JP4813566B2

JP4813566B2 - 口腔ケア組成物用の研磨剤系

Info

Publication number: JP4813566B2
Application number: JP2008547777A
Authority: JP
Inventors: プレンシプ，マイケル; イブラヒム，セイド
Original assignee: Colgate Palmolive Co
Current assignee: Colgate Palmolive Co
Priority date: 2005-12-21
Filing date: 2006-12-21
Publication date: 2011-11-09
Anticipated expiration: 2026-12-21
Also published as: EP2517691A2; AU2006338180B2; US20130195942A1; CA2631738C; EP1973516A2; JP2009521509A; BRPI0620342A2; MY157900A; CA2631738A1; US20070140986A1; TW200744651A; AU2006338180A1; WO2007094891A2; WO2007094891A3; CN101340888A; AR058648A1; ZA200804876B; TWI434702B; RU2008129702A; EP2517691A3

Description

発明の詳細な説明

関連出願の引照
[0001] 本出願は米国仮特許出願No. 60/752,340（2005年12月21日出願）に基づく優先権を主張し、その全体を本明細書に援用する。

発明の背景
[0002] 口腔用組成物に用いる研磨剤は、歯の外面を清掃し（debride）、物理的にスクラビングする（こすり落とす、scrub）。このスクラビング作用により、歯の表面にある主に唾液タンパク質、細菌および細菌副産物から形成された有機バイオフィルム（すなわち外皮(pellicle)）が除去される。これは食物、たとえばコーヒー、茶およびベリー類、ならびに喫煙、カチオン性化合物および色素産生菌により着色および変色する可能性がある。着色した外皮のこのような物理的除去は、日常的に起きる望ましくない表面着色および変色を除去するための簡単で効果的な手段である。さらに、このような物理的な外皮除去により外皮表面の歯垢細菌も除去され、これにより歯肉炎、歯周炎および齲歯形成の可能性が最小限に抑えられる。しかし、口腔用組成物、たとえば歯みがき剤は、歯のエナメル質または組織に対する潜在的な損傷が生じるほど高い研磨性をもつべきではない。したがって、口腔用組成物の清浄および／または艶出効力を最適にし、一方では口腔表面の潜在的な損傷を避けるために有害な摩損性を最小限に抑えた、口腔用組成物を開発することが望ましい。

発明の概要
[0003] 多様な態様において、本発明は、
100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度（Einlehner hardness）を有する第１研磨剤；および
100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度を有する第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、第１研磨剤と第２研磨剤の比率が約1:1.6〜約1.6:1であり、約100を超える外皮清浄率（pellicle cleaning ratio (PCR)）および約200未満の放射性象牙質研磨度（radioactive dentin abrasion (RDA)）を有する口腔用組成物に関する。

[0004] 多様な態様において、本発明は、
シリカを含み、100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度および約90cm³/100g未満の油吸収度を有する、第１研磨剤；および
シリカを含み、100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度および約90cm³/100gを超える油吸収度を有する、第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、第１研磨剤が組成物の約13〜約21重量％の量で存在し、第２研磨剤が組成物の約13〜約21重量％の量で存在する口腔用組成物に関する。

[0005] 多様な態様において、本発明は、
シリカを含み、約90cm³/100g未満の油吸収度および100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度を有する、第１研磨剤；および
シリカを含み、約90cm³/100gを超える油吸収度および100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度を有する、第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、第１研磨剤と第２研磨剤の比率が約1:1.6〜約1.6:1であり；口腔用組成物中に存在する第１研磨剤と第２研磨剤の全量が組成物の約25重量％を超え；約100を超える外皮清浄率および約200未満の放射性象牙質研磨度を有する口腔用組成物に関する。

[0006] 多様な態様において、本発明は口腔表面への口腔用組成物中の有効成分の送達を向上させる方法であって、
口腔用組成物を口腔に導入することを含み、その際、口腔用組成物は有効成分、第１研磨剤および第２研磨剤を含み、第１研磨剤および第２研磨剤はそれぞれシリカを含み、それぞれが約13〜約21重量％の量で存在し、口腔用組成物は約100を超える外皮清浄率および約200未満の放射性象牙質研磨度を有する方法を提供する。本発明組成物を口腔表面と接触させる。口腔用組成物中の有効成分の送達は、シリカをむ研磨剤および約100未満の外皮清浄率を有する比較組成物より大きい；
そして
組成物を口腔表面と接触させ、その際、有効成分の送達は、シリカを含む研磨剤および約100未満の外皮清浄率を有する比較組成物より大きい。

[0007] 多様な態様において、本発明は、
100,000回転当たりの損失が約10 mgを超えるアインレーナー硬度を有する第１研磨剤；および
100,000回転当たりの損失が約10 mg未満のアインレーナー硬度を有する第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、第１研磨剤と第２研磨剤の比率が約1:1.6〜約1.6:1であり、約100を超える外皮清浄率(PCR)および約200未満の放射性象牙質研磨度(RDA)を有する口腔用組成物に関する。

発明の詳細な記述
[0008] 本明細書中で用いるように、本明細書に記載するすべての測定値は、別途指示しない限り全組成物のうちの重量％である。さらに、本明細書に引用するすべての参考文献の全体を本明細書に援用する。ただし、本発明の開示におけるいずれかの定義と引用した参考文献中の定義の間に矛盾がある場合、本発明の開示が支配する。

[0009] 多様な態様において、第１研磨剤および第２研磨剤を含む口腔用組成物が提供される。本発明の口腔用組成物のための研磨剤の選択は、組成物を普通に使用する際に歯のエナメル質が過度に磨損することなく十分に清浄および／または艶出されるのを保証するために、研磨剤のタイプ、細かさ（粒度）、粒度分布、および研磨剤の量を考慮に入れることができる。口腔ケアに関して、研磨剤の効力を歯みがき剤の清浄度または研磨度の基準、すなわちそれぞれ外皮清浄率(PCR)および放射性象牙質研磨度(RDA)に基づいて表わすことができる。PCRおよびRDAを求める方法は、たとえばU.S.P. No. 5,939,051および6,290,933に記載されている。

[0010] 一般に認められている慣例において、口腔用組成物のRDA値は、反復使用に伴いエナメル質／象牙質が損傷を受けるのを避けるために一般に250未満に維持される。しかし、より高いPCRを達成するためには一般に研磨剤の量および硬度を高めなければならず、これによって一般にRDAが増大することが知られている。たとえば、歯みがき剤組成物のRDA値がある数値、たとえば約100〜約115を超えた場合、その歯みがき剤は必ずしもそれに対応して歯みがき剤の清浄性能の向上を示すわけではないことが観察された。約80または90を超えるPCRをもち、なおかつ250未満、より好ましくは200未満のRDAをもつ口腔用組成物を調製するのは、難しい問題であった。

[0011] ところが本発明のある態様において、100を超えるPCRをもち、一方では200未満のRDAをもつ口腔用組成物が達成された。ある態様において、RDAは約175以下であり、なおかつ約100を超えるPCRをもつ。ある態様において、RDAは165未満である。この点で、本発明の口腔用組成物は卓越した清浄および／または艶出効力を備え、一方ではエナメル質または象牙質に対する損傷を最小限に抑えるのに望ましいほど低いRDAを達成する。

[0012] 本発明組成物は、歯の表面を清浄および／または艶出することができる。清浄研磨剤および／または艶出研磨剤は多様な物理的パラメーターにより分類できる。当業者に自明のとおり、単一種の研磨剤が一般に少なくともある程度は清浄と艶出を同時に行う。しかし、当技術分野で粒子は一般に標的口腔表面に対してそれらがもつ主要な効果により分類される。

[0013] 本明細書中で用いる用語”清浄（cleaning）”は、一般に標的表面の夾雑物、汚れ、不純物および／または外来物質の除去を表わす。たとえば、口腔表面については表面は歯のエナメル質であり、清浄により少なくとも一部の薄膜または着色、たとえば歯垢バイオフィルム、外皮または歯石を除去することができる。本明細書中で用いる用語”艶出（polishing）”は、一般に表面をより滑らかおよび／またはより光沢のあるものにする仕上げまたはみがき上げ処理を表わす。艶出および清浄は、着色除去がなされた表面の光沢処理、たとえば歯の表面の増白をもたらすこともできる。

[0014] 一般に、”艶出研磨剤”は高い硬度をもつ比較的小さな粒子であると考えられ、比較的大きな粒度および低い硬度をもつ研磨剤は”清浄研磨剤”であると考えられる。さらに、研磨剤が表面と相互作用するのに伴って示す挙動は、それがいかに良好に表面を艶出する（または”ラップ仕上げする(lap)”）かの指標となる；望ましい艶出剤は表面との接触が進行するのに伴って、通常は破壊されて次第に小さな断片になるからである。ラップ挙動は、研磨剤が破壊されて次第に微細な粒度になりやすい性質に関連し、一般にたとえば研磨剤粒子の結晶形態、へき開線および脆破性に基づくと考えられる。

[0015] したがって、研磨剤は一般に、より軟質の清浄研磨剤からより硬質の艶出研磨剤にわたる勾配で分類される。ある態様において、標的口腔表面を清浄および／または艶出する方法は、第１研磨剤および第２研磨剤を含む口腔用組成物と表面を接触させることを含む。本発明組成物の第１研磨剤は第２研磨剤と異なる種であってもよい；これは、それぞれの研磨剤が標的表面に対して異なる作用をもつ可能性があること、たとえば研磨度勾配において異なるカテゴリーに分類されることを意味する。任意数の研磨剤をこの様式で選択できる。たとえば、第１研磨剤は比較的低い清浄性の研磨剤であり、第２研磨剤は比較的高い清浄性の研磨剤であってもよい。第１研磨剤は清浄研磨剤であり、第２研磨剤は艶出研磨剤であってもよい。本発明の口腔用組成物が場合により複数の異なる種の研磨剤を含んでもよく、必ずしも第１研磨剤と第２研磨剤のみに限定されないことを留意すべきである。

[0016] 粒子の研磨性を分類するために、たとえば硬度を含めた他のパラメーターも有用である。硬度は当業者に既知の多数の異なる試験法により表わすことができ、これにはアインレーナー、ヌープ、ビッカースおよびロックウェル硬度試験法、ならびにモース硬度スケールが含まれる。研磨剤粒子を評価するのに特に有用な方法のひとつは、アインレーナー硬度値である。アインレーナー硬度値は、Einlehner At-1000摩耗試験機を用いて下記の様式で研磨剤粒子の軟度を測定することにより得られる：フォードリニエ（Fourdrinier）黄銅金網を秤量し、特定回転数の研磨剤懸濁液（たとえば研磨剤の10%水性懸濁液）の作用に曝露する。硬度値は100,000回転当たりのフォードリニエ金網の損失mgとして表わされる。たとえばある態様において、本発明の口腔用組成物は、100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度をもつ第１研磨剤および100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度をもつ第２研磨剤を含む。ある態様において、第１研磨剤は100,000回転当たりの損失が約10 mgを超えるアインレーナー硬度をもち、第２研磨剤は100,000回転当たりの損失が約10 mg未満のアインレーナー硬度をもつ。

[0017] 第１粒子が、100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度をもつ場合、それを口腔表面と接触させた際に艶出機能をより多くもつ可能性がある。第２研磨剤が、100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度をもつ場合、それは比較的軟質の粒子であるので、清浄機能をより多くもつ可能性がある。第２研磨剤は、ある態様において100,000回転当たりの損失が約10 mgを超えるアインレーナー硬度をもち、他の態様においては100,000回転当たりの損失が約15 mgを超えるアインレーナー硬度をもつ。

[0018] ある態様において、第１研磨剤は処置する口腔表面の硬度以下の硬度をもつ清浄研磨剤であり、第２研磨剤は処置する口腔表面の硬度以上の硬度をもつ艶出研磨剤である。

[0019] 研磨剤粒子の構造も研磨性を反映する可能性がある：比較的低次の構造はより高い研磨性をもつ傾向があり、比較的高次の構造はより低い研磨性をもつ傾向がある。粒子構造は、100 g当たりの亜麻仁油またはフタル酸ジブチル(DBP)の吸収を指標とすることができる。油吸収値（oil absorption value）は、ASTM Rub-Out Method D281を用いて測定できる。

[0020] ある態様において、第１研磨剤は約90cm³/100g未満の油吸収構造をもち、第２研磨剤は約90cm³/100gを超える油吸収構造をもつ。多様な態様において、第１研磨剤の粒子は約80cm³/100g未満、約70cm³/100g未満、約60cm³/100g未満の油吸収構造をもつ。多様な態様において、第２研磨剤の粒子は約100cm³/100gを超える、または約110cm³/100gを超える油吸収度をもつ。

[0021] 粒度は研磨剤の清浄および／または艶出効力の指標となりうる。ある態様において、第１研磨剤は第１粒度をもち、第２研磨剤は第２粒度をもつ。ある態様において、第１粒度は第２粒度より低い。平均粒度は、Malvern粒度分析計、モデルMastersizer S、Malvern Instruments, Inc.（米国マサチュセッツ州サウスボロー）を用いて測定できる。水溶液に懸濁した研磨剤を入れた透明なセルに、ヘリウム-ネオンガス-レーザービームを投射する。粒子に衝突した光線は、粒度に反比例した角度で散乱する。光検出器アレイにより、予め定めた幾つかの角度の光線量を測定する。次いで、光束測定値に比例する電気信号を、試料および水性分散剤の屈折率により決定された、理論粒子から推定した散乱パターンに対比させてマイクロコンピューターシステムで処理し、被験研磨剤の粒度分布を判定する。

[0022] 多様な態様において、第１研磨剤は約11μm未満、または約10μm未満の平均粒度をもつ。たとえば適切な例の研磨剤は、約7〜11μmの平均粒度をもつ。ある研磨剤は、約5μm未満の平均粒度をもつ。多様な態様において、第２研磨剤は約8μmを超える、または約10μmを超える平均粒度をもつ。ある態様において、第２研磨剤は約8〜14μmの平均粒度をもつ。

[0023] ある態様において、本発明組成物はヒトまたは他の動物について口腔用として安全であり、前記に述べた要件を満たす口腔用としてまたは審美的に許容できるいずれかの研磨剤を口腔用組成物のために選択できる。適切な研磨剤には下記のものが含まれるが、これらに限定されない：シリカ、ケイ酸塩、ケイ素、アルミナ（か焼した酸化アルミニウムを含む）、アルミノケイ酸塩、たとえばベントナイト、ゼオライト、カオリンおよび雲母、ケイ質土またはケイソウ土、軽石、炭酸カルシウム、イカの甲（cuttlebone）、不溶性ホスフェート、複合樹脂、たとえばメラミン樹脂、フェノール樹脂および尿素-ホルムアルデヒド樹脂、ポリカーボネート、炭化ケイ素、炭化ホウ素、ミクロクリスタリンワックス、微結晶性セルロース：コロイド状微結晶性セルロースおよびカルボキシメチルセルロースの組合わせであって、商品名AVICEL(登録商標)でFMC Biopolymer（米国ペンシルベニア州フィラデルフィア）から市販されているものを含む、ならびにその組合わせおよび誘導体。

[0024] 本明細書中で用いる”雲母”は、板状形態および完全底面（雲母状）へき開を伴う水和ケイ酸アルミニウム鉱物グループのいずれかを表わす。雲母は、たとえば板状マイカ（sheet mica）、等外マイカ（scrap mica）またはフレークマイカ（flake mica）、たとえば白雲母（マスコバイト(muscovite)）、黒雲母（バイオタイト(biotite)）、または金雲母（フロゴパイト(phlogopite)）タイプであってもよい。研磨剤として有用な不溶性ホスフェートには、オルトホスフェート、ポリメタホスフェートおよびピロホスフェートが含まれる。具体例は、オルトリン酸二カルシウム2水和物、リン酸二カルシウム2水和物、リン酸水素カルシウム、ピロリン酸カルシウム、β-ピロリン酸カルシウム、リン酸三カルシウム、メタリン酸カルシウム、メタリン酸カリウム、およびメタリン酸ナトリウムである。

[0025] 合成シリカには、ケイ酸塩水溶液を強い鉱酸で中和することにより製造されるシリカゲルおよび沈降シリカが共にが含まれる。シリカゲルを製造する際には、シリカヒドロゲルを形成させ、次いでこれを一般に低い塩含量になるまで洗浄する。洗浄したヒドロゲルを摩砕して目的サイズにするか、さもなければ最終的にその構造がもはや収縮の結果として変化しなくなる点まで乾燥させることができる。そのような合成シリカを製造する場合、目標は、歯のエナメル質その他の口腔組織に対する損傷を最小限に抑えて最大の清浄度（すなわち、着色した外皮の除去）をもたらす研磨剤を得ることである。

[0026] シリカを含む研磨剤は、本発明のある態様に特に有用である。従来、シリカ系研磨剤を口腔用組成物中に高濃度で使用するのは著しく困難であった。これは、高濃度で付与した場合の口腔用組成物中における化学的および物理的不安定性、口当たりの問題、ならびに高いRDA値に反映される過度の研磨性のためである。しかし、シリカは口腔表面を効果的に清浄および／または艶出するので、研磨剤として特に魅力的な選択肢である。さらに、シリカは比較的不活性であり、口腔用組成物中の他の成分と適合性であり、かつ比較的安価である。したがって本発明のある態様においては、第１および第２両方の研磨剤がそれぞれシリカを含む。ある態様においては、第１研磨剤はより硬く、より小さな研磨剤、たとえばより高い清浄性および／または艶出性の研磨剤であるように選択され、第２研磨剤は一般に清浄研磨剤である。ある態様において、口腔用組成物は特に効果的な組合わせのシリカ研磨剤粒子種を含むことができる。

[0027] 口腔用組成物の調製に有用な研磨剤には、高清浄性、低次構造のシリカ研磨剤、たとえば商品名SYLODEN（登録商標）XWAまたはSYLODENT（登録商標）783でW. R. Grace & Co.のDavison Chemical Division（米国メリーランド州ボルチモア）により販売されているものが含まれる。SYLODENT（登録商標）XWA 650は、コロイドシリカの粒子からなるシリカヒドロゲルである。

[0028] シリカヒドロゲルの例には、多様な態様において約3〜約12μm、または約5〜約10μmの平均粒度をもち、5重量％スラリーとして測定した場合に約4〜約10、または約6〜約9のpHをもつ、シリカのコロイド粒子が含まれる。XWA 650の粒子は、約10〜約35重量％の水を含有し、約5〜約12μmの平均粒度、100,000回転当たりの損失が約5〜20 mg以上のアインレーナー硬度、および約90cm³/100g未満、たとえば約40〜約90cm³/100gの油吸収度をもつ。この研磨剤は、約100〜約700 m²/gのブルナウアー-エメット-テラー（Brunauer, Emmett and Teller (BET)）表面積をもつ。XWA 650は、96.8テクニダイン（technidyne）の輝度をもつ。そのような研磨剤がU.S.P. No. 6,290,933（Durgaら）に述べられている。

[0029] 他の有用な高清浄シリカ研磨剤はSYLODENT（登録商標）XWA 300として販売され、約10〜約25重量％の水を含有するシリカヒドロゲルであり、この場合、平均粒度は約2〜約4μmである。この粒子は約150〜約400 m²/gシリカのBET表面積をもつ。XWA 300研磨剤は、90 cm³/100 g未満の油吸収度；および沸騰(無CO₂)脱イオン水中5% w/w懸濁液において8.5以上のpHをもつ。そのような研磨剤は、たとえばU.S.P. No. 5,939,051（Santaluciaら）に述べられている。

[0030] 他の態様において、本発明に用いる高清浄シリカは、水分約5〜約35重量％の粒子であり、約7〜約11μmの平均粒度、100,000回転当たりの損失が約12〜19 mgのアインレーナー硬度、および約50〜約65cm³/100gの油吸収度をもつ、シリカ製品である。BET表面積は約100〜約700 m²/gシリカである。輝度は一般に約95テクニダインを超えると報告されている。そのようなシリカ製品はZEODENT（登録商標）105としてJ.M. Huber（米国メリーランド州アーブル・デ・グレース）から市販されている。

[0031] 他の有用な研磨剤には、一般的な清浄シリカ研磨剤、たとえば最高で約20μm、一般に約8〜約14μmの平均粒度をもち、約90〜約100cm³/100gを超える油吸収構造をもつ、沈降シリカが含まれる；たとえばZEODENT（登録商標）115、J. M. Huberにより販売され、粒子5%で約6.5〜7.5のpH、および100,000回転当たりの損失が約2〜4 mgのアインレーナー硬度をもつ。そのようなシリカ粒子の輝度は約95を超える。ある態様において、そのような清浄研磨剤は口腔用組成物の第２研磨剤を構成する。

[0032] ある態様において、口腔用組成物は澄明または透明なゲル状の歯みがき剤の形である。その場合、コロイドシリカ研磨剤、たとえば商標SYLOID（登録商標）、たとえばSYLOID（登録商標）72およびSYLOID（登録商標）74、または商標SANTOCEL（登録商標）100アルカリ金属アルミナ-ケイ酸塩複合体として販売されているものが特に有用である。これらの研磨剤は、歯みがき剤に一般に用いられるゲル化剤-液体（水および／または保湿剤を含む）系の屈折率に近似する屈折率をもつからである。

[0033] 多様な態様において、第１研磨剤と第２研磨剤を口腔用組成物中で組み合わせると、予想外に優れた清浄能、予測しなかった緩和な作用（比較的低い研磨度）、および審美的に許容できる口腔ケア組成物が提供される。多様な態様において、第１研磨剤と第２研磨剤の比率は約1:1.6〜約1.6:1である。たとえば、ある態様において第１研磨剤と第２研磨剤の比率は約1:1である。ある態様において、口腔用組成物中に存在する第１研磨剤および第２研磨剤それぞれの量は、口腔用組成物の約13〜約21重量％である。ある態様において、第１研磨剤の量は口腔用組成物の約15〜約19重量％であり、第２研磨剤の量は口腔用組成物の約15〜約19重量％である。ある態様において、第１研磨剤は口腔用組成物の約17重量％で存在し、第２研磨剤は口腔用組成物の約17重量％で存在する。多様な態様において、第１研磨剤および第２研磨剤を含む研磨剤の全量は口腔用組成物の約25重量％を超え、約30重量％を超え、または約35重量％を超える。

[0034] ある態様において、口腔用組成物は100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度を有する第１研磨剤、および100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度を有する第２研磨剤を含む。さらに、この口腔用組成物は約100を超えるPCRおよび約200未満のRDAをもつ。ある態様において、RDAは約175未満である。

[0035] ある態様において、第１研磨剤は約90cm³/100g未満の油吸収度をもち、第２研磨剤は約90cm³/100gを超える油吸収度をもつ。ある態様において、研磨剤の全量は約30%を超える。多様な態様において、第１研磨剤および第２研磨剤はそれぞれ、全組成物の約13〜約21重量％、約15〜約19重量％、または約17重量％の量で存在する。多様な態様において、第１研磨剤および第２研磨剤は場合によりシリカを含む。

[0036] ある態様において口腔用組成物は、シリカを含み、100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度および約90cm³/100g未満の油吸収度をもつ第１研磨剤；およびシリカを含み、100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度および約90cm³/100gを超える油吸収度をもつ第２研磨剤を含む。

[0037] 口腔用組成物はさらに、シリカを含み、約90cm³/100gを超える油吸収度および100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度をもつ第２研磨剤を含む。
[0038] 他の態様においては、口腔表面への口腔用組成物中の有効成分の送達を向上させる方法が提供される。多様な態様において、この方法は、口腔表面を含む口腔に口腔用組成物を導入することを含み、その際、口腔用組成物は有効成分、第１研磨剤および第２研磨剤を含む。ある態様において、第１研磨剤および第２研磨剤はそれぞれシリカを含み、それぞれが約13〜約21重量％の量で存在する。口腔用組成物は約100を超えるPCRおよび約200未満のRDAをもつ。この口腔用組成物を口腔表面と接触させる。後記にさらに詳細に述べるように、この口腔用組成物について、シリカを含むけれども約100未満のPCRをもつ比較組成物と比較して、有効成分の送達が大きいことが予想外に見いだされた。

[0039] 特定の態様において、有効成分は非イオン性抗菌成分、たとえばハロゲン化ジフェニルエーテル、たとえばトリクロサン（triclosan）を含む；これについては後記にさらに詳細に述べる。ある態様において、第１研磨剤は約90cm³/100g未満の油吸収度および100,000回転当たりの損失が約5 mgを超えるアインレーナー硬度をもち、第２研磨剤は約90cm³/100gを超える油吸収度および100,000回転当たりの損失が約5 mg未満のアインレーナー硬度をもつ。この口腔用組成物はさらに、有効性増強コポリマー、たとえばポリビニルメチルエーテルと無水マレイン酸のコポリマー、たとえばISP Corporation（ニュージャージー州ウェイン）が販売する市販のGANTREZ（登録商標）製品、および／または抗齲食有効薬剤を含むことができる；これについては後記にさらに詳細に述べる。

[0040] 本発明の口腔用組成物はさらに、口腔用として許容できるキャリヤーを含むことができる。口腔ケア組成物のキャリヤーを形成するために使用できる一般的な成分は、当業者に既知である。キャリヤーの具体的組成は、その組成物の意図する用途に依存する。キャリヤーは液相、半固体相または固相であってもよい。口腔用組成物は、歯みがき剤（練り歯みがき、歯みがき粉、および予防用ペースト剤を含む）、菓子（ガム、ビーズ、および噛み菓子（chew）を含む）、フィルム、塗布用ゲル剤（paint-on gel）の形態、または当業者に既知の、研磨剤を用いる他のいずれの形態であってもよい。具体的キャリヤー成分の選択は目的とする製品形態に依存する。

[0041] ある態様において、口腔用組成物は歯みがき剤の形態であり、キャリヤー例は実質的に半固体または固体である。キャリヤーは水性であってもよく、すなわち約5〜約95%の水を含む。他の態様においてキャリヤーは実質的に非水性である。キャリヤーは場合により、たとえば口腔ケア有効成分、界面活性剤、たとえばサーファクタント、乳化剤、および気泡調節剤、粘度調節剤および増粘剤、保湿剤、希釈剤、充填剤、追加のpH調節剤、着色剤、保存剤、溶剤、ならびにその組合わせを含む。上記カテゴリーの物質それぞれの一般的な特性は異なる可能性があるが、多少の共通な特性がある場合があり、いずれか特定の物質がそのような2以上の物質カテゴリー内において複数の目的で用いられる場合があることは理解される。当業者が認識するように、場合により本発明の口腔用組成物は前記に述べた成分のほかに他の物質を含有し、これにはたとえば皮膚軟化剤、補湿剤、口当たり改善剤などが含まれる。口腔用組成物に適切なキャリヤーの例は、U.S.P. No. 6,669,929（Boydら）、6,379,654（Gebreselassieら）および4,894,220（Nabiら）に述べられている。

[0042] 口腔ケア有効成分には、たとえば抗菌活性薬剤、抗歯石薬、抗齲食薬、抗炎症薬、脱感作薬、酵素、栄養素などが含まれる。本発明に有用な有効成分は、本発明の様式で使用した際に、その有効成分を投与するヒトまたは下等動物対象において、著しい有害な副作用（たとえば毒性、刺激、またはアレルギー性応答）なしに、妥当なリスク／有益性比と相応して、目的とする治療効果または予防効果を得るのに十分な、安全かつ有効な量で、場合により本発明組成物中に存在する。有効成分の具体的な安全かつ有効な量は、処置される特定の状態、対象の身体状態、併用療法（あるとすれば）の性質、使用する具体的な有効成分、具体的な剤形、使用するキャリヤー、および目的とする投与計画などの要因に伴って異なるであろう。そのような状態の処置に有用な有効成分には、米国特許出願公開2003/0206874（Doyleら）に述べられたものが含まれる。本発明に有用な有効成分に含まれるものは、U.S.P. 6,290,933（Durgaら）およびU.S.P. 6,685,921（Lawlorら）にも述べられている。

[0043] いずれか適切なフッ化物イオン源、たとえばU.S.P. No. 5,080,887（Gaffarら）に述べられたものが本発明の口腔用組成物中に存在してもよい。フッ化物イオン源、酸性ホスファターゼ、およびピロホスファターゼ酵素阻害薬は、抗齲食薬として当技術分野で周知である。フッ化物イオン源は水にわずかに可溶性であってもよく、あるいは完全に水溶性であってもよい。それは、フッ化物イオンを水中に放出できること、および口腔製剤の他の成分と目的外の反応をしないことを特色とする。そのような供給源の例は、無機のフッ化金属および／またはアンモニウム塩および化合物、たとえば下記のものである：フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、フッ化カルシウム；フッ化銅、たとえばフッ化銅(I)；フッ化亜鉛、フッ化バリウム；ケイフッ化ナトリウム、フルオロケイ酸アンモニウム、フルオロジルコン酸ナトリウム；ならびにモノフルオロリン酸ナトリウム、モノ-およびジ-フルオロリン酸アルミニウム、ならびにピロリン酸カルシウムナトリウムフッ化物。フッ化物源は、アミンフッ化物、たとえばオラフル（olaflur）(N'オクタデシルトリメチレンジアミン-N,N,N'-トリス(2-エタノール)-ジヒドロフルオリド)であってもよい。

[0044] フッ化物供給源の量は、ある程度は供給源のタイプ、その溶解度、およびタイプまたは口腔製剤に依存するが、製剤中に無毒性量、一般に約0.001〜約3.0%で存在するであろう。歯みがき剤、たとえば歯科用ゲル剤、練り歯みがき（クリーム剤を含む）、歯みがき粉、または歯科用錠剤において、最高で製剤重量の約5,000 ppmのF^-イオンを放出する量の供給源で十分であると考えられる。そのような供給源の任意の適切な最小量を使用できるが、多様な態様において最小量は約300〜2,000 ppm、約500〜約1,800 ppm、または約800〜約1,500 ppmのフッ化物イオンを放出するのに十分な量である。

[0045] 本発明の口腔用組成物は、場合により抗歯石組成物、たとえばU.S.P. No. 5,292,526（Gaffarら）に述べられた１種類以上の抗歯石組成物を含む。多様な態様において、抗歯石組成物は１種類以上のポリホスフェートを含有する。抗歯石組成物は、口腔用組成物中に抗歯石有効量で存在する少なくとも１種類の完全中和または部分中和された、トリポリリン酸またはヘキサメタリン酸のアルカリ金属塩またはアンモニウム塩を含有することができる。抗歯石有効薬剤は、抗歯石量で有効な少なくとも１種類の水溶性、線状、分子脱水ポリリン酸塩を含有することもできる。抗歯石有効薬剤はカリウム塩とナトリウム塩の混合物を含有することもでき、これらのうち少なくとも１種類はポリリン酸塩-抗歯石薬として抗歯石有効量で存在する。抗歯石有効薬剤は、カリウム塩とナトリウム塩の混合物として存在する抗歯石有効量の線状、分子脱水ポリリン酸塩-抗歯石薬を含有することもできる。組成物におけるカリウム塩とナトリウム塩の比率は、最高で3:1未満であってよい。これらのポリリン酸塩は、口腔用組成物中に多様な量、たとえばポリリン酸塩イオンと抗菌薬の重量比が0.72:1以上もしくは4:1未満の範囲である量、または抗菌作用増強薬とポリリン酸塩イオンの重量比が約1:6〜約2.7:1の範囲である量、または抗菌作用増強薬とポリリン酸塩の重量比が約1:6〜約2.7:1の範囲である量で存在することができる。他の有用な抗歯石薬には、ポリカルボキシラートポリマーおよびポリビニルメチルエーテル／無水マレイン酸（PVM/MA）コポリマー、たとえばGANTREZ(登録商標)が含まれる。

[0046] 本発明の歯みがき剤中に有用な他の有効薬剤は抗菌薬であり、これらは口腔用組成物の約0.001〜約3.0重量％の量で存在することができる。有用な他の口腔ケア化合物のリスト（限定ではない）には非イオン性抗菌薬が含まれ、これには下記のフェノール系およびビフェノール系化合物が含まれる：たとえば下記を含むハロゲン化ジフェニルエーテル：トリクロサン(2,4,4'-トリクロロ-2'-ヒドロキシ-ジフェニルエーテル)、トリクロカルバン（triclocarban）(3,4,4-トリクロロカルボアニリド)、ならびに2-フェノキシエタノール、安息香酸エステル、およびカルボアニリド類。ハロゲン化ジフェニルエーテル、たとえばトリクロサンは、たとえば口腔用組成物の約0.3重量％の量で存在することができる。

[0047] 適切な界面活性剤は、広いpH範囲にわたって妥当な程度に安定なものである。これらの化合物は当技術分野で周知であり、これには非石けん系のアニオン性（たとえばラウリル硫酸ナトリウム(SLS)、N-ミリストイルおよびN-パルミトイルサルコシン）、非イオン性（たとえばポリソルベート(Polysorbate) 20 (ポリオキシエチレン20ソルビタンモノラウレート、トゥイーン(Tween(登録商標))20)およびポリソルベート80 (ポリオキシエチレン20ソルビタンモノオレエート、トゥイーン(登録商標)80)、ポロキサマー(Poloxamer)407、商品名Pluronic(登録商標)F127でBASF Corporationから入手できる）、カチオン性、両性イオン性（たとえばコカミドプロピルベタインおよびラウラミドプロピルベタイン）、ならびに両性有機合成界面活性剤が含まれる。口腔用組成物中に使用するのに適切な界面活性剤の例は、たとえば特にU.S.P. No. 4,894,220（Nabiら）、6,555,094（Glandorfら）、および6,706,256（Lawlorら）に述べられている。多様な態様において、１種類以上の界面活性剤が本発明の口腔用組成物中に約0.001〜約5%、または約0.5〜約2.5%の範囲で存在する。

[0048] 口腔用組成物中に場合により使用するための増粘剤には、天然および合成のガムおよびコロイド、たとえばカラギーナン（アイリッシュモス）、キサンタンガム、カルボキシメチルセルロースナトリウム、デンプン、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルプロピルセルロース、ヒドロキシブチルメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、およびヒドロキシエチルセルロースが含まれる。無機増粘剤には増粘剤として機能する非晶質シリカ化合物が含まれ、たとえば下記の商標で入手できるコロイドシリカ化合物が含まれる：Cab-o-silヒュームドシリカ：Cabot Corporationが製造し、Lenape Chemical（米国ニュージャージ¬州バウンド・ブルック）が販売；ZEODENT(登録商標) 165、J.M. Huber Chemicalsから；およびSylox 15：SYLODENT(登録商標)15としても知られ、W.R. Grace Corp.のDavison Chemical Divisionから入手できる。多様な態様において、増粘剤は歯みがき剤組成物中に約0.1〜約10重量％、または約0.5〜約4重量％の量で存在する。

[0049] 本発明の歯みがき剤組成物の調製に用いる口腔用として許容できる歯みがき剤キャリヤービヒクルは、場合により保湿剤を含む。保湿剤はグリセリン、ソルビトール、およびキシリトール、約200〜約1,000の分子量のプロピレングリコール、または他の保湿剤、ならびにその混合物であってもよい。保湿剤の濃度は、一般に合わせて口腔用組成物の約5〜約70重量％である。水は一般的に少なくとも口腔用組成物の約10重量％、一般に約25〜約70重量％の量で存在する。

[0050] 合成アニオン性線状ポリカルボキシラートは、口腔用組成物中の抗菌薬、抗歯石薬、または他の有効薬剤を含めた、ある種の有効成分を含む口腔用組成物中に、場合により使用するための効力増強剤である。そのようなアニオン性ポリカルボキシラートは、一般にそれらの遊離酸、または部分もしくは完全中和した水溶性のアルカリ金属（たとえばカリウム、および好ましくはナトリウム）塩またはアンモニウム塩の形で用いられる。用語”合成”および”線状”には、カルボキシメチルセルロースその他のセルロース誘導体および天然ガムを含めた既知の増粘剤またはゲル化剤は含まれず、架橋のため低い溶解度をもつカルボポール類も含まれない。

[0051] 好ましいコポリマーは、無水マレイン酸またはマレイン酸と他の重合性エチレン性不飽和モノマー、好ましくはメチルビニルエーテル（メトキシメチレン）との1:4〜4:1コポリマーであって、約30,000〜約1,000,000の分子量(M.W.)をもつものである。有用なコポリマーのひとつは、メチルビニルエーテル／無水マレイン酸である。これらのコポリマーの例は、ISP Corporationから商品名GANTREZ(登録商標)で入手できる：たとえばAN 139 (M.W. 1,100,000)、AN 119 (M.W. 200,000)；S-97医薬用(M.W. 1,500,000)、AN 169 (M.W. 2,000,000)、およびAN 179 (M.W. 2,400,000)；これらにおいて、好ましいコポリマーはS-97医薬用(M.W. 1,500,000)である。アニオン性ポリカルボキシラートが存在する場合、それらは目的とするいずれかの抗菌薬、抗歯石薬、または歯みがき剤組成物中の他の有効薬剤の効力増強を達成するのに有効な量で用いられる。多様な態様において、口腔用組成物に含有される合成アニオン性ポリカルボキシラートは、口腔用組成物の約0.001〜約5%、または約0.1〜約2.0%の量で存在する。

[0052] 本発明の口腔用組成物は、成分を組み合わせて口腔ケア組成物を調製するための、当技術分野で既知のいずれかの方法により調製できる。使用できる方法の例は、たとえばU.S.P. No. 6,403,059（Martinら）；Clinical Pharmacology for Dental Professionals (Mosby-Year Book, Inc., 第3版 1989); Mosby's Dental Hygiene: Concepts, Cases and Competencies, (編者Daniel, S.およびHarfst, Elsevier Science Health Science Div. 2002); およびErnest W. Flick, Cosmetic and Toiletry Formulations, 第2版に述べられている。

[0053] 本発明は、本発明の口腔用組成物を口腔表面の清浄および／または艶出に使用する手法および方法を提供する。さらに本発明の口腔用組成物は、場合により口腔状態、たとえば口腔炎症状態、歯垢および歯石を治療および予防する。本発明の口腔用組成物を、当技術分野で既知のいずれか適切な様式で対象に適用することができる；たとえば口腔用組成物を、適切なアプリケーターまたは送達用具、たとえばブラシ、歯科用ストリップ、フィルム、注射器、テープ、丸剤、または当技術分野で既知である他のいずれかのアプリケーターもしくは送達器具を用いて対象の口腔に導入することによる。本発明組成物は、口腔の健康状態や外観の増進および維持ならびに全身の健康状態の維持などのための予防的な手法および方法に使用できる。本発明の口腔用組成物は、着色、歯垢または歯石（calculus、tartar）の形成を治療および／または予防するために、特定の処置計画に従い、多数日間にわたって対象に反復適用することができる。処置計画を開始するための指示を、工業生産した製品に工業的に包装する際に付与し、貯蔵することができる。

[0054] 本発明を限定ではない下記の実施例によってさらに説明する。
実施例１
[0055] 表Ｉに歯みがき剤１として挙げる成分を含む本発明の歯みがき剤組成物を、下記の方法で調製する：サッカリンナトリウム、安息香酸ナトリウム、モノフルオロリン酸ナトリウム、および他のいずれかの塩類を水に分散させ、一般的なミキサーで撹拌下に混合する。保湿剤、たとえばグリセリンおよびソルビトールをこの水性混合物に撹拌下で添加する。次いで有機増粘剤、たとえばカルボキシメチルセルロースナトリウム、カラギーナン、および他のいずれかのポリマー、たとえばGANTREZ(登録商標)を添加する。

[0056] 得られた混合物を均質なゲル相が形成されるまで撹拌する。次いでこの混合物を高速真空ミキサーへ移し；ここで研磨剤を添加する。次いで混合物を高速で5〜30分間、約20〜50 mm Hg、好ましくは約30 mmHgの真空下で混合する。香油を秤量し、次いでトリクロサンをこの香油に添加する。この香油とフラボノイドの混合物を、上記の混合物に添加する。界面活性剤、たとえばラウリル硫酸ナトリウム(SLS)をミキサーに装入する。得られた製品は均質な半固体状の押出し可能なペーストまたはゲル状製品である。得られた歯みがき剤をブラシまたは他のアプリケーターで口腔表面に適用することができる。

[0057] 歯みがき剤AおよびBは比較例であり、歯みがき剤１について前記に述べたものと同じ方法で調製される。

実施例II
[0058] 本発明に従って調製した歯みがき剤１について、歯みがき剤AおよびBと比較したPCRおよびRDAデータを表IIに示す。

[0059] RDAは、米国歯科協会（American Dental Association）が推奨する方法に従って測定される；Hefferren, Journal of Dental Research, Volume 55, Issue 4, 1976年7-8月, pp. 563-573に示され、U.S.P. No. 4,340,583、4,420,312および4,421,527（すべてWason）に記載されている。

[0060] PCRは、前記のように茶やコーヒーによる歯の着色の除去効力を標準品に対比して測定するために用いられるインビトロ法である。本明細書中に述べるPCR値は、”歯みがき剤によるインビトロでの着色除去”, G. K. Stookey, et al J. Dental Research, 61, 123-9 (1982)に記載された方法の改変により得られる。本明細書中で用いたPCR法の改変は、U.S.P. No. 5,658,553および5,651,958（両方ともRice）に記載されている。Stookeyらによる元の方法では外皮と着色を同時に付与するのに対し、この改変法では清浄な外皮物質をウシの歯に最初に付与し、次いでこれを外皮物質と茶、コーヒーおよびFeCl₃の組合わせで着色する。

[0061] 歯みがき剤Bは、それぞれ10重量％の高清浄シリカ(XWA 650)および普通の清浄シリカ(ZEODENT(登録商標) 115)の組合わせを含む代表的な口腔用組成物配合物である。歯みがき剤Bは、約85のPCRおよび138のRDAをもつ対照である。分かるように、歯みがき剤Aでは高清浄シリカ(XWA 650)が20%に倍増され、一方、普通の清浄シリカ(ZEODENT(登録商標)115)が除かれている。歯みがき剤Aについては、RDAが180に増大するが、PCRは約98に増大するにすぎない。これに対し、歯みがき剤１は高清浄シリカ(XWA 650)および普通の清浄シリカ(ZEODENT(登録商標)115)を両方とも17%含むが、RDAはわずか163であり、一方、PCRは100を超える(約108)。したがって、歯みがき剤１における研磨剤の組合わせは、予想外に低いRDA (歯みがき剤Bよりわずか18%の増大)をもたらし、一方、歯みがき剤Bより27%のPCR増大を達成する。これに対し歯みがき剤Aは、歯みがき剤Bと比較して30%を超えるRDA増大およびわずか15%のPCR増大を伴う。

[0062] したがって、歯みがき剤組成物に望ましい高いPCR値を達成でき、一方、RDA値は予想より有意に低いことが見いだされた。
実施例III
[0063] 歯みがき剤１、歯みがき剤B、下記の表IIIに従って調製された歯みがき剤Cと表示される歯みがき剤、および歯みがき剤Dと表示される市販の増白歯みがき剤について、インビトロ艶出分析を実施する。歯みがき剤Cは、実施例１に歯みがき剤１について記載したと同じ方法で調製され、20重量％の普通の清浄シリカZEODENT(登録商標) 115を含有する。歯みがき剤Dは、CREST(登録商標) Dual Action Whitening Toothpaste（二重作用増白練り歯みがき）としてProcter and Gamble（オハイオ州シンシナチ）から市販され、下記の成分を含有すると考えられる：フッ化ナトリウム0.243 %、グリセリン、水和シリカ、水、ソルビトール、ヘキサメタリン酸ナトリウム（歯石防除／着色防止のため）、プロピレングリコール、着香剤、PEG-12、コカミドプロピルベタイン、SLS、CARBOMER(登録商標) 956、サッカリンナトリウム、ポロキサマー407、ポリエチレンオキシド、キサンタンガム、水酸化ナトリウム、セルロースガム、水酸化ナトリウム、二酸化チタン、ならびに着色剤ブルー1およびイエロー5。

[0064] 表IVは、これらの歯みがき剤のインビトロ平均艶出分析を示す。曇った歯の表面の最大反射率を、エナメル質の表面の光沢度の変化を検出するように特別に適合させた反射率計により測定する。この反射率計はエナメル質を偏光ビームに露光するように構築されており、エナメル質の表面から反射した光の量を光電セルにより測定し、次いでこれにより検流計を作動させた。エナメル質の表面がより滑らかであるほど、拡散光および吸収光の量は少なくなり、したがって検流計の読みは高くなる。

[0065] 曇った表面の最大反射率を測定した後、歯を被験歯みがき剤でブラッシングする。次いでエナメル質の表面を水ですすいで、残留する清浄剤および艶出剤の粒子を除去し、”曇り”の読みを求めるために用いたものと正確に同一の位置にある歯について、エナメル質の表面の反射率を再び測定する。曇ったエナメル質表面と艶出したエナメル質表面の間の反射量の絶対変化を、処理により得られた艶出度の尺度とする。全ブラッシング期間は約30,000回である。表IV中の結果は、エナメル質検体の光沢の平均増分により表わされている。

[0066] 歯みがき剤Cは、普通の清浄シリカ研磨剤20%を含む一般的な歯みがき剤であり、平均光沢増分の増加率％を計算するための対照として選択される。歯みがき剤１は平均光沢増分の最大増加を示すことが分かる。

実施例IV
[0067] ヒドロキシアパタイトディスクへのトリクロサンの平均取込みを表Vに示す。歯みがき剤１、BおよびCをトリクロサン取込みレベルについて比較する。有効成分トリクロサンの取込みは、Clarkson Chromatography Products, Inc.から入手できるヒドロキシアパタイト(HAP)ディスクを唾液コーティングしたもの(SCHAP)をヒトの歯のインビトロモデルとして用いて評価される。このインビトロモデルは、口腔表面における抗菌薬のインビボ送達および保持に相関性をもつことが見いだされた。

[0068] トリクロサンおよび本発明のアニオン性コポリマー、すなわちAMPSターポリマーおよびVCAPコポリマーを含有する歯みがき剤からSCHAPディスクへのトリクロサンの送達および保持を測定するために、SCHAPディスクを前記の表Ｉに定めた歯みがき剤スラリー組成物で処理した。ディスクと接触させるために用いる歯みがき剤スラリーの量は、ブラッシング条件を一部模倣するために、口内でみられるインビボ表面と容量の比率を模倣した。37℃で30分間のインキュベーション後、SCHAPディスクを歯みがき剤スラリーから取り出し、水で3回洗浄した。歯みがき剤１、BおよびCからSCHAPディスクへのトリクロサン取込み吸収率を下記の表Vに示す。

[0069] 表Vの結果は、歯みがき剤１からSCHAPディスクへのトリクロサンの送達および保持が、歯みがき剤BおよびCのいずれの比較例より実質的に大きいことを示す。したがって、これらの組成物は口腔表面への口腔用組成物中の有効成分の送達を向上させる方法を提供する。

実施例V
[0070] 種々の試料(A〜E)を調製し、本発明に従って試験した。試料Aは高清浄シリカではないものである。試料B〜Eは、種々の高清浄シリカ組成物である。すべてをアインレーナー磨耗分析（Einlehner Abrasian Analysis）により試験した。試料を10& W/V (100gを1000 mLの容量に希釈)で分散させ、アインレーナーAT 1000で二重試験した。結果を下記の表６に示す。

Claims

100,000回転当たりの損失が5 mgを超えるアインレーナー硬度を有する第１研磨剤；および
100,000回転当たりの損失が5 mg未満のアインレーナー硬度を有する第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、第１研磨剤と第２研磨剤の比率が1:1.6〜1.6:1であり、
第１研磨剤が口腔用組成物の15〜19重量％の量で存在し、第２研磨剤が口腔用組成物の15〜19重量％の量で存在し、
100を超える外皮清浄率および200未満の放射性象牙質研磨度を有する口腔用組成物。

放射性象牙質研磨度が175未満である、請求項１に記載の組成物。

第１研磨剤が90cm ³ /100g未満の油吸収度を有し、第２研磨剤が90cm ³ /100gを超える油吸収度を有する、請求項１に記載の組成物。

第１研磨剤が11μm未満の平均粒度を有し、第２研磨剤が8μmを超える平均粒度を有する、請求項１に記載の組成物。

第１研磨剤と第２研磨剤の比率が1:1である、請求項１に記載の組成物。

口腔用組成物中に第１研磨剤が17重量％の量で存在し、第２研磨剤が17重量％の量で存在する、請求項１に記載の組成物。

口腔用組成物中の第１研磨剤と第２研磨剤の全量が組成物の30重量％を超える、請求項１に記載の組成物。

第１研磨剤および第２研磨剤が、それぞれシリカを含む、請求項１に記載の組成物。

シリカを含み、100,000回転当たりの損失が5 mgを超えるアインレーナー硬度および90cm ³ /100g未満の油吸収度を有する、第１研磨剤；および
シリカを含み、100,000回転当たりの損失が5 mg未満のアインレーナー硬度および90cm ³ /100gを超える油吸収度を有する、第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、
第１研磨剤が口腔用組成物の15〜19重量％の量で存在し、第２研磨剤が口腔用組成物の15〜19重量％の量で存在する口腔用組成物。

第１研磨剤が口腔用組成物の17重量％の量で存在し、第２研磨剤が口腔用組成物の17重量％の量で存在する、請求項９に記載の組成物。

口腔用組成物が100を超える外皮清浄率および200未満の放射性象牙質研磨度を有する、請求項９に記載の組成物。

放射性象牙質研磨度が175未満である、請求項１１に記載の組成物。

口腔用組成物中の第１研磨剤と第２研磨剤の全量が30重量％を超える、請求項９に記載の組成物。

第１研磨剤が11μm未満の平均粒度を有し、第２研磨剤が8μmを超える平均粒度を有する、請求項９に記載の組成物。

シリカを含み、90cm ³ /100g未満の油吸収度および100,000回転当たりの損失が5 mgを超えるアインレーナー硬度を有する、第１研磨剤；および
シリカを含み、90cm ³ /100gを超える油吸収度および100,000回転当たりの損失が5 mg未満のアインレーナー硬度を有する、第２研磨剤を含む口腔用組成物であって；
口腔用組成物中に第１研磨剤が17重量％の量で存在し、第２研磨剤が17重量％の量で存在し；
100を超える外皮清浄率および200未満の放射性象牙質研磨度を有する口腔用組成物。

口腔表面への口腔用組成物中の有効成分の送達を向上させる方法であって、
口腔用組成物を口腔に導入し、その際、口腔用組成物は有効成分、第１研磨剤および第２研磨剤を含み、第１研磨剤および第２研磨剤はそれぞれシリカを含み、それぞれが15〜19重量％の量で存在し、口腔用組成物は100を超える外皮清浄率および200未満の放射性象牙質研磨度を有し；そして
組成物を口腔表面と接触させる
ことを含み、その際、有効成分の送達が、シリカを含む研磨剤および100未満の外皮清浄率を有する比較組成物より大きい方法。

第１研磨剤と第２研磨剤の比率が1:1.6〜1.6:1である、請求項１６に記載の方法。

有効成分がハロゲン化ジフェニルエーテルを含む、請求項１６に記載の方法。

第１研磨剤は90cm ³ /100g未満の油吸収度および100,000回転当たりの損失が5 mgを超えるアインレーナー硬度を有し、第２研磨剤は90cm ³ /100gを超える油吸収度および100,000回転当たりの損失が5 mg未満のアインレーナー硬度を有する、請求項１６に記載の方法。

100,000回転当たりの損失が10 mgを超えるアインレーナー硬度を有する第１研磨剤；および
100,000回転当たりの損失が10 mg未満のアインレーナー硬度を有する第２研磨剤
を含む口腔用組成物であって、第１研磨剤と第２研磨剤の比率が1:1.6〜1.6:1であり、
第１研磨剤が口腔用組成物の15〜19重量％の量で存在し、第２研磨剤が口腔用組成物の15〜19重量％の量で存在し、
100を超える外皮清浄率および200未満の放射性象牙質研磨度を有する口腔用組成物。

口腔用組成物がさらにポリカルボキシラートポリマーまたはポリビニルメチルエーテル／無水マレイン酸（PVM/MA）コポリマーを含む、請求項１に記載の口腔用組成物。