JP2009260274A - Transparent member for solar cell, and solar cell - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent member for a solar cell low in reflectivity, and small in wavelength dependency of the reflectivity; and a solar cell suppressing reflection of entering light, and small in light reception loss. <P>SOLUTION: This transparent member 10 for a solar cell has a minute uneven structure on a front surface. In the transparent member 10 for a solar cell, the minute uneven structure is formed by transferring a minute uneven structure on a surface of anodized alumina. In this solar cell, the transparent member 10 for a solar cell is arranged so that the surface on the side with the uneven structure formed thereon becomes a light entering side. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、太陽電池用透明部材および太陽電池に関する。   The present invention relates to a solar cell transparent member and a solar cell.

太陽電池においては、入射する光が表面で反射して受光損失が発生しないように、光の入射側の表面に反射防止処理が施されている。太陽電池としては、例えば、下記のものが開示されている。
太陽電池素子の受光面側がガラスで保護され、該ガラスの表面に低反射コーティング層が設けられた太陽電池(特許文献1)。
受光面側のガラス基板の表面に、低屈折率透明無機薄膜と高屈折率透明無機薄膜とを交互に積層してなる反射防止膜が形成された色素増感型太陽電池(特許文献2)。
In the solar cell, an antireflection treatment is applied to the surface on the light incident side so that incident light is reflected on the surface and no light reception loss occurs. As a solar cell, the following are disclosed, for example.
A solar cell in which a light-receiving surface side of a solar cell element is protected with glass, and a low-reflection coating layer is provided on the surface of the glass (Patent Document 1).
A dye-sensitized solar cell in which an antireflection film formed by alternately laminating a low refractive index transparent inorganic thin film and a high refractive index transparent inorganic thin film is formed on the surface of a glass substrate on the light receiving surface side (Patent Document 2).

しかし、前記低反射コーティング層や反射防止膜は、反射率が十分に低いとはいえず、また反射率の波長依存性を有するため、一部の波長の光にしか効果がないという問題を有する。   However, the low-reflective coating layer and the antireflection film have a problem that the reflectance is not sufficiently low, and the reflectance is dependent on the wavelength, so that it is effective only for light of a certain wavelength. .

特開2003−152202号公報JP 2003-152202 A 国際公開第2004/017452号パンフレットInternational Publication No. 2004/017452 Pamphlet

本発明は、反射率が低く、かつ反射率の波長依存性が少ない太陽電池用透明部材、および入射する光の反射が抑えられ、受光損出が少ない太陽電池を提供する。   The present invention provides a transparent member for a solar cell having a low reflectance and a low wavelength dependency of the reflectance, and a solar cell in which reflection of incident light is suppressed and light receiving loss is small.

本発明の太陽電池用透明部材は、表面に微細凹凸構造を有する太陽電池用透明部材であって、前記微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであることを特徴とする。
前記微細凹凸構造が、複数の凸部を有し、該凸部間の平均周期が400nm以下であることが好ましい。
本発明の太陽電池は、本発明の太陽電池用透明部材が、前記微細凹凸構造が形成された側の表面が光の入射側となるように配置されたものであることを特徴とする。
The transparent member for solar cell of the present invention is a transparent member for solar cell having a fine uneven structure on the surface, and the fine uneven structure is formed by transferring the fine uneven structure on the surface of anodized alumina. It is characterized by being.
It is preferable that the fine concavo-convex structure has a plurality of convex portions, and an average period between the convex portions is 400 nm or less.
The solar cell of the present invention is characterized in that the solar cell transparent member of the present invention is arranged such that the surface on which the fine concavo-convex structure is formed is the light incident side.

本発明の太陽電池用透明部材は、反射率が低く、かつ反射率の波長依存性が少ない。
本発明の太陽電池は、入射する光の反射が抑えられ、受光損出が少ない。
The transparent member for solar cell of the present invention has a low reflectance, and the wavelength dependency of the reflectance is small.
In the solar cell of the present invention, the reflection of incident light is suppressed, and the light receiving loss is small.

本発明の太陽電池用透明部材の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the transparent member for solar cells of this invention. 本発明の太陽電池用透明部材に用いる反射防止フィルムの製造装置の一例を示す構成図である。It is a block diagram which shows an example of the manufacturing apparatus of the antireflection film used for the transparent member for solar cells of this invention. 表面に陽極酸化アルミナを有するモールドの製造工程を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the manufacturing process of the mold which has an anodized alumina on the surface. 本発明の太陽電池の一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the solar cell of this invention. 本発明の太陽電池の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the solar cell of this invention. 本発明の太陽電池の他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the solar cell of this invention. 太陽電池用透明部材のシミュレーションモデルの層構造を示す図である。It is a figure which shows the layer structure of the simulation model of the transparent member for solar cells.

本明細書において、「(メタ)アクリレート」とは、アクリレートまたはメタクリレートを意味する。「活性エネルギー線」とは、可視光線、紫外線、電子線、プラズマ、熱線(赤外線等)等を意味する。「透明」とは、少なくとも波長400〜1170nmの光を透過することを意味する。   In the present specification, “(meth) acrylate” means acrylate or methacrylate. “Active energy rays” means visible rays, ultraviolet rays, electron beams, plasma, heat rays (infrared rays, etc.) and the like. “Transparent” means transmitting at least light having a wavelength of 400 to 1170 nm.

<太陽電池用透明部材>
図1は、本発明の太陽電池用透明部材の一例を示す断面図である。太陽電池用透明部材10は、部材本体12と、部材本体12に接着剤層14を介して貼着された、表面に微細凹凸構造(図示略)を有する反射防止フィルム16とを有する。
<Transparent member for solar cell>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of the transparent member for solar cell of the present invention. The solar cell transparent member 10 includes a member main body 12 and an antireflection film 16 attached to the member main body 12 via an adhesive layer 14 and having a fine uneven structure (not shown) on the surface.

(部材本体)
部材本体12は、光を透過できる部材である。部材本体12の材料としては、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
(Member body)
The member main body 12 is a member that can transmit light. Examples of the material of the member main body 12 include glass, acrylic resin, polycarbonate, styrene resin, polyester, cellulose resin (such as triacetyl cellulose), polyolefin, and alicyclic polyolefin.

部材本体12の形状は、図示例のような板状に限定されず、一方(光の入射側)の表面に対して他方の表面が傾斜した断面三角形のくさび形状であってもよく、一方の表面または両面が凹面または凸面とされたレンズ形状であってもよい。部材本体12の形状がプリズム形状やレンズ形状の場合、太陽電池用透明部材10に集光機能を付与でき、太陽電池の受光効率を向上できる。また、部材本体12には、公知の導光板に採用されているような導光機能を付与してもよい。部材本体12が導光機能を有する場合、太陽電池の受光効率をさらに向上できる。   The shape of the member main body 12 is not limited to a plate shape as in the illustrated example, and may be a wedge shape having a triangular cross section in which the other surface is inclined with respect to the surface of one (light incident side). The lens may have a concave or convex surface or both surfaces. When the shape of the member main body 12 is a prism shape or a lens shape, a condensing function can be imparted to the solar cell transparent member 10, and the light receiving efficiency of the solar cell can be improved. Further, the member main body 12 may be provided with a light guide function as employed in a known light guide plate. When the member main body 12 has a light guide function, the light receiving efficiency of the solar cell can be further improved.

(接着剤層)
接着剤層14の接着剤としては、公知の透明接着剤、粘着剤、両面接着テープ、粘着テープ等が挙げられる。
(Adhesive layer)
Examples of the adhesive for the adhesive layer 14 include known transparent adhesives, pressure-sensitive adhesives, double-sided adhesive tapes, and pressure-sensitive adhesive tapes.

(反射防止フィルム)
反射防止フィルム16は、透明性基材18と、透明性基材18の表面に形成された、微細凹凸構造(図示略)を有する硬化樹脂膜20とを有する。
透明性基材18は、光を透過できるフィルムやシートである。透明性基材18の材料としては、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン系樹脂、脂環式ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。
(Antireflection film)
The antireflection film 16 includes a transparent substrate 18 and a cured resin film 20 having a fine uneven structure (not shown) formed on the surface of the transparent substrate 18.
The transparent substrate 18 is a film or sheet that can transmit light. Examples of the material for the transparent substrate 18 include acrylic resins, polycarbonate resins, styrene resins, polyester resins, cellulose resins (such as triacetyl cellulose), polyolefin resins, and alicyclic polyolefin resins. .

硬化樹脂膜20は、例えば後述の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる膜であり、表面に微細凹凸構造を有する。
微細凹凸構造は、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物からなる複数の凸部を有する。
The cured resin film 20 is, for example, a film made of a cured product of an active energy ray curable resin composition described later, and has a fine uneven structure on the surface.
The fine concavo-convex structure is formed by transferring the fine concavo-convex structure on the surface of anodized alumina, and has a plurality of convex portions made of a cured product of the active energy ray-curable resin composition.

微細凹凸構造としては、略円錐形状、角錐形状等の突起(凸部)が複数並んだ、いわゆるモスアイ構造が好ましい。突起間の間隔が可視光の波長以下であるモスアイ構造は、空気の屈折率から材料の屈折率に連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。   As the fine concavo-convex structure, a so-called moth-eye structure in which a plurality of protrusions (convex portions) having a substantially conical shape or a pyramid shape are arranged is preferable. It is known that the moth-eye structure in which the distance between the protrusions is less than or equal to the wavelength of visible light can be an effective anti-reflection measure by continuously increasing the refractive index from the refractive index of air to the refractive index of the material. ing.

凸部間の平均周期は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下が好ましい。陽極酸化アルミナのモールドを用いて凸部を形成した場合、凸部間の平均周期は100nm程度となることから、200nm以下がより好ましく、150nm以下が特に好ましい。   The average period between the convex portions is preferably not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. When the convex portions are formed using an anodized alumina mold, the average period between the convex portions is about 100 nm, and therefore, 200 nm or less is more preferable, and 150 nm or less is particularly preferable.

凸部間の平均周期は、凸部の形成のしやすさの点から、25nm以上が好ましい。また、凸部間の平均周期は、光の回折による高入射角の光の取り込み効果が期待できる点から、80nm以上が好ましく、130nm以上がより好ましく、150nm以上が特に好ましい。太陽電池に入射する光は、時間や季節によって大きく変わるため、光の回折による高入射角の光の取り込み効果も期待できる太陽電池用透明部材10は、太陽電池の保護板、透明電極用透明基板等としてとりわけ有用である。
凸部間の平均周期は、電子顕微鏡観察によって隣接する凸部間の間隔(凸部の中心から隣接する凸部の中心までの距離)を50点測定し、これらの値を平均したものである。
The average period between the convex portions is preferably 25 nm or more from the viewpoint of easy formation of the convex portions. Further, the average period between the convex portions is preferably 80 nm or more, more preferably 130 nm or more, and particularly preferably 150 nm or more, from the viewpoint that the effect of capturing light at a high incident angle by light diffraction can be expected. Since the light incident on the solar cell varies greatly depending on the time and season, the solar cell transparent member 10 that can also be expected to capture light at a high incident angle by light diffraction is a solar cell protective plate, a transparent electrode transparent substrate. Especially useful as such.
The average period between the convex portions is obtained by measuring 50 intervals between adjacent convex portions (distance from the center of the convex portion to the center of the adjacent convex portion) by electron microscope observation, and averaging these values. .

凸部の高さは、100〜500nmが好ましく、150〜400nmがより好ましい。凸部の高さが100nm以上であれば、反射率が十分に低くなり、かつ反射率の波長依存性が少ない。凸部の高さが500nm以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。
凸部の高さは、電子顕微鏡観察によって50個の凸部の高さを測定し、これらの値を平均したものである。
100-500 nm is preferable and, as for the height of a convex part, 150-400 nm is more preferable. When the height of the convex portion is 100 nm or more, the reflectance is sufficiently low and the wavelength dependence of the reflectance is small. If the height of a convex part is 500 nm or less, the scratch resistance of a convex part will become favorable.
The height of the convex portion is obtained by measuring the height of 50 convex portions by electron microscope observation and averaging these values.

凸部のアスペクト比(凸部の高さ/凸部間の平均周期)は、1〜5が好ましく、1.2〜4がより好ましく、1.5〜3が特に好ましく、2〜3が最も好ましい。凸部のアスペクト比が1以上であれば、反射率が十分に低くなる。凸部のアスペクト比が5以下であれば、凸部の耐擦傷性が良好となる。   The aspect ratio of the convex portion (height of the convex portion / average period between the convex portions) is preferably 1 to 5, more preferably 1.2 to 4, particularly preferably 1.5 to 3, and most preferably 2-3. preferable. When the aspect ratio of the convex portion is 1 or more, the reflectance is sufficiently low. When the aspect ratio of the convex portion is 5 or less, the scratch resistance of the convex portion is good.

凸部の形状は、高さ方向と直交する方向の凸部断面積が最表面から深さ方向に連続的に増加する形状、すなわち、凸部の高さ方向の断面形状が、三角形、台形、釣鐘型等の形状が好ましい。   The shape of the convex part is a shape in which the convex sectional area in the direction perpendicular to the height direction continuously increases in the depth direction from the outermost surface, that is, the sectional shape in the height direction of the convex part is a triangle, trapezoid, A shape such as a bell shape is preferred.

硬化樹脂膜20の屈折率と透明性基材18の屈折率との差は、0.2以下が好ましく、0.1以下がより好ましく、0.05以下が特に好ましい。屈折率差が0.2以下であれば、硬化樹脂膜20と透明性基材18との界面における反射が抑えられる。   The difference between the refractive index of the cured resin film 20 and the refractive index of the transparent substrate 18 is preferably 0.2 or less, more preferably 0.1 or less, and particularly preferably 0.05 or less. When the refractive index difference is 0.2 or less, reflection at the interface between the cured resin film 20 and the transparent substrate 18 is suppressed.

表面に微細凹凸構造を有する場合、その表面が疎水性の材料から形成されていればロータス効果により超撥水性が得られ、その表面が親水性の材料から形成されていれば超親水性が得られることが知られている。   When the surface has a fine concavo-convex structure, if the surface is made of a hydrophobic material, super water repellency can be obtained by the lotus effect, and if the surface is made of a hydrophilic material, super hydrophilicity can be obtained. It is known that

硬化樹脂膜20の材料が疎水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、90゜以上が好ましく、100゜以上がより好ましく、110゜以上が特に好ましい。水接触角が90゜以上であれば、水汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。また、水が付着しにくいため、着氷防止を期待できる。   When the material of the cured resin film 20 is hydrophobic, the water contact angle on the surface of the fine concavo-convex structure is preferably 90 ° or more, more preferably 100 ° or more, and particularly preferably 110 ° or more. If the water contact angle is 90 ° or more, water stains are less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. Moreover, since water does not adhere easily, anti-icing can be expected.

硬化樹脂膜20の材料が親水性の場合の微細凹凸構造の表面の水接触角は、25゜以下が好ましく、23゜以下がより好ましく、21゜以下が特に好ましい。水接触角が25゜以下であれば、表面に付着した汚れが水で洗い流され、また油汚れが付着しにくくなるため、十分な防汚性が発揮される。該水接触角は、硬化樹脂膜20の吸水による微細凹凸構造の変形、それに伴う反射率の上昇を抑える点から、3゜以上が好ましい。   When the material of the cured resin film 20 is hydrophilic, the water contact angle on the surface of the fine concavo-convex structure is preferably 25 ° or less, more preferably 23 ° or less, and particularly preferably 21 ° or less. If the water contact angle is 25 ° or less, the dirt attached to the surface is washed away with water, and oil dirt is less likely to adhere, so that sufficient antifouling properties are exhibited. The water contact angle is preferably 3 ° or more from the viewpoint of suppressing the deformation of the fine concavo-convex structure due to water absorption of the cured resin film 20 and the accompanying increase in reflectance.

<太陽電池用透明部材の製造方法>
太陽電池用透明部材10は、部材本体12と反射防止フィルム16とを接着剤層14を介して貼着することにより製造される。
<Method for producing transparent member for solar cell>
The solar cell transparent member 10 is manufactured by adhering the member main body 12 and the antireflection film 16 via the adhesive layer 14.

反射防止フィルム16は、例えば、図2に示す製造装置を用いて、下記のようにして製造される。
表面に微細凹凸構造(図示略)を有するロール状モールド22と、ロール状モールド22の表面に沿って移動する帯状の透明性基材18との間に、タンク24から活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を供給する。
The antireflection film 16 is manufactured as follows using, for example, a manufacturing apparatus shown in FIG.
An active energy ray-curable resin composition from a tank 24 between a roll-shaped mold 22 having a fine concavo-convex structure (not shown) on the surface and a strip-shaped transparent base material 18 that moves along the surface of the roll-shaped mold 22. Supply things.

ロール状モールド22と、空気圧シリンダ26によってニップ圧が調整されたニップロール28との間で、透明性基材18および活性エネルギー線硬化性樹脂組成物をニップし、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を、透明性基材18とロール状モールド22との間に均一に行き渡らせると同時に、ロール状モールド22の微細凹凸構造の凹部内に充填する。   The transparent base material 18 and the active energy ray-curable resin composition are nipped between the roll-shaped mold 22 and the nip roll 28 whose nip pressure is adjusted by the pneumatic cylinder 26, and the active energy ray-curable resin composition is Further, it is uniformly distributed between the transparent substrate 18 and the roll-shaped mold 22, and at the same time, is filled in the concave portions of the fine concavo-convex structure of the roll-shaped mold 22.

ロール状モールド22と透明性基材18の間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が挟まれた状態で、ロール状モールド22の下方に設置された活性エネルギー線照射装置30から、透明性基材18を通して活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に活性エネルギー線を照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させることによって、ロール状モールド22の表面の微細凹凸構造が転写された硬化樹脂膜20を形成する。
剥離ロール32により、表面に硬化樹脂膜20が形成された透明性基材18を剥離することによって、反射防止フィルム16を得る。
From the active energy ray irradiation device 30 installed below the roll-shaped mold 22 in a state where the active energy ray-curable resin composition is sandwiched between the roll-shaped mold 22 and the transparent substrate 18, the transparent substrate 18, the active energy ray-curable resin composition is irradiated with active energy rays to cure the active energy ray-curable resin composition, whereby the cured resin film 20 to which the fine uneven structure on the surface of the roll-shaped mold 22 is transferred. Form.
The antireflection film 16 is obtained by peeling the transparent substrate 18 having the cured resin film 20 formed on the surface by the peeling roll 32.

活性エネルギー線照射装置30としては、高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等が好ましく、この場合の光照射エネルギー量は、100〜10000mJ/cmが好ましい。 The active energy ray irradiation device 30 is preferably a high-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like. In this case, the amount of light irradiation energy is preferably 100 to 10,000 mJ / cm 2 .

(ロール状モールド)
ロール状モールド22は、表面に陽極酸化アルミナを有するモールドである。ロール状モールドは、反射防止フィルムの大面積化が可能であり、且つ作製が簡便である。
(Roll mold)
The roll-shaped mold 22 is a mold having anodized alumina on the surface. The roll mold can increase the area of the antireflection film and is easy to produce.

陽極酸化アルミナは、アルミニウムの多孔質の酸化皮膜(アルマイト)であり、表面に複数の細孔(凹部)を有する。   Anodized alumina is a porous oxide film (alumite) of aluminum and has a plurality of pores (concave portions) on the surface.

表面に陽極酸化アルミナを有するモールドは、例えば、下記(a)〜(e)工程を経て製造できる。
(a)ロール状のアルミニウムを電解液中、定電圧下で陽極酸化して酸化皮膜を形成する工程。
(b)酸化皮膜を除去し、陽極酸化の細孔発生点を形成する工程。
(c)ロール状のアルミニウムを電解液中、再度陽極酸化し、細孔発生点に細孔を有する酸化皮膜を形成する工程。
(d)細孔の径を拡大させる工程。
(e)前記(c)工程と(d)工程を繰り返し行う工程。
A mold having an anodized alumina on the surface can be produced, for example, through the following steps (a) to (e).
(A) A step of forming an oxide film by anodizing roll-shaped aluminum in an electrolytic solution under a constant voltage.
(B) A step of removing the oxide film and forming pore generation points for anodic oxidation.
(C) A step of anodizing the roll-shaped aluminum again in the electrolytic solution to form an oxide film having pores at the pore generation points.
(D) A step of enlarging the diameter of the pores.
(E) A step of repeatedly performing the steps (c) and (d).

(a)工程:
図3に示すように、アルミニウム34を陽極酸化すると、細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。
アルミニウムの純度は、99%以上が好ましく、99.5%以上がより好ましく、99.8%以上が特に好ましい。アルミニウムの純度が低いと、陽極酸化した時に、不純物の偏析により可視光を散乱する大きさの凹凸構造が形成されたり、陽極酸化で得られる細孔の規則性が低下したりすることがある。
電解液としては、シュウ酸、硫酸等が挙げられる。
(A) Process:
As shown in FIG. 3, when the aluminum 34 is anodized, an oxide film 38 having pores 36 is formed.
The purity of aluminum is preferably 99% or more, more preferably 99.5% or more, and particularly preferably 99.8% or more. When the purity of aluminum is low, when anodized, an uneven structure having a size to scatter visible light may be formed due to segregation of impurities, or the regularity of pores obtained by anodization may be lowered.
Examples of the electrolytic solution include oxalic acid and sulfuric acid.

シュウ酸を電解液として用いる場合:
シュウ酸の濃度は、0.7M以下が好ましい。シュウ酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて酸化皮膜の表面が粗くなることがある。
化成電圧が30〜60Vの時、周期が100nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向にある。
電解液の温度は、60℃以下が好ましく、45℃以下がより好ましい。電解液の温度が60℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using oxalic acid as electrolyte:
The concentration of oxalic acid is preferably 0.7 M or less. When the concentration of oxalic acid exceeds 0.7M, the current value becomes too high, and the surface of the oxide film may become rough.
When the formation voltage is 30 to 60 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 100 nm can be obtained. Regardless of whether the formation voltage is higher or lower than this range, the regularity tends to decrease.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 60 ° C. or lower, and more preferably 45 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 60 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken, or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

硫酸を電解液として用いる場合:
硫酸の濃度は0.7M以下が好ましい。硫酸の濃度が0.7Mを超えると、電流値が高くなりすぎて定電圧を維持できなくなることがある。
化成電圧が25〜30Vの時、周期が63nmの規則性の高い細孔を有する陽極酸化アルミナを得ることができる。化成電圧がこの範囲より高くても低くても規則性が低下する傾向がある。
電解液の温度は、30℃以下が好ましく、20℃以下がよりに好ましい。電解液の温度が30℃を超えると、いわゆる「ヤケ」といわれる現象がおこり、細孔が壊れたり、表面が溶けて細孔の規則性が乱れたりすることがある。
When using sulfuric acid as the electrolyte:
The concentration of sulfuric acid is preferably 0.7M or less. If the concentration of sulfuric acid exceeds 0.7M, the current value may become too high to maintain a constant voltage.
When the formation voltage is 25 to 30 V, anodized alumina having highly regular pores with a period of 63 nm can be obtained. The regularity tends to decrease whether the formation voltage is higher or lower than this range.
The temperature of the electrolytic solution is preferably 30 ° C. or lower, and more preferably 20 ° C. or lower. When the temperature of the electrolytic solution exceeds 30 ° C., a so-called “burn” phenomenon occurs, and the pores may be broken or the surface may melt and the regularity of the pores may be disturbed.

(b)工程:
図3に示すように、酸化皮膜38を一旦除去し、これを陽極酸化の細孔発生点40にすることで細孔の規則性を向上することができる。
(B) Process:
As shown in FIG. 3, the regularity of the pores can be improved by once removing the oxide film 38 and using it as the pore generation point 40 for anodic oxidation.

酸化皮膜を除去する方法としては、アルミニウムを溶解せず、酸化皮膜を選択的に溶解する溶液に溶解させて除去する方法が挙げられる。このような溶液としては、例えば、クロム酸/リン酸混合液等が挙げられる。   Examples of the method for removing the oxide film include a method in which aluminum is not dissolved but is dissolved in a solution that selectively dissolves the oxide film and removed. Examples of such a solution include a chromic acid / phosphoric acid mixed solution.

(c)工程:
図3に示すように、酸化皮膜を除去したアルミニウム34を再度、陽極酸化すると、円柱状の細孔36を有する酸化皮膜38が形成される。
陽極酸化は、(a)工程と同様な条件で行えばよい。陽極酸化の時間を長くするほど深い細孔を得ることができる。
(C) Process:
As shown in FIG. 3, when the aluminum 34 from which the oxide film has been removed is anodized again, an oxide film 38 having cylindrical pores 36 is formed.
Anodization may be performed under the same conditions as in step (a). Deeper pores can be obtained as the anodic oxidation time is lengthened.

(d)工程:
図3に示すように、細孔36の径を拡大させる処理(以下、細孔径拡大処理と記す。)を行う。細孔径拡大処理は、酸化皮膜を溶解する溶液に浸漬して陽極酸化で得られた細孔の径を拡大させる処理である。このような溶液としては、例えば、5質量%程度のリン酸水溶液等が挙げられる。
細孔径拡大処理の時間を長くするほど、細孔径は大きくなる。
(D) Process:
As shown in FIG. 3, a process of expanding the diameter of the pores 36 (hereinafter referred to as a pore diameter expansion process) is performed. The pore diameter expansion treatment is a treatment for expanding the diameter of the pores obtained by anodic oxidation by immersing in a solution dissolving the oxide film. Examples of such a solution include a phosphoric acid aqueous solution of about 5% by mass.
The longer the pore diameter expansion processing time, the larger the pore diameter.

(e)工程:
図3に示すように、(c)工程の陽極酸化と、(d)工程の細孔径拡大処理を繰り返すと、直径が開口部から深さ方向に連続的に減少する形状の細孔36を有する陽極酸化アルミナが形成され、表面に陽極酸化アルミナを有するモールド(ロール状モールド22)が得られる。
繰り返し回数は、合計で3回以上が好ましく、5回以上がより好ましい。繰り返し回数が2回以下では、非連続的に細孔の直径が減少するため、このような細孔を有する陽極酸化アルミナを用いて製造された硬化樹脂膜20の反射率低減効果は不十分である。
(E) Process:
As shown in FIG. 3, when the anodic oxidation in the step (c) and the pore diameter expansion process in the step (d) are repeated, the pores 36 have a shape in which the diameter continuously decreases in the depth direction from the opening. An anodized alumina is formed, and a mold (roll mold 22) having an anodized alumina on the surface is obtained.
The total number of repetitions is preferably 3 times or more, and more preferably 5 times or more. When the number of repetitions is 2 times or less, the diameter of the pores decreases discontinuously. Therefore, the effect of reducing the reflectance of the cured resin film 20 produced using anodized alumina having such pores is insufficient. is there.

陽極酸化アルミナの表面は、硬化樹脂膜20との分離が容易になるように、離型剤で処理されていてもよい。処理方法としては、例えば、シリコーン樹脂またはフッ素含有ポリマーをコーティングする方法、フッ素含有化合物を蒸着する方法、フッ素含有シランカップリング剤またはフッ素含有シリコーン系シランカップリング剤をコーティングする方法等が挙げられる。   The surface of the anodized alumina may be treated with a release agent so that separation from the cured resin film 20 is easy. Examples of the treatment method include a method of coating a silicone resin or a fluorine-containing polymer, a method of depositing a fluorine-containing compound, a method of coating a fluorine-containing silane coupling agent or a fluorine-containing silicone-based silane coupling agent, and the like.

細孔36の形状としては、略円錐形状、角錐形状、円柱形状等が挙げられ、円錐形状、角錐形状等のように、深さ方向と直交する方向の細孔断面積が最表面から深さ方向に連続的に減少する形状が好ましい。
細孔36間の平均周期は、可視光の波長以下、すなわち400nm以下である。細孔36間の平均周期は、25nm以上が好ましい。
Examples of the shape of the pore 36 include a substantially conical shape, a pyramid shape, a cylindrical shape, and the like, and a cross-sectional area of the pore in a direction perpendicular to the depth direction, such as a cone shape and a pyramid shape, is a depth from the outermost surface. A shape that continuously decreases in the direction is preferred.
The average period between the pores 36 is not more than the wavelength of visible light, that is, not more than 400 nm. The average period between the pores 36 is preferably 25 nm or more.

細孔36の深さは、100〜500nmが好ましく、150〜400nmがより好ましい。
細孔36のアスペクト比(細孔の深さ/細孔間の平均周期)は、1〜5が好ましく、1.2〜4がより好ましく、1.5〜3が特に好ましい。
図3に示すような細孔36を転写して形成された硬化樹脂膜20の表面は、いわゆるモスアイ構造となる。
The depth of the pores 36 is preferably 100 to 500 nm, and more preferably 150 to 400 nm.
The aspect ratio of the pores 36 (depth of pores / average period between pores) is preferably 1 to 5, more preferably 1.2 to 4, and particularly preferably 1.5 to 3.
The surface of the cured resin film 20 formed by transferring the pores 36 as shown in FIG. 3 has a so-called moth-eye structure.

(活性エネルギー線硬化性樹脂組成物)
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、重合性化合物および重合開始剤を含む。
重合性化合物としては、分子中にラジカル重合性結合および/またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでいてもよい。
(Active energy ray-curable resin composition)
The active energy ray-curable resin composition contains a polymerizable compound and a polymerization initiator.
Examples of the polymerizable compound include monomers, oligomers, and reactive polymers having a radical polymerizable bond and / or a cationic polymerizable bond in the molecule.
The active energy ray-curable resin composition may contain a non-reactive polymer and an active energy ray sol-gel reactive composition.

ラジカル重合性結合を有するモノマーとしては、単官能モノマー、多官能モノマーが挙げられる。
単官能モノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、s−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、アルキル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート等の(メタ)アクリレート誘導体;(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロニトリル;スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体;(メタ)アクリルアミド、N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリルアミド等の(メタ)アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。
Examples of the monomer having a radical polymerizable bond include a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer.
Monofunctional monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, i-butyl (meth) acrylate, s-butyl (meth) acrylate, t- Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, alkyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, Phenoxyethyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, allyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl ( )) (Meth) acrylate derivatives such as acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, (meth) acrylonitrile; styrene, α -Styrene derivatives such as methylstyrene; (meth) acrylamide derivatives such as (meth) acrylamide, N-dimethyl (meth) acrylamide, N-diethyl (meth) acrylamide, dimethylaminopropyl (meth) acrylamide and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシポリエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(メタ)アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル)プロパン、1,2−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)エタン、1,4−ビス(3−(メタ)アクリロキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ(メタ)アクリレート等の三官能モノマー;コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリストールペンタ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート等の四官能以上のモノマー;二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種類以上を併用してもよい。   Polyfunctional monomers include ethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate , Neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,5-pentanediol di (meth) acrylate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, polybutylene glycol di (Meth) acrylate, 2,2-bis (4- (meth) acryloxypolyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (meth) acryloxyethoxyphenyl) propane, 2,2-bis (4- (3- ( Ta) acryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl) propane, 1,2-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ethane, 1,4-bis (3- (meth) acryloxy-2-hydroxypropoxy) ) Butane, dimethylol tricyclodecane di (meth) acrylate, ethylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, propylene oxide adduct di (meth) acrylate of bisphenol A, neopentyl glycol di (meth) hydroxypivalate Bifunctional monomers such as acrylate, divinylbenzene, and methylenebisacrylamide; pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide Functional tri (meth) acrylate, trimethylolpropane propylene oxide modified triacrylate, trimethylolpropane ethylene oxide modified triacrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate and other trifunctional monomers; succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid 4 or more functional monomers such as dipentaerystol hexa (meth) acrylate, dipentaerystol penta (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolmethanetetra (meth) acrylate; bifunctional or more Urethane acrylates, bifunctional or higher functional polyester acrylates, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.

カチオン重合性結合を有するモノマーとしては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが特に好ましい。   Examples of the monomer having a cationic polymerizable bond include monomers having an epoxy group, an oxetanyl group, an oxazolyl group, a vinyloxy group, and the like, and a monomer having an epoxy group is particularly preferable.

オリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類;ポリエステル(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する上述のモノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。   Examples of the oligomer or reactive polymer include unsaturated polyesters such as a condensate of unsaturated dicarboxylic acid and polyhydric alcohol; polyester (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, epoxy (meth) Examples thereof include acrylates, urethane (meth) acrylates, cationic polymerization type epoxy compounds, homopolymers of the above-described monomers having a radical polymerizable bond in the side chain, and copolymerized polymers.

非反応性のポリマーとしては、アクリル系樹脂、スチレン系樹脂、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリエステル、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、アルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。
Examples of non-reactive polymers include acrylic resins, styrene resins, polyurethanes, cellulose resins, polyvinyl butyral, polyesters, thermoplastic elastomers, and the like.
Examples of the active energy ray sol-gel reactive composition include alkoxysilane compounds and alkyl silicate compounds.

アルコキシシラン化合物としては、下記式(1)の化合物が挙げられる。
Si(OR ・・・(1)
ただし、R、Rは、それぞれ炭素数1〜10のアルキル基を表し、x、yは、x+y=4の関係を満たす整数を表す。
As an alkoxysilane compound, the compound of following formula (1) is mentioned.
R 1 x Si (OR 2 ) y (1)
However, R 1, R 1 each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, x, y represents an integer satisfying the relation of x + y = 4.

アルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−t−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシラン等が挙げられる。   Examples of the alkoxysilane compound include tetramethoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-t-butoxysilane, methyltriethoxysilane, Examples include methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, trimethylethoxysilane, trimethylmethoxysilane, trimethylpropoxysilane, and trimethylbutoxysilane.

アルキルシリケート化合物としては、下記式(2)の化合物が挙げられる。
O[Si(OR)(OR)O] ・・・(2)
ただし、R〜Rは、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基を表し、zは、3〜20の整数を表す。
Examples of the alkyl silicate compound include a compound of the following formula (2).
R 3 O [Si (OR 5 ) (OR 6 ) O] z R 4 (2)
However, R < 3 > -R < 6 > represents a C1-C5 alkyl group, respectively, and z represents the integer of 3-20.

アルキルシリケート化合物としては、メチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、n−プロピルシリケート、n−ブチルシリケート、n−ペンチルシリケート、アセチルシリケート等が挙げられる。   Examples of the alkyl silicate compound include methyl silicate, ethyl silicate, isopropyl silicate, n-propyl silicate, n-butyl silicate, n-pentyl silicate, acetyl silicate and the like.

光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、p−メトキシベンゾフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、α,α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、4,4'−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン等のカルボニル化合物;テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When utilizing a photocuring reaction, examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl, benzophenone, p-methoxybenzophenone, 2,2-diethoxy. Acetophenone, α, α-dimethoxy-α-phenylacetophenone, methylphenylglyoxylate, ethylphenylglyoxylate, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- Carbonyl compounds such as 1-one; sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide and tetramethylthiuram disulfide; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzoyl Examples include diethoxyphosphine oxide. These may be used alone or in combination of two or more.

電子線硬化反応を利用する場合、重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、4−フェニルベンゾフェノン、t−ブチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン等のチオキサントン;ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ(4−チオメチルフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン等のアセトフェノン;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾインエーテル;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド;メチルベンゾイルホルメート、1,7−ビスアクリジニルヘプタン、9−フェニルアクリジン等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。   When using an electron beam curing reaction, examples of the polymerization initiator include benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, methyl orthobenzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, t- Thioxanthone such as butylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone; diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyl Dimethyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl-phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino (4-thiomethylphenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholy Acetophenone such as phenyl) -butanone; benzoin ether such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl)- Acylphosphine oxides such as 2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) -phenylphosphine oxide; methylbenzoylformate, 1,7-bisacridinylheptane, 9-phenyl Examples include acridine. These may be used alone or in combination of two or more.

熱硬化反応を利用する場合、熱重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、t−ブチルパーオキシオクトエート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の有機過酸化物;アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系化合物;前記有機過酸化物にN,N−ジメチルアニリン、N,N−ジメチル−p−トルイジン等のアミンを組み合わせたレドックス重合開始剤等が挙げられる。   When utilizing a thermosetting reaction, examples of the thermal polymerization initiator include methyl ethyl ketone peroxide, benzoyl peroxide, dicumyl peroxide, t-butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, t-butyl peroxy octoate, organic peroxides such as t-butylperoxybenzoate and lauroyl peroxide; azo compounds such as azobisisobutyronitrile; N, N-dimethylaniline, N, N-dimethyl-p- Examples thereof include a redox polymerization initiator combined with an amine such as toluidine.

重合開始剤の量は、重合性化合物100質量部に対して、0.1〜10質量部が好ましい。重合開始剤の量が0.1質量部未満では、重合が進行しにくい。重合開始剤の量が10質量部を超えると、硬化膜が着色したり、機械強度が低下したりすることがある。   As for the quantity of a polymerization initiator, 0.1-10 mass parts is preferable with respect to 100 mass parts of polymeric compounds. When the amount of the polymerization initiator is less than 0.1 parts by mass, the polymerization is difficult to proceed. When the amount of the polymerization initiator exceeds 10 parts by mass, the cured film may be colored or the mechanical strength may be lowered.

活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、必要に応じて、帯電防止剤、離型剤、防汚性を向上させるためのフッ素化合物等の添加剤;微粒子、少量の溶剤を含んでいてもよい。   The active energy ray-curable resin composition may contain an antistatic agent, a release agent, an additive such as a fluorine compound for improving the antifouling property, fine particles, and a small amount of a solvent, if necessary.

(疎水性材料)
硬化樹脂膜20の微細凹凸構造の表面の水接触角を90°以上にするためには、疎水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、フッ素含有化合物またはシリコーン系化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
(Hydrophobic material)
In order to make the water contact angle of the surface of the fine concavo-convex structure of the cured resin film 20 90 ° or more, a fluorine-containing compound or a silicone compound is used as an active energy ray-curable resin composition capable of forming a hydrophobic material. It is preferable to use the composition containing.

フッ素含有化合物:
フッ素含有化合物としては、下記式(3)で表されるフルオロアルキル基を有する化合物が好ましい。
−(CF−X ・・・(3)。
ただし、Xは、フッ素原子または水素原子を表し、nは、1以上の整数を表し、1〜20が好ましく、3〜10がより好ましく、4〜8が特に好ましい。
Fluorine-containing compounds:
As the fluorine-containing compound, a compound having a fluoroalkyl group represented by the following formula (3) is preferable.
- (CF 2) n -X ··· (3).
However, X represents a fluorine atom or a hydrogen atom, n represents an integer greater than or equal to 1, 1-20 are preferable, 3-10 are more preferable, and 4-8 are especially preferable.

フッ素含有化合物としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有シランカップリング剤、フッ素含有界面活性剤、フッ素含有ポリマー等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing compound include a fluorine-containing monomer, a fluorine-containing silane coupling agent, a fluorine-containing surfactant, and a fluorine-containing polymer.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換ビニルモノマー、フルオロアルキル基置換開環重合性モノマー等が挙げられる。
フルオロアルキル基置換ビニルモノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレート、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリルアミド、フルオロアルキル基置換ビニルエーテル、フルオロアルキル基置換スチレン等が挙げられる。
Examples of the fluorine-containing monomer include a fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer and a fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer.
Examples of the fluoroalkyl group-substituted vinyl monomer include fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylates, fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylamides, fluoroalkyl group-substituted vinyl ethers, and fluoroalkyl group-substituted styrenes.

フルオロアルキル基置換開環重合性モノマーとしては、フルオロアルキル基置換エポキシ化合物、フルオロアルキル基置換オキセタン化合物、フルオロアルキル基置換オキサゾリン化合物等が挙げられる。   Examples of the fluoroalkyl group-substituted ring-opening polymerizable monomer include fluoroalkyl group-substituted epoxy compounds, fluoroalkyl group-substituted oxetane compounds, and fluoroalkyl group-substituted oxazoline compounds.

フッ素含有モノマーとしては、フルオロアルキル基置換(メタ)アクリレートが好ましく、下記式(4)の化合物が特に好ましい。
CH=C(R)C(O)O−(CH−(CF−X ・・・(4)。
ただし、Rは、水素原子またはメチル基を表し、Xは、水素原子またはフッ素原子を表し、mは、1〜6の整数を表し、1〜3が好ましく、1または2がより好ましく、pは、1〜20の整数を表し、3〜10が好ましく、4〜8がより好ましい。
As the fluorine-containing monomer, a fluoroalkyl group-substituted (meth) acrylate is preferable, and a compound of the following formula (4) is particularly preferable.
CH 2 = C (R 7) C (O) O- (CH 2) m - (CF 2) p -X ··· (4).
However, R 7 represents a hydrogen atom or a methyl group, X represents a hydrogen atom or a fluorine atom, m represents an integer of 1 to 6, preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2, p Represents an integer of 1 to 20, preferably 3 to 10, and more preferably 4 to 8.

フッ素含有シランカップリング剤としては、フルオロアルキル基置換シランカップリング剤が好ましく、下記式(5)の化合物が特に好ましい。
(R SiY ・・・(5)。
As the fluorine-containing silane coupling agent, a fluoroalkyl group-substituted silane coupling agent is preferable, and a compound of the following formula (5) is particularly preferable.
(R f ) a R 8 b SiY c (5).

は、エーテル結合またはエステル結合を1個以上含んでいてもよい炭素数1〜20のフッ素置換アルキル基を表す。Rとしては、3,3,3−トリフルオロプロピル基、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチル基、3−トリフルオロメトキシプロピル基、3−トリフルオロアセトキシプロピル基等が挙げられる。 R f represents a C1-C20 fluorine-substituted alkyl group which may contain one or more ether bonds or ester bonds. Examples of R f include 3,3,3-trifluoropropyl group, tridecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyl group, 3-trifluoromethoxypropyl group, and 3-trifluoroacetoxypropyl group. It is done.

は、炭素数1〜10のアルキル基を表す。Rとしては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。 R 8 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Examples of R 8 include a methyl group, an ethyl group, and a cyclohexyl group.

Yは、水酸基または加水分解性基を表す。
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、RC(O)O(ただし、Rは、水素原子または炭素数1〜10のアルキル基を表す。)等が挙げられる。
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ基、i−プロピルオキシ基、ブトキシ基、i−ブトキシ基、t−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、2−エチルヘキシルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、3,7−ジメチルオクチルオキシ基、ラウリルオキシ基等が挙げられる。
ハロゲン原子としては、Cl、Br、I等が挙げられる。
C(O)Oとしては、CHC(O)O、CC(O)O等が挙げられる。
Y represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group.
Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group, a halogen atom, R 9 C (O) O (wherein R 9 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and the like.
Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, propyloxy group, i-propyloxy group, butoxy group, i-butoxy group, t-butoxy group, pentyloxy group, hexyloxy group, cyclohexyloxy group, heptyloxy group, Examples include octyloxy group, 2-ethylhexyloxy group, nonyloxy group, decyloxy group, 3,7-dimethyloctyloxy group, lauryloxy group, and the like.
Examples of the halogen atom include Cl, Br, I and the like.
Examples of R 9 C (O) O include CH 3 C (O) O, C 2 H 5 C (O) O, and the like.

a、b、cは、a+b+c=4であり、かつa≧1、c≧1を満たす整数を表し、a=1、b=0、c=3が好ましい。   a, b, and c are integers satisfying a + b + c = 4 and satisfying a ≧ 1, c ≧ 1, and preferably a = 1, b = 0, and c = 3.

フッ素含有シランカップリング剤としては、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリアセトキシシラン、ジメチル−3,3,3−トリフルオロプロピルメトキシシラン、トリデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロオクチルトリエトキシシラン等が挙げられる。   Fluorine-containing silane coupling agents include 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3,3-trifluoropropyltriacetoxysilane, dimethyl-3,3,3-trifluoropropylmethoxysilane, Examples include decafluoro-1,1,2,2-tetrahydrooctyltriethoxysilane.

フッ素含有界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤、フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤等が挙げられる。   Examples of the fluorine-containing surfactant include a fluoroalkyl group-containing anionic surfactant and a fluoroalkyl group-containing cationic surfactant.

フルオロアルキル基含有アニオン系界面活性剤としては、炭素数2〜10のフルオロアルキルカルボン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルキル(C〜C11)オキシ]−1−アルキル(C〜C)スルホン酸ナトリウム、3−[オメガ−フルオロアルカノイル(C〜C)−N−エチルアミノ]−1−プロパンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキル(C11〜C20)カルボン酸またはその金属塩、パーフルオロアルキルカルボン酸(C〜C13)またはその金属塩、パーフルオロアルキル(C〜C12)スルホン酸またはその金属塩、パーフルオロオクタンスルホン酸ジエタノールアミド、N−プロピル−N−(2−ヒドロキシエチル)パーフルオロオクタンスルホンアミド、パーフルオロアルキル(C〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、パーフルオロアルキル(C〜C10)−N−エチルスルホニルグリシン塩、モノパーフルオロアルキル(C〜C16)エチルリン酸エステル等が挙げられる。 Examples of the fluoroalkyl group-containing anionic surfactant include a fluoroalkylcarboxylic acid having 2 to 10 carbon atoms or a metal salt thereof, disodium perfluorooctanesulfonyl glutamate, 3- [omega-fluoroalkyl (C 6 -C 11 ) oxy. ] -1-alkyl (C 3 ~C 4) sulfonate, sodium 3- [omega - fluoroalkanoyl (C 6 ~C 8) -N- ethylamino] -1-sodium sulfonic acid, fluoroalkyl (C 11 ~ C 20 ) carboxylic acid or a metal salt thereof, perfluoroalkyl carboxylic acid (C 7 to C 13 ) or a metal salt thereof, perfluoroalkyl (C 4 to C 12 ) sulfonic acid or a metal salt thereof, perfluorooctane sulfonic acid diethanolamine N-propyl-N- (2-hydroxy Chill) perfluorooctane sulfonamide, perfluoroalkyl (C 6 -C 10) sulfonamide propyl trimethyl ammonium salts, perfluoroalkyl (C 6 -C 10)-N-ethylsulfonyl glycine salts, monoperfluoroalkyl (C 6 -C 16) ethyl phosphoric acid ester, and the like.

フルオロアルキル基含有カチオン系界面活性剤としては、フルオロアルキル基含有脂肪族一級、二級または三級アミン酸、パーフルオロアルキル(C〜C10)スルホンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム塩、ベンザルコニウム塩、塩化ベンゼトニウム、ピリジニウム塩、イミダゾリニウム塩等が挙げられる。 Examples of the fluoroalkyl group-containing cationic surfactant include aliphatic quaternary compounds such as fluoroalkyl group-containing aliphatic primary, secondary or tertiary amine acids, and perfluoroalkyl (C 6 -C 10 ) sulfonamidopropyltrimethylammonium salts. Examples thereof include ammonium salts, benzalkonium salts, benzethonium chloride, pyridinium salts, imidazolinium salts, and the like.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーの重合体、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体、フルオロアルキル基含有モノマーと架橋反応性基含有モノマーとの共重合体等が挙げられる。フッ素含有ポリマーは、共重合可能な他のモノマーとの共重合体であってもよい。   Fluorine-containing polymers include polymers of fluoroalkyl group-containing monomers, copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and poly (oxyalkylene) group-containing monomers, and copolymers of fluoroalkyl group-containing monomers and crosslinking reactive group-containing monomers. A polymer etc. are mentioned. The fluorine-containing polymer may be a copolymer with another copolymerizable monomer.

フッ素含有ポリマーとしては、フルオロアルキル基含有モノマーとポリ(オキシアルキレン)基含有モノマーとの共重合体が好ましい。
ポリ(オキシアルキレン)基としては、下記式(6)で表される基が好ましい。
−(OR10− ・・・(6)
ただし、R10は、炭素数2〜4のアルキレン基を表し、qは、2以上の整数を表す。R10としては、−CHCH−、−CHCHCH−、−CH(CH)CH−、−CH(CH)CH(CH)−等が挙げられる。
As the fluorine-containing polymer, a copolymer of a fluoroalkyl group-containing monomer and a poly (oxyalkylene) group-containing monomer is preferable.
As the poly (oxyalkylene) group, a group represented by the following formula (6) is preferable.
− (OR 10 ) q − (6)
However, R 10 represents an alkylene group having 2 to 4 carbon atoms, q represents an integer of 2 or more. Examples of R 10 include —CH 2 CH 2 —, —CH 2 CH 2 CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH 2 —, —CH (CH 3 ) CH (CH 3 ) —, and the like.

ポリ(オキシアルキレン)基は、同一のオキシアルキレン単位(OR10)からなるものであってもよく、2種以上のオキシアルキレン単位(OR10)からなるものであってもよい。2種以上のオキシアルキレン単位(OR10)の配列は、ブロックであってもよく、ランダムであってもよい。 The poly (oxyalkylene) group may be composed of the same oxyalkylene unit (OR 10 ), or may be composed of two or more oxyalkylene units (OR 10 ). The arrangement of two or more oxyalkylene units (OR 10 ) may be a block or random.

シリコーン系化合物:
シリコーン系化合物としては、(メタ)アクリル酸変性シリコーン、シリコーン樹脂、シリコーン系シランカップリング剤等が挙げられる。
(メタ)アクリル酸変性シリコーンとしては、シリコーン(ジ)(メタ)アクリレート等が挙げられる。
Silicone compounds:
Examples of the silicone compound include (meth) acrylic acid-modified silicone, silicone resin, silicone silane coupling agent and the like.
Examples of the (meth) acrylic acid-modified silicone include silicone (di) (meth) acrylate.

(親水性材料)
硬化樹脂膜20の微細凹凸構造の表面の水接触角を25°以下にするためには、親水性の材料を形成しうる活性エネルギー線硬化性樹脂組成物として、下記の重合性化合物を含む組成物を用いることが好ましい。
4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの10〜50質量%、
2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの30〜80質量%、
単官能モノマーの0〜20質量%の合計100質量%からなる重合性化合物。
(Hydrophilic material)
In order to set the water contact angle on the surface of the fine uneven structure of the cured resin film 20 to 25 ° or less, the composition containing the following polymerizable compound as an active energy ray-curable resin composition capable of forming a hydrophilic material It is preferable to use a product.
10 to 50% by mass of a tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate,
30-80% by weight of bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate,
A polymerizable compound comprising a total of 100% by mass of 0 to 20% by mass of a monofunctional monomer.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、ジトリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、コハク酸/トリメチロールエタン/アクリル酸のモル比1:2:4の縮合反応混合物、ウレタンアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL220、EBECRYL1290、EBECRYL1290K、EBECRYL5129、EBECRYL8210、EBECRYL8301、KRM8200)、ポリエーテルアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL81)、変性エポキシアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL3416)、ポリエステルアクリレート類(ダイセル・サイテック社製:EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL800、EBECRYL810、EBECRYL811、EBECRYL812、EBECRYL1830、EBECRYL845、EBECRYL846、EBECRYL1870)等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとしては、5官能以上の多官能(メタ)アクリレートがより好ましい。
As tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol ethoxytetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hydroxypenta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, succinic acid / trimethylolethane / acrylic acid molar mixture 1: 2: 4 condensation reaction mixture, urethane acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBECRYL220, EBECRYL1290K, EBECRYL1290K, EBECRYL5129, EBECRYL8210, EBECRYL 8301, KRM 8200), polyether acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBEC) YL81), modified epoxy acrylates (manufactured by Daicel-Cytec: EBECRYL3416), polyester acrylates (manufactured by Daicel-Cytech: EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL800, EBECRYL810, EBECRYL8111, EBECRYL81L, EBECRYL81L It is done. These may be used alone or in combination of two or more.
The polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functional groups is more preferably a polyfunctional (meth) acrylate having 5 or more functional groups.

4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合は、10〜50質量%が好ましく、耐水性、耐薬品性の点から、20〜50質量%がより好ましく、30〜50質量%が特に好ましい。4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合が10質量%以上であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。4官能以上の多官能(メタ)アクリレートの割合が50質量%以下であれば、表面に小さな亀裂が入りにくく、外観不良となりにくい。   The proportion of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is preferably 10 to 50% by mass, more preferably 20 to 50% by mass, and particularly preferably 30 to 50% by mass from the viewpoint of water resistance and chemical resistance. If the ratio of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 10% by mass or more, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved. If the ratio of the tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate is 50% by mass or less, small cracks are hardly formed on the surface, and the appearance is hardly deteriorated.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートとしては、アロニックスM−240、アロニックスM260(東亞合成社製)、NKエステルAT−20E、NKエステルATM−35E(新中村化学社製)等の長鎖ポリエチレングリコールを有する多官能アクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレート等が挙げられる。これらは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
ポリエチレングリコールジメタクリレートにおいて、一分子内に存在するポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位の合計は、6〜40が好ましく、9〜30がより好ましく、12〜20が特に好ましい。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が6以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。ポリエチレングリコール鎖の平均繰り返し単位が40以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートとの相溶性が良好となり、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が分離しにくい。
Long-chain polyethylene such as Aronix M-240, Aronix M260 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.), NK ester AT-20E, NK ester ATM-35E (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Examples thereof include polyfunctional acrylates having glycol and polyethylene glycol dimethacrylate. These may be used alone or in combination of two or more.
In the polyethylene glycol dimethacrylate, the total of the average repeating units of the polyethylene glycol chain present in one molecule is preferably 6 to 40, more preferably 9 to 30, and particularly preferably 12 to 20. If the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 6 or more, the hydrophilicity is sufficient and the antifouling property is improved. When the average repeating unit of the polyethylene glycol chain is 40 or less, the compatibility with a polyfunctional (meth) acrylate having 4 or more functionalities is improved, and the active energy ray-curable resin composition is hardly separated.

2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合は、30〜80質量%が好ましく、40〜70質量%がより好ましい。2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合が30質量%以上であれば、親水性が十分となり、防汚性が向上する。2官能以上の親水性(メタ)アクリレートの割合が80質量%以下であれば、弾性率が高くなって耐擦傷性が向上する。   30-80 mass% is preferable and, as for the ratio of bifunctional or more hydrophilic (meth) acrylate, 40-70 mass% is more preferable. When the ratio of the bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate is 30% by mass or more, the hydrophilicity is sufficient and the antifouling property is improved. When the proportion of the bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate is 80% by mass or less, the elastic modulus is increased and the scratch resistance is improved.

単官能モノマーとしては、親水性単官能モノマーが好ましい。
親水性単官能モノマーとしては、M−20G、M−90G、M−230G(新中村化学社製)等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート等のエステル基に水酸基を有する単官能(メタ)アクリレート、単官能アクリルアミド類、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、メタクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート等のカチオン性モノマー類等が挙げられる。
また、単官能モノマーとして、アクリロイルモルホリン、ビニルピロリドン等の粘度調整剤、部材への密着性を向上させるアクリロイルイソシアネート類等の密着性向上剤等を用いてもよい。
As the monofunctional monomer, a hydrophilic monofunctional monomer is preferable.
Examples of the hydrophilic monofunctional monomer include monofunctional (meth) acrylate having a polyethylene glycol chain in the ester group such as M-20G, M-90G, M-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), hydroxyalkyl (meth) acrylate, etc. And cationic monomers such as monofunctional (meth) acrylates having a hydroxyl group in the ester group, monofunctional acrylamides, methacrylamidopropyltrimethylammonium methyl sulfate, and methacryloyloxyethyltrimethylammonium methyl sulfate.
Moreover, as a monofunctional monomer, you may use viscosity modifiers, such as acryloyl morpholine and vinyl pyrrolidone, adhesive improvement agents, such as acryloyl isocyanate which improves the adhesiveness to a member, etc.

単官能モノマーの割合は、0〜20質量%が好ましく、5〜15質量%がより好ましい。単官能モノマーを用いることにより、部材と硬化樹脂との密着性が向上する。単官能モノマーの割合が20質量%以下であれば、4官能以上の多官能(メタ)アクリレートまたは2官能以上の親水性(メタ)アクリレートが不足することなく、防汚性または耐擦傷性が十分に発現する。   The proportion of the monofunctional monomer is preferably 0 to 20% by mass, and more preferably 5 to 15% by mass. By using a monofunctional monomer, the adhesion between the member and the cured resin is improved. When the proportion of the monofunctional monomer is 20% by mass or less, antifouling property or scratch resistance is sufficient without a shortage of tetrafunctional or higher polyfunctional (meth) acrylate or bifunctional or higher hydrophilic (meth) acrylate. Expressed in

単官能モノマーは、1種または2種以上を(共)重合した低重合度の重合体として活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に0〜35質量部配合してもよい。低重合度の重合体としては、M−230G(新中村化学社製)等のエステル基にポリエチレングリコール鎖を有する単官能(メタ)アクリレート類と、メタクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェートとの40/60共重合オリゴマー(MRCユニテック社製、MGポリマー)等が挙げられる。   The monofunctional monomer may be blended in the active energy ray-curable resin composition in an amount of 0 to 35 parts by mass as a polymer having a low polymerization degree obtained by (co) polymerizing one type or two or more types. As a polymer having a low degree of polymerization, 40/60 of monofunctional (meth) acrylates having a polyethylene glycol chain in an ester group such as M-230G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) and methacrylamide propyltrimethylammonium methyl sulfate. Copolymer oligomer (MRC Unitech Co., Ltd., MG polymer) and the like can be mentioned.

以上説明した太陽電池用透明部材10にあっては、表面に微細凹凸構造を有し、該微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものであるため、該表面における反射率が低く、かつ反射率の波長依存性が少ない。   In the transparent member 10 for solar cells described above, the surface has a fine uneven structure, and the fine uneven structure is formed by transferring the fine uneven structure on the surface of anodized alumina. The reflectance at the surface is low and the wavelength dependence of the reflectance is small.

なお、本発明の太陽電池用透明部材は、図示例の太陽電池用透明部材10に限定はされない。例えば、微細凹凸構造は、太陽電池用透明部材10においては、反射防止フィルム16の硬化樹脂膜20の表面に形成されているが、硬化樹脂膜20を設けることなく透明性基材18の表面に直接形成されていてもよく、反射防止フィルム16を貼着することなく部材本体12の表面に直接形成されていてもよい。ただし、ロール状モールド22を用いて効率よく微細凹凸構造を形成できる点、および微細凹凸構造が破損した際に反射防止フィルム16を貼りなおすことができる点から、反射防止フィルム16の硬化樹脂膜20の表面に微細凹凸構造が形成されていることが好ましい。   In addition, the solar cell transparent member of the present invention is not limited to the solar cell transparent member 10 in the illustrated example. For example, in the solar cell transparent member 10, the fine concavo-convex structure is formed on the surface of the cured resin film 20 of the antireflection film 16, but on the surface of the transparent substrate 18 without providing the cured resin film 20. It may be formed directly, or may be formed directly on the surface of the member main body 12 without sticking the antireflection film 16. However, the cured resin film 20 of the antireflection film 16 from the point that the fine uneven structure can be efficiently formed using the roll-shaped mold 22 and the antireflection film 16 can be reattached when the fine uneven structure is damaged. It is preferable that a fine concavo-convex structure is formed on the surface.

<太陽電池>
本発明の太陽電池は、本発明の太陽電池用透明部材が、微細凹凸構造が形成された側の表面が光の入射側となるように配置されたものである。
太陽電池としては、pn接合型、色素増感型等が知られているが、本発明の太陽電池は、いずれのタイプの太陽電池であってもよい。
<Solar cell>
In the solar cell of the present invention, the transparent member for solar cell of the present invention is arranged such that the surface on the side where the fine uneven structure is formed is the light incident side.
As the solar cell, a pn junction type, a dye-sensitized type, and the like are known, but the solar cell of the present invention may be any type of solar cell.

(pn接合型)
図4は、本発明の太陽電池の一例を示す断面図である。太陽電池50は、インターコネクタ52を介して接続された複数の太陽電池素子54と;太陽電池素子54の受光面側に、微細凹凸構造が形成された側の表面が光の入射側となるように配置された太陽電池用透明部材10と;太陽電池素子54の受光面とは反対側に配置された第2の部材56と;太陽電池用透明部材10と第2の部材56とを貼り合わせると同時に、これらの間に太陽電池素子54を固定する透明樹脂層58とを有する。
(Pn junction type)
FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the solar cell of the present invention. The solar cell 50 includes a plurality of solar cell elements 54 connected via an interconnector 52; and the surface on the light receiving surface side of the solar cell element 54 on which the fine concavo-convex structure is formed is the light incident side. The solar cell transparent member 10 disposed on the solar cell element 54; the second member 56 disposed on the side opposite to the light receiving surface of the solar cell element 54; and the solar cell transparent member 10 and the second member 56 are bonded together. At the same time, it has a transparent resin layer 58 for fixing the solar cell element 54 therebetween.

太陽電池素子54は、p型とn型の半導体を接合した構造を有するpn接合型太陽電池素子である。pn接合型太陽電池素子としては、シリコン系、無機化合物系、有機化合物系等が挙げられる。
第2の部材56の材料としては、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
透明樹脂層58の材料としては、ポリビニルブチラール、エチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。
The solar cell element 54 is a pn junction solar cell element having a structure in which a p-type semiconductor and an n-type semiconductor are joined. Examples of the pn junction solar cell element include silicon-based, inorganic compound-based, and organic compound-based devices.
Examples of the material of the second member 56 include glass, acrylic resin, polycarbonate, styrene resin, polyester, cellulose resin (such as triacetyl cellulose), polyolefin, and alicyclic polyolefin.
Examples of the material of the transparent resin layer 58 include polyvinyl butyral and ethylene-vinyl acetate copolymer.

(色素増感型)
図5は、本発明の太陽電池の他の例を示す断面図である。太陽電池60は、微細凹凸構造が形成された側の表面が光の入射側となるように配置された太陽電池用透明部材10と;太陽電池用透明部材10の、微細凹凸構造が形成された側とは反対側の表面に形成された第1の透明電極62と;第1の透明電極62の表面に形成された、分光増感色素64を吸着させた金属酸化物半導体66からなる金属酸化物半導体膜68と;金属酸化物半導体膜68に対向して配置された第2の部材70と;第2の部材70の、金属酸化物半導体膜68に対向する側の表面に形成された第2の透明電極72と;第2の透明電極72の表面に形成された対電極74と;金属酸化物半導体膜68と対電極74との間に封入された電解質76とを有する。
(Dye-sensitized type)
FIG. 5 is a cross-sectional view showing another example of the solar cell of the present invention. The solar cell 60 includes a solar cell transparent member 10 disposed such that the surface on which the fine uneven structure is formed becomes the light incident side; and the fine uneven structure of the solar cell transparent member 10 is formed. A first transparent electrode 62 formed on the surface opposite to the first side; a metal oxide comprising a metal oxide semiconductor 66 formed on the surface of the first transparent electrode 62 and adsorbing the spectral sensitizing dye 64 A second semiconductor member disposed opposite to the metal oxide semiconductor film; and a second member formed on a surface of the second member facing the metal oxide semiconductor film. Two transparent electrodes 72; a counter electrode 74 formed on the surface of the second transparent electrode 72; and an electrolyte 76 sealed between the metal oxide semiconductor film 68 and the counter electrode 74.

第1の透明電極62および第2の透明電極72としては、導電性金属酸化物薄膜等が挙げられる。導電性金属酸化物としては、スズがドープされた酸化インジウム(ITO)等が挙げられる。
分光増感色素64としては、金属錯体(金属フタロシアニン等)、有機色素(シアニン系色素等)等が挙げられる。
金属酸化物半導体66としては、酸化チタン等が挙げられる。
第2の部材70の材料としては、ガラス、アクリル系樹脂、ポリカーボネート、スチレン系樹脂、ポリエステル、セルロース系樹脂(トリアセチルセルロース等)、ポリオレフィン、脂環式ポリオレフィン等が挙げられる。
対電極74としては、白金電極等が挙げられる。
電解質76としては、I/I 系等のレドックス電解質が挙げられる。
Examples of the first transparent electrode 62 and the second transparent electrode 72 include a conductive metal oxide thin film. Examples of the conductive metal oxide include indium oxide (ITO) doped with tin.
Examples of the spectral sensitizing dye 64 include metal complexes (such as metal phthalocyanines) and organic dyes (such as cyanine dyes).
Examples of the metal oxide semiconductor 66 include titanium oxide.
Examples of the material of the second member 70 include glass, acrylic resin, polycarbonate, styrene resin, polyester, cellulose resin (such as triacetyl cellulose), polyolefin, and alicyclic polyolefin.
Examples of the counter electrode 74 include a platinum electrode.
As the electrolyte 76, I - / I 3 - include redox electrolyte such systems.

(プリズム型)
図6は、本発明の太陽電池の他の例を示す断面図である。太陽電池80は、入射側の表面に対して他方の表面が傾斜した断面三角形のプリズム形状の部材本体12、部材本体12の入射側の表面に接着剤層(図示略)を介して貼着された反射防止フィルム16および部材本体12の他方の表面に設けられた反射層82とから構成される太陽電池用透明部材10と;反射防止フィルム16を通って部材本体12に入射した太陽光が部材本体12内で反射しながら集光される部材本体12の端面に設けられた、太陽発電セル84とを有する。
(Prism type)
FIG. 6 is a cross-sectional view showing another example of the solar cell of the present invention. The solar cell 80 is attached to the incident-side surface of the prism-shaped member main body 12 having a triangular cross section whose other surface is inclined with respect to the incident-side surface via an adhesive layer (not shown). The solar cell transparent member 10 composed of the antireflection film 16 and the reflective layer 82 provided on the other surface of the member body 12; the sunlight incident on the member body 12 through the antireflection film 16 is the member The solar power generation cell 84 is provided on the end surface of the member main body 12 which is condensed while being reflected in the main body 12.

太陽発電セル84は、pn接合型であってもよく、色素増感型であってもよい。
反射層82としては、金属薄膜、金属蒸着膜等が挙げられる。
The solar power generation cell 84 may be a pn junction type or a dye sensitized type.
Examples of the reflective layer 82 include a metal thin film and a metal vapor deposition film.

以上説明した本発明の太陽電池にあっては、本発明の太陽電池用透明部材が、前記微細凹凸構造が形成された側の表面が光の入射側となるように配置されているため、入射する光の反射が抑えられ、受光損出が少ない。   In the solar cell of the present invention described above, the transparent member for solar cell of the present invention is arranged so that the surface on which the fine concavo-convex structure is formed is the light incident side. The reflection of light is suppressed, and the loss of light reception is small.

以下、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。本実施例における入射角は、硬化樹脂膜の表面に直交する方向を0°としたときの角度とする。   Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto. The incident angle in the present embodiment is an angle when the direction orthogonal to the surface of the cured resin film is 0 °.

(陽極酸化アルミナの細孔)
陽極酸化アルミナの一部を削り、断面にプラチナを1分間蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡(日本電子社製、JSM−7400F)を用いて、加速電圧3.00kVの条件にて、断面を観察し、細孔の間隔、細孔の深さを測定した。各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。
(Pores of anodized alumina)
A part of the anodized alumina is shaved, platinum is vapor-deposited on the cross section for 1 minute, and the cross section is subjected to an acceleration voltage of 3.00 kV using a field emission scanning electron microscope (JSM-7400F, manufactured by JEOL Ltd.). Observed and measured pore spacing and pore depth. Each measurement was performed for 50 points, and the average value was obtained.

(硬化樹脂膜の凸部)
硬化樹脂膜の破断面にプラチナを10分間蒸着し、陽極酸化アルミナと同様に断面を観察し、凸部の間隔、凸部の高さを測定した。各測定は、それぞれ50点について行い、平均値を求めた。
(Convex part of cured resin film)
Platinum was vapor-deposited on the fracture surface of the cured resin film for 10 minutes, and the cross-section was observed in the same manner as the anodized alumina, and the interval between the convex portions and the height of the convex portions were measured. Each measurement was performed for 50 points, and the average value was obtained.

(加重平均反射率)
太陽電池用透明部材の、微細凹凸構造が形成されていない側の表面を粗面化した後、つや消し黒色に塗った太陽電池用透明部材について、分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角5°、波長380〜780nmの範囲で硬化樹脂膜の表面の相対反射率を測定し、JIS R3106に準拠して算出した。
(Weighted average reflectance)
About the transparent member for solar cells coated with matte black after roughening the surface of the transparent member for solar cells where the fine uneven structure is not formed, a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) The relative reflectance of the surface of the cured resin film was measured in the range of an incident angle of 5 ° and a wavelength of 380 to 780 nm, and calculated according to JIS R3106.

(水接触角)
接触角測定装置(Kruss社製、DSA10−Mk2)を用い、硬化樹脂膜の微細凹凸構造の表面に、1.6μLの水を滴下した後、滴下の10秒後から1秒間隔で水接触角を10点測定し、平均値を求めた。さらに、水を滴下する位置を変えて同様の操作を3回行い、計4回の平均値をさらに平均した。
(Water contact angle)
Using a contact angle measuring device (manufactured by Kruss, DSA10-Mk2), 1.6 μL of water was dropped on the surface of the fine concavo-convex structure of the cured resin film, and after 10 seconds of dropping, the water contact angle was 1 second apart. 10 points were measured, and the average value was obtained. Furthermore, the same operation was performed 3 times by changing the position where water was dropped, and the average value of 4 times in total was further averaged.

(反射率の波長依存性)
太陽電池用透明部材の、微細凹凸構造が形成されていない側の表面を粗面化した後、つや消し黒色に塗った太陽電池用透明部材について、分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角5°、波長450、550、650、750nmで硬化樹脂膜の表面の相対反射率を測定した。
(Wavelength dependence of reflectance)
About the transparent member for solar cells coated with matte black after roughening the surface of the transparent member for solar cells where the fine uneven structure is not formed, a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) The relative reflectance of the surface of the cured resin film was measured at an incident angle of 5 °, wavelengths of 450, 550, 650, and 750 nm.

(加重平均反射率の入射角依存性)
太陽電池用透明部材の、微細凹凸構造が形成されていない側の表面を粗面化した後、つや消し黒色に塗った太陽電池用透明部材について、分光光度計(日立製作所社製、U−4000)を用い、入射角20、30、40、50、60°で、JIS R3106にしたがって硬化樹脂膜の表面の加重平均反射率を測定した。
(Incident angle dependence of weighted average reflectance)
About the transparent member for solar cells coated with matte black after roughening the surface of the transparent member for solar cells where the fine uneven structure is not formed, a spectrophotometer (manufactured by Hitachi, Ltd., U-4000) The weighted average reflectance of the surface of the cured resin film was measured according to JIS R3106 at an incident angle of 20, 30, 40, 50, and 60 °.

(発電量の向上率)
入射側の透明基板に反射防止フィルムを貼り付けない太陽電池の発電量に対する、入射側の透明基板に反射防止フィルムを貼り付けた太陽電池の発電量の向上率を求めた。発電量の測定条件は、夏季東京の快晴時、真南向き、傾斜20°で太陽電池を設置したときの条件とした。
(Power generation improvement rate)
The improvement rate of the power generation amount of the solar cell in which the antireflection film was attached to the transparent substrate on the incident side was determined with respect to the power generation amount of the solar cell in which the antireflection film was not attached to the incident side transparent substrate. The measurement conditions for the amount of power generation were the conditions when the solar cell was installed at a 20 ° inclination at a 20 ° inclination when the summer was clear in Tokyo.

〔ロール状モールドaの製造〕
純度99.99%のアルミニウムからなるロールを、過塩素酸/エタノール混合溶液(1/4体積比)中で電解研磨した。
(a)工程:
該ロールについて、0.5Mシュウ酸水溶液中で、直流40V、温度16℃の条件で6時間陽極酸化を行った。
(b)工程:
酸化皮膜が形成されたロールを、6質量%リン酸/1.8質量%クロム酸混合水溶液に6時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
[Manufacture of roll-shaped mold a]
A roll made of aluminum having a purity of 99.99% was electropolished in a perchloric acid / ethanol mixed solution (1/4 volume ratio).
(A) Process:
The roll was anodized in a 0.5 M oxalic acid aqueous solution for 6 hours under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(B) Process:
The roll on which the oxide film was formed was immersed in a 6% by mass phosphoric acid / 1.8% by mass chromic acid mixed aqueous solution for 6 hours to remove the oxide film.

(c)工程:
該ロールについて、0.3Mシュウ酸水溶液中、直流40V、温度16℃の条件で30秒間陽極酸化を行った。
(d)工程:
酸化皮膜が形成されたロールを、32℃の5質量%リン酸に8分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
(C) Process:
The roll was anodized in a 0.3 M oxalic acid aqueous solution for 30 seconds under the conditions of a direct current of 40 V and a temperature of 16 ° C.
(D) Process:
The roll on which the oxide film was formed was immersed in 5 mass% phosphoric acid at 32 ° C. for 8 minutes to carry out pore diameter expansion treatment.

(e)工程:
前記(c)工程および(d)工程を合計で5回繰り返し、平均周期:100nm、深さ:240nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状モールドaを得た。
ロール状モールドaを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。
(E) Process:
The step (c) and the step (d) are repeated a total of 5 times to obtain a roll-shaped mold a having anodized alumina having substantially conical pores with an average period of 100 nm and a depth of 240 nm formed on the surface. It was.
The roll-shaped mold a was immersed in a 0.1% by weight diluted solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemicals Sales Co., Ltd.) and air-dried overnight to subject the oxide film surface to a fluorination treatment.

〔ロール状モールドbの製造〕
前記(c)工程における陽極酸化の時間を25秒に変更した以外は、ロール状モールドaの製造と同様にして、平均周期:100nm、深さ:180nmの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化アルミナが表面に形成されたロール状モールドbを得た。
ロール状モールドbを、オプツールDSX(ダイキン化成品販売社製)の0.1質量%希釈溶液に浸漬し、一晩風乾して、酸化皮膜表面のフッ素化処理を行った。
[Manufacture of roll-shaped mold b]
Anodization having substantially conical pores having an average period of 100 nm and a depth of 180 nm in the same manner as in the production of the roll mold a, except that the anodic oxidation time in step (c) was changed to 25 seconds. A roll mold b having alumina formed on the surface was obtained.
The roll-shaped mold b was immersed in a 0.1% by weight diluted solution of OPTOOL DSX (manufactured by Daikin Chemicals Sales Co., Ltd.) and air-dried overnight to subject the oxide film surface to fluorination treatment.

〔活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の調製〕
表1、表2に示す割合で各成分を混合し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物A、Bを調製した。
[Preparation of active energy ray-curable resin composition]
Each component was mixed in the ratio shown in Table 1 and Table 2, and active energy ray-curable resin compositions A and B were prepared.

Figure 2009260274
Figure 2009260274

表中の略号は下記の通りである。
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成社製、アロニックスM400)、
M260:ポリエチレングリコールジアクリレートn=13〜14(東亞合成社製、アロニックスM260)、
HEA:2−ヒドロキシエチルアクリレート、
Ir184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)。
Abbreviations in the table are as follows.
DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Toagosei Co., Ltd., Aronix M400),
M260: polyethylene glycol diacrylate n = 13-14 (Toagosei Co., Ltd., Aronix M260),
HEA: 2-hydroxyethyl acrylate,
Ir184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

Figure 2009260274
Figure 2009260274

表中の略号は下記の通りである。
TAS:トリメチロールエタン・アクリル酸・無水コハク酸縮合エステル、
C6DA:1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、
X−22−1602:ラジカル重合性シリコーンオイル(信越化学工業社製)、
Ir184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア184)。
Abbreviations in the table are as follows.
TAS: trimethylolethane, acrylic acid, succinic anhydride condensed ester,
C6DA: 1,6-hexanediol diacrylate,
X-22-1602: radical polymerizable silicone oil (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Ir184: 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals).

〔フィルムの製造〕
メタクリル酸メチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸メチル、1,3−ブタジエンおよびメタクリル酸アリルを重合してなるゴム含有多段重合体の75質量部、およびアクリル樹脂(三菱レイヨン社製、BR80)の25質量部をあらかじめ溶融押し出しした後、製膜して、厚さ200μmのアクリル樹脂フィルムを得た。
[Production of film]
75 parts by mass of a rubber-containing multistage polymer obtained by polymerizing methyl methacrylate, butyl acrylate, methyl acrylate, 1,3-butadiene and allyl methacrylate, and 25 parts by mass of an acrylic resin (BR80 manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) The part was melt-extruded in advance and then formed into a 200 μm thick acrylic resin film.

〔実施例1〕
図2に示す製造装置を用いて、反射防止フィルムを製造した。
ロール状モールド22としては、前記ロール状モールドaを用いた。
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aを用いた。
透明性基材18としては、前記アクリル樹脂フィルムを用いた。
透明性基材18側から、積算光量3200mJ/cmの紫外線を、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの塗膜に照射し、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Aの硬化を行った。
[Example 1]
An antireflection film was produced using the production apparatus shown in FIG.
As the roll mold 22, the roll mold a was used.
The active energy ray curable resin composition A was used as the active energy ray curable resin composition.
As the transparent substrate 18, the acrylic resin film was used.
The active energy ray-curable resin composition A was cured by irradiating the coating film of the active energy ray-curable resin composition A with ultraviolet rays having an integrated light amount of 3200 mJ / cm 2 from the transparent substrate 18 side.

得られた反射防止フィルムについて、凸部間の平均周期、凸部の高さを測定した。結果を表3に示す。
得られた反射防止フィルムを、両面接着テープ(日東電工社製、CS9621)を介して、厚さ2mmのガラス板に貼着し、太陽電池用透明部材を得た。太陽電池用透明部材について、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表3に示す。
About the obtained antireflection film, the average period between convex parts and the height of the convex part were measured. The results are shown in Table 3.
The obtained antireflection film was attached to a glass plate having a thickness of 2 mm via a double-sided adhesive tape (manufactured by Nitto Denko Corporation, CS9621) to obtain a transparent member for solar cell. About the transparent member for solar cells, the weighted average reflectance and the water contact angle were measured. The results are shown in Table 3.

〔実施例2〕
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた以外は、実施例1と同様にして、反射防止フィルムおよび太陽電池用透明部材を得た。反射防止フィルムについて、凸部間の平均周期、凸部の高さを測定した。結果を表3に示す。また、太陽電池用透明部材について、加重平均反射率、水接触角を測定した。結果を表3に示す。また、反射率の波長依存性を測定した。結果を表4に示す。また、加重平均反射率の入射角依存性を測定した。結果を表5に示す。
[Example 2]
An antireflection film and a transparent member for solar cell were obtained in the same manner as in Example 1 except that the active energy ray-curable resin composition B was used. About the antireflection film, the average period between convex parts and the height of the convex parts were measured. The results are shown in Table 3. Moreover, about the transparent member for solar cells, the weighted average reflectance and the water contact angle were measured. The results are shown in Table 3. Moreover, the wavelength dependence of the reflectance was measured. The results are shown in Table 4. Moreover, the incident angle dependence of the weighted average reflectance was measured. The results are shown in Table 5.

〔実施例3〕
ロール状モールド22として前記ロール状モールドbを用い、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物Bを用いた以外は、実施例1と同様にして、反射防止フィルムおよび太陽電池用透明部材を得た。反射防止フィルムについて、凸部間の平均周期、凸部の高さを測定した。結果を表3に示す。また、太陽電池用透明部材について、反射率の波長依存性を測定した。結果を表4に示す。また、加重平均反射率の入射角依存性を測定した。結果を表5に示す。
Example 3
An antireflection film and a transparent member for solar cell were obtained in the same manner as in Example 1 except that the roll mold b was used as the roll mold 22 and the active energy ray-curable resin composition B was used. About the antireflection film, the average period between convex parts and the height of the convex parts were measured. The results are shown in Table 3. Moreover, the wavelength dependence of the reflectance was measured about the transparent member for solar cells. The results are shown in Table 4. Moreover, the incident angle dependence of the weighted average reflectance was measured. The results are shown in Table 5.

Figure 2009260274
Figure 2009260274

Figure 2009260274
Figure 2009260274

Figure 2009260274
Figure 2009260274

凸部のアスペクト比が大きくなると波長依存性が小さくなった。また、広い波長領域で低反射となった。
また、凸部のアスペクト比が大きくなると、高入射角でも低反射が得られた。
As the aspect ratio of the convex portion increases, the wavelength dependence decreases. Further, the reflection was low in a wide wavelength region.
Moreover, when the aspect ratio of the convex portion was increased, low reflection was obtained even at a high incident angle.

〔実施例4〕
透明性基材18として片面を粘着剤加工したポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)を用いた以外は、実施例2と同様にして反射防止フィルムを得た。
得られた反射防止フィルムを、ポリビニルブチラールで封止した結晶シリコン系太陽電池の入射側の透明基板に貼り付け、光の入射側に微細凹凸構造が配置された太陽電池を得た。該太陽電池について、入射角に対する発電量の向上率を求めた。結果を表6に示す。
Example 4
An antireflection film was obtained in the same manner as in Example 2 except that a polyethylene terephthalate film (thickness: 38 μm) having one surface treated with an adhesive was used as the transparent substrate 18.
The obtained antireflection film was affixed to the transparent substrate on the incident side of the crystalline silicon solar cell sealed with polyvinyl butyral to obtain a solar cell in which a fine uneven structure was arranged on the light incident side. About the solar cell, the improvement rate of the power generation amount with respect to the incident angle was obtained. The results are shown in Table 6.

Figure 2009260274
Figure 2009260274

全ての入射角で反射防止フィルムなしの場合に対して発電量が向上した。また、高入射角ほど発電量が大きく向上する傾向がみられた。1日あたり約7%発電量が向上した。   The amount of power generation was improved compared to the case without an antireflection film at all incident angles. Moreover, the power generation amount tended to improve greatly as the incident angle increased. The amount of power generation increased by about 7% per day.

〔実施例5〕
実施例4で得られた反射防止フィルムを、図6に示すプリズム型太陽電池の部材本体12の入射側の表面に貼り付け、光の入射側に微細凹凸構造が配置された太陽電池を得た。太陽発電セル84としては、結晶シリコン系太陽電池を用いた。部材本体12の反射防止フィルムを設けた表面と太陽発電セル84を設けた端面との角度は76°とし、反射層82を設けた表面と太陽発電セル84を設けた端面との角度は90°とした。該太陽電池について、入射角に対する発電量の向上率を求めた。結果を表7に示す。
Example 5
The antireflection film obtained in Example 4 was attached to the incident-side surface of the member body 12 of the prism type solar cell shown in FIG. 6 to obtain a solar cell in which a fine uneven structure was arranged on the light incident side. . As the solar power generation cell 84, a crystalline silicon solar cell was used. The angle between the surface of the member body 12 on which the antireflection film is provided and the end face on which the solar power generation cell 84 is provided is 76 °, and the angle between the surface on which the reflective layer 82 is provided and the end face on which the solar power generation cell 84 is provided is 90 °. It was. About the solar cell, the improvement rate of the power generation amount with respect to the incident angle was obtained. The results are shown in Table 7.

Figure 2009260274
Figure 2009260274

全ての入射角で反射防止フィルムなしの場合に対して発電量が向上した。また、高入射角ほど発電量が大きく向上する傾向がみられた。1日あたり約5%発電量が向上した。   The amount of power generation was improved compared to the case without an antireflection film at all incident angles. Moreover, the power generation amount tended to improve greatly as the incident angle increased. About 5% of power generation per day has improved.

以下、本発明の効果をシミュレーションにより確認した。
太陽電池用透明部材のシミュレーションモデルとしては、図7に示す層構造のものを用いた。該シミュレーションモデル90は、上から順に、複数の凸部19が平面六方格子の配置となるように間隔:100nmで形成されたポリメタアクリレート層92(厚さ:0.2mm、波長900nmにおける屈折率:1.482、消衰係数:6.49×10−23)、ポリエチレンテレフタレート層94(厚さ:0.037mm、波長900nmにおける屈折率:1.667、消衰係数:1.65×10−24)、吸収層100(境界条件なので厚さなし)から構成される。
Hereinafter, the effect of the present invention was confirmed by simulation.
As a simulation model of the transparent member for solar cell, the layer structure shown in FIG. 7 was used. The simulation model 90 includes, in order from the top, a polymethacrylate layer 92 (thickness: 0.2 mm, refractive index at a wavelength of 900 nm) formed with a spacing of 100 nm so that the plurality of convex portions 19 are arranged in a plane hexagonal lattice. : 1.482, extinction coefficient: 6.49 × 10 −23 ), polyethylene terephthalate layer 94 (thickness: 0.037 mm, refractive index at 900 nm wavelength: 1.667, extinction coefficient: 1.65 × 10 − 24 ) and the absorption layer 100 (there is no thickness because of the boundary condition).

シミュレーションソフトウエアとしては、「Diffract MOD(Rsoft社)」を用い、Rigorous Coupled Wave Analysis (RCWA)法に基づきマクスウェル方程式を解いた。   As simulation software, “Diffract MOD (Rsoft)” was used, and Maxwell's equations were solved based on the Rigorous Coupled Wave Analysis (RCWA) method.

〔実施例6〜10〕
図7のシミュレーションモデルにおけるTW、BWおよびHを、表8に示す値に設定し、入射角αが5°の入射光(波長:500nm、800nm、1000nm)に対する反射率をシミュレーションにより求めた。結果を表8に示す。
[Examples 6 to 10]
TW, BW and H in the simulation model of FIG. 7 were set to the values shown in Table 8, and the reflectance for incident light (wavelength: 500 nm, 800 nm, 1000 nm) with an incident angle α of 5 ° was obtained by simulation. The results are shown in Table 8.

Figure 2009260274
Figure 2009260274

本発明の太陽電池用透明部材は、太陽電池の保護板、透明電極用透明基板、集光板、導光板等として有用である。   The transparent member for solar cells of the present invention is useful as a protective plate for solar cells, a transparent substrate for transparent electrodes, a light collector, a light guide plate, and the like.

10 太陽電池用透明部材
50 太陽電池
60 太陽電池
80 太陽電池
10 Transparent member for solar cell 50 Solar cell 60 Solar cell 80 Solar cell

Claims (3)

表面に微細凹凸構造を有する太陽電池用透明部材であって、
前記微細凹凸構造が、陽極酸化アルミナの表面の微細凹凸構造を転写して形成されたものである、太陽電池用透明部材。
A transparent member for solar cells having a fine uneven structure on the surface,
The transparent member for solar cells, wherein the fine uneven structure is formed by transferring the fine uneven structure on the surface of anodized alumina.
前記微細凹凸構造が、複数の凸部を有し、該凸部間の平均周期が400nm以下である、請求項1に記載の太陽電池用透明部材。   The solar cell transparent member according to claim 1, wherein the fine concavo-convex structure has a plurality of convex portions, and an average period between the convex portions is 400 nm or less. 請求項1または2に記載の太陽電池用透明部材が、前記微細凹凸構造が形成された側の表面が光の入射側となるように配置された、太陽電池。   A solar cell in which the transparent member for a solar cell according to claim 1 or 2 is disposed such that a surface on which the fine concavo-convex structure is formed is an incident side of light.
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