JP2009285652A - ケミカル噴射装置及びこれを含む基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ケミカル噴射装置及びこれを含む基板処理装置が開示される。
【解決手段】 ケミカル噴射装置は、第1噴射配管、第2噴射配管、及び駆動部を含む。前記第1及び第2噴射配管は同一線上に位置し、ケミカルを基板に噴射する多数の第1及び第2噴射ノズルを有する。前記駆動部は、前記第1及び第2噴射配管の間で前記第1及び第2噴射ノズルをスウィングさせるために互いに隣接する前記第1及び第2噴射配管の端部に駆動力を提供する。従って、第1及び第2噴射配管に形成された第1及び第2噴射ノズルを安定にスウィングすることができる。
【選択図】 図2
Description
前記駆動部は、回転力を発生するモーター、及び前記モーター及び前記駆動板と連結され前記回転力を往復駆動力に転換してスウィング動作のために前記往復駆動力を前記駆動板に伝達する動力伝達部を更に含む。
又、前記スウィング伝達部は、前記第1及び第3噴射配管と前記第2及び第4噴射配管をそれぞれラックギアとピニオンギアを通じて連結する構造を有することができる。
第1、第2等の用語は、多様な構成要素を説明するために使用することができるが、構成要素は用語によって限定されない。用語は一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的としてのみ使用される。例えば、本発明の権利範囲から逸脱することなしに、第1構成要素は第2構成要素と称されてもよく、同様に第2構成要素も第1構成要素に称されてもよい。単数の表現は、文脈上、明白に相違が示されない限り、複数の表現を含む。
本出願において、「含む」または「有する」等の用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部品、又はこれらを組み合わせたものが存在することを意図するものであって、一つまたはそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部品、又はこれらを組み合わせたもの等の存在または付加の可能性を予め排除しないことを理解しなければならない。
図1及び図2を参照すると、本発明の一実施例による基板処理装置1000は、工程チャンバー100、移送部200、第1供給配管300、第2供給配管400、及びケミカル噴射部500を含む。
前記ケミカル噴射部500は、前記第1及び第2供給配管300、400にそれぞれ連結された第1及び第2噴射配管510、520と前記第1及び第2噴射配管510、520をスウィングさせるための駆動力を提供する駆動部530を含む。
図3は、図2の駆動部の駆動板が形成された位置を正面から見た図で、図4は、図2の駆動部を側部から見た図で、図5は、図2に図示された駆動部によってスウィングする第1噴射ノズルを示す図である。
これに、前記ケミカル噴射部500は、前記第1及び第2噴射配管510、520と前記第1及び第2供給配管300、400の間にこれらを連結するカプラー570を更に含む。前記カプラー570は、前記第1及び第2噴射配管510、520に前記ケミカルCが供給されるようにしながら前記駆動部530による前記第1及び第2噴射配管522のスウィング動作が可能であるように構成される。
本実施例では第1及び第2噴射配管をスウィングさせるための構成を除いては、図1乃至図5に図示された構成と同じなので、同じ構成には同じ参照番号を付与し、その重複説明は省略する。
前記第1及び第2噴射配管620、650のそれぞれは、前記駆動板676と向き合う端部に前記駆動板676からスウィング動作が誘導される第1及び第2被動板624、654を含む。
以下、前記スウィング伝達部690は、前記第1及び第3噴射配管620、630を連結する構成と前記第2及び第4噴射配管650、660を連結する構成が同じなので、前記第1及び第3噴射配管620、630を連結する構成を代表して説明する。
図8を追加的に参照すると、前記第1及び第3噴射配管620、630に形成された第1及び第3噴射ノズル622、632が第1及び第3配管本体626、636から前記基板G方向に突出され所定の噴射角を有するノズル形態に形成される。これに、前記スウィング伝達部690は、前記第1及び第3噴射ノズル622、632のそれぞれをリンク連結する構造を有する。
図9は、図7に図示された駆動部の更に他の実施例によるスウィング伝達部を示す図で、図10は、図9のA部分の拡大図である。
図11は、図7に図示された駆動部の更に他の実施例によるスウィング伝達部を示す図で、図12は、図11のB部分の拡大図である。
図11及び図12を追加的に参照すると、ケミカル噴射部700の第1及び第3噴射配管710、720の第1及び第3噴射ノズル712、722は第1及び第3配管本体714、724から形成される。ここで、前記第1配管本体714の端部には前記第1被動板716が設置される。
G 基板
100 工程チャンバー
200 移送部
300 第1供給配管
400 第2供給配管
500 ケミカル噴射部
510 第1噴射配管
520 第2噴射配管
530 駆動部
540 モーター
550 動力伝達部
560 駆動板
570 カプラー
580 ハウジング
1000 基板処理装置
Claims (21)
- 同一線上に位置して、ケミカルを基板に噴射する多数の第1及び第2噴射ノズルを有する第1及び第2噴射配管と、
前記第1及び第2噴射配管間で前記第1及び第2噴射ノズルをスウィングさせるために、互いに隣接する前記第1及び第2噴射配管の端部に駆動力を提供する駆動部と、を含むケミカル噴射装置。 - 前記第1及び第2噴射配管は互いに隣接した端部に第1及び第2被動板をそれぞれ含み、前記駆動部は、前記第1及び第2被動板間に前記第1及び第2被動板をスウィングさせるための駆動板を含み、前記駆動板と前記第1及び第2被動板のそれぞれは、前記駆動力が伝達されるように構成されることを特徴とする請求項1記載のケミカル噴射装置。
- 前記駆動板と前記第1及び第2被動板のそれぞれは、前記駆動力が磁気力によって伝達されるようにそれぞれの回転中心周囲に配置された多数のマグネチックを含むことを特徴とする請求項2記載のケミカル噴射装置。
- 前記駆動部は、
前記駆動力を発生するモーターと、
前記モーター及び前記駆動板と連結され、前記モーターの回転を線形往復直線運動に転換し、スウィング動作のために前記往復直線運動を前記駆動板に伝達する動力伝達部と、を更に含むことを特徴とする請求項2記載のケミカル噴射装置。 - 前記動力伝達部は、
前記モーターと連結され回転する偏心ホイールと、
前記偏心ホイールの偏心部位と前記駆動板の偏心部位をリンク連結して、前記回転力を前記往復駆動力に転換するリンク連結部と、を含むことを特徴とする請求項4記載のケミカル噴射装置。 - 前記駆動板は、
前記第1被動板と向き合いながら前記動力伝達部と連結された第1駆動板と、
前記第2被動板と向き合いながら前記第1駆動板と中心軸が連結され、前記第1駆動板のようにスウィング動作する第2駆動板と、を含むことを特徴とする請求項4記載のケミカル噴射装置。 - 前記動力伝達部及び前記駆動板を収容するハウジングを更に含むことを特徴とする請求項4記載のケミカル噴射装置。
- 前記駆動板と前記第1及び第2被動板は、前記ハウジングの側壁を挟んで、互いに向き合って配置されることを特徴とする請求項7記載のケミカル噴射装置。
- 前記第1及び第2噴射配管のそれぞれと平行に位置し、前記ケミカルを前記基板に噴射する多数の第3及び第4噴射ノズルをそれぞれ有する第3及び第4噴射配管を更に含むことを特徴とする請求項1記載のケミカル噴射装置。
- 前記第1及び第3噴射配管と前記第2及び第4噴射配管をそれぞれ連結し、前記駆動力による前記第1及び第2噴射配管のスウィング動作を前記第3及び第4噴射配管に伝達するスウィング伝達部を更に含むことを特徴とする請求項9記載のケミカル噴射装置。
- 前記第1、第2、第3、及び第4噴射ノズルは前記基板に突出された形状を有し、前記スウィング伝達部は、前記第1及び第3噴射ノズルと前記第2及び第4噴射ノズルをそれぞれリンク連結する構造を有することを特徴とする請求項10記載のケミカル噴射装置。
- 前記スウィング伝達部は、前記第1及び第3噴射配管と前記第2及び第4噴射配管をそれぞれ駆動ギアと被動ギアを通じて連結する構造を有することを特徴とする請求項10記載のケミカル噴射装置。
- 前記スウィング伝達部は、前記第1及び第3噴射配管と前記第2及び第4噴射配管をそれぞれラック(rack)ギアとピニオンギアを通じて連結する構造を有することを特徴とする請求項10記載のケミカル噴射装置。
- 互いに平行に位置し、ケミカルを基板に噴射する多数の第1及び第2噴射ノズルを有する第1及び第2噴射配管と、
前記第1噴射配管の一端部に前記第1噴射ノズルをスウィングさせるために駆動力を提供する駆動部と、
前記第1噴射配管と前記第2噴射配管とを連結し、前記駆動力による前記第1噴射配管のスウィング動作を前記第2噴射配管に伝達するスウィング伝達部と、を含むケミカル噴射装置。 - 前記第1及び第2噴射ノズルは前記基板に突出された形状を有し、前記スウィング伝達部は、前記第1及び第2噴射ノズルをリンク連結する構造を有することを特徴とする請求項14記載のケミカル噴射装置。
- 前記スウィング伝達部は、前記第1及び第2噴射配管を駆動ギアと被動ギアを通じて連結する構造を有することを特徴とする請求項14記載のケミカル噴射装置。
- 前記スウィング伝達部は、前記第1及び第2噴射配管をラックギアとピニオンギアを通じて連結する構造を有することを特徴とする請求項14記載のケミカル噴射装置。
- 基板を処理するための空間を提供する工程チャンバーと、
前記工程チャンバーの外部から内部に互いに平行に設置され、外部からケミカルが供給される第1及び第2供給配管と、
前記工程チャンバーの内部で前記第1及び第2供給配管のそれぞれと垂直に連結され、互いに同一線上に位置し、前記ケミカルを基板に噴射する多数の第1及び第2噴射ノズルを有する第1及び第2噴射配管と、
前記第1及び第2噴射配管の間で前記第1及び第2噴射ノズルをスウィングさせるために、互いに隣接する前記第1及び第2噴射配管の端部に駆動力を提供する駆動部と、を含む基板処理装置。 - 前記第1及び第2噴射配管のそれぞれは、互いに隣接した端部に第1及び第2被動板を含み、前記駆動部は、前記第1及び第2被動板間に前記第1及び第2被動板をスウィングさせるための駆動板を含み、
前記駆動部は、
前記工程チャンバーの外部に設置され、回転力を発生するモーターと、
前記モーター及び前記駆動板と連結され、前記回転力を往復駆動力に転換し、スウィング動作のために前記往復駆動力を前記駆動板に伝達する動力伝達部と、を更に含むことを特徴とする請求項18記載の基板処理装置。 - 前記第1及び第2供給配管のそれぞれと前記第1及び第2噴射配管のそれぞれの間に設置され、前記第1及び第2噴射配管のスウィング動作を可能にするカプラーを更に含むことを特徴とする請求項18記載の基板処理装置。
- 基板を処理するための空間を提供する工程チャンバーと、
前記工程チャンバーの外部から内部に互いに平行に延長され、外部からケミカルが供給される供給配管と、
前記工程チャンバーの内部で前記供給配管と垂直に連結され、互いに平行に位置し、前記ケミカルを基板に噴射する多数の第1及び第2噴射ノズルを有する第1及び第2噴射配管と、
前記第1噴射配管の一端部に前記第1噴射ノズルをスウィングさせるために駆動力を提供する駆動部と、
前記第1噴射配管と前記第2噴射配管とを連結して、前記駆動力による前記第1噴射配管のスウィング動作を前記第2噴射配管に伝達するスウィング伝達部と、を含む基板処理装置。
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