JP2009529235A - 誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置及びそれを用いた光増幅装置 - Google Patents

誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置及びそれを用いた光増幅装置 Download PDF

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Abstract

【課題】長期間安定的に位相を固定させることができ、高反復率及び高出力を要する産業及び学問的な研究などに多様に利用することのできる誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置及びそれを用いた光増幅装置を提供する。
【解決手段】複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置において、複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡からの反射ビームを偏光させて干渉させるための偏光器と、偏光器の干渉結果による干渉ビームを獲得して出力する検出器と、検出器で検出された干渉ビームを利用して位相を制御するための位相制御器とを備える。
【選択図】図8

Description

本発明は、位相安定化装置及びそれを備える光増幅装置に係り、さらに詳細には、誘導ブリルアン散乱位相共役鏡(Stimulated Brillouin Scattering Phase Conjugate Mirror:以下、SBS−PCM)を使用する光増幅システムで使用する位相安定化装置及びそれを用いた光増幅装置に関する。
一般的に、誘導ブリルアン散乱位相共役鏡は、位相共役波を反射させるため、レーザーの増幅過程で発生するレーザービームの歪曲を補償することができる。したがって、光線再結合高出力レーザーに適用することが非常に容易である。図1及び図2を参考して、誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を用いた光線分割増幅システムの一例を説明する。
図1は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を適用した波面分割方式の増幅システムを示す図である。
図1に示すように、レーザー発振器500から出射される光505は、第1光増幅段510、第2光増幅段540、及び第3光増幅段570を経て、次第に多数のレーザー光に増幅される。すなわち、光505は、偏光ビームスプリッター(Polarizing Beam Splitter:以下、PBS)で反射されて、第1遮断器520に入射されてSBS−PCMで反射した後、再びPBSを透過して第1光増幅器530に入射される。その後、第1光増幅器530に入射される光は、増幅器を透過して増幅され、SBS−PCMで反射されてPBSに入射される。PBSは、入射される光を反射させて光拡大器535側に出射し、光拡大器535は、入射光のサイズを拡大して第2光増幅段540に出射する。第2光増幅段540は、第1光増幅段510の第1光遮断器520と同様の構造を有する第2光遮断器550を備えて、同じ機能を行う。ただし、第2光増幅段540は、第2光増幅器560の前側に波面分割型光分割器562をさらに備え、このとき、第2光増幅器560は、2×2アレイ状になっている。ここで、第2光増幅器560の2×2アレイのそれぞれに光を送るための波面分割型光分割器562が使用される。すなわち、第2光増幅器560に入射される前に、波面分割型光分割器562で光が波面分割されて、光軸に沿って配列されているそれぞれの増幅器で増幅された後、SBS−PCMで反射されて再結合されてPBSに入射される。PBSは、入射される光を反射して光拡大器565に出射する。光拡大器565は、入射光のサイズを拡大して第3光増幅段570に出射する。第3光増幅段570で第3光増幅器590は4×4アレイ状に、第3光遮断器580は2×2アレイ状にそれぞれ構成される。ここで、各アレイに光を送るために波面分割型光分割器582及び592が使用される。
このような光増幅システムを構成すれば、増幅段を所望の通りに連続して連結することによって、光学系を損傷させずに出力エネルギーをいくらでも増大させるだけでなく、反復率を一定の状態に維持することができる。すなわち、継続的な増幅によってレーザー光のエネルギー密度が上昇する場合、エネルギー密度を低下させなければ、光学系及びレーザー利得媒質の損傷をもたらす。したがって、レーザー光の拡大と同時にレーザー利得媒質のサイズの拡大も必要である。それは、レーザー利得媒質の冷却速度の低下につながり、高反復率のレーザー光を形成することが事実上不可能になるためである。したがって、レーザー光のサイズは拡大する一方、利得媒質のサイズはそのまま維持させる方式である前述の図1に示すような光線再結合増幅装置が使用されている。
図2は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を適用した振幅分割方式の増幅システムを示す図である。
図2に示すように、レーザー光を発生させるレーザー発振器100と、レーザー光のサイズを拡大するBE(beam expander:ビーム拡大器)101と、拡大した光を反射するためのPBS102と、反射した光を増幅するための第1増幅段200と、第1増幅段200から増幅された光のサイズを拡大するBE103と、第1増幅段200で増幅された光をもう一度増幅する第2増幅段300と、第2増幅段300で増幅された光のサイズを拡大するBE104と、を備え、第2増幅段300で増幅された光は第3増幅段(図示せず)に出射されるように構成される。
第1増幅段200には、光を増幅するための素子である1/4波長板201、PBS202、BE203、FR(Faraday Rotator:ファラデー回転子)204、増幅器205、FR206、及びPL(Phase Locker:位相固定器)207が光路に沿って配置されている。また、第2増幅段300には、光を増幅するための素子であるPBS301、1/4波長板302、PBS303、45°回転器304、PBS305、BE306、FR307、増幅器308、FR309、及びFR310が光路に沿って配置されている。
レーザー発振器100からのS偏光を有するレーザー光は、BE101で拡大されてPBS102で反射され、第1増幅段200に入射される。第1増幅段200に入射された光は、1/4波長板201を透過して円偏光になり、PBS202によって振幅分割されて、一部(P偏光)は反射され、一部(S偏光)は透過される。P偏光を有するレーザー光とS偏光を有するレーザー光は、それぞれBE203、FR204、増幅器205、FR206、及びPL207の光路を通過しつつ増幅されて、PBS202を同じ偏光状態に透過または反射する。そして、1/4波長板201の前側で再結合されて分割される前の円偏光を有するため、1/4波長板201を透過してP偏光を有するレーザー光になる。そして、このように増幅されたレーザー光は、PBS102を透過してBE103によって拡大される。
次いで、BE103で拡大された光は第2増幅段300に入射する。第2増幅段300は、四つの光に振幅分割されて増幅された光を再結合して、その次の第3増幅段(図示せず)に出射する。第2増幅段300のPBS301は、入射される光を1/4波長板302に出力する。PBS303は、1/4波長板302からの光を振幅分割して、P偏光のレーザー光は透過し、S偏光のレーザー光は反射して45°回転器304にそれぞれ出射する。このとき、一つの光を二つに振幅分割するために、一つの45°回転器304に二つのPBS305を組み合わせて2×2アレイ状に構成する。P偏光及びS偏光を有する光は、それぞれ45°回転器304を透過すれば、偏光が45°回転する。したがって、その次の光学素子であるPBS305によって二つの光に振幅分割される。以後の過程では、前述の第1増幅段200と同じ構成について同じ機能を行うため、その詳細な説明を省略する。このような45°回転器304を往復する場合、偏光は45°回転及び−45°回転するため、偏光の変化がない。したがって、このような45°回転器及びPBSを用いた振幅分割はいくらでも可能であるため、第2増幅段300の後に増幅段を追加すれば、無限なエネルギーの増幅が可能となる。
図1の光線再結合光増幅装置に使用された光分割器は波面分割方式であり、これを図3(A)に示す。
図3(A)に示すように、波面分割方式の光分割器は、入射される光aを二つの出射光bに分割する。すなわち、波面分割方式は、レーザー光を二つの小さいレーザー光に分割する。
一方、光分割器には、このような波面分割方式以外に、図2で使用された振幅分割方式があるが、これを図3(B)に示す。
図3(B)に示すように、振幅分割方式の光分割器は、入射される光aを二つの出射光bに分割するが、その一つは透過され、他の一つは反射されるように分割する。すなわち、振幅分割方式は、レーザー光のサイズを変化させずに、二つの光がエネルギーのみを分割して有する。このような振幅分割方式に比べて従来の光増幅装置に適用された波面分割方式は、レーザー光の形状が主共振器の光の形状と異なるため、増幅器の利得媒質の断面をレーザー光の形状に加工せねばならないという困難さがあった。それは、利得媒質の断面が入射光の形状と異なる場合、増幅の効率が低下するためである。また、レーザー光の空間的な分布に高周波空間の周波数が含まれて、SBS−PCMによって反射するときに位相共役現象が破壊する。そして、増幅後の光線再結合時に、光と光が出合う部分で二つの光の位相が異なる場合も強度スパイクが発生して、光の空間分布が悪化する。
ところで、誘導ブリルアン散乱は、ランダムノイズによって発生するため、反射されたビームは、ランダム位相を有する。したがって、再結合されたレーザービームは、空間的に異なる位相分布を有する。図1(波面分割)の場合、境界でスパイクが発生し、図2(振幅分割)の場合、エネルギーの損失が発生する。したがって、光線再結合レーザーシステムにSBS−PCMを適用するためには、反射ビームそれぞれの位相を固定させ、また位相差をゼロにせねばならない。
SBS−PCM反射ビームの位相を制御するための従来の方法は次の通りである。
図4は、従来のSBS−PCMを用いた焦点重複方式による位相固定方式の系統図である。
図4に示すように、この方式は、一つのSBS−PCMの散乱媒質に複数のビームを集中させることによって焦点を重畳させる方式である。すなわち、進行するビームを集光のためのレンズに通過させることによって、複数のビームが重畳してSBS−PCMに焦点を合わせる。
図5は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を用いたストークス波(Stokes wave)バックシーディング方式による位相固定方式の系統図である。
図5に示すように、ここでストークス波は、誘導ブリルアン散乱によって反射される反射波と同じ周波数を有するレーザービームを言う。この方式は、バックシーディング・レーザービームが焦点を通過させてバックシーディング・レーザービームを増幅させる方式である。すなわち、シーディングビームが入射して光学素子を通過する光路を経てSBS−PCMに入射され、その後、反射されて、バックシーディング・レーザービームを生成して増幅される。
図6は、従来の誘導ブリルアン散乱及び自己ビーム・フィードバックを用いたレーザービームの位相を固定する第1方法の系統図であり、図7は、従来の誘導ブリルアン散乱及び自己ビーム・フィードバックを用いたレーザービームの位相を固定する第2方法の系統図である。すなわち、図6及び図7は、入射されるレーザービームをSBS−PCMに透過させて、凹面鏡及びPZT(Piezoelectric Transducers:圧電変換器)を用いて誘導ブリルアン散乱媒質にレーザービームをフィードバックすることによって音響ノイズを制御する自己位相制御方式の系統図である。特に、自己位相制御方式は、ビーム数に関係なくストークスビームの位相を制御することができるという長所を有する。
ところが、光線再結合レーザーシステムでは、誘導ブリルアン散乱そのもののランダム位相だけでなく、光路上の媒質の熱効果による密度の変化や対流による密度の不均質性、光学素子の振動及び熱膨脹による光路長の変化などによる短期間・長期間の位相ドリフトも問題になる。しかし、既存の位相固定方式は、ストークス波の位相を制御するときにそのような問題を考慮しなかったため、位相を効果的に制御することができない。
このため、SBS−PCMの反射ビームの位相を十分に固定するためには、既存の位相制御方式だけでなく、新たな位相安定化方式がさらに必要である。
したがって、本発明は、前記問題点を解決するためになされたものであって、フィードバック回路を用いた位相安定化方式を適用することによって完璧な位相制御を可能にして、高反復率及び高出力のレーザーシステムを製作することができる安定化装置及びそれを用いた光増幅装置を提供することを目的とする。
前記目的を達成するための本発明に係る複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置において、前記複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡からの反射ビームを偏光させて干渉させるための偏光器と、前記偏光器の干渉結果による干渉ビームを獲得して出力する検出器と、前記検出器で検出された干渉ビームを利用して位相を制御するための位相制御器と、を備えることを特徴とする。
また、本発明に係る位相制御器は、誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の後方の特定の光学素子(鏡)の位置を制御するか、または誘導ブリルアン散乱位相共役鏡までの光路上に特定の光学素子(ガラス板)の傾斜角を制御することによって光路長を調節することを特徴とする。
本発明に係る光増幅装置は、複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を用いた光増幅装置において、入射光線の偏光によって、一部は反射させ、一部は透過させる偏光ビームスプリッターと、前記PBSから反射及び透過された光を増幅するための増幅部と、前記増幅された光の位相を制御するための位相制御部と、を備えることを特徴とする。
また、本発明に係る位相制御部は、前記増幅部からの反射ビームを偏光させて干渉させるための偏光器と、前記偏光器の干渉結果による干渉ビームを獲得して出力する検出器と、前記検出器で検出された干渉ビームを利用して位相を制御するための位相制御器と、を備えることを特徴とする。
また、本発明に係る位相制御器は、誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の後方の特定の光学素子(鏡)の位置を制御するか、または誘導ブリルアン散乱位相共役鏡までの光路上に特定の光学素子(ガラス板)の傾斜角を制御することによって光路長を調節することを特徴とする。
以下、図8及び図9を参照して、本発明の好ましい実施形態について詳細に説明する。
図8は、本発明の一実施形態に係る誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の安定化装置を適用した増幅システムである。
図8に示すように、本増幅システムでは、振幅分割方式を適用してビームを分離し、偏光器70、検出器80、及び位相制御器90を備える位相制御ブロックを用いて反射ビームをフィードバックさせてPZT56を制御することによって焦点の位置を調節する。
図8のシステムは、レーザー光を発生させるレーザー発振器10と、レーザー光のサイズを拡大するBE20と、拡大した光を反射するための第1のPBS30と、を備える。また、第1のPBS30から反射された光を増幅するための増幅ブロックとして、第2及び第3のPBS50,60、第1から第4のFR51,61,53,64、第1及び第2のアンプ52,62、第1及び第2のSBS−PCM54,64、第1及び第2の鏡55,65、及びPZT56を備える。さらに、増幅された光の位相を制御するための位相制御ブロックとして、偏光器70、検出器80、及び第1の鏡55の位置を制御して位相を制御する位相制御器90を備える。
図8に示すシステムでは、二つの光路増幅ブロック50〜56と60〜65とから構成されている。このとき、ビームは、第1のPBS30によって振幅分割された後に再結合される。S偏光を有するレーザー発振器10のビームは、BE20によって拡大された後、第1のPBS30によって反射される。その後、レーザービームが1/4波長板40を透過しつつ円偏光になり、第2のPBS50によって一部(P偏光)は透過し、一部(S偏光)は反射される。第2のPBS50で透過されたP偏光を有するレーザービームは、第1のFR51、第1のアンプ52、第2のFR53、第1のSBS−PCM54、第1の鏡55、及びPZT56を経て、再び第1のFR51に戻る光路長を経て増幅され、戻った光の偏光は、入射される前と同じようなP偏光を有する。第2のPBS50で反射されたS偏光を有するレーザービームは、第3のPBS60で反射されて、第3のFR61、第2のアンプ62、第4のFR63、第2のSBS−PCM64、及び第2の鏡65を経て第3のFR61に戻る。戻った反射光は、第3のPBS60で反射され、このときの偏光は、入射される前と同じようなS偏光を有する。
このとき、増幅されたP偏光を有するレーザービームは、第2のPBS50を透過し、S偏光を有するレーザービームは、第2のPBS50によって反射されて、1/4波長板40の前で再結合される。再結合された二つのビームの位相が一致する場合、再結合されたビームは、分割される前と同じような円偏光を有するため、1/4波長板40を透過してP偏光を有するレーザービームになる。したがって、再結合されたレーザービームは、第1のPBS30によって透過してビーム拡大器によって拡大された後、次の増幅段に入射される。
このとき、それぞれのSBS−PCM54及び64で反射される波の位相を固定させる位相固定器として自己位相制御方式を使用するが、位相ドリフトまで除去するために別途の位相制御ブロックであるフィードバック部を追加する。ここで、位相制御ブロックは、第2のPBS50の上側に一部のビームが流出するため、このような反射ビーム(図8で点線で表示される)を偏光器70に通過させて干渉させる。ここで、反射ビームは、第1及び第2のSBS−PCM54,64から反射された二つの反射ビームである。偏光器70は、このような二つの反射ビームを偏光させて干渉ビームを獲得する。したがって、検出器80は、偏光器70で偏光によって得られた干渉ビームを獲得して位相制御器90に出力する。位相制御器90は、このような干渉ビームを用いて第1の鏡55の位置を制御することによって位相を制御する。すなわち、干渉ビームのエネルギーを一定にするために、PZT56が付着した第1の鏡55の位置を調節することによって光路長を調節する。
図9は、本発明の他の実施形態に係る誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の安定化装置を適用した基本増幅システムを示す図である。
図9では、位相制御ブロックを利用してガラス板57の傾斜角を調節することによって光路長を調節する。図9は、図8と同じ参照符号については同じように動作し、位相制御ブロックを利用して光路長を調節することによって第1及び第2のSBS−PCM54,64からの反射ビームの位相ドリフトを補償する装置を示す。図8との相違点は、第1のSBS−PCM54の後にある鏡の位置を調節する代わりに、光路上にあるガラス板57の傾斜角を調節することによって光路長を調節するという点である。このとき、ガラス板57の位置は、第1のSBS−PCM54の前後どちらでもよい。
前述のように、本発明は、位相制御ブロックを利用してSBS−PCMの反射波の位相ドリフトを補償するすべての方式を含み、図8及び図9は、そのうち一例を示す。
図8と図9の両方ともに、位相制御ブロックを通じて反射ビームをフィードバックさせて光路長を調節することによって媒質の熱効果による密度の変化、対流による密度の不均質性、光学素子の振動及び熱膨脹による光路長の変化などによる短時間・長時間の位相ドリフトを補償する方式を示す。本発明は、このようにフィードバック方式を用いてSBS−PCM反射波の位相ドリフトを補償するすべての方式を含む。したがって、本発明に係るSBS−PCMビームの位相安定化装置を光線分割レーザー増幅器に適用すれば、エネルギー増幅の限界のない、高反復率及び高出力のレーザーシステムの製作が可能である。
前述のように、本発明のシステムは、長期間安定的に位相を固定させることができるため、高反復率及び高出力を要する産業及び学問的な研究などに多様に利用されることができる。
図1は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を適用した波面分割方式の増幅システムを示す図である。 図2は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を適用した振幅分割方式の増幅システムを示す図である。 図3は、振幅分割方式及び波面分割方式の比較図である。 図4は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を用いた焦点重複方式による位相固定方式の系統図である。 図5は、従来の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を用いたストークス波バックシーディング方式による位相固定方式の系統図である。 図6は、従来の誘導ブリルアン散乱及び自己ビーム・フィードバックを用いたレーザービームの位相を固定する第1の方法の系統図である。 図7は、従来の誘導ブリルアン散乱及び自己ビーム・フィードバックを用いたレーザービームの位相を固定する第2の方法の系統図である。 図8は、本発明の一実施形態に係る誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の安定化装置を適用した増幅システムを示す図である。 図9は、本発明の他の実施形態に係る誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の安定化装置を適用した基本増幅システムを示す図である。

Claims (11)

  1. 複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置において、
    前記複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡からの反射ビームを偏光させて干渉させるための偏光器と、
    前記偏光器の干渉結果による干渉ビームを獲得して出力する検出器と、
    前記検出器で検出された干渉ビームを利用して位相を制御するための位相制御器と、を備えることを特徴とする誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置。
  2. 前記位相制御器は、
    前記誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の後方の特定の光学素子の位置を制御することによって光路長を調節することを特徴とする請求項1に記載の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置。
  3. 前記光学素子は、鏡であることを特徴とする請求項2に記載の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置。
  4. 前記位相制御器は、
    前記誘導ブリルアン散乱位相共役鏡までの光路上に特定の光学素子の角度を制御することによって光路長を調節することを特徴とする請求項1に記載の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置。
  5. 前記光学素子は、ガラス板であることを特徴とする請求項4に記載の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の位相安定化装置。
  6. 複数の誘導ブリルアン散乱位相共役鏡を用いた光増幅装置において、
    入射光線の偏光によって、一部は反射させ、一部は透過させる偏光ビームスプリッターと、
    前記偏光ビームスプリッターから反射及び透過された光を増幅するための増幅部と、
    前記増幅された光の位相を制御するための位相制御部と、を備えることを特徴とする光増幅装置。
  7. 前記位相制御部は、
    前記増幅部からの反射ビームを偏光させて干渉させるための偏光器と、
    前記偏光器の干渉結果による干渉ビームを獲得して出力する検出器と、
    前記検出器で検出された干渉ビームを利用して位相を制御するための位相制御器と、を備えることを特徴とする請求項6に記載の光増幅装置。
  8. 前記位相制御器は、
    前記誘導ブリルアン散乱位相共役鏡の後方の特定の光学素子の位置を第御することによって光路長を調節することを特徴とする請求項7に記載の光増幅装置。
  9. 前記光学素子は、鏡であることを特徴とする請求項8に記載の光増幅装置。
  10. 前記位相制御器は、
    前記誘導ブリルアン散乱位相共役鏡までの光路上に特定の光学素子の角度を制御することによって光路長を調節することを特徴とする請求項7に記載の光増幅装置。
  11. 前記光学素子は、ガラス板であることを特徴とする請求項10に記載の光増幅装置。
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