JP2009277932A - 窒化物半導体発光ダイオード構造 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に、n型窒化物半導体層、活性層、p型窒化物半導体層を有する発光ダイオードにおいて、活性層とp型窒化物半導体層の間にInを含む窒化物半導体層を形成することを特徴とする窒化物半導体発光ダイオード構造に関する。
【選択図】図1
Description
照符号は、同一部分または相当部分を表わすものとする。
本発明において、基板としてはサファイア、SiC、GaN基板などが選択される。
n型窒化物半導体層2はAlxInyGa1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1)から形成され、低温バッファ層、アンドープ層を形成してもよく、ドーパントはSi、Geなどが選択される。
p型窒化物半導体層5は後述する窒化物半導体層4上に、AlxInyGa1-x-yN(0≦x≦1、0≦y≦1)から形成され、ドーパントはMg、Znなどが選択される。
活性層3は図2のようにn型窒化物半導体層2上に形成され、井戸層3a、障壁層3b、井戸層3a、と交互に繰り返した多重量子井戸構造が好ましい。
Inを含む窒化物半導体層は活性層3上に形成され、Inを含み、Inx4Ga1-x4N(0<x4<1)の式で表わされる層であれば効率的に前記井戸層3aの格子定数に近づけることができ、前記井戸層3aのピエゾ電界を小さくし、発光効率を向上させる点、もしくは組成制御の点で好ましい。
実施例1においては、図3に示す構成を有する窒化物半導体発光ダイオード素子を作製した。まず、サファイアからなる基板11を用意し、その基板11をMOCVD装置の反応炉内にセットした。そして、その反応炉内に水素を流しながら基板11の温度を1050℃まで上昇させて、基板11の表面(C面)のクリーニングを行なう。
次に、基板11の温度を510℃まで低下させ、キャリアガスとして水素、原料ガスとしてアンモニアおよびTMG(トリメチルガリウム)を反応炉内に流して、基板11の表面(C面)上にGaNからなるバッファ層をMOCVD法により約20nmの厚さで積層する。
次に、基板11の温度を700℃に低下し、キャリアガスとして窒素、原料ガスとしてアンモニア、TMGおよびTMI(トリメチルインジウム)を反応炉内に流して、n型窒化物半導体コンタクト層上に2.5nmの厚さのIn0.15Ga0.85Nからなる井戸層13a(図2)および10nmの厚さのGaNからなる障壁層13b(図2)をそれぞれ交互に5周期成長させ、さらにその上に2.5nmの厚さのIn0.15Ga0.85Nからなる井戸層13aを成長させ、多重量子井戸構造からなる活性層13とする。なお、活性層13の形成時において、GaNを成長させる際にはTMIを反応炉内に流していないことは言うまでもない。
次に、基板11の温度を700℃のまま維持し、キャリアガスとして窒素、原料ガスとしてアンモニア、TMGおよびTMI(トリメチルインジウム)を反応炉内に流して、活性層13上にTMGに対するTMIの供給量を変化させる事により任意のIn混晶比のInを含む窒化物半導体層であるInGaN層を5nmの厚さで成長する。このInGaN層の蒸発防止層として、この上にTMIの供給を止め、GaN層を10nmの厚さで成長する。尚、これらの層においてドーパントであるシランやCP2Mg(シクロペンタジエニルマグネシウム)などの不純物ガスは流さない。このInGaN層及びGaN層を窒化物半導体層14とする。
次いで、基板11の温度を950℃に上昇させ、キャリアガスとして水素、原料ガスとしてアンモニア、TMGおよびTMA(トリメチルアルミニウム)、不純物ガスとしてCP2Mgを反応炉内に流して、Mgが1×1020/cm3の濃度でドーピングされたAl0.20Ga0.85Nからなるp型窒化物半導体クラッド層をMOCVD法により窒化物半導体層14上に約20nmの厚さで積層する。
次に、ウェハーを反応炉から取り出し、最上層のp型窒化物半導体層15の表面にEB蒸着によりITO(インジウム・スズ酸化物)からなる透光性電極16を100nmの厚さで形成した。
透光性電極16上に所定の形状にパターニングされたマスクを形成し、RIE(反応性イオンエッチング)装置で透光性電極16側からエッチングを行い、n型窒化物半導体コンタクト層の表面を露出させる。透光性電極16上及び露出したn型窒化物半導体コンタクト層上の所定の位置にTiとAlを含むパット電極17、18をそれぞれ形成した。以上によりLED素子とした。
実施例1に対し、窒化物半導体層14のGaN層をAl0.05Ga0.95N層に変更するほかは同様とした。
実施例1に対し、窒化物半導体層14のInGaN層を除く以外は同様とした。
Claims (12)
- 基板上に、n型窒化物半導体層、活性層、p型窒化物半導体層を有する発光ダイオードにおいて、活性層とp型窒化物半導体層の間にInを含む窒化物半導体層を形成することを特徴とする窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層は前記活性層中の発光層よりもIn混晶比が小さいことを特徴とする請求項1記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記活性層は多重量子井戸構造であり、前記Inを含む窒化物半導体層は最もp型窒化物半導体層側に位置する前記活性層中の発光層よりもIn混晶比が小さいことを特徴とする請求項1または2に記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層は、前記活性層中で最もp型窒化物半導体層側に形成された発光層のp型窒化物半導体層側に接して形成させることを特徴とする請求項1〜3いずれかに記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層はInGaN層であることを特徴とする請求項1〜4いずれかに記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層とp型窒化物半導体層の間にGaN層を形成することを特徴とする請求項1〜5いずれかに記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層とp型窒化物半導体層の間にAlGaN層を形成することを特徴とする請求項1〜5いずれかに記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層はアンドープであることを特徴とする1〜7いずれかに記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記GaN層はアンドープであることを特徴とする請求項6または8記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記AlGaN層はアンドープであることを特徴とする請求項7または8記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層のIn混晶比は3%以上であることを特徴とする請求項1〜10いずれかに記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
- 前記Inを含む窒化物半導体層のIn混晶比は5%以上であることを特徴とする請求項11記載の窒化物半導体発光ダイオード構造。
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JP2002261395A (ja) * | 2000-12-28 | 2002-09-13 | Sony Corp | 半導体発光素子およびその製造方法ならびに半導体装置およびその製造方法 |
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