JP2009275148A - 新規化合物、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物 - Google Patents

新規化合物、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物 Download PDF

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和生文 藤上
Takaaki Kanbayashi
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Abstract

【課題】感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】多官能エポキシ化合物(A)に不飽和一塩基酸(B)を反応させて得られる構造を有する化合物(X)と、ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)にエポキシ化合物(D)を反応させて得られる構造を有する化合物(Y)とを、多塩基酸無水物(E)で架橋させて得られる構造を有する化合物。
【選択図】なし

Description

本発明は、特定の構造を有する新規化合物、該化合物を含有するアルカリ現像性樹脂組成物及び該アルカリ現像性樹脂組成物に光重合開始剤を含有させてなるアルカリ現像性感光性樹脂組成物に関する。
アルカリ現像性感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含有するアルカリ現像性樹脂組成物及び光重合開始剤を含有するものである。このアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、紫外線若しくは電子線を照射することによって重合硬化させることができるので、光硬化性インキ、感光性印刷版、プリント配線版、各種フォトレジスト等に用いられている。最近、電子機器の軽薄短小化や高機能化の進展に伴い、微細パターンを精度良く形成することができるアルカリ現像性感光性樹脂組成物が望まれている。
アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物に関し、下記特許文献1には、エチレン性不飽和結合を持つプレポリマーを含有する感光性樹脂組成物が提案されている。また、下記特許文献2には、不飽和基含有ポリカルボン酸樹脂を含有する感光性樹脂組成物が提案されている。しかし、これらの公知のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、感度や密着性が充分でなく、適切なパターン形状や微細パターンを得ることが困難であった。そのため、感度や密着性に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性感光性樹脂組成物が望まれていた。
また、下記特許文献3には、エポキシ基及び(メタ)アクリロイル基を有する化合物とジヒドロキシ芳香族化合物をエーテル化反応させて得られる不飽和基含有化合物、及び該不飽和基含有化合物に多塩基酸無水物をエステル化させて得られる不飽和基含有化合物が開示されており、下記特許文献4には、エポキシアクリレートに多塩基酸無水物を反応させ、続いてエポキシ基含有ラジカル重合性不飽和単量体を反応させた構造を有する感光性樹脂が開示されている。
特開2000−235261号公報 特開2000−355621号公報 特開2001−97929号公報 特開2001−247649号公報
解決しようとする問題点は、上述したように、感度及び密着性に優れ、適切なパターン形状や微細パターンを得ることのできるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物がこれまでなかったということである。
従って、本発明の目的は、感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性等に優れ、微細パターンを精度良く形成できるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用な化合物、該化合物を用いたアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供することにある。
本発明は、多官能エポキシ化合物(A)に不飽和一塩基酸(B)を反応させて得られる構造を有する化合物(X)と、ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)にエポキシ化合物(D)を反応させて得られる構造を有する化合物(Y)とを、多塩基酸無水物(E)で架橋させて得られる構造を有する化合物(Z)を提供することにより、上記目的を達成したものである。
また、本発明は、上記化合物(Z)を含有することを特徴とするアルカリ現像性樹脂組成物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
また、本発明は、上記アルカリ現像性樹脂組成物に光重合開始剤(F)を含有させることを特徴とするアルカリ現像性感光性樹脂組成物を提供することにより、上記目的を達成したものである。
本発明の新規化合物(Z)は、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として有用であり、該化合物(Z)を原料にして得られるアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、感度、解像度、密着性及び耐アルカリ性に優れ、微細パターンを精度良く形成できる。
以下、本発明の新規化合物(Z)、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物について、好ましい実施形態に基づき詳細に説明する。
本発明の新規化合物(Z)は、多官能エポキシ化合物(A)に不飽和一塩基酸(B)を反応させて得られる構造を有する化合物(X)と、ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)にエポキシ化合物(D)を反応させて得られる構造を有する化合物(Y)とを、多塩基酸無水物(E)で架橋させることにより得られる。
上記多官能エポキシ化合物(A)としては、例えば、多価アルコール又はそのアルキレンオキシド付加物のポリグリシジルエーテル、多塩基酸のポリグリシジルエステル、シクロヘキセン環或いはシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキシド或いはシクロペンテンオキシド含有化合物等を用いることができ、具体的には以下の化合物を挙げることができる。
即ち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールB型エポキシ樹脂、ビスフェノールC型エポキシ樹脂、ビスフェノールE型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールM型エポキシ樹脂、ビスフェノールP型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビスフェノールZ型エポキシ樹脂等のアルキリデンビスフェノールポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂;上記アルキリデンビスフェノールポリグリシジルエーテル型エポキシ樹脂を水添して得られる水添ビスフェノール型ジグリシジルエーテル;エチレングリコールジグリシジルエーテル、1,3−プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,2−プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、1,8−オクタンジオールジグリシジルエーテル、1,10−デカンジオールジグリシジルエーテル、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)プロパン、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)エタン、1,1,1−トリ(グリシジルオキシメチル)メタン、1,1,1,1−テトラ(グリシジルオキシメチル)メタン、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサグリシジルエーテル等の脂肪族多価アルコールのグリシジルエーテル;プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の多価アルコールに2種以上のアルキレンオキシドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル;フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールAノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物;3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、1−エポキシエチル−3,4−エポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、イソプロピリデンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキシド、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、1,2−エポキシ−2−エポキシエチルシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物;フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステルなどのニ塩基酸のグリシジルエステル;テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルP−アミノフェノール、N,N−ジグリシジルアニリンなどのグリシジルアミン類;1,3−ジグリシジル−5,5−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物;ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物;ナフタレン型エポキシ化合物、トリフェニルメタン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等が挙げられる。
上記多官能エポキシ化合物(A)としては市販のものを用いることもでき、例えば、BREN−S、EPPN−201、EPPN−501N、EOCN−1020、GAN、GOT(日本化薬社製)、アデカレジンEP−4000、アデカレジンEP−4003S、アデカレジンEP−4080、アデカレジンEP−4085、アデカレジンEP−4088、アデカレジンEP−4100、アデカレジンEP−4900、アデカレジンED−505、アデカレジンED−506、アデカレジンKRM−2110、アデカレジンKRM−2199、アデカレジンKRM−2720(旭電化工業社製)、R−508、R−531、R−710(三井化学社製)、エピコート190P、エピコート191P、エピコート604、エピコート801、エピコート828、エピコート871、エピコート872、エピコート1031、エピコートRXE15、エピコートYX−4000、エピコートYDE−205、エピコートYDE−305(ジャパンエポキシレジン社製)、スミエポキシELM−120、スミエポキシELM−434(住友化学社製)、デナコールEM−150、デナコールEX−201、デナコールEX−211、デナコールEX−212、デナコールEX−313、デナコールEX−314、デナコールEX−322、デナコールEX−411、デナコールEX−421、デナコールEX−512、デナコールEX−521、デナコールEX−614、デナコールEX−711、デナコールEX−721、デナコールEX−731、デナコールEX−811、デナコールEX−821、デナコールEX−850、デナコールEX−851、デナコールEX−911、(ナガセケムテックス社製)、エポライト70P、エポライト200P、エポライト400P、エポライト40E、エポライト100E、エポライト200E、エポライト400E、エポライト80MF、エポライト100MF、エポライト1500NP、エポライト1600、エポライト3002、エポライト4000、エポライトFR−1500、エポライトM−1230、エポライトEHDG−L(共栄社化学社製)、SB−20(岡村製油社製)、エピクロン720(大日本インキ化学社製)、UVR−6100、UVR−6105、UVR−6110、UVR−6200、UVR−6228(ユニオン・カーバイド社製)、セロキサイド2000、セロキサイド2021、セロキサイド2021P、セロキサイド2081、セロキサイド2083、セロキサイド2085、セロキサイド3000、サイクロマーA200、サイクロマーM100、サイクロマーM101、エポリードGT−301、エポリードGT−302、エポリード401、エポリード403、エポリードHD300、EHPE−3150、ETHB、エポブレンド(ダイセル化学社製)、PY−306、0163、DY−022(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、サントートST0000、エポトートYD−011、エポトートYD−115、エポトートYD−127、エポトートYD−134、エポトートYD−172、エポトートYD−6020、エポトートYD−716、エポトートYD−7011R、エポトートYD−901、エポトートYDPN−638、エポトートYH−300、ネオトートPG−202、ネオトートPG−207(東都化成社製)、ブレンマーG(日本油脂社製)等が挙げられる。
上記多官能エポキシ化合物(A)の中でも、下記一般式(I)で表される多官能エポキシ化合物が好ましい。
Figure 2009275148
(式中、Cyは炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を示し、Xは水素原子、フェニル基又は炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を示し、該フェニル基及びシクロアルキル基は、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換されていてもよく、Y及びZは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を示し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、pは0〜4の数を示し、rは0〜4の数を表す。)
上記一般式(I)中、Cyで示される炭素原子数3〜10のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等が挙げられる。
Xで表される炭素原子数3〜10のシクロアルキル基としては、例えば、Cyで示される炭素原子数3〜10のシクロアルキル基として例示したものが挙げられる。Xで示されるフェニル基又は炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を置換してもよい炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基及びハロゲン原子としては、それぞれ、Y及びZで示されるものとして後に例示するものが挙げられる。
Y及びZで示される炭素原子数1〜10のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、へプチル、オクチル、イソオクチル、第三オクチル、2−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル、イソデシル等が挙げられる。Y及びZで示される炭素原子数1〜10のアルコキシ基としてはメトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、ブチルオキシ、メトキシエチル、エトキシエチル、プロピロキシエチル、メトキシエトキシエチル、エトキシエトキシエチル、プロピロキシエトキシエチル、メトキシプロピル等が挙げられる。Y及びZで示される炭素原子数2〜10のアルケニル基としては、ビニル、アリル、ブテニル、プロペニル等が挙げられる、Y及びZで示されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。
また、Xで示されるフェニル基及び炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を置換してもよい上記のアルキル基及びアルコキシ基、並びにY及びZで示される上記のアルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。例えば、フッ素原子で置換された炭素原子数1〜10のアルキル基としては、モノフルオロメチル、ジフルオロメチル、トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、パーフルオロエチル等が挙げられる。
上記一般式(I)で表される多官能エポキシ化合物は、トリアリールモノシクロアルキルメタン骨格を有することにより、該多官能エポキシ化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性、加工性、強度等が優れるため、非硬化部を現像除去する際に、微細パターンであっても鮮明な画像を精度良く形成できるものと考えられる。
上記一般式(I)で表される多官能エポキシ化合物の具体例としては、以下の化合物No.1〜No.9の化合物が挙げられる。但し、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。
Figure 2009275148
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上記一般式(I)で表される多官能エポキシ化合物の中でも、Cyがシクロヘキシルであり、Xがフェニル基であり、p及びrが0である化合物が、該多官能エポキシ化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性及び原料入手の観点から好ましい。
上記不飽和一塩基酸(B)としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシエチルアクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは1個のカルボキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記1個のカルボキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレートは、例えば1分子中に1個のヒドロキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレートと二塩基酸無水物又はカルボン酸とを反応させることによって得ることができる。
上記1個のカルボキシル基と2個以上の(メタ)アクリロイル基とを有する多官能(メタ)アクリレートとしては、下記化合物No.10〜No.14を挙げることができる。
Figure 2009275148
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Figure 2009275148
Figure 2009275148
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上記ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)としては、例えば、4,4−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、ビス(4−ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルフィド、ビス(4−ヒドロキシフェニル)スルホン、4,4’−(1−α―メチルベンジリデン)ビスフェノール、4,4’−(1−α―エチルベンジリデン)ビスフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、α、α’−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−1,4−ジイソプロピルベンゼン、水添ビスフェノール化合物、レソルシノール、ヒドロキノン、2,5−ジ−tert−ブチルヒドロキノン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,2,4−トリヒドロキシベンゼン、2−[ビス(4−ヒドロキシフェニル)メチル]ベンジルアルコール、サリチル酸等が挙げられる。
上記ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)としては、その他、前記多官能エポキシ化合物(A)及び上記でポリヒドロキシ芳香族化合物として例示した化合物との付加物を用いることもできる。
上記ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)の中でも、下記一般式(II)で表されるビスフェノール化合物が、エポキシ化合物(D)との反応性、該ポリヒドロキシ化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性の観点から好ましい。
Figure 2009275148
(式中、Cy、X、Y、Z、p及びrは、上記一般式(I)と同じである。)
上記一般式(II)で表されるビスフェノール化合物の具体例としては、以下の化合物No.15〜No.23の化合物が挙げられる。但し、本発明は以下の化合物により何ら制限を受けるものではない。
Figure 2009275148
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上記一般式(II)で表されるビスフェノール化合物の中でもCyがシクロヘキシルであり、Xがフェニル基であり、p及びrが0である化合物が、該ビスフェノール化合物を用いて調製した硬化物の基材への密着性及び原料入手の観点から好ましい。
上記エポキシ化合物(D)としては、単官能又は多官能エポキシ化合物が挙げられる。上記単官能エポキシ化合物としては、例えば、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、t−ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プロパルギルグリシジルエーテル、p−メトキシエチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、p−メトキシグリシジルエーテル、p−ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、2−メチルクレジルグリシジルエーテル、4−ノニルフェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、p−クミルフェニルグリシジルエーテル、トリチルグリシジルエーテル、2,3−エポキシプロピルメタクリレート、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、グリシジルブチレート、ビニルシクロヘキサンモノオキシド、1,2−エポキシ−4−ビニルシクロヘキサン、スチレンオキシド、ピネンオキシド、メチルスチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、プロピレンオキシド、下記化合物No.24〜No.26等が挙げられる。中でも、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル及び下記化合物No.24〜No.26は、末端に二重結合を持ち、感度を向上させることができるので好ましい。
Figure 2009275148
Figure 2009275148
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上記多官能エポキシ化合物としては、前記多官能エポキシ化合物(A)として例示した化合物を用いることができる。
上記多塩基酸無水物(E)としては、例えば、コハク酸無水物、マレイン酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、2,2’−3,3’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、3,3’−4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。これらの中でも、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましい。
本発明の化合物(Z)は、上述の(A)〜(E)成分から、例えば、下記〔化29〕の反応式で示される方法によって製造することができる。該方法について、〔化29〕を参照しながら以下に詳述する。
先ず、多官能エポキシ化合物(A)に不飽和一塩基酸(B)をエステル化反応させて化合物(X)を得る。このエステル化反応は、常法に従って行うことができるが、好ましくは、40〜150℃で5〜15時間反応させる。これとは別に、ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)にエポキシ化合物(D)をエーテル化反応させて化合物(Y)を得る。このエーテル化反応は、常法に従って行うことができるが、好ましくは、80〜150℃で5〜30時間反応させる。得られた化合物(X)と化合物(Y)とを多塩基酸無水物(E)を用いて架橋反応させて化合物(Z)を得る。この架橋反応は、常法に従って行うことができるが、好ましくは、80〜130℃で1〜10時間反応させる。
上記エステル化反応において、上記多官能エポキシ化合物(A)のエポキシ基1個に対する上記不飽和一塩基酸(B)のカルボキシル基の比率は、好ましくは0.3〜1.0個である。また、上記エーテル化反応において、上記ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)の水酸基1個に対する上記エポキシ化合物(D)のエポキシ基の比率は、好ましくは0.3〜0.9個である。また、上記架橋反応において、上記化合物(X)及び化合物(Y)の水酸基の合計1個に対する上記多塩基酸無水物(E)の酸無水物構造の比率は、好ましくは0.3〜0.95個である。
Figure 2009275148
上記化合物(Z)には、さらにエポキシ化合物(D)を付加させ、続いて多塩基酸無水物(E)をエステル化させることを繰り返してもよく、また、化合物(Z)に、さらにエポキシ化合物(D)を付加させた後、多塩基酸無水物(E)に代えてラクトン化合物をエステル化させてもよい。
本発明の新規化合物(Z)は、以下に説明するようにアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物の原料として好適に用いられる他、三次元立体像形成用光造形材の原料や電子部品、表示部品、建築用部品等におけるシール材、封口材、封止材、保護膜材、コート材の原料等に用いられる。
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物は、上記化合物(Z)を含有する。該化合物(Z)の含有量は、本発明のアルカリ現像性樹脂組成物中、1〜70質量%、特に3〜30質量%が好ましく、固形分の酸価が35〜120mgKOH/g、特に50〜110mgKOH/gの範囲であるのが好ましい。
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物には、上記化合物(Z)の他に溶媒を含有させてもよく、例えば、化合物(Z)の含有量を上記の好ましい範囲とする場合、化合物(Z)以外の残部には溶媒を用いることができる。該溶媒の具体例としては、後述のアルカリ現像性感光性樹脂組成物に用いられる溶媒として例示するものが挙げられる。また、化合物(Z)を合成する際に用いた溶媒を除去せず、そのまま本発明のアルカリ現像性樹脂組成物に含有させてもよい。
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物は、主として、光重合開始剤(F)及び溶媒と混合され、アルカリ現像性感光性樹脂組成物として用いられる。
以下に、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物(以下、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物ともいう)について、好ましい実施形態に基づき説明する。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、少なくとも、上記化合物(Z)を含有する本発明のアルカリ現像性樹脂組成物に、光重合開始剤(F)及び溶媒を含有させたものである。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物において、上記化合物(Z)の含有量は、アルカリ現像性感光性樹脂組成物から溶媒を除く全固形分の合計質量に占める割合で50〜90質量%、特に60〜80質量%が好ましい。
上記光重合開始剤(F)としては、従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、ベンゾフェノン、フェニルビフェニルケトン、1−ヒドロキシ−1−ベンゾイルシクロヘキサン、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、1−ベンジル−1−ジメチルアミノ−1−(4’−モルホリノベンゾイル)プロパン、2−モルホリル−2−(4’−メチルメルカプト)ベンゾイルプロパン、チオキサントン、1−クロル−4−プロポキシチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、エチルアントラキノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィド、ベンゾインブチルエーテル、2−ヒドロキシ−2−ベンゾイルプロパン、2−ヒドロキシ−2−(4’−イソプロピル)ベンゾイルプロパン、4−ブチルベンゾイルトリクロロメタン、4−フェノキシベンゾイルジクロロメタン、ベンゾイル蟻酸メチル、1,7−ビス(9’−アクリジニル)ヘプタン、9−n−ブチル−3,6−ビス(2’−モルホリノイソブチロイル)カルバゾール、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ナフチル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、下記化合物No.27、No.28等が挙げられる。これらの中でも、ベンゾフェノン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オンが好ましい。
Figure 2009275148
(式中、X1はハロゲン原子又はアルキル基を表し、R1はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R2はR、OR、COR、SR又はNRR’を表し、R3はR、OR、COR、SR又はNRR’を表し、R及びR’は、アルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素環基を表し、これらはハロゲン原子及び/又は複素環基で置換されていてもよく、これらのうちアルキル基及びアラルキル基のアルキレン部分は、不飽和結合、エーテル結合、チオエーテル結合又はエステル結合により中断されていてもよく、また、R及びR’は一緒になって環を形成していてもよく、mは0〜5である。)
Figure 2009275148
(式中、X1、R1、R2、R3、R及びR’は上記化合物No.27と同様であり、X1’はハロゲン原子又はアルキル基を表し、Zは酸素原子又は硫黄原子を表し、s及びtはそれぞれ1〜4の数を表し、R1’はR、OR、COR、SR、CONRR’又はCNを表し、R2’はR、OR、COR、SR又はNRR’を表し、R3’はR、OR、COR、SR又はNRR’を表し、R4はジオール残基又はジチオール残基を表す。)
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物において、上記光重合開始剤(F)の含有量は、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物中、0.1〜30質量%、特に0.5〜5質量%が好ましい。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物に含まれる溶媒としては、通常、前記の各成分を溶解又は分散しえる溶媒であれば特に制限はないが、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸n−ブチル等のエステル系溶媒;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のセルソルブ系溶媒;メタノール、エタノール、イソ−又はn−プロパノール、イソ−又はn−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレン等のBTX系溶媒;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;テレピン油、D−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油;ミネラルスピリット、スワゾール#310(コスモ松山石油(株))、ソルベッソ#100(エクソン化学(株))等のパラフィン系溶媒;四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒;クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒;カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、テトラヒドロフラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルピロリドン等が挙げられ、中でも、ケトン類或いはセロソルブ系溶媒が好ましい。これらの溶媒は1種又は2種以上の混合溶媒として使用することができる。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物において、上記溶媒の含有量は、アルカリ現像性感光性樹脂組成物に占める全固形分濃度が5〜40質量%、特に15〜30質量%となるように調整するとよい。
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物には、さらに不飽和結合を有するモノマー、連鎖移動剤、界面活性剤等を併用することができる。
上記不飽和結合を有するモノマーとしては、アクリル酸−2−ヒドロキシエチル、アクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸N−オクチル、アクリル酸イソオクチル、アクリル酸イソノニル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸メトキシエチル、アクリル酸ジメチルアミノエチル、アクリル酸亜鉛、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル、メタクリル酸−2−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ターシャリーブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリシクロデカンジメチロールジアクリレート等が挙げられる。
上記不飽和結合を有するモノマーの含有量は、アルカリ現像性樹脂組成物又はアルカリ現像性感光性樹脂組成物から溶媒を除く全固形分の合計質量に占める割合で0.01〜20質量%、特に0.1〜10質量%が好ましい。
上記連鎖移動剤としては、チオグリコール酸、チオリンゴ酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプトプロピオン酸、3−メルカプト酪酸、N−(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカプトニコチン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)カルバモイル〕プロピオン酸、3−〔N−(2−メルカプトエチル)アミノ〕プロピオン酸、N−(3−メルカプトプロピオニル)アラニン、2−メルカプトエタンスルホン酸、3−メルカプトプロパンスルホン酸、4−メルカプトブタンスルホン酸、ドデシル(4−メチルチオ)フェニルエーテル、2−メルカプトエタノール、3−メルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト−2−プロパノール、3−メルカプト−2−ブタノール、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン、2−メルカプトイミダゾール、2−メルカプト−3−ピリジノール、2−メルカプトベンゾチアゾール、メルカプト酢酸、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)等のメルカプト化合物、該メルカプト化合物を酸化して得られるジスルフィド化合物、ヨード酢酸、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸等のヨード化アルキル化合物が挙げられる。
上記界面活性剤としては、パーフルオロアルキルリン酸エステル、パーフルオロアルキルカルボン酸塩等のフッ素界面活性剤、高級脂肪酸アルカリ塩、アルキルスルホン酸塩、アルキル硫酸塩等のアニオン系界面活性剤、高級アミンハロゲン酸塩、第四級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤、ポリエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、脂肪酸モノグリセリド等の非イオン界面活性剤、両性界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等の界面活性剤を用いることができ、これらは組み合わせて用いてもよい。
本発明のアルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物には、さらに熱可塑性有機重合体を用いることによって、硬化物の特性を改善することもできる。該熱可塑性有機重合体としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、メチルメタクリレート−エチルアクリレート共重合体、ポリ(メタ)アクリル酸、スチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、(メタ)アクリル酸−メチルメタクリレート共重合体、ポリビニルブチラール、セルロースエステル、ポリアクリルアミド、飽和ポリエステル等が挙げられる。
また、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物には、必要に応じて、アニソール、ハイドロキノン、ピロカテコール、第三ブチルカテコール、フェノチアジン等の熱重合抑制剤;可塑剤;接着促進剤;充填剤;消泡剤;分散剤;レベリング剤;シランカップリング剤;難燃剤等の慣用の添加物を加えることができる。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、ロールコーター、カーテンコーター、各種の印刷、浸漬等の公知の手段で、金属、紙、プラスチック等の支持基体上に適用される。また、一旦フィルム等の支持基体上に施した後、他の支持基体上に転写することもでき、その適用方法に制限はない。
本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、主として、上記光重合開始剤(F)及び上記溶媒と混合され、アルカリ現像性感光性樹脂組成物として用いられるもので、該アルカリ現像性感光性樹脂組成物は、その用途に特に制限はなく、光硬化性塗料、光硬化性接着剤、印刷版、印刷配線板用フォトレジスト等の各種の用途に使用することができる。
また、本発明のアルカリ現像性感光性樹脂組成物を硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波長300〜450nmの光を発光するものを用いることができ、例えば、超高圧水銀、水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンアーク等を用いることができる。
以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。尚、下記実施例等において、「%」は、質量%を意味する。
製造例1〜3は、化合物(X)の製造例を示し、製造例4〜13は、化合物(Y)の製造例を示し、実施例1〜12は、本発明の化合物(Z)を含有するアルカリ現像性樹脂組成物No.1〜No.12の製造例を示し、実施例13〜24は、実施例1〜12で得られたアルカリ現像性樹脂組成物No.1〜No.12に、光重合開始剤(F)及び溶媒を混合して得られたアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1〜No.12の調製例を示す。
〔製造例1〕化合物(X)−1の製造
水素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル(エポキシ当量215、商品名デナコールEX−252、ナガセケムテックス社製、以下、化合物a−1ともいう)417g、アクリル酸(以下、化合物bともいう)142g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.5g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール2.5g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート684gを仕込み、120℃で18時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(X)−1を得た。
尚、化合物(X)−1は、(A)成分である化合物a−1のエポキシ基1個に対し、(B)成分である化合物bのカルボキシル基が1個の比率でエステル化させて得られる構造を有する。
〔製造例2〕化合物(X)−2の製造
ビス〔4−(2,3−エポキシプロピルオキシ)フェニル〕−4−ビフェニリル(シクロヘキシル)メタン(エポキシ当量277、n=0、以下、化合物a−2ともいう)1090g、アクリル酸(化合物b)290g、テトラブチルアンモニウムアセテート7.1g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール8.4g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート926gを加えて120℃で14時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(X)−2を得た。
尚、化合物(X)−2は、(A)成分である化合物a−2のエポキシ基1個に対し、(B)成分である化合物bのカルボキシル基が1個の比率でエステル化させて得られる構造を有する。
〔製造例3〕化合物(X)−3の製造
ビスフェノールAジグリシジルエーテル(エポキシ当量187、商品名アデカレジンEP−4100E、ADEKA社製、以下化合物a−3ともいう)334g、アクリル酸(化合物b)131g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.2g、2,6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾール2.5g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート569gを加えて120℃で15時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(X)−3を得た。
尚、化合物(X)−3は、(A)成分である化合物a−3のエポキシ基1個に対し、(B)成分である化合物bのカルボキシル基が1個の比率でエステル化させて得られる構造を有する。
〔製造例4〕化合物(Y)−1の製造
2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(以下、化合物c−1ともいう)229g、スチレンオキシド(以下、化合物d−1ともいう)248g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.6g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート126gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−1を得た。
尚、化合物(Y)−1は、(C)成分である化合物c−1の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−1のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例5〕化合物(Y)−2の製造
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(以下、化合物c−2ともいう)351g、スチレンオキシド(化合物d−1)248g、トリフェニルフォスフィン1.8gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、化合物(Y)−2を得た。
尚、化合物(Y)−2は、(C)成分である化合物c−2の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−1のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例6〕化合物(Y)−3の製造
2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(以下、化合物c−3ともいう)269g、スチレンオキシド(化合物d−1)248g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.7g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート130gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−3を得た。
尚、化合物(Y)−3は、(C)成分である化合物c−3の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−1のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例7〕化合物(Y)−4の製造
ビス〔4−ヒドロキシフェニル〕−4−ビフェニリル(シクロヘキシル)メタン(以下、化合物c−4ともいう)434g、スチレンオキシド(化合物d−1)248g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.7g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート171gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−4を得た。
尚、化合物(Y)−4は、(C)成分である化合物c−4の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−1のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例8〕化合物(Y)−5の製造
ビス〔4−ヒドロキシフェニル〕−4−ビフェニリル(シクロヘキシル)メタン(化合物c−4)434g、ブチルグリシジルエーテル(以下、化合物d−2ともいう)266g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.6g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート175gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−5を得た。
尚、化合物(Y)−5は、(C)成分である化合物c−4の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−2のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例9〕化合物(Y)−6の製造
2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(化合物c−1)172g、3−(2−キセニロキシ)−1,2−エポキシプロパン(商品名OPP−G、三光社製、以下、化合物d−3ともいう)347g、テトラブチルアンモニウムアセテート1.9g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート132gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−6を得た。
尚、化合物(Y)−6は、(C)成分である化合物c−1の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−3のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例10〕化合物(Y)−7の製造
2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(化合物c−1)229g、化合物d−3の232g、アリルグリシジルエーテル(以下、化合物d−4ともいう)117g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.7g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート145gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−7を得た。
尚、化合物(Y)−7は、(C)成分である化合物c−1の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−3と化合物d−4の合計のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例11〕化合物(Y)−8の製造
2、2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン(化合物c−1)343g、フェニルグリシジルエーテル(エポキシ当量153、商品名デナコールEX−141、ナガセケムテックス社製、以下、化合物d−5ともいう)469g、テトラブチルアンモニウムアセテート3.8g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート149gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−8を得た。
尚、化合物(Y)−8は、(C)成分である化合物c−1の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−5のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例12〕化合物(Y)−9の製造
化合物c−1の228g、4―tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル(エポキシ当量227、商品名デナコールEX−146、ナガセケムテックス社製、以下、化合物d−6ともいう)464g、テトラブチルアンモニウムアセテート2.5g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート130gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−9を得た。
尚、化合物(Y)−9は、(C)成分である化合物c−1の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−6のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔製造例13〕化合物(Y)−10の製造
2、5−ジ−tert−ブチルヒドロキノン(以下、化合物c−5ともいう)222g、化合物d−6の464g、テトラブチルアンモニウムアセテート2.6g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート121gを仕込み、90℃で1時間撹拌し、さらに120℃で9時間撹拌し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として化合物(Y)−10を得た。
尚、化合物(Y)−10は、(C)成分である化合物c−5の水酸基1個に対し、(D)成分である化合物d−6のエポキシ基が1個の比率でエーテル化させて得られる構造を有する。
〔実施例1〕アルカリ現像性樹脂組成物No.1の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}125g、製造例4で得られた{化合物(Y)−1}60.5g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下、化合物eともいう)34.7g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート32.9gを仕込み、120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート14.3gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.1を得た(Mw=3300、Mn=1600、酸価(固形分)107mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.1が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−1の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例2〕アルカリ現像性樹脂組成物No.2の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}148g、製造例5で得られた{化合物(Y)−2}60.0g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)37.9g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート53.2gを仕込み、120℃で7時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート17.1gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.2を得た(Mw=3500、Mn=1700、酸価(固形分)96mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.2が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−2の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例3〕アルカリ現像性樹脂組成物No.3の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}132g、製造例6で得られた{化合物(Y)−3}65.0g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)35.8g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート34.5gを仕込み、120℃で7時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート15.2gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.3を得た(Mw=3400、Mn=1600、酸価(固形分)104mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.3が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−3の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例4〕アルカリ現像性樹脂組成物No.4の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}166g、製造例7で得られた{化合物(Y)−4}86.8g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)40.4g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート42.1gを仕込み、120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート19.1gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.4を得た(Mw=3400、Mn=1700、酸価(固形分)93mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.4が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−4の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例5〕アルカリ現像性樹脂組成物No.5の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}166g、製造例8で得られた{化合物(Y)−5}87.7g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)40.4g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート42.1gを仕込み、120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート19.2gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.5を得た(Mw=3400、Mn=1600、酸価(固形分)90mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.5が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−5の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例6〕アルカリ現像性樹脂組成物No.6の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}125g、製造例9で得られた{化合物(Y)−6}65.1g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)30.3g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート31.5gを仕込み、120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート14.3gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.6を得た(Mw=3800、Mn=1700、酸価(固形分)89mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.6が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−6の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例7〕アルカリ現像性樹脂組成物No.7の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}144g、製造例10で得られた{化合物(Y)−7}68.9g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)37.3g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート37.8gを仕込み、120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート16.6gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.7を得た(Mw=3300、Mn=1700、酸価(固形分)100mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.7が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−7の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例8〕アルカリ現像性樹脂組成物No.8の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}205g、製造例11で得られた{化合物(Y)−8}96.3g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)54.6g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート58.4gを加えて120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート237gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.8を得た(Mw=3500、Mn=1800、酸価(固形分)100mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.8が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−8の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例9〕アルカリ現像性樹脂組成物No.9の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}165g、製造例12で得られた{化合物(Y)−9}82.3g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)40.4g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート47.3gを加えて120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート191gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.9を得た(Mw=3800、Mn=2100、酸価(固形分)91mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.9が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−9の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例10〕アルカリ現像性樹脂組成物No.10の製造
製造例1で得られた{化合物(X)−1}165g、製造例13で得られた{化合物(Y)−10}80.8g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)40.2g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート47.1gを加えて120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート190gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.10を得た(Mw=4800、Mn=2400、酸価(固形分)81mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.10が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−1及び化合物(Y)−10の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例11〕アルカリ現像性樹脂組成物No.11の製造
製造例2で得られた{化合物(X)−2}232g、製造例4で得られた{化合物(Y)−1}96.2g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)61.2g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート123gを仕込み、120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート114gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.11を得た(Mw=3500、Mn=1700、酸価(固形分)93mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.11が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−2及び化合物(Y)−1の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例12〕アルカリ現像性樹脂組成物No.12の製造
製造例3で得られた{化合物(X)−3}104g、製造例4で得られた{化合物(Y)−1}60.5g、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(化合物e)33.4g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート35.4gを加えて120℃で5時間撹拌した。室温まで冷却し、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート133gを加えて、プロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート溶液として目的物であるアルカリ現像性樹脂組成物No.12を得た(Mw=3400、Mn=1500、酸価(固形分)110mgKOH/g)。
尚、アルカリ現像性樹脂組成物No.12が含有する化合物(Z)は、化合物(X)−3及び化合物(Y)−1の水酸基の合計1個に対して、(E)成分である化合物eの酸無水物構造が0.6個の比率で架橋反応させて得られる構造を有する。
〔実施例13〜24〕アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1〜No.12の調製
実施例1〜12で得られたアルカリ現像性樹脂組成物No.1〜No.12の14gに対し、トリメチロールプロパントリアクリレート6.3g、光重合開始剤(F)としてベンゾフェノン2.1g及びプロピレングリコール−1−モノメチルエーテル−2−アセテート78gを加えてよく撹拌し、アルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1〜No.12を得た。
上記実施例13〜24で調製したアルカリ現像性感光性樹脂組成物No.1〜No.12の評価を以下のようにして行った。
即ち、基板上にγ−グリシドキシプロピルメチルエトキシシランをスピンコートして良くスピン乾燥させた後、上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(1300r.p.m、50秒間)し乾燥させた。70℃で20分間プリベークを行った後、ポリビニルアルコール5%溶液をコートして酸素遮断膜とした。70℃20分間の乾燥後、所定のマスクを用い、光源として超高圧水銀ランプを用いて露光後、2.5%炭酸ナトリウム溶液に25℃で30秒間浸漬して現像し、良く水洗した。水洗乾燥後、230℃で1時間ベークしてパターンを定着させた。得られたパターンについて、以下の評価を行った。結果を〔表1〕に示す。
<感度>
露光時に、露光量が100mJ/cm2で十分だったものをa、100mJ/cm2では不十分で、130mJ/cm2で露光したものをb、130mJ/cm2では不十分で、160mJ/cm2で露光したものをcとした。
<解像度>
露光現像時に、線幅10μm以下でも良好にパターン形成できたものをA、線幅10〜15μmであれば良好にパターン形成できたものをB、線幅15μm以上のものでないと良好なパターン形成ができなかったものをCと評価した。
<密着性>
現像して得られたパターンのはがれを目視により観察し、パターンはがれが全く観察されなかったものを○、パターンはがれが一部に観察されたものを△、パターンはがれが全面に観察されるものを×とした。
<耐アルカリ性>
加熱処理後の塗膜をa)5%NaOHaq.中24時間、b)4%KOHaq.中50℃で10分間、c)1%NaOHaq.中80℃で5分間の条件で浸漬し、浸漬後の外観を目視により評価した。外観変化もなくレジストの剥離も全くなかったものを○、レジストの浮きが見られたりレジストの剥離が認められたものを×とした。
また、以下の方法に従って、パターン形状の評価を行った。
即ち、ガラス基板上に上記アルカリ現像性感光性樹脂組成物をスピンコート(600rpm、7秒間)して10分間風乾させた後、90℃で2分間ホットプレートにより加熱した。次いで、画素サイズ30μm×100μmのマスクを用い、光源として超高圧水銀ランプを用いて露光し、2.5%炭酸ナトリウム水溶液で現像した後、良く水洗し、230℃で30分焼成してパターンを定着させた。得られたパターンについて走査型電子顕微鏡(SEM)を用いてパターン形状の観察を行なった。パターン形状が順テーパーであるものを○、垂直形状であるものを△、オーバーハング(逆テーパー)であるものを×とした。結果を〔表1〕に示す。
Figure 2009275148
実施例13〜24のアルカリ現像性感光性樹脂組成物は、感度、解像度、密着性及び体アルカリ性に優れ、良好なパターン形状を持つものであった。

Claims (7)

  1. 多官能エポキシ化合物(A)に不飽和一塩基酸(B)を反応させて得られる構造を有する化合物(X)と、ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)にエポキシ化合物(D)を反応させて得られる構造を有する化合物(Y)とを、多塩基酸無水物(E)で架橋させて得られる構造を有する化合物。
  2. 上記多官能エポキシ化合物(A)が、下記一般式(I)で表される化合物であることを特徴とする請求項1記載の化合物。
    Figure 2009275148
    (式中、Cyは炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を示し、Xは水素原子、フェニル基又は炭素原子数3〜10のシクロアルキル基を示し、該フェニル基及びシクロアルキル基は、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基若しくはハロゲン原子により置換されていてもよく、Y及びZは、それぞれ独立して、炭素原子数1〜10のアルキル基、炭素原子数1〜10のアルコキシ基、炭素原子数2〜10のアルケニル基又はハロゲン原子を示し、該アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、pは0〜4の数を示し、rは0〜4の数を表す。)
  3. 上記ポリヒドロキシ芳香族化合物(C)が、下記一般式(II)で表される化合物であることを特徴とする請求項1又は2記載の化合物。
    Figure 2009275148
    (式中、Cy、X、Y、Z、p及びrは、上記一般式(I)と同じである。)
  4. 上記一般式(I)及び/又は上記一般式(II)中、Cyがシクロヘキシル基であり、Xがフェニル基であり、p及びrが0であることを特徴とする請求項2又は3記載の化合物。
  5. 請求項1〜4の何れかに記載の化合物を含有することを特徴とするアルカリ現像性樹脂組成物。
  6. 上記化合物の含有量が1〜70質量%であることを特徴とする請求項5記載のアルカリ現像性樹脂組成物。
  7. 請求項5又は6記載のアルカリ現像性樹脂組成物に光重合開始剤(F)を含有させることを特徴とするアルカリ現像性感光性樹脂組成物。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011195795A (ja) * 2010-03-24 2011-10-06 Adeka Corp 重合性化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子
JPWO2018016615A1 (ja) * 2016-07-21 2019-05-09 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
JPWO2018016648A1 (ja) * 2016-07-21 2019-05-09 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1149840A (ja) * 1997-08-05 1999-02-23 Nippon Shokubai Co Ltd 硬化性樹脂および樹脂組成物
JPH11222514A (ja) * 1997-11-11 1999-08-17 Nippon Shokubai Co Ltd 硬化性樹脂および樹脂組成物
JP2000178330A (ja) * 1998-10-05 2000-06-27 Nippon Shokubai Co Ltd 変性ノボラック樹脂およびその樹脂組成物
JP2000321769A (ja) * 1999-05-06 2000-11-24 Nippon Shokubai Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2001226499A (ja) * 1999-12-08 2001-08-21 Nipro Corp 易剥離性フィルムおよびこれを用いた医療用包装容器
WO2006030631A1 (ja) * 2004-09-17 2006-03-23 Toppan Printing Co., Ltd. 着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物及び該着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ
JP2007034279A (ja) * 2005-06-20 2007-02-08 Adeka Corp アルカリ現像性感光性樹脂組成物
JP2007246638A (ja) * 2006-03-15 2007-09-27 Adeka Corp エポキシ樹脂、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
JP2007292807A (ja) * 2006-04-20 2007-11-08 Toppan Printing Co Ltd 液晶分割配向制御用突起付き基板及び該基板を備えた液晶表示装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1149840A (ja) * 1997-08-05 1999-02-23 Nippon Shokubai Co Ltd 硬化性樹脂および樹脂組成物
JPH11222514A (ja) * 1997-11-11 1999-08-17 Nippon Shokubai Co Ltd 硬化性樹脂および樹脂組成物
JP2000178330A (ja) * 1998-10-05 2000-06-27 Nippon Shokubai Co Ltd 変性ノボラック樹脂およびその樹脂組成物
JP2000321769A (ja) * 1999-05-06 2000-11-24 Nippon Shokubai Co Ltd 感光性樹脂組成物
JP2001226499A (ja) * 1999-12-08 2001-08-21 Nipro Corp 易剥離性フィルムおよびこれを用いた医療用包装容器
WO2006030631A1 (ja) * 2004-09-17 2006-03-23 Toppan Printing Co., Ltd. 着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物及び該着色アルカリ現像性感光性樹脂組成物を用いたカラーフィルタ
JP2007034279A (ja) * 2005-06-20 2007-02-08 Adeka Corp アルカリ現像性感光性樹脂組成物
JP2007246638A (ja) * 2006-03-15 2007-09-27 Adeka Corp エポキシ樹脂、アルカリ現像性樹脂組成物及びアルカリ現像性感光性樹脂組成物
JP2007292807A (ja) * 2006-04-20 2007-11-08 Toppan Printing Co Ltd 液晶分割配向制御用突起付き基板及び該基板を備えた液晶表示装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011195795A (ja) * 2010-03-24 2011-10-06 Adeka Corp 重合性化合物を含有する液晶組成物及び該液晶組成物を用いた液晶表示素子
JPWO2018016615A1 (ja) * 2016-07-21 2019-05-09 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
JPWO2018016648A1 (ja) * 2016-07-21 2019-05-09 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法
JP7069530B2 (ja) 2016-07-21 2022-05-18 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物及びパターン形成方法
JP7069529B2 (ja) 2016-07-21 2022-05-18 三菱瓦斯化学株式会社 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法

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