KR20060050162A - 세정 방법 및 그것을 실시하기 위한 세정 장치 - Google Patents

Abstract

세정 장치를 크게 하는 일 없이, 웨이퍼, 유리, 금속 등에 부착한 유기물이나 이물을 확실히 제거하는 것을 가능하게 한다.

액체를 가열해 수증기를 생성하기 위한 제 1의 가열 수단 (3)과 그 제 l의 가열 수단 (3)에 의해 생성된 수증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단 (4)를 구비한 방사성 가스 생성 수단 (2)와 그 방사성 가스 생성 수단 (2)에 의해 제조된 방사성 가스를 피세정물 위에 분사하기 위한 가스 분사 수단 (5)와 피세정물 위에 세정수의 피막을 형성하기 위한 세정액 공급 수단 (6)을 갖추어 방사성 가스 생성 수단 (2)에 의해 아임계의 방사성 가스를 생성함과 동시에, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 세정수의 피막을 형성해, 이 세정수의 피막 위로부터 상기 피세정물에 상기 방사성 가스를 내뿜는 것을 특징으로 한다.

세정방법 및 장치

Description

세정 방법 및 그것을 실시하기 위한 세정 장치{A cleaning method and a cleaning apparatus for performing the method}

[도 1] 본 발명의 세정 방법의 실시예를 설명하기 위한 플로차트이다.

[도 2] 본 발명의 세정 장치의 실시예의 개념을 설명하기 위한 블록도이다.

[도 3] 본 발명의 세정 장치의 실시예에 이용하는 방사성 가스 생성 수단을 설명하기 위한 도이다.

[도 4] 본 발명의 세정 장치의 실시예에 이용하는 가스 분사 수단을 설명하기 위한 도이다.

[도 5] 본 발명의 세정 장치의 실시예에 이용하는 가스 분사 수단과 세정액 공급 수단의 관계를 설명하기 위한 도이다.

[도 6] 본 발명의 세정 장치의 실시예의 작용을 설명하기 위한 도이다.

[도 7] 본 발명의 세정 방법의 다른 실시예를 설명하기 위한 플로차트이다.

[도 8] 본 발명의 세정 장치의 다른 실시 예의 개념을 설명하기 위한 블록도이다.

[도 9] 본 발명의 세정 장치의 다른 실시 예의 작용을 설명하기 위한 도이다.

{부호의 설명}

l, 11 세정 장치

2 방사성 가스 생성 수단

3 제 l의 가열 수단

4 제 2의 가열 수단

401 금속관

402 발열체

403 워크 코일

5 가스 분사 수단

6 세정액 공급 수단

7 피세정물

8 반송 수단

9 칸막이

10 세정액의 피막

12 고압수 분사 수단

본 발명은, 액정 패널 제조, PDP 패널 제조, 유기 EL 패널 제조, FED 패널 제조, 프린트 기판 제조, 반도체 제조, 필름 제조, 판 제조 그 외 전자기기 부품 등의 제조 공정에서 사용되는 세정 방법 및 그것을 실시하기 위한 세정 장치와 관련되어, 보다 자세하게는, 증기를 더욱 가열한 기체를 피세정물에 내뿜어 이것에 의해, 물약을 이용하지 않고 유기물, 파티클 등의 제거를 가능하게 한 것을 특징으로 한 세정 방법 및 그것을 실시하기 위한 세정 장치에 관한다.

근년의 플랫 패널 디스플레이 (액정, PDP, EL, FED 등) 반도체, 프린트 기판, 필름, 전자기기 부품 등의 진보의 고정밀화에는 눈부시고, 특히 플랫 패널 디스플레이의 제조 프로세스, 고집적 반도체소자의 제조 프로세스에 대해서는, 보다 고도의 초정밀 세정이 필요하게 되고 있다.

또, 패턴의 미세화, 고집적화와 함께, 취급하는 액정 유리, PDP 유리, 실리콘 웨이퍼는 대형화하고 있어, 액정 유리에서는 1870×2200mm, PDP 유리에서는 2150×2350mm, 실리콘 웨이퍼에서는 300mm 지름으로 이행하는 현상에 있지만, 세정은, 전 공정의 40~60%를 차지하여, 제품 수율 향상에 중요한 역할을 담당하는 프로세스가 되고 있다.

그렇지만, 종래는 유기물이나 파티클을 유효하게 제거 가능한 세정 방법은 제공되고 있지 않았다.

즉, 종래의 세정 방법으로서는, 브러쉬 세정, 초음파 세정, 고압 스프레이 세정, 샤워 세정, 2유체(流體) 세정, 화학 세정 등이 채용되고 있었지만, 우선, 브러쉬 세정에서는, 예를 들면 피세정물이 크고 얇은 유리의 경우에는, 브러쉬의 자 동 제어를 실시했을 경우에서도 균일하게 파티클을 제거하는 것이 곤란하고, 또, 브러쉬의 마모나 브러쉬의 조정의 방법에 따라서는 브러쉬 세정 후에 세정 얼룩이 생기게 된다고 하는 문제점이 지적되고 있다.

또, 초음파 세정에서는, 주파수에 의해 제거하는 파티클의 크기가 다르기 때문에, 복수의 초음파 세척기를 준비하지 않으면 안 되고, 또, 동일 부분에 3분 이상의 진동을 주지 않으면 파티클이 박리하지 않기 때문에, 장치가 길어진다고 하는 문제점이 있다.

더욱이, 고압 스프레이 세정, 샤워 스프레이 세정, 2유체 세정에서는, 액체를 연속해서 피세정물에 맞히기 때문에, 액막이 피세정물 위에 형성되어 버려, 세정액의 충돌 에너지를 액막이 간섭해 흡수해버린다고 하는 문제점이 지적되고 있다. 또, 고압 스프레이 세정에서는, 피세정물에 따라서는 갈라지는 일도 있고, 더욱 샤워 스프레이 세정에서는, 액체가 액막을 형성해 버려, 그 때문에 많은 파티클을 제거하는 것은 바랄 수 없다고 하는 문제점이 생각된다.

더욱 또, 화학 세정으로 유기물을 제거하는 경우에는, 약품을 상온 또는 온도를 올린 상태로 세정해, 그 후는 이 약품을 물로 씻지 않으면 안 되어, 공정이 많아져 버린다고 하는 문제점이 생각된다.

그래서, 본 발명은, 세정 장치를 크게 하는 일 없이, 웨이퍼, 유리, 금속 등에 부착한 유기물이나 이물을 확실히 제거하는 것을 가능하게 한 세정 방법 및 그것을 실시하기 위한 세정 장치를 제공하는 것을 과제로 하고 있다.

청구항 1에 기재한 본 발명의 세정 방법은, 액체를 가열하는 것에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 생성함과 함께, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 상기 방사성 가스를 내뿜는 것을 특징으로 하고 있고, 이 방법을 실시하기 위한 청구항 2에 기재한 본 발명의 세정 장치는, 액체를 가열해 증기를 생성하기 위한 제 l의 가열 수단과 그 제 1의 가열 수단에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단을 구비한 방사성 가스 생성 수단과 상기 피세정물에 상기 방사성 가스 생성 수단에 의해 제조된 방사성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 수단을 갖춘 것을 특징으로 하고 있다.

청구항 3 에 기재한 본 발명의 세정 방법은, 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 생성함과 함께, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 세정액을 공급해 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해, 이 세정액의 피막 위로부터 상기 피세정물에 상기 방사성 가스를 내뿜는 것을 특징으로 하고 있고, 이 방법을 실시하기 위한 청구항 4에 기재한 본 발명의 세정 장치는, 액체를 가열해 증기를 생성하기 위한 제 1의 가열 수단과 그 제 l의 가열 수단에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단을 구비한 방사성 가스 생성 수단과 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성하기 위한 세정액 공급 수단과 그 세정액 공급 수단에 의해 형성된 세정액의 피막을 통하여, 상기 피세정물에 상기 방사성 가스 생성 수단에 의해 제조된 방사성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 수단을 갖춘 것을 특징으로 하고 있다.

청구항 5에 기재한 본 발명의 세정 방법은, 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 생성함과 함께, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 세정액을 공급해 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해, 이 세정액의 피막 위로부터 상기 피세정물에 상기 방사성 가스를 내뿜어, 그 후, 상기 피세정물 위에 고압수를 간헐적으로 내뿜는 것을 특징으로 하고 있어, 이 방법을 실시하기 위한 청구항 6에 기재한 본 발명의 세정 장치는, 액체를 가열해 증기를 생성하기 위한 제 l의 가열 수단과 그 제 l의 가열 수단에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단을 구비한 방사성 가스 생성 수단과 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성하기 위한 세정액 공급 수단과 그 세정액 공급 수단에 의해 형성된 세정액의 피막을 통하여, 상기 피세정물에 상기 방사성 가스 생성 수단에 의해 제조된 방사성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 수단과 그 가스 분사 수단에 의해 상기 방사성 가스를 분사한 피세정물에 고압수를 간헐적으로 내뿜기 위한 고압수 분사 수단을 갖춘 것을 특징으로 하고 있다.

{발명을 실시하기 위한 최선의 형태}

본 발명의 세정 방법에서는, 우선, 물, 액화 탄산 등의 액체를 가열하는 것으로 증기를 만들어, 다음에, 이 증기를 더욱, 대상이 되는 액체의 임계 온도에 가까운 온도로 가열해, 이것에 의해, 아임계의 방사성 가스를 제조한다.

그리고, 그것과 함께, 우선, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 순수한 물 등의 세정액을 흘려 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해, 다음에, 이 세정액의 피막 위로부터, 피세정물을 향해, 상기 방사성 가스를 내뿜는다.

그리고 더욱, 적당, 방사성 가스를 내뿜은 피세정물을 향해, 고압의 물을 샤워 모양 또는 간헐적으로 내뿜는다.

다음에, 본 발명의 세정 장치에서는, 수증기를 제조하기 위한 제 1의 가열 수단을 가지고 있어 이 제 1의 가열 수단에는, 제 1의 가열 수단에 의해 만들어진 수증기를 더욱 가열하기 위한 제 2의 가열 수단이 연결되어, 이 제 1의 가열 수단과 제 2의 가열 수단에 의해 방사성 가스 제조 수단이 구성되어 있다.

또, 이 방사성 가스 제조 수단에는, 제조된 방사성 가스를 피세정물을 향해 방사하기 위한 가스 분사 수단이 연결되어 있어, 이 가스 분사 수단은, 사용에 즈음해서는 반송 수단상의 피세정물을 향해 가스를 분사 가능하게 배설된다.

더욱, 본 발명의 세정 장치에서는, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 순수한 물 등의 세정액을 흘려, 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성하기 위한 세정액 공급 수단을 갖추고 있어, 이 세정액 공급 수단은, 상기 가스 분사 수단에 대해서 반(反)반송 방향 측에 배치되어, 이것에 의해, 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성한 상태로 피세정물 위에 방사성 가스를 분사 가능하게 하고 있다.

여기서, 상기 가스 분사 수단에 대해서 반송 방향 측에, 방사성 가스를 내뿜은 피세정물에 향하여, 고압수를 샤워 모양 또는 간헐적으로 내뿜기 위한 고압수 분사 수단을 갖추면 좋고, 이것에 의해, 피세정물에 부착한 이물을 보다 효과적으로 제 거하는 것이 가능하다.

{실시예 l}

본 발명의 세정 장치의 실시예에 대해 도면을 참조해 설명하면, 도 1은 본 실시 예를 설명하기 위한 플로차트이며, 본 실시예의 세정 방법에 대해서는, 우선, 스텝 l에서, 액체를 가열하는 것으로써 증기를 생성한다.

덧붙여, 증기의 생성 방법은 특히 한정되지 않지만, 예를 들면 보일러, 유도 가열 방법 등을 이용하면 좋다. 또, 액체로서는, 물, 액화 탄산 등이 바람직하다.

다음에, 스텝 2에서, 상기 생성한 증기를 더욱 가열해, 이것에 의해 방사성 가스를 제조한다. 덧붙여 가열하는 온도로서는, 이용하는 액체의 임계 온도에 가까운 온도로 하면 좋고, 따라서, 물을 이용했을 경우에는 370℃ 전후 이상의 고온으로 하면 좋고, 또 액화 탄산을 이용했을 경우에는 31℃ 전후 이상으로 하면 좋다.

즉, 본 발명자들의 실험에 의하면, 이와 같이, 액체를 가열해 생성한 증기를, 더욱 그 액체의 임계 온도에 가까운 온도로 가열하면, 증기가 분자 레벨로 분해되어 초임계 상태에 가까운 아임계의 방사성 가스로 변화해, 이 방사성 가스를 피세정물에 내뿜는 것에 의해, 피세정물에 부착하고 있는 유기물이나 파티클을 유효하게 제거 가능한 것을 알았다. 거기서, 본 실시예의 세정 방법에서는, 물, 액화 탄산 등의 액체를 가열해 증기를 생성한 후에, 이 증기를 더욱, 이용한 액체의 임계 온도에 가까운 온도로 가열하여, 이와 같이 해서 생긴 아임계의 방사성 가스를 피세정물에 내뿜는 것으로 피세정물에 부착한 유기물, 파티클 등을 제거 가능하게 하고 있다.

즉, 스텝 3에서, 컨베이어 등의 반송 수단에 의해 피세정물을 소정의 위치에 반송해, 그 후 스텝 4에서, 반송되어 온 피세정물 위에 세정액을 흘려, 이것에 의해 피세정물 위에 세정액에 의한 피막을 형성한다. 덧붙여, 세정액의 종류는 한정되지 않지만, 예를 들면, 순수한 물, 순수한 물에 미량의 계면활성제 등을 혼합한 것이 바람직하다.

다음에, 스텝 5에서, 상기 제조한 방사성 가스를, 세정액에 의한 피막 위로부터 피세정물에 내뿜어 이것에 의해 피세정물에 부착하고 있는 유기물, 파티클 등을 제거한다.

그러면, 아임계의 방사성 가스의 열운동과 고침투성에 의해, 피세정물에 부착하고 있는 유기물이나 파티클을 용이하게 제거할 수가 있다.

그리고, 이 때, 본 실시예의 세정 방법에서는, 피세정물에 우선 세정액을 흘려 피세정물 위에 세정액에 의한 피막을 형성해, 이 피막을 통하여 피세정물에 상기 방사성 가스를 내뿜기 때문에, 고온의 방사성 가스를 직접 내뿜는 것에 의한 피세정물의 표면 변질 등을 방지하는 일도 가능하다.

단, 반드시 세정액에 의한 피막을 피세정물 위에 형성할 필요는 없다. 즉, 본 실시예에 대해서는, 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를, 상기 액체의 임계 온도에 가까운 온도로 가열해, 이것에 의해 아임계의 방사성 가스를 제조하지만, 예를 들면 액화 탄산의 경우의 임계 온도는 31℃ 전후로 낮기 때문에, 이와 같은 경우에는, 직접 이 방사성 가스를 피세정물에 내뿜어도 피세정물의 표면 변질 등이 일어나지 않기 때문에, 세정액에 의한 피막을 피세정물 위에 형성할 필 요는 없다.

{실시예 2}

다음에, 이러한 세정 방법을 실시하기 위한 본 발명의 세정 장치의 실시예에 대해 도면을 참조해 설명하면, 도 2는 본 실시예의 세정 장치의 개념도이며, 본 실시예의 세정 장치 (1)에서는 우선, 물, 액화 탄산 등의 액체를 증기로 하는 것과 동시에, 이 증기를 더욱 가열해 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 방사성 가스 생성 수단을 갖추고 있다. 즉, 도 2에서 l이 본 실시예의 세정 장치이며, 및, 그림에서 (2)가 방사성 가스 생성 수단이다.

그리고, 상기 방사성 가스 생성 수단 (2)는, 급수관 (301)에 의해 공급되어 온 물, 액화 탄산 등의 액체를 증기로 하기 위한 제 1의 가열 수단 (3)을 가지고 있어, 본 실시예에 대해 이 제 l의 가열 수단 (3)으로서는 보일러를 이용하고 있다. 단, 반드시 보일러를 이용해 액체를 증기화 할 필요는 없고, 유도 가열에 의해 액체를 가열해 증기화 해도 괜찮다.

다음에, 이 제 l의 가열 수단 (3)에는, 제 1의 가열 수단 (3)에 의해 만들어진 증기를, 더욱 가열하기 위한 제 2의 가열 수단 (4)를 갖추고 있다. 그리고, 본 실시예에 대해 이 제 2의 가열 수단 (4)는 유도 가열 장치로 하고 있다.

즉, 도 3은 이 유도 가열 장치 (4)를 나타내는 그림이며, 이 제 2의 가열 수단 (4)는, 스테인리스 등의 금속관 (401)의 내부에 금속제의 발열체 (402)를 가지고 있어, 본 실시예에서 이 발열체 (402)로서는, 금속제, 보다 자세하게는 스테인리스제의 판을 벌집 모양으로 한 벌집 플레이트를 이용하고 있어, 이 발열체 (402) 를 복수매(複數枚), 금속관 (401) 내에 수용하고 있다.

그리고, 그것과 함께, 상기 금속관 (40l)의 외주부에는 워크 코일 (403)을 감고 있다. 그리고, 이 구성에 대해, 워크 코일 (403)에 전류를 흘리는 것에 의해 워크 코일 (403)의 주위에 자계를 발생시키는 것과 동시에, 발열체인 벌집 플레이트 (402)에 와전류(渦電流)를 발생시켜, 이것에 의해 발열체 (402)를 발열시킨다. 그리고, 발열체 (402)를 발열시키는 것과 동시에, 그림에 있어서의 화살표 방향에 증기를 이동시켜, 이것에 의해, 금속관 (401)의 내부에서 아임계의 방사성 가스를 제조하는 것을 가능하게 한다.

다음에, 도 2에서 5는, 상기 방사성 가스 생성 수단 (2)에 의해 생성된 방사성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 수단이며, 이 가스 분사 수단 (5)는, 사용에 즈음해서는, 피세정물을 반송하는 컨베이어 등의 반송 수단의 위쪽에 배치되어 이것에 의해, 반송되어 온 피세정물 위에 상기 방사성 가스를 분사 가능하게 한다.

여기서, 도 4는 상기 가스 분사 수단 (5)의 긴 쪽 방향으로 향한 구조를 나타내는 단면도이며, 본 실시예에서 상기 가스 분사 수단 (5)는, 도 5에도 나타나듯이, 길쭉한 형상인 것과 동시에, 그 내부에는 가스 유로(流路) (50l)이 형성되고 있는 것과 동시에, 긴 쪽 방향에 따른 측벽(側壁)에는, 등간격을 두어, 상기 가스 유로 (501)에 연통한 가스 공급구 (502)가 복수개 형성되어, 이 가스 공급구 (502)에 상기 제 2의 가열 수단 (4)가 연결되고 있다.

또, 긴 쪽 방향에 따라 하단부에는, 상기 가스 유로 (50l)에 연통한 슬릿 (503)이 형성되고 있어 이것에 의해, 가스 공급구 (502)를 통하여 가스 유로 (50l) 에 공급된 방사성 가스를, 슬릿 (503)으로부터 분사 가능하게 하고 있다.

다음에, 도 2에서 6은 피세정물 위에 순수한 물, 액화 탄산 등의 세정액을 공급하기 위한 세정액 공급 수단이며, 본 실시예에서는, 이 세정액 공급 수단 (6)에 의해, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에, 우선, 세정액에 의한 피막을 형성하는 것을 특징으로 하고 있다.

여기서, 도 5는, 상기 가스 분사 수단 (5)와 세정액 공급 수단 (6)과의 위치 관계를 나타내는 그림이며, 그림에서 (7)은 피세정물이며, 또, (802)는, 이 피세정물 (7)을 반송하기 위한, 반송 수단에 구비된 롤러이다.

그리고, 본 실시예의 세정 장치 (l)에서는, 우선, 피세정물 (7)이 이동해 오는 측에 세정수 공급 수단 (6)이 배치되어, 이 세정수 공급 수단 (6)으로부터 본 피세정물의 이동 방향 측에 가스 분사 수단 (5)가 배치된다. 그리고 이 배치에 의해, 피세정물 (7) 위에 세정액의 피막을 형성해, 이 피막을 통하여 피세정물에 방사성 가스를 분사 가능하게 하고 있다.

덧붙여, 그림에서 9는, 세정수 공급 수단 (6)과 가스 분사 수단 (5)와의 사이에 배치된 칸막이이다. 즉, 본 실시예에서는, 세정수 공급 수단 (6)과 가스 분사 수단 (5)와의 사이에 칸막이 (9)를 갖추는 것과 동시에, 이 칸막이 (9)의 첨단부를 대략 예각모양으로 형성해, 칸막이 (9)의 첨단과 피세정물과의 사이에 얼마 안되는 공간이 생기도록 하여 칸막이 (9)를 배설하고 있다. 그렇게 하면, 세정수 공급 수단 (6)으로부터 피세정물 (7) 위에 공급된 세정액은, 우선, 칸막이 (9)의 앞쪽에 모여들어, 피세정물 (7)의 이동과 함께, 세정물 (7)과의 사이의 공간을 통하여 가 스 분사 수단 (5) 쪽으로 흘러 가, 이것에 의해, 피세정물 (7) 위에 균일하게 세정액에 의한 피막을 형성하는 것이 가능해진다. 그리고 본 실시예에서는, 피세정물 (7) 위에 형성되는 피막두께가 0.1~1mm 정도가 되도록, 칸막이 (9)의 첨단의 위치를 조정하고 있다. 단, 반드시 이 칸막이 (9)는 필요한 것은 아니고, 피세정물 (7) 위에 세정액의 피막 (l0)을 형성할 수 있으면 좋다. 따라서, 세정수 공급 수단 (6)으로부터 직접 피세정물 위에 세정액을 낙하시켜도 좋고, 또는, 세정수 공급 수단 (6)과 피세정물과의 사이에 회동이 자유롭게 롤러를 개재시켜, 우선 롤러 위에 세정액을 낙하시키고, 롤러의 회전에 따라 롤러 위에 낙하시킨 세정액을 피세정물 위에 낙하시켜, 이것에 의해 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해도 좋다.

다음에, 이와 같이 구성되는 본 실시예의 세정 장치 (l)의 작용에 대해 도 6을 참조해 설명하면, 본 실시예의 세정 장치 (l)에 의해 피세정물의 세정을 실시하는 경우에는, 반송 수단 (8) 위에 피세정물 (7)을 재치한 상태에서, 반송 수단 (8)을 구동해, 피세정물 (7)을 반송해 간다.

덧붙여, 반송 수단 (8)의 구조 등은 특히 한정되지 않지만, 본 실시예에서는, 상자 (801)과, 이 상자 (80l)에 회동이 자유롭게 갖춘 복수개의 반송용 롤러 (802)와 이 반송용 롤러(802)를 회동하기 위한 모터 등의 구동 수단 (도시하지 않음)을 갖추어, 구동 수단을 구동시키는 것에 의해 롤러 (802)를 회전시켜, 이것에 의해, 롤러 (802) 위에 재치한 피세정물을 반송 가능하게 하고 있다.

그리고, 이러한 반송 수단 (8)에 의해 피세정물을 반송함과 함께, 다음에, 세정액 공급 수단 (6)으로부터 세정액을 공급해, 보다 자세하게는 샤워 모양으로 피세정물 (7) 위에 세정액을 분사시켜 간다. 그러면, 우선, 공급된 세정액은 칸막이 (9)의 앞쪽으로 모여 들어감과 동시에, 피세정물 (7)과의 사이의 공간을 통하여, 피세정물의 반송과 함께 가스 분사 수단 (5)쪽으로 스며들기 시작하면서, 이것에 따라, 피세정물 (7)은, 그 위에 세정액의 피막 (l0)이 형성된 상태로 가스 분사 수단 (5)의 근방에 반송되어 간다.

한편, 방사성 가스 생성 수단 (2)에서는, 우선, 제 1의 가열 수단 (3)에서, 공급되어 온 액체가 증기로 되어, 더욱, 이 증기가, 제 2의 가열 수단 (4)에서 가열되어, 이것에 의해 아임계의 방사성 가스가 생성된다.

그리고, 이 방사성 가스는, 가스 분사 수단 (5)에 의해, 세정액의 피막이 형성된 상태로 반송되어 온 피세정물 (7) 위에 분사된다. 그러면, 분사된 방사성 가스에 의해 세정액이 가열되는 것과 동시에, 피세정물에 부착되어 있는 유기물이나 파티클 등의 이물이 제거된다.

이와 같이, 본 실시예의 세정 장치 (1)에 의하면, 특히 큰 설비를 필요로 하는 일 없이, 증기를 더욱 가열해 얻을 수 있는 아임계의 방사성 가스를 이용한 피세정물의 세정을 실시하는 것이 가능해진다.

덧붙여, 세정액 공급 수단 (6) 및 칸막이 (9)는 반드시 필요한 것은 아니고, 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성할 필요가 없는 경우에는, 세정액 공급 수단 (6) 및 칸막이 (9)를 갖출 필요는 없다.

{실시예 3}

다음에, 본 발명의 세정 방법의 다른 실시예에 대해 도 7의 플로차트를 참조해 설명하면, 본 실시예의 세정 방법에서는, 전술한 세정 방법의 실시 예의 공정의 뒤에, 더욱, 피세정물에 향하여, 간헐적으로 고압수의 분사를 실시하는 것을 특징으로 하고 있다.

즉, 스텝 11에서 액체를 가열하는 것에 의해 증기를 생성해, 스텝 12에서, 상기 생성한 증기를 더욱 가열해 방사성 가스를 제조하고, 한편, 스텝 13에서 컨베이어 등의 반송 수단에 의해 피세정물을 소정의 위치에 반송해, 그 후 스텝 14에서 반송되어 온 피세정물 위에 세정액을 흘려 피세정물 위에 세정액에 의한 피막을 형성해, 스텝 15에서 세정액에 의한 피막 위로부터 상기 제조한 방사성 가스를 피세정물에 내뿜어, 그 후, 스텝 16에서, 방사성 가스를 내뿜은 후의 피세정물을 향해, 고압수를 분사한다.

그리고, 이 고압수의 분사에 즈음해서는, 고압수를, 샤워 모양으로 또는 간헐적으로 분사하는 것을 특징으로 하고 있다.

이와 같이, 본 실시예의 세정 방법에 의하면, 전술한 세정 방법의 실시예에 더하여, 더욱, 피세정물에 대해서, 고압수를, 간헐적 또는 샤워 모양으로 분사하기 때문에, 보다 효과적으로 피세정물에 부착한 이물을 제거하는 것이 가능해진다.

{실시예 4}

다음에, 이러한 세정 방법을 실시하기 위한 세정 장치의 실시예에 대해 설명하면, 도 8은 본 실시예의 세정 장치 (11)의 개념도이며, 또, 도 9는, 본 실시예의 세정 장치 (1)을 구성하는 요소의 위치 관계를 나타내는 그림이다. 그리고, 본 실 시예의 세정 장치 (1)에서는, 전술한 세정 장치의 실시예에, 더욱, 가스 분사 수단 (5)에 의해 방사성 가스를 분사한 피세정물 (7)에 고압수를 내뿜기 위한 고압수 분사 수단 (12)를 갖추고 있다.

즉, 그림에서 12가 고압수 분사 수단이며, 이 고압수 분사 수단 (12)는, 상기 가스 분사 수단 (5)에 대해서 피세정물 (7)의 반송 방향으로 배치되고 있어, 고압수 공급관 (1201)을 통하여, 도시하지 않은 고압수 공급용 펌프에 연결되고 있다. 또, 첨단부에는, 고압수를 넓혀 분사 가능한 다수개의 노즐을 갖출 수 있어, 이것에 의해, 방사성 가스가 분무된 피세정물을 향해, 고압수를, 샤워 모양 또는 간헐적으로 분사 가능하게 하고 있다.

덧붙여, 고압수를 간헐적으로 분사하는 방법은 특히 한정은 되지 않지만, 예를 들면, 일정간격으로 작은 관통 구멍을 마련한 회전체를 이용해, 이 회전체를 고압수의 통과 유로 내에 배치해, 회전체를 회전시키면서 고압수를 공급하면 좋고, 이것에 의해, 구멍이 고압수의 통과 유로 내에 위치했을 때에 고압수를 분사할 수가 있어, 따라서 간헐적으로 고압수를 분사하는 것이 가능해진다.

이와 같이, 본 실시예의 세정 장치를 이용하는 것으로, 전술한 세정 방법을 실시하는 것이 가능해진다.

덧붙여, 본 실시예의 세정 장치는, 전술한 세정 장치의 실시예에 더하여, 더욱 고압수 분사 수단 (11)을 부가한 점에 특징을 가지고 있어, 이 고압수 분사 수단 (12)를 제외한 부분에 관한 구성, 작용 등은 전술의 세정 장치의 실시예와 같으므로, 중복한 설명은 생략함과 동시에, 동일 부분에는 동일 부호를 붙였다.

본 발명자들의 실험에 의하면, 액체를 가열하는 것에 의해 생기는 증기를 더욱 가열해 얻을 수 있는 아임계의 방사성 가스를 피세정물 위에 내뿜으면, 피세정물에 부착하고 있는 기름 성분, 파티클 등을 용이하게 제거하는 것이 가능하다는 것을 알았다. 그 때문에, 이 액체를 가열하는 것에 의해 생기는 증기를 더욱 가열해 얻을 수 있는 방사성 가스를 피세정물 위에 내뿜는 본 발명에 의하면, 약품 등을 이용하지 않고 피세정물에 부착한 유기물, 파티클을 제거하는 것이 가능하다. 또, 본 발명으로 이용하는 아임계의 방사성 가스는, 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를 해당 액체의 임계 온도 전후의 온도로 가열하는 것에 의해서만 제조하기 때문에, 초임계의 가스를 제조하는 경우와 달리, 액체에 압력을 더해 무사하게 제조 가능하여, 비용을 억제할 수도 있다.

또, 이때에, 피세정물에 세정액을 흘려 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해, 이 피막 위로부터 상기 가스를 피세정물에 내뿜는 것으로, 고온의 가스를 직접 분사하는 것에 의한 피세정물의 표면 변질 등을 방지하는 것도 가능하다.

더욱, 이와 같이 해서 세정액의 피막 위로부터 가스를 내뿜은 피세정물 위에 고압의 물을 간헐적으로 내뿜는 것에 의해, 보다 효과적으로 피세정물에 부착하고 있는 이물을 제거하는 것이 가능하다.

{산업상의 이용 가능성}

본 발명의 세정 방법 및 세정 장치는, 증기를 더욱 가열해 얻을 수 있는 아임계의 방사성 가스를 이용해, 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성하면서, 이 피 막을 통하여 피세정물 위에 상기 방사성 가스를 내뿜어, 이것에 의해 피세정물에 부착한 유기물이나 파티클 등을 제거 가능하게 하고 있기 때문에, 액정 패널 제조, PDP 패널 제조, 유기 EL 패널 제조, FED 패널 제조, 프린트 기판 제조, 반도체 제조, 필름 제조, 판 제조 그 외 전자 기기 부품 등의 제조 공정뿐만 아니라, 세정 공정의 전반에 적용 가능하다.

Claims (6)

1. 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 생성함과 동시에, 이 생성한 방사성 가스를 피세정물에 내뿜는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
2. 청구항 l에 기재한 세정 방법을 실시하기 위한 세정 장치이며, 액체를 가열해 증기를 생성하기 위한 제 1의 가열 수단 (3)과 그 제 l의 가열 수단 (3)에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단 (4)을 구비한 방사성 가스 생성 수단 (2)과 그 방사성 가스 생성 수단 (2)에 의해 제조된 방사성 가스를 피세정물에 분사하기 위한 가스 분사 수단 (5)를 갖춘 것을 특징으로 하는 세정 장치.
3. 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 생성함과 함께, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 세정액을 공급해 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해, 이 세정액의 피막 위로부터 상기 피세정물에 상기 방사성 가스를 내뿜는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
4. 청구항 3에 기재한 세정 방법을 실시하기 위한 세정 장치이며, 액체를 가열해 증기를 생성하기 위한 제 l의 가열 수단 (3)과 그 제 1의 가열 수단 (3)에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단 (4)을 구비한 방사성 가스 생성 수단 (2)와 피세정물 (7) 위에 세정액의 피막 (l0)을 형성하기 위한 세정액공급 수단 (6)과 그 세정액 공급 수단 (6)에 의해 형성된 세정액의 피막 (10)을 통하여, 상기 피세정물 (7)에 상기 방사성 가스 생성 수단 (2)에 의해 제조된 방사성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 수단 (5)를 갖춘 것을 특징으로 하는 세정 장치.
5. 액체를 가열하는 것에 의해 생성한 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 생성함과 함께, 반송 수단에 의해 반송되어 온 피세정물 위에 세정액을 공급해 피세정물 위에 세정액의 피막을 형성해, 이 세정액의 피막 위로부터 상기 피세정물에 상기 방사성 가스를 내뿜어 그 후, 상기 피세정물 위에 고압수를 간헐적으로 내뿜는 것을 특징으로 하는 세정 방법.
6. 청구항 5에 기재한 세정 방법을 실시하기 위한 세정 장치이며, 액체를 가열해 증기를 생성하기 위한 제 l의 가열 수단 (3)과 그 제 1의 가열 수단 (3)에 의해 생성된 증기를 더욱 가열하는 것으로써 아임계의 방사성 가스를 제조하기 위한 제 2의 가열 수단 (4)을 구비한 방사성 가스 생성 수단 (2)와 피세정물 (7) 위에 세정액의 피막 (10)을 형성하기 위한 세정액공급 수단 (6)과 그 세정액 공급 수단 (6)에 의해 형성된 세정액의 피막 (10)을 통하여, 상기 피세정물 (7)에 상기 방사성 가스 생성 수단 (2)에 의해 제조된 방사성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 수단 (5)와 그 가스 분사 수단 (5)에 의해 상기 방사성 가스를 분사한 피세정물 (7)에 고압수를 간헐적으로 내뿜기 위한 고압수 분사 수단 (12)를 갖춘 것을 특징으로 하는 세정 장치.

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