JP2009285674A - レーザマーキング装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】レーザ光の走査範囲が制限されることなく、簡単な構成で収束レンズユニットへの塵埃の付着を防止できるとともに、マーキング領域に発生、浮遊する塵埃も除去することができるレーザマーキング装置を提供する。
【解決手段】筐体11の底面12に設けた窓13に収束レンズユニットを取付け、その窓13を挟んで、窓13を横切る空気流を発生するイオナイザ14と、イオナイザ14からの窓13を横切った空気流の方向を前記加工対象物のマーキング領域に向かって反射させる反射壁16と相対向するように設ける。反射壁16は、窓13を横切った空気流を受ける反射面16aが、加工対象物Wに向かって拡開する傾斜面になっている。
【選択図】図3
【解決手段】筐体11の底面12に設けた窓13に収束レンズユニットを取付け、その窓13を挟んで、窓13を横切る空気流を発生するイオナイザ14と、イオナイザ14からの窓13を横切った空気流の方向を前記加工対象物のマーキング領域に向かって反射させる反射壁16と相対向するように設ける。反射壁16は、窓13を横切った空気流を受ける反射面16aが、加工対象物Wに向かって拡開する傾斜面になっている。
【選択図】図3
Description
本発明は、レーザマーキング装置に関する。
レーザ加工機において、レーザ発振器から出射したレーザ光を加工対象物の集光する収束レンズ(対物レンズ)に塵埃が付着すると、レーザ加工品質の低下を招来する。また、レーザ加工によって発生し浮遊する塵埃がレンズに焼き付いたり、表面コートを損傷させたりし、最悪の場合レンズ割れを起こす虞があった。そのため、レーザ穴開け装置、レーザ切断装置等の一点照射のレーザ加工機においては、収束レンズ(対物レンズ)のレーザ光出射側にエアー(空気)を吹き付けて、収束レンズ(対物レンズ)のレーザ光出射側に塵埃の付着を防止したもの、加工対象物のマーキング領域に向かってエアーを当ててレーザ熱加工によって発生する塵埃が収束レンズに付着しないように吹き払うようにしたものが種々提案されている(特許文献1,2)。
マーキング領域にエアーを吹き付けるものは、一般に、エアーを加工対象物に案内するために、収束レンズを囲むようにして加工物対象物に向かって延びる円筒形状のフードを取り付けていた。特に、塵埃をより効率よく吹き払うためにフードを先細りさせたものがある。
特開平07−155977号公報
特開2005−95971号公報
ところで、レーザ穴開け装置、レーザ切断装置等の一点照射のレーザ加工機に対して、レーザ光を2次元的に走査してマーキングを行うレーザマーキング装置は、前記フードを取り付けることができない。
つまり、フード構造は、収束レンズ出射側において収束レンズを覆うためにある程度長い筒状のものとなるので、収束レンズ出射側が開放されていないフードによってレーザ光が遮られてマーキング領域が2次元的に制限されたり、マーキング可能なZ軸方向における装置側への距離に制限がかかってしまう問題があった。
本発明は、上記問題を解決するためになされたものであり、その目的は、レーザ光の走査範囲が制限されることなく、簡単な構成で収束レンズユニットへの塵埃の付着を防止できるとともに、マーキング領域に発生、浮遊する塵埃も除去することができるレーザマーキング装置を提供することにある。
請求項1に記載の発明は、筺体内に、レーザ光を出射するレーザ光源と、前記レーザ光源からのレーザ光の方向を2次元的に変更する光走査手段と、前記光走査手段からのレーザ光を、収束し出射する収束レンズユニットとを備え、前記収束レンズユニットから出射するレーザ光を、前記筺体に設けた窓から加工対象物のマーキング領域に照射してマーキングするようにしたレーザマーキング装置であって、前記筺体のレーザ光の出射側において、前記筺体に設けた窓を挟んで、前記窓の少なくとも前記光走査手段で光走査された前記レーザ光が通過する領域全体に、前記窓を横切る空気流を発生する空気流発生手段と、前記空気流発生手段からの前記窓を横切った空気流を受ける傾斜面を有し、この傾斜面により前記窓を横切った空気流の方向を前記加工対象物のマーキング領域に向かって反射させる反射壁とを設けた。
請求項2に記載の発明は、請求項1に記載のレーザマーキング装置において、前記空気流発生手段は、イオン化された空気流を発生するイオン発生手段である。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載のレーザマーキング装置において、
前記反射壁は、前記空気流発生手段からの空気流を受ける範囲において、前記窓の周囲を囲むように形成した。
請求項3に記載の発明は、請求項1又は2に記載のレーザマーキング装置において、
前記反射壁は、前記空気流発生手段からの空気流を受ける範囲において、前記窓の周囲を囲むように形成した。
請求項4に記載の発明は、請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、前記反射壁の傾斜面は、その断面が凹面形状をなした。
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作中に前記空気流を発生する。
請求項5に記載の発明は、請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作中に前記空気流を発生する。
請求項6に記載の発明は、請求項1乃至5のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作の手前のタイミングから、前記空気流を発生する。
請求項7に記載の発明は、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作の終了後、一定期間、前記空気流を発生する。
請求項1に記載の発明によれば、簡単な構成にて収束レンズユニットへの塵埃の付着を防止できるとともに、マーキング領域に発生、浮遊する塵埃も除去することができるので、印字品質をより向上させることができる。また、傾斜面にすることにより、2次元走査されるレーザ光は反射壁で遮られない走査範囲が広くなることから、その分、反射壁の高さを高くでき、空気流をより多く加工対象物のマーキング領域に導くことができる。
請求項2に記載の発明によれば、収束レンズユニットの清浄効果をより向上させることができる。
請求項3に記載の発明によれば、空気流発生手段からの空気流を、より多く加工対象物のマーキング領域に導くことができる。
請求項3に記載の発明によれば、空気流発生手段からの空気流を、より多く加工対象物のマーキング領域に導くことができる。
請求項4に記載の発明によれば、空気流発生手段からの空気流を、無駄なく効率よく加工対象物のマーキング領域に導くことができる。
請求項5に記載の発明によれば、必要な期間のみ空気流発生手段による収束レンズの塵埃除去動作を行うことで、電力の無駄を省くことができる。しかも、マーキング動作中にレーザマーキング装置の窓とマーキング領域の間に、浮遊する塵埃を除去でき空中に浮遊している塵埃の収束レンズユニットへの付着を防止する。
請求項5に記載の発明によれば、必要な期間のみ空気流発生手段による収束レンズの塵埃除去動作を行うことで、電力の無駄を省くことができる。しかも、マーキング動作中にレーザマーキング装置の窓とマーキング領域の間に、浮遊する塵埃を除去でき空中に浮遊している塵埃の収束レンズユニットへの付着を防止する。
請求項6に記載の発明によれば、マーキング動作前に事前に、浮遊する塵埃や収束レンズユニットへの付着している塵埃の払拭できる。
請求項7に記載の発明によれば、レーザマーキング加工が終了しても、未だレーザマーキング加工により発生して浮遊している塵埃を除去でき、加工により発生した塵埃の収束レンズユニットへの塵埃の付着を防止し、次回のマーキング加工に備えることができる。
請求項7に記載の発明によれば、レーザマーキング加工が終了しても、未だレーザマーキング加工により発生して浮遊している塵埃を除去でき、加工により発生した塵埃の収束レンズユニットへの塵埃の付着を防止し、次回のマーキング加工に備えることができる。
以下、本発明を具体化したレーザマーキング装置の一実施形態を図面に従って説明する。
図1に示すように、レーザマーキング装置10は、略直方体形状の筐体11を有し、筺体11は基端側を本体部11aとし、本体部11aから先端側に延出した部分をヘッド部11bとしている。
図1に示すように、レーザマーキング装置10は、略直方体形状の筐体11を有し、筺体11は基端側を本体部11aとし、本体部11aから先端側に延出した部分をヘッド部11bとしている。
筐体11のヘッド部11bの下方には、搬送ベルトBが配置されている。搬送ベルトBは、筐体11の長手方向(X方向)に直交して交差する方向(Y方向)に敷設されている。そして、搬送ベルトBの搬送面Bsと筐体11の底面12(図2参照)とが、平行となるように設定されている。
搬送ベルトBは、加工対象物Wを載置しY方向に搬送する。そして、搬送ベルトBに載置された加工対象物Wが、筐体11のヘッド部11bの直下に搬送された時、筐体11の底面12に設けた窓13(収束レンズユニット24)から出射するX方向及びY方向に2次元的に走査されたレーザ光が加工対象物Wの加工面Wsのマーキング領域Zに照射される。これによって、加工対象物Wの加工面Wsに、多種多様な文字、記号、図形等がマーキングされる。
図2に示すように、筐体11の底面12であって、底面12に形成した窓13(収束レンズユニット24)の基端側には、空気流発生手段(イオン発生手段)としてのイオナイザ14が固設されている。イオナイザ14は、静電除去器であって、先端側の側面に設けた噴出口14aからイオン化された空気を噴出させるようになっている。イオナイザ14の噴出口14aから噴出されたイオン化された空気は空気流となって、図2に矢印で示すように、窓13を横切って、窓13に付着しようとする塵埃を吹き払うようにしている。
ここで、空気流は、窓13全体を横切るようにしてもよいが、窓13の少なくとも窓13から出射する後記する走査部23にて光走査されたレーザ光が通過する領域全体を横切るようにすればよい。
筐体11の底面12であって、窓13を挟んでイオナイザ14と相対向する位置には、反射部材としての反射壁16が固着されている。反射壁16は、窓13の先端側の半周を囲むようの、半環状に形成されている。反射壁16は、断面が直角三角形状をなし、窓13側の面(反射面16a)が下方に向かってスカート状に拡開する傾斜面となっている。
従って、イオナイザ14の噴出口14aから噴出され窓13(収束レンズユニット24)を横切って流れる空気流は、反射壁16の反射面16aに当たり、その反射面16aに当たった空気流は反射して、図2及び図3に矢印で示すように、下方の加工対象物Wの加工面Wsのマーキング領域Zに向かって吹き付けられる。
その結果、加工対象物Wの加工面Wsにおいてレーザ加工中に発生、浮遊する塵埃を、吹き払うようになっている。
また、反射壁16の高さは、窓13から出射する後記する走査部23にて光走査されたレーザ光が、同反射壁16にて遮られない高さに形成されている。
また、反射壁16の高さは、窓13から出射する後記する走査部23にて光走査されたレーザ光が、同反射壁16にて遮られない高さに形成されている。
図4は、筐体11にケーシングされたレーザマーキング装置10の概略構成図を示す。図4において、レーザ光源としてのレーザ発振器21は、励起光を出射する半導体レーザを備え、半導体レーザから出射された励起光を入射し該励起光に基づいて共振してレーザ光を出射する。
レーザ発振器21から出射されたレーザ光は、ビームエキスパンダ22に出射される。ビームエキスパンダ22は、レーザ光を入射する入射レンズ22aと、入射レンズ22aを通過したレーザ光を走査部23に出射する出射レンズ22bを備えている。ビームエキスパンダ22は、入射レンズ22aと出射レンズ22bとの相対距離を変化させることができるようになっている。
ビームエキスパンダ22は、入射レンズ22aと出射レンズ22bとの相対距離を変化させることで、光走査手段としての走査部23及び収束レンズユニット24を介して加工対象物Wへ集光されるレーザ光の焦点位置を、光軸方向に移動させるようになっている。
ビームエキスパンダ22を通過したレーザ光は走査部23に出射される。走査部23は、X軸ガルバノミラー23a及びY軸ガルバノミラー23bを備えている。
X軸ガルバノミラー23aは、回動して、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光を、加工対象物Wに対して、搬送方向(Y方向)と直交するX方向に走査させるミラーである。X軸ガルバノミラー23aは、図示しないX軸ガルバノモータの回転軸に固着され、X軸ガルバノモータの駆動により回動されて、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光を、加工面Wsのマーキング領域Zに対してX方向に走査させる。
X軸ガルバノミラー23aは、回動して、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光を、加工対象物Wに対して、搬送方向(Y方向)と直交するX方向に走査させるミラーである。X軸ガルバノミラー23aは、図示しないX軸ガルバノモータの回転軸に固着され、X軸ガルバノモータの駆動により回動されて、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光を、加工面Wsのマーキング領域Zに対してX方向に走査させる。
Y軸ガルバノミラー23bは、回動して、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光を、加工対象物Wに対して、搬送方向(Y方向)に走査させるミラーである。Y軸ガルバノミラー23bは、図示しないY軸ガルバノモータの回転軸に固着され、Y軸ガルバノモータの駆動により回動されて、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光を、加工面Wsのマーキング領域Zに対してY方向に走査させる。
従って、加工対象物Wに向けて照射するレーザ光は、X軸ガルバノミラー23a及びY軸ガルバノミラー23bにより、加工対象物Wの加工面Wsのマーキング領域Zに対して、X方向及びY方向に走査される。
走査部23のX軸ガルバノミラー23a及びY軸ガルバノミラー23bにてX及びY方向に走査されたレーザ光は、収束レンズユニット24を介して集光されて加工対象物Wの加工面Wsに照射される。収束レンズユニット24は、走査部23からのレーザ光を入射し加工対象物Wの加工面Wsに集光する収束レンズ25と、該収束レンズ25の出射側に配置固定された保護ガラス26とともに円筒状のレンズホルダ27に収容固着して構成されている。そして、収束レンズユニット24は、前記筐体11の底面12に形成した窓13に取着されている。
従って、底面12に形成した窓13から、収束レンズ25を保護する保護ガラス26は露出する。従って、保護ガラス26の外表面は、イオナイザ14から噴出された空気流にて付着しようとする塵埃が吹き払われるようになっている。
制御装置29は、中央処理装置(CPU)及び記憶装置(ROM及びRAM)を備え、記憶装置に記憶した制御プログラム及びアプリケーションプログラムに従って、レーザ発振器21及びイオナイザ14をそれぞれ駆動制御する。
制御装置29は、図示しない入力装置から入力した電源スイッチに基づいて立ち上がると、起動信号をイオナイザ14に出力する。イオナイザ14はこの起動信号に応答して駆動して、イオン化した空気を生成し噴出口14aから噴出させる。従って、レーザ発振器21を発振させて、マーキング動作を行う前に、収束レンズユニット24の保護ガラス26の外表面の清掃が行われ、事前に、保護ガラス26の外表面に付着した塵埃が払拭される。
制御装置29は、イオナイザ14を駆動したのを確認した後の一定時間後に、レーザ発振器21に起動信号を出力するようになっている。レーザ発振器21は、起動信号を応答してマーキングのためのレーザ光を出射する。そして、制御装置29は、マーキング処理が終了してレーザ発振器21を駆動停止させると同時に、イオナイザ14に起動停止信号を出力する。
従って、イオナイザ14は、必要な期間のみ窓13(収束レンズユニット24)及び加工対象物Wのマーキング領域Zに発生する塵埃除去動作を行うことになり、消費電力の無駄を省くことができる。
次に、上記のように構成した実施形態の効果を以下に記載する。
(1)上記実施形態によれば、筐体11の底面12に設けた窓13に収束レンズユニット24を取付け、その窓13を挟んで、窓13を横切る空気流を発生するイオナイザ14と、イオナイザ14からの窓13を横切った空気流の方向を前記加工対象物のマーキング領域に向かって反射させる反射壁16と相対向するように設けた。そして、反射壁16の反射面16aを、加工対象物Wに向かって拡開する傾斜面にした。
(1)上記実施形態によれば、筐体11の底面12に設けた窓13に収束レンズユニット24を取付け、その窓13を挟んで、窓13を横切る空気流を発生するイオナイザ14と、イオナイザ14からの窓13を横切った空気流の方向を前記加工対象物のマーキング領域に向かって反射させる反射壁16と相対向するように設けた。そして、反射壁16の反射面16aを、加工対象物Wに向かって拡開する傾斜面にした。
従って、簡単な構成の反射壁16で、収束レンズユニット24への塵埃の付着を防止できるとともに、マーキング領域Zに発生、浮遊する塵埃も除去することができ、印字品質をより向上することができる。また、反射面16aを傾斜面にしたことにより、2次元走査されるレーザ光は反射壁16で遮られない走査範囲が広くなることから、その分、反射壁16の高さを高くでき、空気流をより多く加工対象物Wのマーキング領域に導くことができる。
(2)上記実施形態によれば、イオナイザ14にて、イオン化された空気流を発生させるようにしたため、窓13(収束レンズユニット24の保護ガラス26)の清浄効果をより向上させることができる。
(3)上記実施形態によれば、反射壁16は、窓13(収束レンズユニット24の保護ガラス26)の周囲を囲むように円弧状に形成した。
従って、イオナイザ14からの空気流を、より多く加工対象物Wのマーキング領域Zに導くことができる。
従って、イオナイザ14からの空気流を、より多く加工対象物Wのマーキング領域Zに導くことができる。
(4)上記実施形態によれば、イオナイザ14を、マーキング領域Zにレーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作する前の所定タイミングから、マーキング動作中にかけて駆動させて空気流を流すようにした。従って、イオナイザ14の駆動によって生じる消費電力の無駄を省くことができる。しかも、マーキング動作前に事前に、浮遊する塵埃を除去したり、収束レンズユニットへの付着している塵埃の払拭できるので、マーキング動作初期から印字品質の高い印字ができる。
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、反射壁16の反射面16aは半円弧状の傾斜面であったが、図5に示すように、反射面16aに下方に向かってカイド溝16bを形成して実施してもよい。これよって、空気流を、無駄なく効率よく集合させ流速を速めてより効率よく加工対象物Wのマーキング領域Zに導くことができる。
・上記実施形態では、反射壁16の反射面16aは半円弧状の傾斜面であったが、図5に示すように、反射面16aに下方に向かってカイド溝16bを形成して実施してもよい。これよって、空気流を、無駄なく効率よく集合させ流速を速めてより効率よく加工対象物Wのマーキング領域Zに導くことができる。
・上記実施形態では、反射壁16を、窓13を半周囲んだ環状形状にした。これを、図6に示すように、単にY方向に直線的に延出形成された断面直角三角形状の反射壁30で実施してもよい。
・上記実施形態では、反射壁16の傾斜面(反射面16a)をスカート状に拡開した直線状の傾斜面であったが、これを図7に示すように、内側に湾曲した凹面形状にして、空気流を、無駄なく効率よく集合させ流速を速めてより効率よく加工対象物Wのマーキング領域Zに導くことができるようにして実施してもよい。
・上記実施形態では、反射壁16を筐体11に先端側に配置したが、これに限定されるものではなく、要は、窓13を挟んで、反射壁16とイオナイザ14とが対向配置されていればよく、その配置位置は特に限定されない。
・上記実施形態では、空気流発生手段はイオン化された空気流を発生するイオナイザ14を用いたが、これに限定されるものではなく、イオン化されていない空気流を発生する送風器であってもよい。
・上記実施形態では、空気流発生手段(イオン発生手段)としてのイオナイザ14を、マーキング領域Zにレーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作する前の所定タイミングから、マーキング動作中にかけて空気流を流すようにしたが、制御装置29に電源が投入されてから電源が遮断されるまでの間、イオナイザ14を駆動し続けて、空気流を終止流し続けるようにしてもよい。
・上記実施形態では、制御装置29は、マーキング処理が終了してレーザ発振器21を駆動停止させると同時に、イオナイザ14に起動停止信号を出力してイオナイザ14を駆動停止させた。これを、マーキング処理が終了してレーザ発振器21を駆動停止させた後、一定時間経過後にイオナイザ14を駆動停止させるようにしてもよい。これにより、レーザ加工が終了しても、未だレーザ加工により発生して浮遊している塵埃を完全に除去でき収束レンズユニット24への塵埃の付着を防止することができる。
なお、イオナイザ14の起動は、マーキング動作する前の所定タイミングから起動たり、マーキング動作開始と同時に起動させてもよい。
また、イオナイザ14の起動を、マーキング動作中だけ起動させるようにしてもよい。この場合、マーキング動作中は、浮遊する塵埃を払拭でき収束レンズユニットへの付着を確実に防止でき、しかも、より電力の無駄を省くことができる。
また、イオナイザ14の起動を、マーキング動作中だけ起動させるようにしてもよい。この場合、マーキング動作中は、浮遊する塵埃を払拭でき収束レンズユニットへの付着を確実に防止でき、しかも、より電力の無駄を省くことができる。
10…レーザマーキング装置、11…筐体、11a…本体部、11b…ヘッド部、12…底面、13…窓、14…イオナイザ、14a…噴出口、16,30…反射壁、16a…反射面、16b…ガイド溝、21…レーザ発振器、22…ビームエキスパンダ、22a…入射レンズ、22b…出射レンズ、23…走査部、23a…X軸ガルバノミラー、23b…Y軸ガルバノミラー、24…収束レンズユニット、25…収束レンズ、26…保護ガラス、27…レンズ筒、29…制御装置、B…搬送ベルト、W…加工対象物、Ws…加工面、Z…マーキング領域。
Claims (7)
- 筺体内に、
レーザ光を出射するレーザ光源と、
前記レーザ光源からのレーザ光の方向を2次元的に変更する光走査手段と、
前記光走査手段からのレーザ光を、収束し出射する収束レンズユニットと、
を備え、前記収束レンズユニットから出射するレーザ光を、前記筺体に設けた窓から加工対象物のマーキング領域に照射してマーキングするようにしたレーザマーキング装置であって、
前記筺体のレーザ光の出射側において、
前記筺体に設けた窓を挟んで、前記窓の少なくとも前記光走査手段で光走査された前記レーザ光が通過する領域全体に、
前記窓を横切る空気流を発生する空気流発生手段と、
前記空気流発生手段からの前記窓を横切った空気流を受ける傾斜面を有し、この傾斜面により前記窓を横切った空気流の方向を前記加工対象物のマーキング領域に向かって反射させる反射壁と
を設けたことを特徴とするレーザマーキング装置。 - 請求項1に記載のレーザマーキング装置において、
前記空気流発生手段は、イオン化された空気流を発生するイオン発生手段であることを特徴とするレーザマーキング装置。 - 請求項1又は2に記載のレーザマーキング装置において、
前記反射壁は、前記空気流発生手段からの空気流を受ける範囲において、前記窓の周囲を囲むように形成したことを特徴とするレーザマーキング装置。 - 請求項1乃至3のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、
前記反射壁の傾斜面は、その断面が凹面形状をなしたことを特徴とするレーザマーキング装置。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、
前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作中に前記空気流を発生することを特徴とするレーザマーキング装置。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、
前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作の手前のタイミングから、前記空気流を発生することを特徴とするレーザマーキング装置。 - 請求項1乃至6のいずれか1項に記載のレーザマーキング装置において、
前記空気流発生手段は、少なくとも前記マーキング領域に前記レーザ光を照射してマーキングを行うマーキング動作の終了後、一定期間、前記空気流を発生することを特徴とするレーザマーキング装置。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102218935A (zh) * | 2011-04-21 | 2011-10-19 | 上海功源电子科技有限公司 | 双载半导体芯片激光打标机 |
JP2012050994A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Panasonic Electric Works Sunx Co Ltd | レーザ加工装置 |
WO2012053297A1 (ja) * | 2010-10-19 | 2012-04-26 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工機制御装置およびレーザ加工機制御方法 |
JP2014210290A (ja) * | 2012-03-09 | 2014-11-13 | 株式会社トヨコー | レーザー照射装置、レーザー照射システム及び塗膜又は付着物除去方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002198274A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-07-12 | Samsung Electronics Co Ltd | ウェーハの認識符号のマーキング方法及びマーキング装置 |
JP2002254183A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-10 | Sunx Ltd | 空気流発生装置及びレーザマーキング装置 |
JP2007268610A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-10-18 | Nissan Motor Co Ltd | レーザ溶接装置およびレーザ溶接方法 |
JP2007283354A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Nippon Steel Corp | レーザ用光学素子の汚れ防止装置及び方法 |
-
2008
- 2008-05-28 JP JP2008139435A patent/JP2009285674A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002198274A (ja) * | 2000-09-06 | 2002-07-12 | Samsung Electronics Co Ltd | ウェーハの認識符号のマーキング方法及びマーキング装置 |
JP2002254183A (ja) * | 2001-02-28 | 2002-09-10 | Sunx Ltd | 空気流発生装置及びレーザマーキング装置 |
JP2007268610A (ja) * | 2006-03-09 | 2007-10-18 | Nissan Motor Co Ltd | レーザ溶接装置およびレーザ溶接方法 |
JP2007283354A (ja) * | 2006-04-17 | 2007-11-01 | Nippon Steel Corp | レーザ用光学素子の汚れ防止装置及び方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012050994A (ja) * | 2010-08-31 | 2012-03-15 | Panasonic Electric Works Sunx Co Ltd | レーザ加工装置 |
WO2012053297A1 (ja) * | 2010-10-19 | 2012-04-26 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工機制御装置およびレーザ加工機制御方法 |
CN103167928A (zh) * | 2010-10-19 | 2013-06-19 | 三菱电机株式会社 | 激光加工机控制装置及激光加工机控制方法 |
JP5301039B2 (ja) * | 2010-10-19 | 2013-09-25 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工機制御装置およびレーザ加工機制御方法 |
CN103167928B (zh) * | 2010-10-19 | 2015-01-21 | 三菱电机株式会社 | 激光加工机控制装置及激光加工机控制方法 |
US9492884B2 (en) | 2010-10-19 | 2016-11-15 | Mitsubishi Electric Corporation | Control device and control method for laser processing machine |
CN102218935A (zh) * | 2011-04-21 | 2011-10-19 | 上海功源电子科技有限公司 | 双载半导体芯片激光打标机 |
JP2014210290A (ja) * | 2012-03-09 | 2014-11-13 | 株式会社トヨコー | レーザー照射装置、レーザー照射システム及び塗膜又は付着物除去方法 |
US9868179B2 (en) | 2012-03-09 | 2018-01-16 | TOYOKOH, Co., Ltd. | Laser irradiation device, laser irradiation system, and method for removing coating or adhering matter |
US11135681B2 (en) | 2012-03-09 | 2021-10-05 | TOYOKOH, Co., Ltd. | Laser irradiation device, laser irradiation system, and method for removing coating or adhering matter |
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