JP2009536663A - 口腔ケア措置 - Google Patents

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Abstract

本発明には、口腔表面を浄化し、口腔の健康を維持し、そして／または口腔の健康を増加させる方法が含まれる。こうした方法は、口腔表面と一次口腔ケア組成物を、少なくとも１日１回接触させ、そして口腔表面と定期的口腔ケア組成物を、約４２日間の期間内に少なくとも１回接触させる工程を含む。該方法で使用するのに適した定期的口腔ケア組成物は、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第一の研磨剤、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第二の研磨剤を含む。定期的口腔ケア組成物において、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１である。定期的口腔ケア組成物は、約１００より大きい薄膜（ｐｅｌｌｉｃｌｅ）浄化比、および約２００未満の放射性象牙質摩耗によって特徴付けられる。さらにまたはあるいは、該方法には、第二の研磨剤がシリカを含み、そして約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収、および／または１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有するものが含まれてもよい。第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１であってもよい。口腔組成物中に存在する第一および第二の研磨剤の総量は、組成物重量の約２５％より多くてもよく、そして／または該口腔組成物は、約１００より大きい薄膜浄化比、および約２００未満の放射性象牙質摩耗を有する。

Description

関連出願に対するクロスリファレンス
［０００１］本出願は、２００６年５月９日出願の米国仮特許出願第６０／７９８，９４０号に優先権を請求し、該出願の内容は、本明細書に援用される。
発明の背景
［０００２］消費者は、歯科医または歯科衛生士によって実行される専門的な歯の浄化後、スパまたは美容術（ｂｅａｕｔｙ ｔｒｅａｔｍｅｎｔ）後に経験されるものと類似の爽快感、満足感、清潔感、および一般的な幸福感を感じると報告する。したがって、当該技術分野には、消費者が「特別に清潔な（ｅｘｔｒａ ｃｌｅａｎ）」口の感触、および専門的な歯の浄化後に経験される幸福感に関連する感覚を再現することを可能にする、家庭用の口腔ケア措置に関する必要性がある。
発明の簡単な概要
［０００３］本発明には、口腔表面を浄化し、口腔の健康を維持し、そして／または口腔の健康を増加させる方法が含まれる。こうした方法は、口腔表面と一次口腔ケア組成物を、少なくとも１日１回接触させ、そして口腔表面と定期的口腔ケア組成物を、約４２日間の期間内に少なくとも１回接触させる工程を含む。該方法で使用するのに適した定期的口腔ケア組成物は、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第一の研磨剤、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第二の研磨剤を含む。定期的口腔ケア組成物において、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１である。定期的口腔ケア組成物は、約１００より大きい薄膜（ｐｅｌｌｉｃｌｅ）浄化比、および約２００未満の放射性象牙質摩耗によって特徴付けられる。さらにまたはあるいは、該方法には、第二の研磨剤がシリカを含み、そして約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収、および／または１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有するものが含まれてもよい。第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１の範囲であってもよい。口腔組成物中に存在する第一および第二の研磨剤の総量は、組成物重量の約２５％より多くてもよく、そして／または該口腔組成物は、約１００より大きい薄膜浄化比、および約２００未満の放射性象牙質摩耗を有する。
発明の詳細な説明
［０００４］本発明は、口腔表面を浄化して、口臭、劣った口腔健康、歯肉炎、歯茎の炎症、または歯周炎などの多様な口腔状態を生じうるかまたはこうした状態に寄与しうる、例えば、細菌、食物粒子、バイオフィルム、歯垢、および／またはまたは他の剤を除去する措置法を提供する。本発明の措置法はまた、使用者に、なめらかで磨かれた感触も提供し、そして歯の表面に、専門的な浄化後に経験される「清浄な感触」に匹敵すると知覚されうる外見も提供する。口腔の健康を維持し、そして／または口腔の健康を増加させる方法もまた提供する。
［０００５］本発明は、異なる時間増分で、少なくとも２つの口腔ケア組成物と口腔表面を接触させる工程を含む口腔ケア措置である。治療しようとする口腔表面には、口腔内のいかなるものも含まれる。典型的な表面には、硬組織（例えば歯）および軟表面（例えば歯肉および舌）が含まれる。
［０００６］本発明の措置法で用いる口腔ケア組成物の１つは、一次口腔ケア組成物である。一次口腔ケア組成物は、当該技術分野に知られるかまたは当該技術分野で開発されたいかなるものであってもよく、そしていかなる形状を取ってもよい。例えば、一次口腔ケア組成物は、リンス液、ペースト、ゲル、液体、懸濁物、フィルム、パッチ、粘性物質、ロゼンジ、菓子類、あるいは半固体パテまたはスティックの形状であってもよい。一次口腔ケア組成物は、慣用的な練り歯磨き、例えば、ＣＯＬＧＡＴＥ（登録商標）商標（Ｃｏｌｇａｔｅ−Ｐａｌｍｏｌｉｖｅ Ｃｏｍｐａｎｙ， ニューヨーク州ニューヨーク）のもとに、またはＣＲＥＳＴ（登録商標）商標（Ｐｒｏｃｔｅｒ ＆ Ｇａｍｂｌｅ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ， オハイオ州シンシナティ）のもとに販売されているものであってもよい。あるいは、一次口腔ケア組成物は、例えば、米国特許第４，７２１，６１４号；第４，８９４，２２０号；第４，９８６，９８１号；第５，０３７，６３５号；第５，１５６，８３５号；第５，２８８，４８０号；第５，３４４，６４１号；第５，５３８，７１５号；第５，７７６，４３５号、ならびに米国特許出願第２００４／０１２６３３２号、第２００４／０１３６９２４号、第２００５／００１９２７３号、第２００５／０２７１６０１号、および第２００５／０２７１６０２号に記載されるもののいずれであってもよく、これらの文献の各々の内容は、本明細書に援用される。
［０００７］一次口腔ケア組成物は、保湿剤、溶媒、増粘剤、界面活性剤、研磨剤、香味剤（ｆｌａｖｏｒａｎｔ）、着色剤、粘性および／またはレオロジー修飾剤、粘性物質、ポリマー、甘味料等の１以上の剤を含有してもよい。一次口腔ケア組成物中に存在してもよい剤の例には、抗細菌剤、歯垢分散剤、抗接着剤、虫歯予防剤、減感剤、香味剤、着色剤、スズ・イオン剤、トリクロサン、トリクロサン一リン酸、クロルヘキシジン、アレキシジン、ヘキセチジン、サンギナリン、塩化ベンザルコニウム、サリチルアニリド、臭化ドミフェン、塩化セチルピリジニウム、塩化テトラデシルピリジニウム、Ｎ−テトラデシル−４−エチルピリジニウムクロリド、オクテニジン（ｏｃｔｅｎｉｄｉｎｅ）、デルモピノール（ｄｅｌｍｏｐｉｎｏｌ）、オクタピノール（ｏｃｔａｐｉｎｏｌ）、ニシン（ｎｉｓｉｎ）、亜鉛イオン剤、銅イオン剤、精油、フラノン類、バクテリオシン類、エチルラウロイルアルギネート、モクレン（ｍａｇｎｏｌｉａ）の抽出物、金属イオン供給源、重炭酸アルギニン、ホオノキオール、マグノロール、ウルソル酸、ウルシック酸（ｕｒｓｉｃ ａｃｉｄ）、モリン、シーバックソーン（ｓｅａ ｂｕｃｋｔｈｏｒｎ）の抽出物、過酸化物、酵素、ツバキ属（Ｃａｍｅｌｌｉａ）抽出物、フラボノイド、フラバン、ハロゲン化ジフェニルエーテル、クレアチン、および／またはプロポリスが含まれる。
［０００８］本発明の方法の実施において、一次口腔ケア組成物を、少なくとも１日１回、口腔表面に適用するかまたは接触させてもよい。いくつかの態様において、一次口腔ケア組成物の適用を、１日２回、３回、４回、５回、６回、７回、または最大１日１５回まで実行してもよい。
［０００９］当該技術分野に知られるかまたは当該技術分野で開発されたいかなる手段を用いて、口腔表面を一次口腔ケア組成物に接触させてもよく；こうした手段は、一次口腔ケア組成物の形状に応じて多様でありうる。口腔表面に一次口腔ケア組成物を接触させる典型的な手段には、器具（ブラシ、歯ブラシ、スティック、スポンジ、綿棒）、洗浄、咀嚼、隣接配置、および菓子類の溶解を用いた適用が含まれる。
［００１０］本発明の方法で用いる別の口腔ケア組成物は、定期的口腔ケア組成物である。定期的口腔ケア組成物は、１００を超える薄膜浄化比（「ＰＣＲ」）を有し、一方、２００未満の放射性トレーサー象牙質摩耗（「ＲＤＡ」）を有する。特定の態様において、ＲＤＡは約１７５以下である一方、約１００を超えるＰＣＲをなお有する。いくつかの態様において、ＲＤＡは１６５未満である。（ＰＣＲおよびＲＤＡを実行する方法は、例えば、米国特許第５，９３９，０５１号および第６，２９０，９３３号に記載され、これらはどちらもその全体が本明細書に援用される。）
［００１１］定期的口腔ケア組成物には、第一の研磨剤および第二の研磨剤が含まれ；こうした研磨剤は、２００５年１２月２１日出願の米国特許出願第６０／７５２，３４０号に記載され、該出願の内容は、本明細書に援用される。
［００１２］特定の態様において、定期的口腔組成物は、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第一の研磨剤、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第二の研磨剤を含む。１００，０００回転あたり、５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第一の粒子は、口腔表面と接触した際、主に研磨する機能を有する。１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第二の粒子は、より柔らかい粒子であるため、主に浄化する機能を有する。特定の態様において、第二の粒子は、１００，０００回転あたり、約１０ｍｇより大きい喪失の硬度を、そして他の態様において、１００，０００回転あたり、約１５ｍｇより大きい喪失の硬度を有する。
［００１３］定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤は、治療しようとする口腔表面以下の硬度を有する浄化性研磨剤であってもよく、そして第二の研磨剤は、治療しようとする口腔表面以上の硬度を有する研磨性研磨剤であってもよい。
［００１４］定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤および第二の研磨剤は、各々、粒子サイズを有する。特定の態様において、第一の粒子サイズは、第二の粒子サイズ未満である。例えば、米国マサチューセッツ州サウスボローのＭａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ， Ｉｎｃ．のＭａｌｖｅｒｎ粒子サイズ分析装置、モデルＭａｓｔｅｒｓｉｚｅｒ Ｓを用いて、平均粒子サイズを測定してもよい。
［００１５］特定の態様において、第一の研磨剤は、約１１μｍ未満、好ましくは約１０μｍ未満の平均粒子サイズを有する。例えば、適切な研磨剤の例は、約７μｍ〜１１μｍの範囲の平均粒子サイズを有する。いくつかの研磨剤は、５μｍ未満の粒子サイズを有する。他の態様において、第二の研磨剤は、約８μｍより大きい、好ましくは約１０μｍより大きい平均粒子サイズを有する。いくつかの態様において、第二の研磨剤は、約８μｍ〜約１４μｍの平均粒子サイズを有する。
［００１６］定期的口腔ケア組成物で使用するために、上に示す必要性を満たす、いかなる口腔的または美容的に許容されうる研磨剤を選択してもよい。適切な研磨剤には、限定なしに、シリカ、シリケート、シリコン、アルミナ（焼成酸化アルミニウムを含む）、アルミノシリケート、例えばベントナイト、ゼオライト、カオリン、および雲母、珪質土または珪藻土、軽石、炭酸カルシウム、イカの甲、不溶性ホスフェート、複合樹脂、例えばメラミン樹脂、フェノール性樹脂、および尿素−ホルムアルデヒド樹脂、ポリカーボネート、炭化ケイ素、炭化ホウ素、微結晶ワックス、商標名ＡＶＩＣＥＬ（登録商標）のもとに、米国ペンシルバニア州フィラデルフィアのＦＭＣ Ｂｉｏｐｏｌｙｍｅｒから商業的に入手可能なコロイド性微結晶セルロースおよびカルボキシメチルセルロースの組み合わせを含む、微結晶セルロース、ならびに上記すべての組み合わせおよび誘導体が含まれる。「雲母」によって、平面の形態および完全な底面（雲母状）劈開を伴う、含水ケイ酸アルミニウムミネラルの群のいずれか１つを意味する。雲母は、例えば、白雲母、黒雲母または金雲母型雲母に例示されるように、雲母板、くず雲母または雲母片であってもよい。研磨剤として有用な不溶性ホスフェートの中には、オルトホスフェート、ポリメタホスフェートおよびピロホスフェートがある。例示的な例は、オルトリン酸二カルシウム二水和物、リン酸二カルシウム二水和物、リン酸水素カルシウム、ピロリン酸カルシウム、β−ピロリン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、メタリン酸カルシウム、メタリン酸カリウム、およびメタリン酸ナトリウムである。
［００１７］合成シリカには、シリカゲルおよび沈降シリカの両方が含まれ、これは、例えば水性シリケート溶液を強い鉱酸で中和することによって調製可能である。シリカゲルの調製において、シリカ・ヒドロゲルを形成し、これを次いで、典型的には、低塩含量になるまで洗浄する。望ましいサイズになるまで洗浄ヒドロゲルを製粉するか、またはそうでなければ、最終的に、その構造が、もはや縮みの結果として変化しなくなるまで乾燥させる。こうした合成シリカを調製する場合、目的は、歯のエナメル質および他の口腔組織への損傷を最小限にしつつ、最大の浄化（すなわち汚れがついた薄膜の除去）を提供する研磨剤を得ることである。
［００１８］定期的口腔組成物を調製するのに有用な研磨性物質には、浄化力が高く、構造が低次であるシリカ研磨剤、例えば、メリーランド州ボルチモアのＤａｖｉｓｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｄｉｖｉｓｉｏｎ ｏｆ Ｗ．Ｒ． Ｇｒａｃｅ ＆ Ｃｏ．によって、商標名ＳＹＬＯＤＥＮＴ（登録商標）ＸＷＡまたはＳＹＬＯＤＥＮＴ（登録商標）７８３のもとに市販されているものが含まれる。ＳＹＬＯＤＥＮＴ（登録商標）ＸＷＡ ６５０は、コロイド性シリカの粒子で構成されるシリカ・ヒドロゲルである。典型的なシリカ・ヒドロゲルは、約３μｍ〜約１２μｍ、そしてより好ましくは、約５μｍ〜約１０μｍの間の平均粒子サイズを有し、重量５％のスラリーとして測定した際、４〜１０、好ましくは６〜９のｐＨ範囲を持つ、シリカのコロイド性粒子を含む。ＸＷＡ ６５０の粒子は、重量約１０％〜約３５％の水を含有し、約５μｍ〜約１２μｍの平均粒子サイズ、１００，０００回転あたり、約５〜約２０ｍｇ以上の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度、９０ｃｍ３／１００ｇ未満、例えば約４０ｃｍ３／１００ｇ〜約９０ｃｍ３／１００ｇの間の油吸収を有する。研磨剤は、１００〜７００ｍ２／ｇのＢｒｕｎａｕｅｒ、ＥｍｍｅｔｔおよびＴｅｌｌｅｒ（ＢＥＴ）表面積を有する。ＸＷＡ ６５０は、９６．８テクニジン（ｔｅｃｈｎｉｄｙｎｅ）の白色度（ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ）を有する。こうした研磨剤は、例えば、その全体が本明細書に援用される、米国特許第６，２９０，９３３号に開示される。
［００１９］定期的組成物に含まれてもよい、浄化力が高い別のシリカ研磨剤は、ＳＹＬＯＤＥＮＴ（登録商標）ＸＷＡ ３００として市販され、そして重量約１０％〜約２５％の水を含有するシリカ・ヒドロゲルであり、平均粒子サイズは、約２μｍ〜約４μｍである。粒子は、１５０〜４００ｍ２／ｇシリカの範囲のＢＥＴ表面積を有する。ＸＷＡ ３００研磨剤は、９０ｃｍ３／１００ｇシリカ未満の油吸収；および沸騰（ＣＯ２不含）脱塩水中、５％ｗ／ｗ懸濁物中で、８．５以上のｐＨを有する。こうした研磨剤は、本明細書にその全体が援用される、米国特許第５，９３９，０５１号に開示される。
［００２０］定期的組成物中に含まれていてもよい、浄化力が高い別の適切なシリカは、重量約５％〜約３５％の水を含み、約７μｍ〜約１１μｍの平均粒子サイズ、１２〜約１９のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度、約５０ｃｍ３／１００ｇ〜約６５ｃｍ３／１００ｇの油吸収値を有する、シリカ製品を含む。ＢＥＴ表面積は、約１００〜約７００ｍ２／ｇシリカである。白色度は、一般的に、約９５テクニジンより大きいと報告される。こうしたシリカ製品は、米国メリーランド州ハバー・ド・グラスのＪ．Ｍ． Ｈｕｂｅｒから、ＺＥＯＤＥＮＴ（登録商標）１０５として商業的に入手可能である。
［００２１］使用可能な他の研磨剤には、典型的な浄化シリカ研磨剤、例えば最大約２０μｍ、典型的には約８〜約１４μｍの平均粒子サイズを有し、約９０〜約１１０ｃｍ３／１００ｇより高い油吸収構造を持つ沈降シリカ、例えば、粒子５％で、約６．５〜７．５のｐＨを、そして１００，０００回転あたり、約２〜４ｍｇの喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する、Ｊ．Ｍ． Ｈｕｂｅｒが市販するＺＥＯＤＥＮＴ（登録商標）１１５が含まれる。こうしたシリカ粒子の白色度は、約９５より大きい。こうした浄化研磨剤は、特定の態様において、口腔組成物の第二の研磨剤を構成する。
［００２２］歯磨き剤が清澄または透明なゲルである態様では、コロイド性シリカ、例えばＳＹＬＯＩＤ（登録商標）７２およびＳＹＬＯＩＤ（登録商標）７４として商標ＳＹＬＯＩＤ（登録商標）のもとに、あるいは商標ＳＡＮＴＯＣＥＬ（登録商標）１００アルカリ金属アルミナ−シリケート複合体のもとに販売されているものは、特に有用であり、これは、これらが歯磨き剤で一般的に用いられるゲル化剤−液体（水および／または保湿剤を含む）系の屈折率に近い屈折率を有するためである。
［００２３］本発明の多様な態様にしたがって、第一および第二の研磨剤は、定期的組成物中で組み合わされて、浄化能、穏やかさ（研磨性が比較的低い）、および審美的に許容されうる定期的ケア組成物を提供する。多様な態様において、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の量は、約１：１．６〜約１．６：１の範囲の第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比によって表されうる。例えば、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１である。口腔組成物中に存在する第一の研磨剤および第二の研磨剤のそれぞれの量は、口腔組成物重量の約１３〜約２１％であってもよい。
［００２４］いくつかの態様において、第一の研磨剤の量は、口腔組成物重量の約１５％〜約１９％であり、そして第二の研磨剤の量は、約１５％〜約１９％である。特定の好ましい態様において、第一の研磨剤は、口腔組成物重量の約１７％で存在し、そして第二の研磨剤は、重量約１７％で存在する。したがって、本発明の多様な態様にしたがって、第一および第二の研磨剤を含む、定期的口腔ケア組成物中の研磨剤の総量は、好ましくは、定期的口腔ケア組成物総重量の約２５％より多く、さらにより好ましくは、約３０％より多く、そしていくつかの態様において、約３５％より多い。
［００２５］いくつかの態様において、定期的口腔組成物は、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第一の研磨剤、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第二の研磨剤を含む。第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１の範囲である。さらに、定期的口腔組成物は、約１００より大きいＰＣＲ、および約２００未満のＲＤＡを有する。特定の態様において、ＲＤＡは約１７５未満である。特定の態様において、第一の研磨剤は、約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収を有し、そして第二の研磨剤は、約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収を有する。いくつかの態様において、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１である。第一および第二の研磨剤両方を含む、研磨剤の総量は、約３０％より多い。第一の研磨剤および第二の研磨剤は、場合によって、それぞれ、各約１７％で存在する。いくつかの場合、第一および第二の研磨剤は、それぞれ、定期的口腔ケア組成物総重量の約１５％〜約１９％の量で存在する。第一および第二の研磨剤は、場合によって、シリカを含む。
［００２６］特定の態様において、定期的口腔組成物は、シリカを含み、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度、および約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収を有する、第一の研磨剤を含む。定期的口腔組成物は、シリカを含み、１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度、および約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収を有する、第二の研磨剤をさらに含む。第一の研磨剤は、組成物重量の約１３％〜約２１％の量で存在し、同様に、第二の研磨剤は重量約１３％〜約２１％の量で存在する。いくつかの態様において、第一の研磨剤および第二の研磨剤は、それぞれ、定期的口腔組成物重量の約１５％〜約１９％で存在する。特定の態様において、第一および第二の研磨剤は、それぞれ、口腔組成物重量の約１７％の量で存在する。ＰＣＲは、好ましくは１００より大きく、そしてＲＤＡは、好ましくは２００未満であり、そして特定の態様において、約１７５未満である。口腔組成物中に存在する第一および第二の研磨剤の総量は、好ましくは、約２５％より多く、さらにより好ましくは、約３０％より多い。
［００２７］特定の態様において、定期的口腔組成物は、シリカを含み、そして約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する、第一の研磨剤を含む。定期的口腔組成物は、シリカを含み、そして約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する、第二の研磨剤をさらに含む。第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１である。さらに、口腔組成物中に存在する第一および第二の研磨剤の総量は、組成物重量の約２５％より多い。
［００２８］特定の態様において、定期的口腔組成物は、約１：１．６〜約１．６：１の範囲である、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比を有する。特定の態様において、活性成分は、非イオン性抗細菌成分、例えば以下により詳細に論じられるであろうトリクロサンのようなハロゲン化ジフェニルエーテルを含む。いくつかの態様において、第一の研磨剤は、約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有し、そして第二の研磨剤は、約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する。
［００２９］本明細書記載の定期的口腔ケア組成物（一次および定期的両方）は、口腔的に許容されうるキャリアーを含んでもよい。口腔ケア組成物のためのキャリアーを形成するのに使用可能な慣用的な成分は、当業者に周知である。キャリアーは、液相、半固相、または固相であってもよい。口腔組成物は、歯磨き剤（練り歯磨き、歯磨き粉、および予防ペーストを含む）、菓子類（ガム、ビーズおよびチューズ（ｃｈｅｗｓ）を含む）、フィルム、塗装ゲル（ｐａｉｎｔ−ｏｎ ｇｅｌ）の形状、または研磨剤を使用する際に、当業者に知られる任意の他の形状であってもよい。特定のキャリアー構成要素の選択は、望ましい産物形状に応じる。
［００３０］特定の好ましい態様において、組成物（単数または複数）は、独立に、歯磨き剤の形状であり、この場合、典型的なキャリアーは、実質的に、半固体または固体である。キャリアーは、水性であってもよく、この場合、キャリアーは、好ましくは約５％〜約９５％の水を含む。他の態様において、キャリアーは、実質的に非水性である。キャリアーは、場合によって、例えば、口腔ケア活性成分、表面活性剤、例えば界面活性剤、乳化剤、および発泡調節剤、粘性修飾剤および増粘剤、保湿剤、希釈剤、充填剤、さらなるｐＨ修飾剤、着色剤、保存剤、溶媒、ならびにその組み合わせを含む。物質の上記カテゴリーの各々の一般的な属性は異なりうるが；いくつかの共通の属性がある可能性もあり、そしていかなる所定の物質も、物質のこうしたカテゴリーの２以上以内で、多数の目的を提供しうることが理解される。当業者に認識されるように、口腔組成物（単数または複数）には、先に記載した構成要素に加えて、他の物質も場合によって含まれ、これには例えば、軟化剤、モイスチャライザー、口腔感触剤等が含まれる。口腔組成物に適したキャリアーの例は、本明細書にその各々の内容が援用される、米国特許第６，６６９，９２９号、第６，３７９，６５４号および第４，８９４，２２０号に開示される。
［００３１］口腔ケア活性成分には、例えば、抗細菌活性剤、抗歯石剤、虫歯予防剤、抗炎症剤、抗敏感性剤、酵素、栄養分等が含まれる。本明細書において有用なものの中の活性剤はまた、米国特許第６，２９０，９３３号および第６，６８５，９２１号にも開示され、これらの各々の内容は、本明細書に援用される。
［００３２］本明細書にその内容が援用される米国特許第５，０８０，８８７号に列挙されるものなどの、任意の適切なフッ素イオン供給源が、いずれかまたは両方の口腔組成物（単数または複数）中に存在していてもよい。フッ化イオンの供給源、酸ホスファターゼ、およびピロホスファターゼ酵素阻害剤は、虫歯予防剤として当該技術分野に周知である。こうした供給源の例は、フッ化無機金属および／またはアンモニウム塩および化合物、例えば：フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、フッ化カルシウム；フッ化銅、例えばフッ化第一銅；フッ化亜鉛、フッ化バリウム；ケイフッ化ナトリウム、フルオロケイ酸アンモニウム、フルオロジルコン酸ナトリウム；ならびにモノフルオロリン酸ナトリウム、モノおよびジフルオロリン酸アルミニウム、およびフッ素化ピロリン酸ナトリウムカルシウムである。フッ化物供給源はまた、フッ化アミン、例えばオラフルル（Ｎ’オクタデシルトリメチレンジアミン−Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリス（２−エタノール）−ジヒドロフルオリド）であってもよい。フッ化ナトリウム、フッ化アミン、フッ化スズ、モノフルオロリン酸ナトリウム（ＭＦＰ）、およびその混合物が好ましい。
［００３３］いずれかまたは両方の口腔組成物（単数または複数）は、場合によって、抗歯石構成要素、例えば本明細書にその内容が援用される米国特許第５，２９２，５２６号に列挙される抗歯石構成要素の１以上を含む。多様な態様において、抗歯石構成要素には、１以上のポリホスフェートが含まれる。抗歯石組成物には、抗歯石性の有効量で口腔組成物中に存在する、少なくとも１つの完全にまたは部分的に中和されたトリポリリン酸またはヘキサメタリン酸アルカリ金属またはアンモニウム塩が含まれてもよい。抗歯石構成要素にはまた、抗歯石性の有効量で、少なくとも１つの水溶性、直鎖、分子的に脱水されたポリリン酸塩も含まれてもよい。抗歯石構成要素にはまた、カリウムおよびナトリウム塩の混合物も含まれてもよく、このうち少なくとも１つは、ポリリン酸抗歯石剤として、抗歯石性の有効量で存在する。他の有用な抗歯石剤には、ポリカルボン酸ポリマーおよびポリビニルメチルエーテル／無水マレイン酸（ＰＶＭ／ＭＡ）コポリマー、例えばＧＡＮＴＲＥＺ（登録商標）が含まれる。
［００３４］口腔ケア組成物中で有用であることが知られるすべての他の物質または分子が、毎日または定期的組成物のどちらかまたは両方に含まれていてもよい。例えば、こうしたさらなる分子には、抗細菌剤、抗歯垢剤、減感剤、抗炎症剤、着色剤、増粘剤、香味剤、界面活性剤、研磨剤、抗接着剤、虫歯予防剤、知覚剤（ｓｅｎｓａｔｅ）、および／またはビタミンが含まれてもよい。
［００３５］どちらかまたは両方の組成物に添加されてもよい他の構成要素には、スズ・イオン剤；トリクロサン；トリクロサン一リン酸；クロルヘキシジン；アレキシジン；ヘキセチジン；サンギナリン；塩化ベンザルコニウム；サリチルアニリド；臭化ドミフェン；塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）；塩化テトラデシルピリジニウム（ＴＰＣ）；Ｎ−テトラデシル−４−エチルピリジニウムクロリド（ＴＤＥＰＣ）；オクテニジン；デルモピノール；オクタピノール；ニシン；亜鉛イオン剤；銅イオン剤；精油；フラノン類；バクテリオシン類、エチルラウロイルアルギネート、モクレンの抽出物、金属イオン供給源、重炭酸アルギニン、ホオノキオール、マグノロール、ウルソル酸、ウルシック酸、モリン、シーバックソーンの抽出物、過酸化物、酵素、ツバキ属抽出物、フラボノイド、フラバン、ハロゲン化ジフェニルエーテル、クレアチン、およびプロポリスが含まれる。

Claims (16)

  1. 口腔表面を浄化し、口腔の健康を維持し、そして／または口腔の健康を増加させる方法であって：
    ａ．口腔表面と一次口腔ケア組成物を、少なくとも１日１回接触させ、そして
    ｂ．口腔表面と定期的口腔ケア組成物を、約４２日間の期間内に少なくとも１回接触させる；
    ここで、定期的口腔ケア組成物は、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第一の研磨剤、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する第二の研磨剤を含み、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１の範囲であり、そして定期的口腔組成物は、約１００より大きい薄膜（ｐｅｌｌｉｃｌｅ）浄化比、および約２００未満の放射性象牙質摩耗を有する
    工程を含む、前記方法。
  2. （ｂ）が、ブラシを用いて、口腔表面の定期的口腔ケア組成物を適用することによって達成される、請求項１の方法。
  3. 一次口腔ケア組成物が、研磨剤、抗細菌剤、歯垢分散剤、抗接着剤、虫歯予防剤、減感剤、香味剤（ｆｌａｖｏｒａｎｔ）、着色剤、および知覚剤（ｓｅｎｓａｔｅ）より選択される剤を含む、請求項１の方法。
  4. 一次口腔ケア組成物が、スズ・イオン剤；トリクロサン；トリクロサン一リン酸；クロルヘキシジン；アレキシジン；ヘキセチジン；サンギナリン；塩化ベンザルコニウム；サリチルアニリド；臭化ドミフェン；塩化セチルピリジニウム（ＣＰＣ）；塩化テトラデシルピリジニウム（ＴＰＣ）；Ｎ−テトラデシル−４−エチルピリジニウムクロリド（ＴＤＥＰＣ）；オクテニジン（ｏｃｔｅｎｉｄｉｎｅ）；デルモピノール（ｄｅｌｍｏｐｉｎｏｌ）；オクタピノール（ｏｃｔａｐｉｎｏｌ）；ニシン（ｎｉｓｉｎ）；亜鉛イオン剤；銅イオン剤；精油；フラノン類；バクテリオシン類、エチルラウロイルアルギネート、モクレン（ｍａｇｎｏｌｉａ）の抽出物、金属イオン供給源、重炭酸アルギニン、ホオノキオール、マグノロール、ウルソル酸、ウルシック酸（ｕｒｓｉｃ ａｃｉｄ）、モリン、シーバックソーン（ｓｅａ ｂｕｃｋｔｈｏｒｎ）の抽出物、過酸化物、酵素、ツバキ属（Ｃａｍｅｌｌｉａ）抽出物、フラボノイド、フラバン、ハロゲン化ジフェニルエーテル、クレアチン、およびプロポリスより選択される剤を含む、請求項１の方法。
  5. 口腔表面が一次口腔ケア組成物と１日２〜５回接触する、請求項１の方法。
  6. 定期的口腔ケア組成物が、約１７５未満の放射性象牙質摩耗を有する、請求項１の方法。
  7. 定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤が、約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収を有し、そして第二の研磨剤が、約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収を有する、請求項１の方法。
  8. 定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤が、約１１μｍ未満の平均粒子サイズを有し、そして第二の研磨剤が、約８μｍより大きい平均粒子サイズを有する、請求項１の方法。
  9. 定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤が、重量約１７％の量で存在し、そして定期的口腔ケア組成物の第二の研磨剤が、重量約１７％の量で存在する、請求項１の方法。
  10. 定期的口腔ケア組成物中の第一および第二の研磨剤の総量が、組成物重量の約３０％より多い、請求項１の方法。
  11. 定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤が、重量約１３％〜約２１％の量で存在し、そして定期的口腔ケア組成物の第二の研磨剤が、重量約１３％〜約２１％の量で存在する、請求項１の方法。
  12. 定期的口腔ケア組成物の第一の研磨剤および第二の研磨剤が、各々、シリカを含む、請求項１の方法。
  13. 口腔表面が定期的口腔ケア組成物と、４２日間の期間内に、４〜１８回接触する、請求項１の方法。
  14. 口腔表面が定期的口腔ケア組成物と、４２日間の期間内に、６回接触する、請求項１の方法。
  15. 口腔表面を浄化し、口腔の健康を維持し、そして／または口腔の健康を増加させる方法であって：
    ａ．口腔表面と一次口腔ケア組成物を、少なくとも１日１回接触させ、そして
    ｂ．口腔表面と定期的口腔ケア組成物を、約４２日間の期間内に少なくとも１回接触させる；
    ここで、定期的口腔ケア組成物は、第一の研磨剤であって、シリカを含み、１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度、および約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収を有する、前記の第一の研磨剤、ならびに第二の研磨剤であって、シリカを含み、１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度、および約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収を有する、前記の第二の研磨剤を含み、第一の研磨剤は重量約１３％〜約２１％の量で存在し、そして第二の研磨剤は重量約１３％〜約２１％の量で存在する
    工程を含む、前記方法。
  16. 口腔表面を浄化し、口腔の健康を維持し、そして／または口腔の健康を増加させる方法であって：
    ａ．口腔表面と一次口腔ケア組成物を、少なくとも１日１回接触させ、そして
    ｂ．口腔表面と定期的口腔ケア組成物を、約４２日間の期間内に少なくとも１回接触させる；
    ここで、定期的口腔ケア組成物は、第一の研磨剤であって、シリカを含み、そして約９０ｃｍ３／１００ｇ未満の油吸収、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇより大きい喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する、前記の第一の研磨剤、ならびに第二の研磨剤であって、シリカを含み、そして約９０ｃｍ３／１００ｇより大きい油吸収、および１００，０００回転あたり、約５ｍｇ未満の喪失のＥｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を有する、前記の第二の研磨剤を含み、第二の研磨剤に対する第一の研磨剤の比は、約１：１．６〜約１．６：１であり、そして口腔組成物中に存在する第一および第二の研磨剤の総量は、組成物重量の約２５％より多く、該口腔組成物は、約１００より大きい薄膜浄化比、および約２００未満の放射性象牙質摩耗を有する
    工程を含む、前記方法。
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