JP2009504711A - 接触的オキシ塩素化 - Google Patents

接触的オキシ塩素化 Download PDF

Info

Publication number
JP2009504711A
JP2009504711A JP2008526496A JP2008526496A JP2009504711A JP 2009504711 A JP2009504711 A JP 2009504711A JP 2008526496 A JP2008526496 A JP 2008526496A JP 2008526496 A JP2008526496 A JP 2008526496A JP 2009504711 A JP2009504711 A JP 2009504711A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxychlorination
catalyst
process according
ratio
reactor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008526496A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5256036B2 (ja
Inventor
バン・ローイジエン,フランシスクス・エドウイン
ド・ブルイン,アリエ
ニーウランド,イエレ・ヨハン
Original Assignee
アルベマール・ネーザーランズ・ベー・ブイ
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by アルベマール・ネーザーランズ・ベー・ブイ filed Critical アルベマール・ネーザーランズ・ベー・ブイ
Publication of JP2009504711A publication Critical patent/JP2009504711A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5256036B2 publication Critical patent/JP5256036B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/06Halogens; Compounds thereof
    • B01J27/08Halides
    • B01J27/122Halides of copper
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/06Halogens; Compounds thereof
    • B01J27/138Halogens; Compounds thereof with alkaline earth metals, magnesium, beryllium, zinc, cadmium or mercury
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/005Separating solid material from the gas/liquid stream
    • B01J8/0055Separating solid material from the gas/liquid stream using cyclones
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/1872Details of the fluidised bed reactor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J8/00Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
    • B01J8/18Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles
    • B01J8/24Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique
    • B01J8/34Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes with fluidised particles according to "fluidised-bed" technique with stationary packing material in the fluidised bed, e.g. bricks, wire rings, baffles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07CACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C17/00Preparation of halogenated hydrocarbons
    • C07C17/093Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
    • C07C17/15Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens with oxygen as auxiliary reagent, e.g. oxychlorination
    • C07C17/152Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens with oxygen as auxiliary reagent, e.g. oxychlorination of hydrocarbons
    • C07C17/156Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens with oxygen as auxiliary reagent, e.g. oxychlorination of hydrocarbons of unsaturated hydrocarbons
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00017Controlling the temperature
    • B01J2208/00026Controlling or regulating the heat exchange system
    • B01J2208/00035Controlling or regulating the heat exchange system involving measured parameters
    • B01J2208/00044Temperature measurement
    • B01J2208/00061Temperature measurement of the reactants
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00017Controlling the temperature
    • B01J2208/00106Controlling the temperature by indirect heat exchange
    • B01J2208/00168Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles
    • B01J2208/00176Controlling the temperature by indirect heat exchange with heat exchange elements outside the bed of solid particles outside the reactor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00017Controlling the temperature
    • B01J2208/00389Controlling the temperature using electric heating or cooling elements
    • B01J2208/00407Controlling the temperature using electric heating or cooling elements outside the reactor bed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00017Controlling the temperature
    • B01J2208/00389Controlling the temperature using electric heating or cooling elements
    • B01J2208/00415Controlling the temperature using electric heating or cooling elements electric resistance heaters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00017Controlling the temperature
    • B01J2208/0053Controlling multiple zones along the direction of flow, e.g. pre-heating and after-cooling
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00548Flow
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00008Controlling the process
    • B01J2208/00654Controlling the process by measures relating to the particulate material
    • B01J2208/00681Agglomeration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2208/00Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
    • B01J2208/00796Details of the reactor or of the particulate material
    • B01J2208/00823Mixing elements
    • B01J2208/00831Stationary elements
    • B01J2208/0084Stationary elements inside the bed, e.g. baffles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/70Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
    • B01J23/76Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36
    • B01J23/83Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper combined with metals, oxides or hydroxides provided for in groups B01J23/02 - B01J23/36 with rare earths or actinides
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J27/00Catalysts comprising the elements or compounds of halogens, sulfur, selenium, tellurium, phosphorus or nitrogen; Catalysts comprising carbon compounds
    • B01J27/06Halogens; Compounds thereof
    • B01J27/128Halogens; Compounds thereof with iron group metals or platinum group metals

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

オレフィンを接触的オキシ塩素化するための方法が開示されている。この方法においてはオレフィン、OおよびHClを含有するフィードがオキシ塩素化触媒と接触される。フィード中のO/2HCl比は0.50から0.58の範囲にある。オキシ塩素化反応、特にエチレンのオキシ塩素化で使用する触媒組成物も開示されている。この触媒組成物は、流動床反応器、特に邪魔板付き流動床反応器中での使用に好適な粒子の形をしている。好ましい触媒材料は5.5重量%から14重量%のCuを含んでなる。これらは、Mgなどのアルカリ土類金属および/または稀土類金属を更に含んでなり得る。好ましい組成物は、好ましくはKである、1重量%未満のアルカリ金属を含有する。

Description

本発明は、エチレン型不飽和炭化水素を接触的オキシ塩素化するための方法に関する。この方法で使用される触媒は、流動床反応器での使用に設計され、粘着性による問題を回避する一方で高変換率および高選択率をもたらす能力がある。
オキシ塩素化触媒はよく知られている。最もありふれたオキシ塩素化反応は、エチレンの二塩化エチレン(ジクロロエタン)への変換である。二塩化エチレン(EDC)は、それ自体ポリ塩化ビニル(PVC)のモノマーである、塩化ビニルの中間体である。
エチレンのオキシ塩素化反応は次式により記述される。
+1/2O+2HCl→CCl+H
この反応を行うために種々の選択肢が使用可能である。空気が酸素源として使用され得、もしくは酸素それ自身または不活性ガスと混合された酸素が使用され得る。また、この反応は固定床または流動床反応器中で行われ得る。流動床反応器が好ましい。
流動床反応器は、担体上の銅塩をベースとした触媒、好ましくはCuClを使用する。この担体は良好な流動化に好適な粒子サイズを有する。この担体粒子は、アルミナまたは種々のケイ酸アルミニウムからなり得、アルミナが好ましい担体材料であり、ガンマ−アルミナが最も好ましい。
銅塩に加えて、この触媒は、アルカリ金属、アルカリ土類金属および稀土類の塩を含有し得る。
この種の流動床触媒についての深刻な問題は、「粘着」と呼ばれる現象により引き起こされる。この用語は、触媒粒子ガ相互に粘着する性向を述べている。これがいかなる規模であっても起こる場合には、触媒床の流動性が撹乱を受けるということは認識されるであろう。同時に、製品流から同伴触媒粒子を分離するのに使用されるサイクロン装置中での触媒の自由流動性は悪影響を受ける。これは、著しい量の触媒がガス流により反応器から除去される結果を生じる。ガス流により同伴される触媒材料は、反応器の下流に設置された急冷ユニット中で終わりになる。サイクロン中の触媒材料の量の増加は、注意深いオペレーターに対する粘着が起こっているという警告である。
粘着は反応率の低下と、したがって反応物質の変換率の低下も生じ、これは残存HClの増加により証拠だてられる。翻って、残存HClの増加は、反応条件を悪循環の中に置く危険性のある粘着の増加を生じさせる。
注意深いオペレーターは、充分早期に検出するという前提ならば、酸素フィード比および/または反応温度を増加することにより、粘着の発生を逆転することができ得る。両方の操作は高変換率を生じ、残存HClの量を低下させるのみならず、COおよびCO(一緒にCOと呼ぶ)への酸化の増加も生じる。このように、粘着の逆転または粘着の回避に必要とされる手段は、製品収率の減少を引き起こし、それゆえかなりの費用を伴う。
時には、反応条件を調整することにより粘着の発生を逆転することは可能とはならない。反応器を停止し、クリーニングし、バックアップを開始することが必要であり得る。粘着の現象がオキシ塩素化反応器の経済的運転に重大な損傷を引き起こし得るということは
認識される。
粘着の現象は多くの議論と多数の刊行物の主題となってきたが、貧弱な理解しか得られない状態が続いている。「粘着性」、すなわち触媒粒子が性向の原因になっているのは触媒中の銅であるということは一般に受け入れられている。触媒反応時、銅イオンはCu(II)からCu(I)に還元され、再度Cu(II)へと酸化される。Cu(I)形中の銅が粘着の現象における主な作用物質であるということは一般に信じられている。この理論は、反応温度においてCuClなどのCu(I)化合物が易動性もしくは液体ですらあるということである。この理論にしたがえば、これらの易動性の銅化合物は担体粒子の表面まで移動し、他のこのような粒子と液体ブリッジを形成する。
この理論に基づいて、Cuイオンとアルミナの共沈澱によりオキシ塩素化触媒を形成することが示唆されてきた。共沈澱した触媒中の銅イオンは、含浸によりアルミナ担体上に堆積された銅イオンよりもアルミナマトリックス中に強く保持される。共沈澱した触媒は粘着に対して低感受性であることが予期され、実際その通りである。しかしながら、共沈澱した触媒は、銅イオンが反応物質に対して低感受性であるために、含浸により得られる触媒よりも低活性である。
特許文献1は粘着性の低減への異なるアプローチを開示している。この目標は、表面層が銅含量の比較的乏しい多孔質粒子からなる、含浸触媒を作製することである。これは、MgCl溶液を含浸し、強酸の存在下において含浸を行うことによっても行われる。粒子の外層の銅含量は、X線光電子分光法(XPS)により求められる。
銅化合物は可動性であるために、XPSが多孔質担体粒子上の銅の存在の意味ある姿を提供することができるということはありそうもない。このようなことが外周条件で測定可能であるとしても、更に可動性のCu(I)化合物が形成され、温度が更に高い場合には、結果は、反応条件下での状況に対して限定された有効性のものである。事実、銅イオンが表面から離れた細孔中に優先的に存在するならば、この銅イオンは触媒反応への参加の利用可能性が低いので、触媒活性が低下すると予期される。
更に別のアプローチは、プロモーターを使用して、触媒活性を増大させることであった。特許文献2は、銅、カリウム、ジジム(Laに富んだ稀土類金属の混合物)ランタンおよび場合によってはマグネシウムの塩を含んでなる担持触媒を開示している。この触媒組成物は「ケーキを形成せず、脱流動化を引き起こさない」(アブストラクトUS’170を参照のこと)。この開示されている触媒組成物は0.5%から15%のCuClを含有するが、特定の例は例外なく5.3%以下のCuClを含有する。また、すべての特定の例はCuCl量を超えるDiCl3量を含有する。加えて、これらの触媒は著しい量のKClとLaClを含有する。見掛け上、実施されるアプローチは、組成物中の銅の量を低下させることにより粘着性を低減すること、および著しい量のプロモーター材料を添加することにより、生じた触媒活性の損失を補償することである。
これらの努力に拘わらず、主な触媒活性金属として銅を有し、銅イオンが反応物質にとって充分に接近可能であり、粘着性に悩まされないオキシ塩素化触媒に対する必要性はなお存在する。
粘着性の問題は、邪魔板を含む流動床反応器中での使用に設計された触媒に特に深刻である。これらの邪魔板付き反応器は、反応器中で異なる高さに配置された多数の穴開き板を含む点で在来の流動床反応器と異なる。在来の流動床反応器と比較して、邪魔板付き反応器中の反応物質の滞留時間ははるかに短い。このはるかに短い滞留時間は高活性を有する触媒を必要とする。この高活性は、通常、比較的高い銅配合量を有する触媒を準備する
ことにより得られる。好ましい触媒は、担体材料との共沈澱でなく含浸によって触媒に導入された銅を有する。触媒の中に銅を導入するための手法として含浸を使用することは、触媒活性を増加させるが、粘着性の危険も増大させる。
EP 0 119 933 B1明細書 米国特許第4,069,170号明細書
それゆえ、本発明の目的は、粘着性に感受性でなく高活性を有する、銅ベースのオキシ塩素化触媒を用いる方法を提供することである。本発明の更なる目的は、粘着性に感受性であること無しに邪魔板付き反応器中で使用するのに好適な触媒を提供することである。好ましい態様においては、この触媒は、担体材料をCuCl溶液により含浸することによって製造される。
本発明は、酸素およびHClを0.50から0.58の範囲のO/2HCl比で含んでなるガスによりオレフィンを接触的オキシ塩素化するための方法に関する。
本発明の方法は、この明細書中で定義する少なくとも99.4%のHCl変換率;この明細書中で定義する少なくとも98.5%のEDC選択率;およびこの明細書中で定義する0.52以下の粘着性に対する臨界酸素/塩酸比を有するオキシ塩素化触媒を使用する。
特定の態様においては、この方法で使用される触媒は、5.5から14重量%のCuを堆積させた耐火性酸化物である担体材料を含んでなる。この触媒は、Mgなどのアルカリ土類金属を更に含んでなり得る。この触媒がアルカリ金属を含んでなる場合には、この量は1重量%以下、好ましくは0.6重量%以下であり;好ましいアルカリ金属はKである。この触媒は、稀土類金属または稀土類金属の混合物を好ましくは0.2から5重量%の量で更に含んでなり得る。
少量の、通常0.1重量%未満のFeが本発明の方法で使用される触媒組成物中に存在し得る。好ましい態様においては、この触媒は邪魔板付き反応器中での使用に設計される。
本発明の特定の態様を図面を参照しながら説明する。
次は、単なる例として、ならびに図面を参照しながら示される本発明のある態様の説明である。エチレンのオキシ塩素化反応をモデルとしてとりあげると、この反応は次式により表わされる。
+1/2O+2HCl→CCl+H
当業者の目的は、必要ならば反応を式の右側に進めるために、過剰のOとHClを提供することにより、エチレンの変換を最大とすることであろうことが予期される。実際上、HClは極めて腐食性の高いガスであり、反応器流出物からこれを除去することは、高価な材料である苛性の消費を伴うために、HClの変換率を最大とする最優先の必要性が存在する。本発明の方法で使用される触媒は、この明細書中で定義した99.4%以上のHCl変換率をもたらす。
EP 0 119 933 B1は、粘着性の決定における重要なパラメーターとしてHCl/C比に注目している。実際、1.90以下のHCl/エチレン比では、すべての試験された触媒は良好な流動化挙動を示したが、EDC収率は比較的劣っていた。HCl/エチレン比を1.93以上まで増加させることは、EDC収率を若干改善するが、試験された触媒の一部は劣った流動性を示し始める。この参考文献の更に良好な触媒によれば、HCl/エチレン比を更に増加することにより、EDC収率は改善可能であったが、HCl変換率は99.0%以下まで低下した。
本発明は、粘着性の挙動を推進する重要な要素がO/2HCl比であるという発見に一部基づいている。この比は、オキシ塩素化反応フィード中のOとHClのモル比の2倍として定義される。反応式によれば、この化学量論的比は0.50である。Oの若干の過剰、すなわち0.52以上のO/2HCl比はHCl変換率の劇的な改善を生じるということが見出された。好ましくは、O/2HCl比は少なくとも0.53、更に好ましくは少なくとも0.54である。最大のHCl変換率への到達または接近のために必要とされる以上の酸素の過剰を回避することが望ましい。そうでないと、過剰のCOが形成され得る。好ましくは、O/2HCl比は0.58もしくはそれ以下に、更に好ましくは0.56もしくはそれ以下に保たれる。
酸素の若干の過剰は粘着性も防止するということが更に見出された。一般に、反応器を210℃の反応温度および0.54以上のO/2HCl比で運転する場合には、大部分の触媒は粘着性を生じない。しかしながら、注意深くモニターされた反応器中でも反応温度およびO/2HCl比は両方とも変動を受けるということを認識しなければならない。O/2HCl比が0.50に接近するにしたがって、触媒の粘着性への感受性は、劇的に増加することが見出された。
標準化された条件下210℃の反応温度および減少方向のO/2HCl比で触媒材料を試験することが重要である。特定の触媒に対する粘着性が最初に観察されるO/2HCl比がこの特別な触媒に対する粘着性に対する臨界O/2HCl比である。0.50の比において粘着性が観察されない場合には、触媒は<0.50の臨界比を有するとして示される。
本発明の方法で使用される触媒は、0.52以下の、好ましくは0.50以下の粘着性に対する臨界O/2HCl比を有する。
本発明のオキシ塩素化触媒の第3の重要な性能パラメーターは、EDCに変換される変換エチレンのパーセントとして定義され、210℃の反応器温度および0、54のO/2HCl比で求められるEDC選択率である。本発明の方法で使用される触媒は、少なくとも98.5%の、好ましくは少なくとも99.0%のEDC選択率を有する。
本発明の方法で使用される触媒は、次の性能基準に同時に合致するという点で独特である。
1.0.54のO/2HCl比および210℃の反応温度における少なくとも99.4%の、好ましくは少なくとも99.6%のHCl変換率;
2.0.54のO/2HCl比および210℃の反応温度における少なくとも98.5%の、好ましくは少なくとも99.0%のEDC変換率;
3.210℃の反応温度における0.52以下の、好ましくは0.50以下の粘着性に対する臨界O/2HCl比。
本発明の方法で使用される触媒は、耐火性酸化物の群から選択されるキャリアを含んでなる。このキャリアは、流動床反応器中での使用に好適な粒子サイズを持つ粒子の形をし
ている。特に、平均粒子サイズは、40から80ミクロンの、好ましくは60から80ミクロンの範囲にあり得る。この明細書中での使用に好ましい耐火性酸化物はアルミナであり、最も好ましいのはガンマ−アルミナである。
この触媒は1つ以上の金属塩を更に含んでなる。好ましいのは、Cu塩、特にCuClを含む触媒である。Cu量(Cuとして計算された)は、5.5重量%から14重量%、好ましくは7.0重量%から11重量%、更に好ましくは7.5重量%から10重量%の範囲である。
この触媒は、アルカリ土類金属、アルカリ金属および稀土類金属などのプロモーター金属成分を更に含んでなり得る。
アルカリ土類金属が存在する場合には、これは、金属として計算して好ましくは0.2重量%から5重量%、更に好ましくは1.0重量%から2.0重量%のレベルで存在する。好ましいアルカリ土類金属はMgである。
稀土類金属が存在する場合には、これは、1つの稀土類金属として、もしくは稀土類金属の混合物として存在し得る。ランタンに富む混合物とセリウムに富む混合物は両方とも好適である。使用される場合には、稀土類金属は、通常、金属として計算して0.2から5重量%のレベルで存在する。
アルカリ金属は、キャリアまたは触媒全体の作製で使用される原材料の混入物質として本来的に存在する。特に、Naは多数の無機材料の普通の混入物質である。このように導入されるアルカリ金属量は、一般に、極めて少なく、感知できるほどの影響を触媒の性能に及ぼさない。これらの混入物質レベルは、本発明の方法で使用される触媒の組成範囲の記述に含まれない。
普通に信じられていることと反対に、アルカリ金属は、本発明の方法で使用される触媒の性能を意味のある方法で改善することが見出されなかった。加えて、本発明の方法で使用される触媒中のアルカリ金属の顕著なレベルは、粘着性に対する感受性を増大することが判明した。
したがって、本発明の方法で使用される触媒は、金属として計算して1%未満のアルカリ金属添加物を含んでなる。アルカリ金属添加物を使用する場合、好ましいアルカリ金属はKである。本発明の触媒組成物にNaを添加しないことが好ましい。
本発明の方法で使用される触媒は、キャリア粒子を触媒中に組み込まれる金属塩の水溶液と接触することにより作製される。この文脈における接触は、ムル、共沈澱、含浸などの手法であり得る。金属イオンの利用度が大きい結果をもたらすので、含浸が好ましい。特に、インシピエンントウエットネス含浸は、キャリア粒子を金属塩溶液と接触させるための好適な手法である。触媒の作製で使用される金属塩は、好ましくは塩化物である。
インシピエンントウエットネス(incipient wetness)含浸によりキャリア上に導入するために、すべての金属成分を単一の水溶液中で混合することが望ましい。しかしながら、インシピエンントウエットネス含浸においては使用され得る流体の量は、キャリア細孔容積により決定される。溶解性の制限によって、すべての金属成分を単一の含浸段階で導入することが不可能になることがあり得る。これらの場合には、乾燥段階により分離された、2つ以上の含浸段階を使用することが可能である。
触媒試験
触媒試料を図1に示すような設計のパイロット規模の反応器中で試験した。反応器10は38.1mmの内径11と3mmの壁厚12を有するガラス管である。熱電対14を反応器の中心軸に沿って取り付ける。設計が図2に詳細に示される、11個の邪魔板20を熱電対14に取り付ける。相互に81mmの間隔をあけた邪魔板を鋼管15により相互に接続する。
邪魔板は37.5mmの直径を有し、邪魔板と反応器壁の間に約0.30mmの間隙が残る。邪魔板に5.4mmの直径を有する穴21を設ける。穴の数は、合算された表面積が邪魔板の全表面積の約35%を占めるようなものとする(すなわち、邪魔板当り約18穴)。邪魔板はステンレス鋼からできている。
温度プローブ16を、反応器の底部から10mm、110mm、210mm、410mm、710mm、1110mm、1410mmおよび1810mmに配置する。ガラス反応器管10を反応器の加熱に使用される抵抗加熱線17により巻く。加熱線を独立に制御される4つの個別の区分18に区分する。
反応器の外径よりも大きい内径を有する第2のガラス管30を反応器管10の周りに配置し、冷却マントル31を形成する。冷気32(空気温度20℃)流を冷却マントル31の中にフィードすることにより、反応器を冷却し得る。空気流をMFC(マスフローコントローラー)により制御する。
個別制御の加熱区分18と冷却マントル31を組み合わせることによって、反応器10内に所望の温度プロフィールの生成および維持にわたる高度な制御を可能とする。
反応器10に450mlの触媒粒子を装填し、約39cmの静止時の高さを持つ触媒床19を作る。流動化時には触媒床の高さは約55から60cmである。反応器の中に導入する前に触媒の重量を測定する。
反応物質を反応器10の中に底部で予備ヒーター32経由でフィードする。反応生成物は頂部で反応器管を出て、ガラス管反応器10の頂部で垂直に搭載された鋼管(図示せず)に入る。反応物質がこの広い管に入ると、反応物質の流速は減少し、同伴された触媒粒子が反応器の中に逆戻りすることが可能となる。反応生成物は鋼管からサイクロン(図示せず)に入り、そこでいかなる残存触媒粒子も反応生成物から分離される。
反応混合物は、HCl、エチレン、酸素および窒素を含んでなる。反応物質の精確な計量を確実に行うために、フィードラインにはRosemounts Brooksにより供給される電子式マスフローコントローラー、タイプ5850Sを備える。
通常の試験においては、HCl流を12ミリモルHCl/時/kg触媒の重量基準の空間速度(WHSV)で固定する。このHCl流の機能において、エチレン流を所望のC/2HCl比(この明細書中で示される試験に対しては1.60)に固定する。同様に、酸素流を所望のO/2HCl比に固定する。最後に、窒素流を反応物質流の40%が窒素であるように固定する。
反応条件および反応生成物の組成の決定
反応物質を反応器に入れた後、底部から110mmにおける反応器中の温度の読みが所望の値(多くの実験において210℃)で安定化するまで、加熱および冷却の設定に対して調整を行う。定常状態に達した後、すべての反応生成物を受けるために、反応生成物の受器を用意し、反応を3時間中断せずに続行する。
サイクロンを出た後、反応生成物を滴定区分の中に導く。ここでは、反応生成物の混合物を水性液体中にバブリングして、未転換HClを吸収する。連続滴定を使用して、反応生成物の混合物中のHCl量の実時間読みを得る。
滴定区分を通すことによって、反応生成物の混合物を室温まで冷却し、ここでEDCを液体相とする。いかなる残存ガス状反応生成物(主としてCO)も捕集し、ガス/液体クロマトグラフィ(CLC)により分析する。3時間の試験ランの間液体反応生成物を捕集し、水相とEDC相に分離する。水相を水溶性反応生成物(水相は通常約0.4%のEDCを含有する)について分析する。
水相に主として溶解する1つの有機成分が存在し、それはクロラールである。EDC相を水相から分離し、分析する(クロロホルムに対して)。次に、EDCを水相に戻し、苛性を添加して、クロラールをクロロホルムとギ酸ナトリウムに変換する。クロロホルムはEDC相に溶解する。次に、2回目としてEDCを分離し、分析する。最初の分析と比較してCHClの差はクロラールの量に等しい。
反応生成物の混合物の分析によって、HClおよびC変換率および選択率の計算が通常の方法で可能となる。炭素バランスと塩素バランスを求めることにより、結果をチェックする。これらは両方とも98%と102%の間になければならず、さもなければこの試験を信頼性のないものとして破棄する。
触媒粘着性
触媒粘着性は、反応挙動において多数の異常を生じるので容易に観察される。反応器の上部の邪魔板上に集まる触媒材料の量と、サイクロン中で捕集される触媒材料の量増加として視認されるが、粘着性を反応物質により同伴される触媒量の増加として得る。加えて、反応器床は均質性が低下し、反応物質ガスの大きな泡が床中に生成する。更に、粘着性は未反応HClの増加を生じ、未反応HClを滴定により連続的に測定するにしたがって容易に検出される。
粘着性の容易な高信頼性の指標は、ガラス反応器壁への触媒粒子粘着の存在である。経験のあるオペレーターは、反応器中での触媒粘着性の発生を認識するのに困難はない。
粘着性に対する臨界O /2HCl比
210℃の反応温度および0.56[モル/モル]のO/2HCl比で上述のように試験ランを行う。3時間の試験ランの間に粘着性を観察したならば、臨界比を0.56よりも大きいとして示す。
粘着性を観察しない場合には、同一の反応温度(210℃)および0.54[モル/モル]のO/2HCl比で試験を繰り返す。粘着性を観察したならば、臨界比を0.54よりも大きいが、0.56未満であると示す。比0.55で試験を繰り返すことにより、臨界比を更に精確に決定し得る。
比0.54で粘着性を観察しない場合には、比0.52で試験を繰り返す。この試験で粘着性を観察したならば、臨界比を0.52よりも大きいが、0.54未満であると示す(臨界比を更に微調整するために、更なる試験を比0.53で行ってもよい)。
再度、比0.52で粘着性を観察しない場合には、試験を比0.50で繰り返す。なお粘着性の兆候が無い場合には、反応温度を230℃まで迅速に上げる。反応温度を突然に増加すると、生成物流中の未反応HClの増加を生じ、粘着性を引き起こす傾向がある。反応温度の増加が粘着性を引き起こさないならば、触媒を臨界比<0.50と帰属させる
粘着性のためのこの試験は、商用流動床反応器中の触媒の挙動を予言するものであるということが判明した。本発明の方法で使用される触媒は、0.52以下の粘着性に対する臨界O/2HCl比を有する。
HCl変換率
HCl変換率は、反応時に変換される反応物質混合物中のHClのパーセントとして定義される。
/2HCl比が0.58以上の場合には、大部分の触媒は210℃の標準試験ラン中で充分なHCl変換率に達する。しかしながら、このような高い比は、多量の望ましくない副生成物(COおよび塩素化副生成物)が形成される傾向があるために、通常、比較的劣ったEDC選択率を生じる。低O/2HCl比で高HCl変換率を生じる触媒を配合することが望ましい。本発明の方法で使用される触媒は、210℃の反応温度および0.54のO/2HCl比で少なくとも99.4%のHCl変換率に達する。
EDC選択率
EDC選択率は、EDCに変換される変換エチレンのパーセントとして定義される。EDCはこの反応の所望の生成物であるので、EDC選択率は大きな経済的意義がある。
/2HCl比が例えば0.60から0.50に減少するにしたがって、EDC選択率は増加する傾向がある。しかしながら、上記で説明した理由のために、商用反応器を0.50もしくはこの近傍のO/2HCl比で運転することは実際的でない。良好な実際的な妥協は商用反応器を0.54の比で運転することである。
本発明の方法で使用される触媒は、210℃および0.54のO/2HCl比で少なくとも98.5%の、好ましくは少なくとも99.0%のEDC選択率を生じる。
次の触媒を実験室タンブル反応器中で5kg規模で作製した。反応器の内容を加熱するために加熱オイルを循環することができる外殻を反応器に備えた。金属成分を塩化物の形で水に溶解した。アルミナの細孔容積の115%に相当する容積のこの水溶液によりアルミナキャリアを含浸した。これによって含浸を一段で行うことが可能となった。
含浸を室温および大気圧で行った。含浸段階は約7分かかり、その後反応器を室温で更に5分間タンブリングさせた。次に、反応器を125℃まで加熱し、タンブリングを続けながらこの温度で2時間保った。冷却段階の間僅かな空気流を反応器に通した。
触媒試料を上述のように試験した。210℃の反応温度および0.54のO/2HCl比で試料をHCl変換率およびEDC選択率について試験した。臨界O/2HCl比を上述のように求めた。
210℃の反応温度および0.54のO/2HCl比で試料をHCl変換率およびEDC選択率について試験した。臨界O/2HCl比を上述のように求めた。
Figure 2009504711
金属の量は全触媒の重量%である(金属として表わして)。
Figure 2009504711
このように、上述の態様を参照することにより本発明を説明してきた。これらの態様は種々の改変および当業者によく知られた代替の形を受け易いということを認識するであろう。
触媒材料を試験するための試験反応器の概略図である。 図1の反応器の邪魔板の一つの上面図である。

Claims (22)

  1. オレフィン、OおよびHClを含有するフィードをオキシ塩素化触媒と接触させる段階を含んでなり、そのさいフィード中のO/2HCl比が0.50から0.58の範囲にある、オレフィンを接触的オキシ塩素化する方法。
  2. /2HCl比が0.52から0.56の範囲にある、請求項1に記載の方法。
  3. オレフィンがエチレンである、請求項1もしくは2に記載の方法。
  4. オキシ塩素化触媒が少なくとも99.4%のHCl変換率、少なくとも98.5%のEDC選択率、および0.52モル/モル以下の粘着性に対する臨界酸素/塩酸比を有する、請求項1から3のいずれか一つに記載の方法。
  5. 邪魔板付き流動床反応器中で行われる、請求項1から4のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  6. オキシ塩素化触媒がCuを含んでなる、請求項1から5のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  7. オキシ塩素化触媒が5.5重量%から14重量%のCuを含んでなる、請求項1から6のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  8. オキシ塩素化触媒が好ましくはMgを含むアルカリ土類金属を含んでなる、請求項1から7のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  9. オキシ塩素化触媒が0.2重量%から5重量%のMgを含んでなる、請求項1から8のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  10. オキシ塩素化触媒が1重量%未満のアルカリ金属を含んでなる、請求項1から9のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  11. オキシ塩素化触媒が1重量%未満のKを含んでなる、請求項10に記載のオキシ塩素化方法。
  12. オキシ塩素化触媒が稀土類金属または稀土類金属の混合物を含んでなる、請求項1から11のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  13. オキシ塩素化触媒が0.2重量%から5重量%の稀土類金属の混合物を含んでなる、請求項12に記載のオキシ塩素化方法。
  14. 稀土類金属の混合物がセリウムに富んでいる、請求項13に記載のオキシ塩素化方法。
  15. 稀土類金属の混合物がランタンに富んでいる、請求項13に記載のオキシ塩素化方法。
  16. オキシ塩素化触媒が耐火性酸化物の群から選択されるキャリアを含んでなる、請求項1から15のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  17. 耐火性酸化物がアルミナである、請求項16に記載のオキシ塩素化方法。
  18. 耐火性酸化物がガンマ−アルミナである、請求項17に記載のオキシ塩素化方法。
  19. オキシ塩素化触媒が耐火性酸化物と銅化合物の共沈澱を含んでなる方法で製造される、請求項1から18のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  20. オキシ塩素化触媒が銅化合物の水溶液による耐火性酸化物の含浸を含んでなる方法で製造される、請求項1から18のいずれか一つに記載のオキシ塩素化方法。
  21. 銅化合物がCuClである、請求項20に記載のオキシ塩素化方法。
  22. オキシ塩素化触媒が7.5重量%から11重量%のCu、好ましくは7.0重量%から10重量%のCuを含んでなる、請求項20もしくは21に記載のオキシ塩素化方法。
JP2008526496A 2005-08-18 2006-08-16 接触的オキシ塩素化 Active JP5256036B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP05107598 2005-08-18
EP05107598.4 2005-08-18
PCT/EP2006/065349 WO2007020268A1 (en) 2005-08-18 2006-08-16 Catlytic oxychlorination

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009504711A true JP2009504711A (ja) 2009-02-05
JP5256036B2 JP5256036B2 (ja) 2013-08-07

Family

ID=36263786

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008526496A Active JP5256036B2 (ja) 2005-08-18 2006-08-16 接触的オキシ塩素化

Country Status (5)

Country Link
US (1) US8884085B2 (ja)
EP (1) EP1917102A1 (ja)
JP (1) JP5256036B2 (ja)
CN (1) CN101242899B (ja)
WO (1) WO2007020268A1 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016518968A (ja) * 2013-03-15 2016-06-30 オキシ ヴィニールズ,エルピー ジクロロエタンへのエチレンのオキシ塩素化のための触媒及びプロセス
KR20170023966A (ko) * 2014-06-23 2017-03-06 옥시 비닐스, 엘.피. 디클로로에탄으로의 에틸렌의 옥시염소화를 위한 촉매 및 공정

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102463125A (zh) * 2010-11-05 2012-05-23 中国石油化工股份有限公司 一种烯烃氧氯化催化剂及其制备方法和制备二氯乙烷的方法
CN104163750B (zh) * 2013-05-17 2016-07-06 中化蓝天集团有限公司 1,1,1,2,3-五氯丙烷和1,1,2,3-四氯丙烯的制备方法
CN104163751B (zh) * 2013-05-17 2016-09-28 中化蓝天集团有限公司 一种制备2-氯-3,3,3-三氟丙烯的方法
WO2023141486A1 (en) 2022-01-19 2023-07-27 Oxy Vinyls, Lp Oxychlorination process

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS549207A (en) * 1977-04-28 1979-01-24 Hoechst Ag Process for preparing 1*22dichloro ethane
JPS572224A (en) * 1980-06-06 1982-01-07 Tokuyama Soda Co Ltd Oxyhalogenation
JPS57119839A (en) * 1980-12-10 1982-07-26 Basf Ag Carrying catalyst containing copper and alkali metal and its use for manufacturing 1,2-dichlorethane
JPH0925248A (ja) * 1995-07-12 1997-01-28 Sumitomo Chem Co Ltd 1,2−ジクロロエタンの製造方法
JP2000342979A (ja) * 1999-05-21 2000-12-12 Evc Technology Ag 触媒およびそれを用いたオキシ塩素化法
JP2002011351A (ja) * 2000-05-19 2002-01-15 Basf Ag 不均一触媒反応用触媒
JP2002503536A (ja) * 1998-01-08 2002-02-05 イーヴィーシー・テクノロジー・アクチエン・ゲゼルシャフト 触媒、その製造方法、および1,2−ジクロロエタンの合成におけるその使用
WO2005046866A2 (en) * 2003-11-14 2005-05-26 Solvay (Societe Anonyme) Catalyst and gas phase method using such a catalyst
JP2005306739A (ja) * 2004-04-16 2005-11-04 Tokuyama Corp 1,2−ジクロロエタンの製造方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH443245A (fr) 1965-05-24 1967-09-15 Goodrich Co B F Procédé de préparation de 1,2-dichloréthane
GB1189815A (en) 1967-05-22 1970-04-29 Mitsui Toatsu Chemicals Catalytic Chlorination of Ethylene
US3892816A (en) * 1972-12-19 1975-07-01 Shell Oil Co Process for oxychlorination of ethylene
US4230668A (en) * 1976-02-19 1980-10-28 The Badger Company, Inc. Process and apparatus for producing halogenated unsaturated hydrocarbons
DE3066294D1 (en) * 1979-10-18 1984-03-01 Ici Plc Process and apparatus for the mixing of fluids and solids
US4446249A (en) * 1979-11-05 1984-05-01 The B. F. Goodrich Company Copper catalyst compositions for fluid-bed oxyhydrochlorination of ethylene
US5208105A (en) * 1984-10-05 1993-05-04 Kanegafuchi Kagaku Kogyo Kabushiki Kaisha Flame-retarded composite fiber
US4681674A (en) * 1985-11-07 1987-07-21 Mobil Oil Corporation Fixed bed catalytic reactor system with improved liquid distribution
US4947803A (en) 1989-05-08 1990-08-14 Hri, Inc. Fludized bed reactor using capped dual-sided contact units and methods for use
US5292703A (en) * 1992-07-28 1994-03-08 The Geon Company Catalyst and process for oxychlorination of ethylene to EDC
JPH1190233A (ja) 1997-09-18 1999-04-06 Mitsui Chem Inc オキシ塩素化用触媒の製造方法
DE19751962A1 (de) * 1997-11-24 1999-07-29 Wacker Chemie Gmbh Trägerkatalysator, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung bei der Oxichlorierung von Ethylen

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS549207A (en) * 1977-04-28 1979-01-24 Hoechst Ag Process for preparing 1*22dichloro ethane
JPS572224A (en) * 1980-06-06 1982-01-07 Tokuyama Soda Co Ltd Oxyhalogenation
JPS57119839A (en) * 1980-12-10 1982-07-26 Basf Ag Carrying catalyst containing copper and alkali metal and its use for manufacturing 1,2-dichlorethane
JPH0925248A (ja) * 1995-07-12 1997-01-28 Sumitomo Chem Co Ltd 1,2−ジクロロエタンの製造方法
JP2002503536A (ja) * 1998-01-08 2002-02-05 イーヴィーシー・テクノロジー・アクチエン・ゲゼルシャフト 触媒、その製造方法、および1,2−ジクロロエタンの合成におけるその使用
JP2000342979A (ja) * 1999-05-21 2000-12-12 Evc Technology Ag 触媒およびそれを用いたオキシ塩素化法
JP2002011351A (ja) * 2000-05-19 2002-01-15 Basf Ag 不均一触媒反応用触媒
WO2005046866A2 (en) * 2003-11-14 2005-05-26 Solvay (Societe Anonyme) Catalyst and gas phase method using such a catalyst
JP2005306739A (ja) * 2004-04-16 2005-11-04 Tokuyama Corp 1,2−ジクロロエタンの製造方法

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016518968A (ja) * 2013-03-15 2016-06-30 オキシ ヴィニールズ,エルピー ジクロロエタンへのエチレンのオキシ塩素化のための触媒及びプロセス
KR20170023966A (ko) * 2014-06-23 2017-03-06 옥시 비닐스, 엘.피. 디클로로에탄으로의 에틸렌의 옥시염소화를 위한 촉매 및 공정
JP2017520541A (ja) * 2014-06-23 2017-07-27 オキシ ヴィニールズ,エルピー エチレンのジクロロエタンへのオキシ塩素化のための触媒及び方法
KR102359088B1 (ko) 2014-06-23 2022-02-08 옥시 비닐스, 엘.피. 디클로로에탄으로의 에틸렌의 옥시염소화를 위한 촉매 및 공정
US11453630B2 (en) 2014-06-23 2022-09-27 Oxy Vinyls, Lp Catalyst and process for oxychlorination of ethylene to dichloroethane

Also Published As

Publication number Publication date
US8884085B2 (en) 2014-11-11
JP5256036B2 (ja) 2013-08-07
US20090054708A1 (en) 2009-02-26
WO2007020268A1 (en) 2007-02-22
CN101242899B (zh) 2011-06-22
CN101242899A (zh) 2008-08-13
EP1917102A1 (en) 2008-05-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5256036B2 (ja) 接触的オキシ塩素化
JP5713020B2 (ja) 2,3,3,3−テトラフルオロプロペンの製造方法
US10682628B2 (en) Processes for regenerating a catalyst for the selective conversion of hydrocarbons
US7902411B2 (en) Catalyst composition for oxychlorination
JP2003514880A5 (ja)
US6909024B1 (en) Process for the conversion of ethylene to vinyl chloride and novel catalyst compositions useful for such process
EP0119933B1 (en) Supported catalyst for the synthesis of 1-2 dichloroethane by oxychlorination of ethylene within a fluidized bed
JP2645467B2 (ja) オキシ塩素化用触媒
RU2339611C2 (ru) Способ окисления в реакторе с псевдоожиженным слоем
WO2011162340A1 (ja) 2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法
JP6432526B2 (ja) トリフルオロエチレンの製造方法
US20190126250A1 (en) Catalyst and process for the selective conversion of hydrocarbons
JP6427494B2 (ja) エチレンから1,2−ジクロロエタンへのオキシ塩素化のための触媒
US7687429B2 (en) Catalysts for oxychlorination of ethylene to 1,2-dichlorethane
US6872684B2 (en) Catalysts for oxychlorination of ethylene to 1,2-dichloroethane
EP1020222A2 (en) Catalytic composition for controlling exothermic reactions on a fixed bed
TW576754B (en) Catalysts for oxychlorination of ethylene to 1,2-dichloroethane
KR102359088B1 (ko) 디클로로에탄으로의 에틸렌의 옥시염소화를 위한 촉매 및 공정
JP4409021B2 (ja) 酢酸ビニル合成触媒
JPH11189554A (ja) エチレンのオキシクロリネーション反応方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090804

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120314

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120424

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120724

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130416

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130422

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5256036

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160426

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250