JP2009535789A5 - - Google Patents

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Description

多段圧力処理は、高度に緻密な物品(たとえば少なくとも96、97、98又は99緻密パーセント)であるセラミック物品を全く温和な条件下でもたらし得る、ということを我々は見出した。たとえば、第1圧力処理は適当には約1000psi(6895kPa)若しくは500psi(3447.5kPa)又はそれ以下にあり得、そして第2圧力処理は約4000psi(27580kPa)又はそれ以下にあり得る。約200psi(1379kPa)若しくはそれ以下又は150psi(1034.3kPa)若しくはそれ以下の第1圧力及び約3000psi(20685kPa)若しくはそれ以下、2000psi(13790kPa)若しくはそれ以下又は1500psi(10342.5kPa)若しくはそれ以下の第2圧力処理のような、有意により低い圧力もまた、高度に緻密な物品をもたらした。
少なくとも或る諸用途について、第1圧力処理と第2圧力処理は、少なくとも500psi(3447.5kPa)一層好ましくは少なくとも1000psi(6895kPa)、2000psi(13790kPa)又は2500psi(17237.5kPa)相違する。
少なくとも或る諸用途について、第1圧力処理は、適当には、少なくとも約3000psi(20685kPa)若しくはそれ以下、2000psi(13790kPa)若しくはそれ以下、1000psi(6895kPa)若しくはそれ以下、500psi(3447.5kPa)若しくはそれ以下又は200psi(1379kPa)若しくはそれ以下にてであり得、そして第2圧力処理は6000psi(41370kPa)若しくはそれ以下、5000psi(34475kPa)若しくはそれ以下、4000psi(27580kPa)若しくはそれ以下、3000psi(20685kPa)若しくはそれ以下、2000psi(13790kPa)若しくはそれ以下、1500psi(10342.5kPa)若しくはそれ以下又は1000psi(6895kPa)若しくはそれ以下にあり得る。
少なくとも或る諸用途について、第1圧力処理及び第2圧力処理は各々、5000psi(34475kPa)を超えない。
この脱バインダーされた棒形成形物を、気相焼結を用いて二段階法によって緻密化した。かくして、棒形成形物をガス焼結炉中に置き、そしてこの炉をアルゴンガスで150psi(1034.3kPa)の圧力にて満たした。炉を1725℃に約1.5時間維持した。次いで、炉を室温まで冷却し、そして次いで圧力を3000psi(20685kPa)に増加しそして1725℃に約2時間保持した。次いで、炉を室温まで冷却した。この処理された棒形成形物は、98パーセント超の緻密度を有していた。この緻密な要素を24ボルトの電源に接続し、そして高温帯域は約1300℃の温度に達した。

Claims (20)

  1. セラミック抵抗発熱体であって、
    焼結前に、2.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有する1種又はそれ以上のセラミック材料
    を含む発熱体。
  2. 発熱体が、焼結前に、2.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有する1種又はそれ以上の金属酸化物を含む、請求項1に記載の発熱体。
  3. 発熱体が、焼結前に、2.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有するアルミナを含む、請求項1に記載のセラミック発熱体。
  4. 1種又はそれ以上のセラミック材料が、2ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有する、請求項1に記載の発熱体。
  5. 1種又はそれ以上のセラミック材料が、1.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有する、請求項1に記載の発熱体。
  6. 抵抗発熱体を製造する方法であって、
    セラミック組成物を第1圧力にて処理し、そしてその後
    このセラミック組成物を第1圧力より大きい第2圧力にて処理し、それによりこのセラミック組成物を緻密化する
    ことを含む方法。
  7. 第1圧力における処理の前に、セラミック組成物が2.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有する1種又はそれ以上のセラミック材料を含む、請求項6に記載の方法。
  8. 第1圧力における処理の前に、セラミック組成物が2.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有する1種又はそれ以上の金属酸化物を含む、請求項6に記載の方法。
  9. 第1圧力における処理の前に、セラミック組成物が2.5ミクロン又はそれ以下の平均粒子サイズを有するアルミナを含む、請求項6に記載の方法。
  10. 第1圧力と第2圧力が、少なくとも1000psi(6895kPa)異なる、請求項6に記載の方法。
  11. 第2圧力が、5000psi(34475kPa)又はそれ以下である、請求項6に記載の方法。
  12. 第1圧力が、1000psi(6895kPa)又はそれ以下である、請求項6に記載の方法。
  13. 第1圧力が、250psi(1723.8kPa)又はそれ以下である、請求項6に記載の方法。
  14. 第1圧力及び第2圧力を気相焼結法として適用する、請求項6に記載の方法。
  15. セラミックイグナイター要素を10容量パーセント未満の炭化ケイ素を有する組成物で作る、請求項6に記載の方法。
  16. セラミック要素が、異なる抵抗率の2つ又はそれ以上の領域を含む、請求項6に記載の方法。
  17. セラミック要素が、異なる抵抗率の3つ又はそれ以上の領域を含む、請求項6に記載の方法。
  18. 請求項6に記載の方法により得られ得るセラミックイグナイター要素。
  19. 気体燃料を点火する方法であって、請求項18に記載のイグナイターに電流を印加することを含む方法。
  20. 請求項18に記載のイグナイターを含む加熱装置。
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