JP2009518207A - 基板とモールドとの間に位置するガスを排出するための方法 - Google Patents
基板とモールドとの間に位置するガスを排出するための方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
本出願は、発明者としてByung−Jin Choi、Sidlgata V.Sreenivasan、Ian M.McMackin、及びPankaj B.Ladが記載された「Method and Apparatus for Imprinting with Preshaped Templates and/or Light Curable Liquids」という名称の2005年12月8日出願の米国特許仮出願60/748380の優先権、及び、発明者としてByung−Jin Choi、Ronald D.Voison、Sidlgata V.Sreenivasan、Michael P.C.Watts、Daniel A.Babbs、Mario J.Meissl、Hillman L.Bailey、及びNorman E.Schumakerが共に記載された「Chucking System for Modulating Shapes of Substrates」という名称の2002年11月13日出願の現在は米国特許第7019819号である米国特許出願10/293224の継続である、「Imprint Lithography Substrate Processing Tool for Modulating Shapes of Substrates」という名称の2006年3月27日出願の米国特許出願11/389731の継続を主張し、これらの全ては参照により本明細書に組み込まれる。
組成1
イソボルニルアクリレート
n−へキシルアクリレート
エチレングリコールディアクリレート
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−1
組成2
イソボルニルアクリレート
n−へキシルアクリレート
エチレングリコールディアクリレート
2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−1
RfCH2CH2O(CH2CH2O)XH
組成3
ヒドロキシル機能のポリシロキサン
ヘキサメソキシメチルメラミン
トルエンスルホン酸
メチルアミルケトン
組成4
ヒドロキシル機能のポリシロキサン
ヘキサメソキシメチルメラミン
ガンマ−グリシドオキシプロピルトリメトキシレン
トルエンスルホン酸
メチルアミルケトン
Claims (19)
- 基板とモールド組立体の間に液体を有していて、前記基板と前記モールド組立体との間にあるガスを排出させるための方法において、
第1領域と第2領域を有する前記モールド組立体が前記基板に近接するように、前記モールド組立体と前記基板とを配置するステップと、
前記モールド組立体の前記第2領域と前記基板との間に形成された間隙を減少させるために前記第2領域が前記基板に向かって湾曲するように、前記第1領域を前記基板から離れるように湾曲させることによって前記モールド組立体の形状を変形させるステップと、
前記ガスを前記基板と前記モールド組立体との間から排出し、かつ前記液体が前記モールド組立体と前記基板との間に規制された容積を充填するように、前記液体の副部分を前記モールド組立体の前記第2領域に接触させるステップと、
を含む方法。 - 前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第1領域との間に形成された第1チャンバと、前記チャックの部分と前記モールド組立体の前記第2領域との間に形成された第2チャンバとの間で差異がある圧力を作るステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第1領域との間に形成されたチャンバを真空にさらすステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記副部分を接触させるステップは、前記液体の中央領域を前記モールド組立体に接触させるステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記モールド組立体と前記層との間の接触時間の大きさが、前記液体から形成される層の均一性を最大化するように選択される請求項1に記載の方法。
- 前記液体を固化させるために化学線作用のあるエネルギーを前記液体に当てるステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 基板とモールド組立体の間に液体を有していて、前記基板と前記モールド組立体との間にあるガスを排出させるための方法において、
第1領域と第2領域を有する前記モールド組立体が前記基板から間隔を隔てて配置されるように前記モールド組立体と前記基板とを配置するステップと、
前記液体が前記モールド組立体と前記基板との間に規制された容積を充填する際に、前記ガスを前記基板と前記モールド組立体との間から排出させるために、前記第2領域が前記基板に向かって湾曲し、かつ前記第2領域が前記液体の副部分に接触するように、前記第1領域を前記基板から離れるように湾曲させることによって前記モールド組立体の形状を変形させるステップと、
を含む方法。 - 前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第1領域との間に形成された第1チャンバと、前記チャックの部分と前記モールド組立体の前記第2領域との間に形成された第2チャンバとの間で差異がある圧力を作るステップをさらに含む請求項7に記載の方法。
- 前記形状を変形させるステップは、前記モールド組立体に結合されたチャックの部分と前記モールド組立体の前記第1領域との間に形成されたチャンバを真空にさらすステップをさらに含む請求項7に記載の方法。
- 前記形状を変形させるステップは、前記液体の中央領域を前記モールド組立体に接触させるステップをさらに含む請求項7に記載の方法。
- 前記モールド組立体と前記層との間の接触時間の大きさが、前記液体から形成される層の均一性を最大化するように選択される請求項7に記載の方法。
- 前記液体を固化させるために化学線作用のあるエネルギーを前記液体に当てるステップをさらに含む請求項7に記載の方法。
- モールド組立体の形状を変形させるためのシステムにおいて、
第1の側とその反対側の第2の側を有するチャック本体であって、前記第1の側は、間隔を空けて配置される第1と第2の支持領域となる第1と第2の間隔を空けて配置された凹部を含み、前記第1支持領域は、前記第2支持領域及び前記第1と第2凹部を取り巻き、前記第2支持領域は前記第2凹部を取り巻き、流体チャネルが前記チャック本体を通り抜けて前記第1凹部に延びるチャック本体と、
前記チャック本体の前記第1の側に結合されたモールド組立体であって、前記モールドの一部分が第1チャンバを形成する前記第1凹部に重ね合わされ、前記モールドの他の部分が第2チャンバを形成する前記第2凹部に重ね合わされたモールド組立体と、
前記モールド組立体の前記第2部分が前記チャック本体から湾曲して離れるように前記モールド組立体の前記第1部分を前記チャック本体に向けて湾曲させるために真空圧力を前記流体チャネルを通じて前記第1チャンバに供給するために前記チャック本体に結合された圧力制御システムと、
を備えたシステム。 - 前記第1凹部は、そこから延びる複数の間隔を隔てて配置されたピンをさらに備える請求項13に記載のシステム。
- 前記第2凹部に重ね合わされた前記チャック本体の部分は、所定の波長を有する放射に対して透明である請求項13に記載のシステム。
- 前記システムは、前記第1チャンバを前記第2チャンバから分離させるために前記第2支持領域に隣接して配置された規格に準拠したシーリングをさらに備える請求項13に記載のシステム。
- 前記第1と第2支持領域のそれぞれがそれに付随した支持面を有し、前記第2支持領域からは離れて向いており、前記支持面は、前記モールド組立体の輪郭に従うように構成された材料で形成されている請求項13に記載のシステム。
- 前記圧力制御システムを前記第2チャンバに流体連結させて配置するために、前記チャック本体を通り抜けて前記第2凹部に延びる付加的な流体チャネルをさらに含む請求項13に記載のシステム。
- 前記モールド組立体は複数の突出部と凹部とをさらに備える請求項13に記載のシステム。
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