JP2009534834A5 - - Google Patents
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Description
該研磨材は望ましくは研磨組成物中に懸濁しており、より詳細には研磨組成物の水の中に懸濁している。研磨組成物は好ましくはコロイド的に安定である。用語コロイドは、研磨剤粒子の水性懸濁液を指している。コロイド的安定性は、長期にわたる懸濁の維持を指している。本発明の文脈においては、研磨材組成物が100mLのメスシリンダ中に入れられ、そして撹拌なしで2時間放置された場合に、メスシリンダの最底部の50mLの粒子濃度(g/mLで[B])とメスシリンダの最上部の50mL中の粒子濃度(g/mLで[T])との間の差異を、研磨材組成物の初期の粒子濃度(g/mLで[C])で割ったものが、0.5以下である(すなわち、{[B]−[T]}/[C]≦0.5)場合に、研磨材組成物がコロイド的に安定であると考えられる。この値{[B]−[T]}/[C]は望ましくは0.3以下、そして好ましくは0.1以下である。
R1はH、−OH、−CHO、−CN、および−NCからなる群から選ばれ、nは0〜6の整数(すなわち、0、1、2、3、4、5もしくは6)、またR2はH、C1〜C6アルキル、F、Cl、およびBrからなる群から選ばれ、但し、R1がHでn=0の場合は、R2はHではない。好ましくは、nは0〜3の整数(すなわち、0、1、もしくは2)であり、またR2はH、C1〜C3アルキル(すなわち、−CH2−、−CH2CH2−または−CH2CH2CH2−)、F、ClおよびBrからなる群から選ばれ、但し、R1がHでn=0の場合は、R2はHではない。より好ましくは、ベンゾトリアゾール化合物は、4−メチルベンゾトリアゾール、5−メチルベンゾトリアゾール、1H−ベンゾトリアゾール−1−カルボキシアルデヒド、1−(イソシアノメチル)−1H−ベンゾトリアゾール、1H−ベンゾトリアゾール−1−アセトニトリル、1H−ベンゾトリアゾール−1−メタノール、およびこれらの組み合わせである。
好ましい実施態様では、有機酸化剤は少なくとも1種のアントラキノン化合物である。好ましい実施態様では、有機酸化剤は、アントラキノン、インディゴ、およびその組み合わせからなる群から選ばれる。該アントラキノン化合物は、この用語で表現される基本構造のいずれかの誘導体であることができる。好ましいアントラキノン化合物は、アントラキノン−2,6−ジスルホン酸、アントラキノン−2−スルホン酸、アントラキノン−1,8−ジスルホン酸、アントラキノン−1,5−ジスルホン酸、アシッドブルー45、それらの塩、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される。
研磨組成物は望ましくは、研磨される銅の表面上の反応サイトをベンゾトリアゾール化合物と奪い合う成分を含まない。特に、研磨組成物は望ましくは、500ダルトン未満の分子量を有するアルキル硫酸塩を含まない。好ましくは、研磨組成物は、1000ダルトン未満(例えば、10000ダルトン未満)の分子量を有するアルキル硫酸塩を含まない。アルキル硫酸塩は式ROSO3Mで表され、Rはアルキルもしくはアルキルアリールを表し、そしてMは水素、アンモニウム、テトラアルキルアンモニウム、または金属陽イオン(例えばナトリウム)である。
特に、本発明は、基材を化学的機械的に研磨する方法を提供するものであり、その方法は(i)基材を準備すること、(ii)該基材を研磨パッドおよび化学的機械的研磨組成物と接触させること、該化学的機械的研磨組成物は、(a)研磨材、(b)0.5mM〜100mMの下記の一般式を有するベンゾトリアゾール化合物であって、
R1はH、−OH、−CHO、−CN、および−NCからなる群から選ばれ、nは0〜6の整数、またR2はH、C1〜C6アルキル、F、Cl、およびBrからなる群から選ばれ、但し、R1がHでn=0の場合は、R2はHではないベンゾトリアゾール、(c)ヨウ素酸塩化合物、有機酸化剤、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる酸化剤、および(d)水、からなり、または、から基本的になり、または、を含み、該研磨組成物は500ダルトン未満の分子量を有する有機カルボン酸を実質的に含まず、また該研磨組成物は500ダルトン未満の分子量を有するアルキル硫酸塩を含まず、(ii)研磨パッドを、基材に対して、化学的機械的研磨組成物をそれらの間に備えて、動かすこと、および(iii)基材の少なくとも一部を磨耗させて、基材を研磨することを含んでいる。
Claims (8)
- 化学的機械的研磨組成物であって、
(a)研磨材、
(b)0.5mM〜100mMの下記の一般式を有するベンゾトリアゾール化合物であって、
(c)ヨウ素酸塩化合物、有機酸化剤、およびそれらの混合物からなる群から選ばれる酸化剤、および
(d)水、
を含み、該研磨組成物は500ダルトン未満の分子量を有する有機カルボン酸を含まず、また該研磨組成物は500ダルトン未満の分子量を有するアルキル硫酸塩を含まない、化学的機械的研磨組成物。 - 研磨材が縮合重合シリカである請求項1記載の研磨組成物。
- 縮合重合シリカが0.1質量%〜10質量%の量存在する請求項2記載の研磨組成物。
- 酸化剤がヨウ素酸塩化合物である請求項1記載の研磨組成物。
- ヨウ素酸塩化合物が0.1mM〜1Mの濃度で存在する請求項4記載の研磨組成物。
- 酸化剤が有機酸化剤である請求項1記載の研磨組成物。
- 有機酸化剤が0.1mM〜10mMの濃度で存在する請求項6記載の研磨組成物。
- 基材を化学的機械的に研磨する方法であって、
(i)基材を準備すること、
(ii)該基材を研磨パッドおよび請求項1〜7のいずれか1項記載の化学的機械的研磨組成物と接触させること、
(iii)研磨パッドを、基材に対して、化学的機械的研磨組成物をそれらの間に備えて、動かすこと、および
(iv)基材の少なくとも一部を磨耗させて、基材を研磨すること、を含んでいる方法。
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