KR101718280B1 - 회전 광학 소자를 이용한 고출력 위상안정 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 - Google Patents

회전 광학 소자를 이용한 고출력 위상안정 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 Download PDF

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차성우
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Abstract

위상을 자체 제어하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 후단에 오목 거울을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM); 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되는 회전 광학 소자; 및 상기 회전 광학 소자를 회전시키는 회전 수단을 포함하고, 상기 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 피드백 빔-상기 피드백 빔은 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 입사 빔이 상기 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 생성됨-이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시킨다.

Description

회전 광학 소자를 이용한 고출력 위상안정 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울{HIGH POWER PHASE-STABLILIZED STIMULATED BRILLOUIN SCATTERING-PHASE CONJUGATE MIRROR USING ROTATING OPTICAL ELEMENT}
아래의 실시예들은 광선분할 증폭 레이저에서 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM)을 이용하여 고출력의 빔들 각각의 위상을 자체 제어하는(예컨대, 각 빔들의 상대 위상을 '0'으로 제어하는) 시스템 및 그 방법에 관한 것이다.
유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울은 위상 공액파를 반사시켜 레이저 증폭 과정에 생겨나는 레이저 빔(이하, 빔으로 기재함)의 왜곡을 보상하기 때문에, 광선분할 고출력 레이저의 적용에 매우 용이하다. 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울을 이용한 광선분할 증폭 레이저는 미국 특허공보 US5832020A와 이를 발전시킨 대한민국특허등록공보 10-0318520호가 있다.
대한민국특허등록공보 10-0318520호를 살펴보면, 레이저 광원에서 발사된 빔은 광증폭단을 거쳐 증폭되고 증폭된 빔은 시스템에 제공된다. 이 때, 광선분할 증폭기에서 빔의 일부가 반사되어 레이저 광원으로 다시 입사된다면, 레이저 광원이 손상을 입을 수 있다. 따라서, 이를 방지하기 위하여, 상기 발명은 1/4 파장판, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 등을 기반으로 편광 원리를 이용하여 레이저 광원으로 입사되는 빔을 차단한다. 특히, 광선분할 증폭기에서 각각의 광분할기를 통해 분할된 빔은 각각의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울에 의하여 반사되어 필요에 따라 다시 결합될 수 있다.
그러나 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울들에서 유도 브릴루앙 산란이 일어나는 각각의 위치가 서로 다르기 때문에, 상기 발명은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울들 각각에서 반사된 빔의 위상이 서로 달라 고품질의 빔을 획득할 수 없는 단점이 있다.
이에, 위상이 서로 다른 빔들의 위상 차이를 '0'으로 제어하는 기술이 제안되었다. 예를 들어, 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 나타낸 도 1을 참조하면, 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(100)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(110)의 앞에 렌즈(120)를 배치함으로써, 초점 겹침 방식으로 위상을 제어/잠금한다. 구체적으로, 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(100)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(110) 상에 렌즈(120)를 통해 복수의 빔들을 집중시켜 하나의 초점에 복수의 빔들을 겹치게 함으로써, 복수의 빔들이 산란에 의해 동일한 위치에 반사되도록 하여 반사되는 빔들이 동일한 위상을 갖게 한다.
그러나 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(100)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(110)에 입사되는 빔들이 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(110) 상의 하나의 초점에 집속되기 때문에, 입사되는 빔들의 세기가 수백 W 이상으로 강한 경우, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(110)의 산란 매질이 버티지 못하고 기능을 상실하거나, 비선형 현상이 나타나 반사율 및 위상 공액도가 현저히 떨어지는 문제점이 있다.
따라서, 아래의 실시예들은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 빔의 세기가 수백 W 이상으로 강한 경우에도, 입사 빔을 유도 브릴루앙 산란에 의해 효율적으로 반사시키며 반사 빔의 위상을 자체 제어하는 기술을 제안한다.
일실시예들은 회전 광학 소자를 포함함으로써, 입사 빔이 반사된 피드백 빔이 집속되는 초점을 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공한다.
구체적으로, 일실시예들은 피드백 빔이 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 하나의 위치에 고정되지 않도록 서로 다른 위치로 이동시키는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공한다.
또한, 일실시예들은 입사 빔이 집속되는 초점을 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공한다.
또한, 일실시예들은 입사 빔과 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공한다.
또한, 일실시예들은 상술한 바와 같은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에서 이용되는 회전 광학 소자를 제공한다.
일실시예에 따르면, 위상을 자체 제어하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 후단에 오목 거울을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM); 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되는 회전 광학 소자; 및 상기 회전 광학 소자를 회전시키는 회전 수단을 포함하고, 상기 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 피드백 빔-상기 피드백 빔은 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 입사 빔이 상기 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 생성됨-이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시킨다.
상기 회전 광학 소자는 상기 피드백 빔이 집속되는 초점이 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 하나의 위치에 고정되지 않도록 서로 다른 위치로 이동시킬 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울에서의 상기 입사 빔과 상기 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어할 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 입사 빔이 상기 오목 거울에 입사되는 입사각을 조절할 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 입사 빔이 상기 오목 거울에 입사되는 입사각을 조절하기 위하여, 형상, 위치 또는 회전 속도 중 적어도 어느 하나를 설정할 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동되는 상기 초점까지의 경로 길이를 일정하게 유지할 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동되는 상기 초점까지의 경로 길이를 일정하게 유지하기 위하여, 형상, 위치 또는 회전 속도 중 적어도 어느 하나를 설정할 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 회전 수단에 의해 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 광축을 중심으로 회전할 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 회전 수단에 의해 회전하는 회전축을 기준으로 비대칭 형상으로 형성될 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 웨지(wedge) 또는 오프-센터된(off-centered) 렌즈 중 적어도 어느 하나일 수 있다.
상기 회전 광학 소자가 상기 오프-센터된 렌즈인 경우, 상기 회전 광학 소자는 상기 입사 빔이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시킬 수 있다.
일실시예에 따르면, 위상을 자체 제어하기 위하여 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM)을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에서 이용되는 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되어 회전 수단에 의해 회전되고, 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 피드백 빔-상기 피드백 빔은 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 입사 빔이 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 후단에 포함되는 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 생성됨-이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시킨다.
상기 회전 광학 소자는 상기 피드백 빔이 집속되는 초점이 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 하나의 위치에 고정되지 않도록 서로 다른 위치로 이동시킬 수 있다.
상기 회전 광학 소자는 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울에서의 상기 입사 빔과 상기 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어할 수 있다.
일실시예에 따르면, 후단에 오목 거울을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM), 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되는 회전 광학 소자 및 상기 회전 광학 소자를 회전시키는 회전 수단을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 위상 제어 방법은 상기 회전 광학 소자가 회전함에 따라, 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사 빔을 입사시키는 단계; 상기 입사 빔이 상기 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 피드백 빔을 생성하는 단계; 및 상기 입사 빔과 상기 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어하는 단계를 포함하고, 상기 피드백 빔을 생성하는 단계는 상기 피드백 빔이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는 단계를 포함한다.
일실시예들은 회전 광학 소자를 포함함으로써, 입사 빔이 반사된 피드백 빔이 집속되는 초점을 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공할 수 있다.
구체적으로, 일실시예들은 피드백 빔이 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 하나의 위치에 고정되지 않도록 서로 다른 위치로 이동시키는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공할 수 있다.
또한, 일실시예들은 입사 빔이 집속되는 초점을 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공할 수 있다.
또한, 일실시예들은 입사 빔과 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공할 수 있다.
따라서, 일실시예들은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 입사 빔의 세기가 수백 W 이상으로 강한 경우에도, 피드백 빔이 집속되는 초점 및/또는 입사 빔이 집속되는 초점을 이동시킴으로써, 유도 브릴루앙 산란에 의한 반사 빔을 효율적으로 반사시키며 반사 빔의 위상을 자체 제어하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 제공할 수 있다.
또한, 일실시예들은 상술한 바와 같은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에서 이용되는 회전 광학 소자를 제공할 수 있다.
도 1은 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 나타낸 도면이다.
도 2는 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 나타낸 도면이다.
도 3은 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 4는 다른 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 나타낸 도면이다.
도 5는 다른 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 6은 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 위상 제어 방법을 나타낸 플로우 차트이다.
이하, 본 발명에 따른 실시예들을 첨부된 도면을 참조하여 상세하게 설명한다. 그러나 본 발명이 실시예들에 의해 제한되거나 한정되는 것은 아니다. 또한, 각 도면에 제시된 동일한 참조 부호는 동일한 부재를 나타낸다.
또한, 본 명세서에서 사용되는 용어(terminology)들은 본 발명의 바람직한 실시예를 적절히 표현하기 위해 사용된 용어들로서, 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 본 발명이 속하는 분야의 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 따라서, 본 용어들에 대한 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.
도 2는 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 나타낸 도면이다.
도 2를 참조하면, 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(200)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210), 회전 광학 소자(220) 및 회전 수단(도면에는 도시되지 않음)를 포함한다.
유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)은 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)이 이용되나, 후단에 오목 거울(211)을 포함해야 한다. 여기서, 오목 거울(211)의 곡률 반지름은 후술되는 회전 광학 소자(220)에 기초하여 적응적으로 설정될 수 있다. 예를 들어, 오목 거울(211)의 곡률 반지름은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)에 입사되는 입사 빔이 회전 광학 소자(220)에 의해 굴절되어 오목 거울(211)에 입사되는 입사각이 0도가 되도록 설정될 수 있다.
회전 광학 소자(220)는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)의 앞에 배치되어 회전 수단에 의해 회전한다. 이하, 회전 광학 소자(220)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)의 앞에 배치된다는 것은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)로 입사되는 입사 빔이 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)에 입사되기 이전에 회전 광학 소자(220)에 먼저 입사되도록 회전 광학 소자(220)가 배치된다는 것을 의미한다. 따라서, 회전 광학 소자(220)는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)로 입사되는 입사 빔을 굴절시켜 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)로 진행시킬 수 있다.
특히, 회전 광학 소자(220)는 회전 수단에 의해 회전하는 회전축을 기준으로 비대칭 형상으로 형성될 수 있다. 이 때, 회전 광학 소자(220)의 형상은 입사 빔을 굴절시켜 오목 거울(211)로 입사시킬 때의 입사각에 기초하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 회전 광학 소자(220)의 형상은 입사 빔이 굴절되어 오목 거울(211)에 입사되는 입사각이 0도가 되도록 결정될 수 있다.
도면에는 회전 광학 소자(220)가 웨지(wedge)인 경우로 도시되었으나, 이에 제한되거나 한정되지 않고, 오프-센터된(off-centered) 렌즈일 수도 있다. 이에 대한 상세한 설명은 도 4를 참조하여 기재하기로 한다.
여기서, 회전 광학 소자(220)는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)의 광축(212)을 중심으로 회전하기 때문에, 회전 수단에 의해 회전 광학 소자(220)가 회전하는 회전축은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)의 광축(212)을 의미할 수 있다(유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)의 광축(212)은 후단에 포함되는 오목 거울(211)의 광축과 동일함).
회전 광학 소자(220)를 회전시키는 회전 수단으로는 종래의 서보 모터(servo motor)와 같은 다양한 모터들이 이용될 수 있다.
이와 같이, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(200)은 회전하는 회전 광학 소자(220)를 이용하여 입사 빔을 굴절시켜 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210)의 후단에 포함되는 오목 거울(211)에 입사시킨다. 따라서, 회전 광학 소자(220)의 회전에 따라, 입사 빔이 굴절되는 각도가 달라지고, 오목 거울(211) 상에 입사되는 영역이 달라지기 때문에, 입사 빔이 오목 거울(211)에 의해 반사되는 피드백 빔이 집속되는 초점 역시 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210) 상의 하나의 위치에 고정되지 않고, 서로 다른 위치로 이동될 수 있다.
이 때, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(200)은 피드백 빔이 집속되는 초점의 위치(피드백 빔의 초점은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(210) 상에서 서로 다른 위치로 이동됨)를 제어함으로써, 입사 빔과 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어할 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 도 3을 참조하여 기재하기로 한다.
도 3은 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 3을 참조하면, 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 회전 광학 소자(310)의 회전에 따라, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320)의 후단에 포함되는 오목 거울(321)로 서로 다른 각도로 굴절되는 입사 빔(330, 340)을 입사시킴으로써, 입사 빔(330, 340)이 오목 거울(321)에 의해 반사되는 피드백 빔(331, 341)이 집속되는 초점(332, 342)을 서로 다른 위치로 이동시킨다.
예를 들어, 제1 주기에서 입사 빔(330)이 회전 광학 소자(310)로 입사되면, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 제1 회전 상태로 회전된 회전 광학 소자(310)를 이용하여 입사 빔(330)을 굴절시켜 오목 거울(321)로 입사시킨다.
이에, 오목 거울(321)로 입사된 입사 빔(330)이 오목 거울(321)에 의해 반사된 피드백 빔(331)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320) 상의 특정 위치인 제1 초점(332)에 집속되고, 제1 초점(332)에서는 입사 빔(330)과 피드백 빔(331)의 산란에 의해 반사되는 반사 빔이 생성된다.
이어서, 제2 주기에서 입사 빔(340)이 회전 광학 소자(310)로 입사되면, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 제2 회전 상태로 회전된 회전 광학 소자(310)를 이용하여 입사 빔(340)을 굴절시켜 오목 거울(321)로 입사시킨다.
이에, 오목 거울(321)로 입사된 입사 빔(340)이 오목 거울(321)에 의해 반사된 피드백 빔(341)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320) 상의 특정 위치인 제2 초점(342)에 집속되고, 제2 초점(342)에서는 입사 빔(340)과 피드백 빔(341)의 산란에 의해 반사되는 반사 빔이 생성된다.
이와 같이, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 제1 주기 내지 제2 주기 동안에 피드백 빔들(331, 341)이 각각 집속되는 초점(332, 342)의 위치를 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320) 상에서 서로 다르게 이동시킴으로써, 입사 빔(330, 340)의 세기가 수백 W 이상으로 강한 경우에도, 유도 브릴루앙 산란에 의한 반사 빔을 효율적으로 반사시키며 반사 빔의 위상을 자체 제어할 수 있다.
특히, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여(반사 빔의 최대 위상 잠금을 달성하기 위하여), 회전 광학 소자(310)에 의해 굴절된 입사 빔(330, 340)이 오목 거울(321)로 입사되는 입사각을 조절할 수 있다. 예를 들어, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 회전 광학 소자(310)의 형상, 회전 광학 소자(310)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320)의 앞에 배치되는 위치 또는 입사 빔(330, 340)의 입사 속도(입사 반복률)에 따른 회전 광학 소자(310)의 회전 속도를 적응적으로 설정함으로써, 입사 빔(330, 340)이 오목 거울(321)로 입사되는 입사각을 0도로 조절할 수 있다.
또한, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서 피드백 빔(331, 341)이 집속되는 초점(332, 342)까지의 경로 길이(333_1, 343_1)를 일정하게 유지하도록 회전 광학 소자(310)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 회전 광학 소자(310)의 형상, 회전 광학 소자(310)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320)의 앞에 배치되는 위치 또는 입사 빔(330, 340)의 입사 속도(입사 반복률)에 따른 회전 광학 소자(310)의 회전 속도를 적응적으로 설정함으로써, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서 피드백 빔(331, 341)이 집속되는 초점(332, 342)까지의 경로 길이(333_1, 343_1)를 일정하게 유지할 수 있다.
더 구체적인 예를 들면, 회전 광학 소자(310)는 회전 광학 소자(310)가 회전함에 따라 발생되는 경로 길이(333_1, 343_1)의 변동에 기초하여, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320)을 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다. 마찬가지로, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)에 포함되는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320) 역시 회전 광학 소자(310)가 회전함에 따라 발생되는 경로 길이(333_1, 343_1)의 변동에 기초하여, 회전 광학 소자(310)를 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다.
또한, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서의 전체 경로 길이(333_2, 343_2)를 일정하게 유지하도록 회전 광학 소자(310)를 제어할 수도 있다.
예를 들어, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)은 회전 광학 소자(310)의 형상, 회전 광학 소자(310)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320)의 앞에 배치되는 위치 또는 입사 빔(330, 340)의 입사 속도(입사 반복률)에 따른 회전 광학 소자(310)의 회전 속도를 적응적으로 설정함으로써, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서의 전체 경로 길이(333_2, 343_2)를 일정하게 유지할 수 있다.
더 구체적인 예를 들면, 회전 광학 소자(310)는 회전 광학 소자(310)가 회전함에 따라 발생되는 전체 경로 길이(333_2, 343_2)의 변동에 기초하여, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320)을 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다. 마찬가지로, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(300)에 포함되는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(320) 역시 회전 광학 소자(310)가 회전함에 따라 발생되는 전체 경로 길이(333_2, 343_2)의 변동에 기초하여, 회전 광학 소자(310)를 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다.
도 4는 다른 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템을 나타낸 도면이다.
도 4를 참조하면, 다른 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(400)은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410), 회전 광학 소자(420) 및 회전 수단(도면에는 도시되지 않음)을 포함한다.
유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)은 종래의 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)이 이용되나, 후단에 오목 거울(411)을 포함해야 한다. 여기서, 오목 거울(411)의 곡률 반지름은 후술되는 회전 광학 소자(420)에 기초하여 적응적으로 설정될 수 있다. 예를 들어, 오목 거울(411)의 곡률 반지름은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)에 입사되는 입사 빔이 회전 광학 소자(420)에 의해 굴절되어 오목 거울(411)에 입사되는 입사각이 0도가 되도록 설정될 수 있다.
회전 광학 소자(420)는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)의 앞에 배치되어 회전 수단에 의해 회전한다. 이하, 회전 광학 소자(420)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)의 앞에 배치된다는 것은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)로 입사되는 입사 빔이 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)에 입사되기 이전에 회전 광학 소자(420)에 먼저 입사되도록 회전 광학 소자(420)가 배치된다는 것을 의미한다. 따라서, 회전 광학 소자(420)는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)로 입사되는 입사 빔을 굴절시켜 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)로 진행시킬 수 있다.
특히, 회전 광학 소자(420)는 회전 수단에 의해 회전하는 회전축을 기준으로 비대칭 형상으로 형성될 수 있다. 이 때, 회전 광학 소자(420)의 형상은 입사 빔을 굴절시켜 오목 거울(411)로 입사시킬 때의 입사각에 기초하여 결정될 수 있다. 예를 들어, 회전 광학 소자(420)의 형상은 입사 빔이 굴절되어 오목 거울(411)에 입사되는 입사각이 0도가 되도록 결정될 수 있다.
구체적으로, 회전 광학 소자(420)로는 도면과 같은 오프-센터된 렌즈가 이용될 수 있다. 따라서, 오프-센터된 렌즈인 회전 광학 소자(420)에 의해, 입사 빔은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410) 상의 초점에 집속될 수 있다. 후술되겠지만, 회전 광학 소자(420)에 의해 입사 빔이 집속되는 초점은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410) 상의 서로 다른 위치로 이동될 수 있다.
여기서, 회전 광학 소자(420)는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)의 광축(412)을 중심으로 회전하기 때문에, 회전 수단에 의해 회전 광학 소자(420)가 회전하는 회전축은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)의 광축(412)을 의미할 수 있다(유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)의 광축(412)은 후단에 포함되는 오목 거울(411)의 광축과 동일함).
회전 광학 소자(420)를 회전시키는 회전 수단으로는 종래의 서보 모터(servo motor)와 같은 다양한 모터들이 이용될 수 있다.
이와 같이, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(400)은 회전하는 회전 광학 소자(420)를 이용하여 입사 빔을 굴절시켜 초점에 집속시킨 후, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410)의 후단에 포함되는 오목 거울(411)에 입사시킨다. 따라서, 회전 광학 소자(420)의 회전에 따라, 입사 빔이 굴절되는 각도가 달라지고, 집속되는 초점의 위치가 달라지기 때문에, 입사 빔이 집속되는 초점은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410) 상의 하나의 위치에 고정되지 않고, 서로 다른 위치로 이동될 수 있다.
이 때, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(400)은 입사 빔이 집속되는 초점의 위치(입사 빔의 초점은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(410) 상에서 서로 다른 위치로 이동됨)를 제어함으로써, 입사 빔과 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어할 수 있다. 이에 대한 상세한 설명은 도 5를 참조하여 기재하기로 한다.
도 5는 다른 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 동작을 설명하기 위한 도면이다.
도 5를 참조하면, 다른 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 오프-센터된 렌즈인 회전 광학 소자(510)의 회전에 따라, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520) 상에 입사 빔(530, 540)을 굴절시켜 집속되는 초점(531, 541)을 서로 다른 위치로 이동시킨다.
예를 들어, 제1 주기에서 입사 빔(530)이 회전 광학 소자(510)로 입사되면, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 제1 회전 상태로 회전된 회전 광학 소자(510)를 이용하여 입사 빔(530)을 굴절시켜 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520) 상의 특정 위치인 제1 초점(531)에 집속시킨 후, 오목 거울(521)로 입사 빔(530)을 입사시킨다.
이에, 오목 거울(521)로 입사된 입사 빔(530)이 오목 거울(521)에 의해 반사된 피드백 빔(532)은 평행하게 진행되고, 제1 초점(531)에 피드백 빔(532)이 근접되어 만나게 되면, 해당 지점에서는 입사 빔(530)과 피드백 빔(532)의 산란에 의해 반사되는 반사 빔이 생성된다.
이어서, 제2 주기에서 입사 빔(540)이 회전 광학 소자(510)로 입사되면, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 제2 회전 상태로 회전된 회전 광학 소자(510)를 이용하여 입사 빔(540)을 굴절시켜 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520) 상의 특정 위치인 제2 초점(541)에 집속시킨 후, 오목 거울(521)로 입사 빔(540)을 입사시킨다.
이에, 오목 거울(521)로 입사된 입사 빔(540)이 오목 거울(521)에 의해 반사된 피드백 빔(542)은 평행하게 진행되고, 제2 초점(541)에 피드백 빔(542)이 근접되어 만나게 되면, 해당 지점에서는 입사 빔(540)과 피드백 빔(542)의 산란에 의해 반사되는 반사 빔이 생성된다.
이와 같이, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 제1 주기 내지 제2 주기 동안에 입사 빔(530, 540)이 각각 집속되는 초점(531, 541)의 위치를 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520) 상에서 서로 다르게 이동시킴으로써, 입사 빔(530, 540)의 세기가 수백 W 이상으로 강한 경우에도, 입사 빔(530, 540)을 집속 후 진행시키고, 유도 브릴루앙 산란에 의한 반사 빔을 효율적으로 반사시키며 반사 빔의 위상을 자체 제어할 수 있다.
특히, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여(반사 빔의 최대 위상 잠금을 달성하기 위하여), 회전 광학 소자(510)에 의해 굴절된 입사 빔(530, 540)이 오목 거울(521)로 입사되는 입사각을 조절할 수 있다. 예를 들어, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 회전 광학 소자(510)의 형상, 회전 광학 소자(510)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520)의 앞에 배치되는 위치 또는 입사 빔(530, 540)의 입사 속도(입사 반복률)에 따른 회전 광학 소자(510)의 회전 속도를 적응적으로 설정함으로써, 입사 빔(530, 540)이 오목 거울(521)로 입사되는 입사각을 0도로 조절할 수 있다.
또한, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서 입사 빔(530, 540)이 각각 집속되는 초점(531, 541)에 피드백 빔(532, 542)이 근접하여 만나는 위치까지의 경로 길이(533_1, 543_1)를 일정하게 유지하도록 회전 광학 소자(510)를 제어할 수 있다. 예를 들어, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 회전 광학 소자(510)의 형상, 회전 광학 소자(510)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520)의 앞에 배치되는 위치 또는 입사 빔(530, 540)의 입사 속도(입사 반복률)에 따른 회전 광학 소자(510)의 회전 속도를 적응적으로 설정함으로써, 경로 길이(533_1, 543_1)를 일정하게 유지할 수 있다.
더 구체적인 예를 들면, 회전 광학 소자(510)는 회전 광학 소자(510)가 회전함에 따라 발생되는 경로 길이(533_1, 543_1)의 변동에 기초하여, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520)을 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다. 마찬가지로, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)에 포함되는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520) 역시 회전 광학 소자(510)가 회전함에 따라 발생되는 경로 길이(533_1, 543_1)의 변동에 기초하여, 회전 광학 소자(510)를 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다.
또한, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서의 전체 경로 길이(533_2, 543_2)를 일정하게 유지하도록 회전 광학 소자(510)를 제어할 수도 있다.
예를 들어, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 회전 광학 소자(510)의 형상, 회전 광학 소자(510)가 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520)의 앞에 배치되는 위치 또는 입사 빔(530, 540)의 입사 속도(입사 반복률)에 따른 회전 광학 소자(510)의 회전 속도를 적응적으로 설정함으로써, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서의 전체 경로 길이(533_2, 543_2)를 일정하게 유지할 수 있다.
더 구체적인 예를 들면 회전 광학 소자(510)는 회전 광학 소자(510)가 회전함에 따라 발생되는 전체 경로 길이(533_2, 543_2)의 변동에 기초하여, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520)을 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다. 마찬가지로, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)에 포함되는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(520) 역시 회전 광학 소자(510)가 회전함에 따라 발생되는 전체 경로 길이(533_2, 543_2)의 변동에 기초하여, 회전 광학 소자(510)를 기준으로 수직 방향 또는 수평 방향 중 적어도 어느 하나의 방향으로 이동될 수 있다.
마찬가지로, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템(500)은 반사 빔의 위상을 자체 제어하기 위하여, 제1 주기 및 제2 주기 각각에서 입사 빔(530, 540)이 집속되는 초점(531, 541)까지의 경로 길이를 일정하게 유지하도록 회전 광학 소자(510)를 제어할 수 있다. 이에 대한 설명은 위에서 상술한 제1 주기 및 제2 주기 각각에서 입사 빔(530, 540)이 각각 집속되는 초점(531, 541)에 피드백 빔(532, 542)이 근접하여 만나는 위치까지의 경로 길이(533_1, 543_1)를 일정하게 유지하는 구성과 동일하므로 생략하기로 한다.
도 6은 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 위상 제어 방법을 나타낸 플로우 차트이다.
도 6을 참조하면, 일실시예에 따른 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에 포함되는 회전 수단을 이용하여 회전 광학 소자가 회전함에 따라, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에 포함되는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사 빔을 입사시킨다(610).
여기서, 회전 광학 소자는 회전 수단에 의해 회전하는 회전축을 기준으로 비대칭 형상으로 형성되어, 회전 수단에 의해 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 광축을 중심으로 회전할 수 있다.
또한, 회전 광학 소자는 웨지 또는 오프-센터된 렌즈 중 적어도 어느 하나일 수 있다. 만약, 회전 광학 소자로 오프-센터된 렌즈가 이용되는 경우, 610 단계에서, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 입사 빔이 집속되는 초점을 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시킬 수 있다.
이 때, 610 단계에서, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 회전 광학 소자에 의해 굴절된 입사 빔이 오목 거울로 입사되는 입사각을 조절할 수 있다.
이어서, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 입사 빔이 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 후단에 포함되는 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 피드백 빔을 생성한다(620).
특히, 620 단계에서, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 피드백 빔이 집속되는 초점을 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시킨다.
구체적으로, 620 단계에서, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동되는 초점(피드백 빔이 집속되는 초점)까지의 경로 길이를 일정하게 유지하도록 회전 광학 소자를 제어할 수 있다.
그 후, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템은 입사 빔과 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어한다(630).
이상과 같이 실시예들이 비록 한정된 실시예와 도면에 의해 설명되었으나, 해당 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 상기의 기재로부터 다양한 수정 및 변형이 가능하다. 예를 들어, 설명된 기술들이 설명된 방법과 다른 순서로 수행되거나, 및/또는 설명된 시스템, 구조, 장치, 회로 등의 구성요소들이 설명된 방법과 다른 형태로 결합 또는 조합되거나, 다른 구성요소 또는 균등물에 의하여 대치되거나 치환되더라도 적절한 결과가 달성될 수 있다.
그러므로, 다른 구현들, 다른 실시예들 및 특허청구범위와 균등한 것들도 후술하는 특허청구범위의 범위에 속한다.

Claims (15)

  1. 위상을 자체 제어하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에 있어서,
    후단에 오목 거울을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM);
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되는 회전 광학 소자; 및
    상기 회전 광학 소자를 회전시키는 회전 수단
    을 포함하고,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 피드백 빔-상기 피드백 빔은 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 입사 빔이 상기 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 생성됨-이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 피드백 빔이 집속되는 초점이 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 하나의 위치에 고정되지 않도록 서로 다른 위치로 이동시키는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울에서의 상기 입사 빔과 상기 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어하는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 입사 빔이 상기 오목 거울에 입사되는 입사각을 조절하는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 입사 빔이 상기 오목 거울에 입사되는 입사각을 조절하기 위하여, 형상, 위치 또는 회전 속도 중 적어도 어느 하나를 설정하는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동되는 상기 초점까지의 경로 길이를 일정하게 유지하는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  7. 제6항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동되는 상기 초점까지의 경로 길이를 일정하게 유지하기 위하여, 형상, 위치 또는 회전 속도 중 적어도 어느 하나를 설정하는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 회전 수단에 의해 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 광축을 중심으로 회전하는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 회전 수단에 의해 회전하는 회전축을 기준으로 비대칭 형상으로 형성되는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  10. 제9항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    웨지(wedge) 또는 오프-센터된(off-centered) 렌즈 중 적어도 어느 하나인, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자가 상기 오프-센터된 렌즈인 경우, 상기 회전 광학 소자는
    상기 입사 빔이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는, 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템.
  12. 위상을 자체 제어하기 위하여 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM)을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템에서 이용되는 회전 광학 소자에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되어 회전 수단에 의해 회전되고,
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 피드백 빔-상기 피드백 빔은 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사되는 입사 빔이 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 후단에 포함되는 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 생성됨-이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는, 회전 광학 소자.
  13. 제12항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 피드백 빔이 집속되는 초점이 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 하나의 위치에 고정되지 않도록 서로 다른 위치로 이동시키는, 회전 광학 소자.
  14. 제12항에 있어서,
    상기 회전 광학 소자는
    상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울에서의 상기 입사 빔과 상기 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어하는, 회전 광학 소자.
  15. 후단에 오목 거울을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울(stimulated Brillouin scattering-phase conjugate mirror; SBS-PCM), 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울의 앞에 배치되는 회전 광학 소자 및 상기 회전 광학 소자를 회전시키는 회전 수단을 포함하는 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 시스템의 위상 제어 방법에 있어서,
    상기 회전 광학 소자가 회전함에 따라, 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울로 입사 빔을 입사시키는 단계;
    상기 입사 빔이 상기 오목 거울에 의해 반사됨에 따라 피드백 빔을 생성하는 단계; 및
    상기 입사 빔과 상기 피드백 빔의 산란에 의해 반사되는 반사 빔의 위상을 제어하는 단계
    를 포함하고,
    상기 피드백 빔을 생성하는 단계는
    상기 피드백 빔이 집속되는 초점을 상기 유도 브릴루앙 산란 위상 공액 거울 상의 서로 다른 위치로 이동시키는 단계
    를 포함하는 위상 제어 방법.
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