent substrate via the pressure-sensitive adhesive layer. ,
The pressure-sensitive adhesive layer contains an antistatic property imparting agent.
前記粘着剤層の表面抵抗値が、1.0×10Ω/cm以上1.0×1015Ω/cm未満であることを特徴とする請求項1記載の積層体。 The laminate according to claim 1, wherein the pressure-sensitive adhesive layer has a surface resistance value of 1.0 × 10 8 Ω / cm 2 or more and less than 1.0 × 10 15 Ω / cm 2 . 透明基板と、該透明基板上に粘着剤層を介して貼着された、請求項1に記載の積層体とを有する、物品。   An article comprising: a transparent substrate; and the laminate according to claim 1 attached to the transparent substrate via an adhesive layer.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2013035839A1 (en) * 2011-09-08 2013-03-14 三菱レイヨン株式会社 Transparent film having micro-convexoconcave structure on surface thereof, method for producing same, and substrate film used in production of transparent film
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