JP2009269994A - プリント配線板の穴埋め用熱硬化性樹脂組成物及びそれを用いたプリント配線板 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プリント配線板1の穴部3に充填するため熱硬化性樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、及び(C)無機フィラーを含有し、上記エポキシ樹脂(A)が2官能のエポキシ樹脂(A−1)と3官能以上のエポキシ樹脂(A−2)を含み、上記無機フィラー(C)が周期律表のIIa族の元素の塩からなることを特徴としている。好適には、前記エポキシ樹脂(A)は、3官能以上のエポキシ樹脂(A−2)を液状の2官能エポキシ樹脂(A−1)に溶解した混合物であり、その溶解後の粘度が25℃で5〜100dPa・sである。
【選択図】図1
Description
なお、本明細書において、「穴部」とは、プリント配線板の製造過程で形成されるスルーホールやバイアホール等を総称する用語である。
さらに本発明の目的は、ヒートサイクル時のクラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部絶縁層周辺部の外層絶縁層(ソルダーレジスト層や絶縁樹脂層)の剥離(デラミ)等がなく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等の特性に優れる高信頼性のプリント配線板を提供することにある。
さらに本発明によれば、プリント配線板の穴部が、前記熱硬化性樹脂組成物の硬化物で充填されていることを特徴とするプリント配線板も提供される。
従って、例えば、プリント配線基板に設けたスルーホール等の穴部に樹脂充填剤を充填し、硬化した後、その配線基板上に層間樹脂絶縁層と導体回路層を交互に積層してなる多層プリント配線板や、スルーホールに樹脂充填剤を充填した基板に直接ソルダーレジスト膜を形成する多層プリント配線板において、樹脂充填剤として本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いることにより、ヒートサイクル時のクラック発生や、絶縁信頼性の悪化、穴部絶縁層周辺部の外層絶縁層(ソルダーレジスト層や絶縁樹脂層)の剥離(デラミ)等がなく、絶縁信頼性や耐熱性、耐湿性、PCT耐性等の特性に優れる高信頼性のプリント配線板を提供することができる。
まず、前記エポキシ樹脂(A)としては、1分子中に2つのエポキシ基を有する2官能のエポキシ樹脂(A−1)と、1分子中に少なくとも3つ以上のエポキシ基を有する3官能以上のエポキシ樹脂(A−2)を組み合わせて用いる。2官能のエポキシ樹脂(A−1)としては、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールA型エポキシ樹脂、臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ビキシレノール型エポキシ樹脂、ビフェノール型エポキシ樹脂など、3官能以上のエポキシ樹脂(A−2)としてはフェノールノボラック型エポキシ樹脂、アルキルフェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、トリヒドロキシフェニルメタン型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂、ジグリシジルフタレート樹脂、フェノール類とフェノール性水酸基を有する芳香族アルデヒドとの縮合物のエポキシ化物、又はそれらの臭素原子含有エポキシ樹脂やりん原子含有エポキシ樹脂、トリグリシジルイソシアヌレート等のエポキシ樹脂、脂環式エポキシ樹脂など公知慣用のものを、単独であるいは2種以上組み合わせて使用することができる。また、反応性希釈剤としての単官能エポキシ樹脂を含有していてもよい。
また、無機フィラー(C)の形状は、球状、針状、板状、鱗片状、中空状、不定形、六角状、キュービック状、薄片状等が挙げられるが、高充填性の点からは球状が好ましい。
以下、添付図面を参照しながら、プリント配線板の穴部絶縁層及び外層絶縁層(ソルダーレジスト層や絶縁樹脂層)の形成について具体的に説明する。なお、添付図面は、コア基板として両面基板を用いた例を示しているが、多層プリント配線板についても同様に適用できる。
まず、図1(a)に示すようなコア基板1のめっきスルーホール3(コア基板として多層プリント配線板を用いる場合には、めっきスルーホールの他にさらにバイアホール等の穴部)に、図1(b)に示すように本発明の液状熱硬化性樹脂組成物を充填する。具体的には、スルーホール部分に開口を設けたマスクを基板上に載置し、印刷法等により塗布したり、ドット印刷法などにより、スルーホール内に容易に充填できる。コア基板1としては、銅箔をラミネートしたガラスエポキシ基板やポリイミド基板、ビスマレイミド−トリアジン樹脂基板、フッ素樹脂基板などの樹脂基板、セラミック基板、金属基板などの基板2にドリルで貫通孔を明け、貫通孔の壁面及び銅箔表面に無電解めっきあるいはさらに電解めっきを施して、めっきスルーホール3及び導体回路層4を形成したものを好適に用いることができる。めっきとしては銅めっきが一般に用いられる。
次に、充填物を予備硬化する。例えば約90〜130℃で約30〜90分程度加熱して予備硬化させる。好ましくは、約90〜110℃で一次予備硬化させた後、約110〜130℃で二次予備硬化させる。このようにして予備硬化された硬化物の硬度は比較的に低いため、基板表面からはみ出している不必要部分を物理研磨により容易に除去でき、平坦面とすることができる。なお、ここでいう「予備硬化」又は「予備硬化物」とは、一般に、エポキシの反応率が80%〜97%の状態のものをいう。また、上記予備硬化物の硬度は、予備硬化の加熱時間、加熱温度を変えることによってコントロールすることができる。その後、図1(c)に示すように、スルーホールからはみ出した予備硬化物5の不要部分を研磨により除去して平坦化する。研磨は、ベルトサンダーやバフ研磨等により好適に行なうことができる。
その後、基板表面を必要に応じてバフ研磨や粗化処理により前処理を施した後、図1(d)に示すように外層絶縁層6を形成する。この前処理によりアンカー効果に優れた粗化面が形成されるので、その後施される外層絶縁層6との密着性に優れたものとなる。外層絶縁層6は、その後に行われる処理に応じてソルダーレジスト層や絶縁樹脂層、あるいは保護マスクなどであり、従来公知の各種熱硬化性樹脂組成物や光硬化性・熱硬化性樹脂組成物等の硬化性樹脂組成物を塗布したり、あるいはこれらの硬化性樹脂組成物をキャリアフィルム上に塗布し、溶剤を乾燥させた樹脂シート(ドライフィルム)や、ガラスクロス、ガラス及びアラミド不織布等のシート状繊維質基材に塗工及び/叉は含浸させて半硬化させた樹脂シート(プリプレグシート)をラミネートして形成することができる。外層絶縁層に微細なパターンを形成する場合には、光硬化性・熱硬化性樹脂組成物やそのドライフィルムを用いることが好ましい。その後、約130〜180℃で約30〜90分程度加熱して本硬化(仕上げ硬化)し(外層絶縁層の形成に光硬化性・熱硬化性樹脂組成物を用いた場合には周知の方法に従って乾燥(仮硬化)し露光した後、本硬化し)、外層絶縁層6を形成する。なお、上記硬化性樹脂組成物に配合されるフィラーとしても、前記した理由により、前記穴埋め用の熱硬化性樹脂組成物と同様に周期律表のIIa族の元素の塩を用いることが好ましい。
なお、層間樹脂絶縁層の材料としては、樹脂付き銅箔、ドライフィルム、プリプレグ等を用いることができる。
下記表1に列挙した各成分を表1に示す割合で配合し、予備混合した後、3本ロールミルで練肉分散させて熱硬化性樹脂組成物のペーストを得た。
下記表2に列挙した各成分を表2に示す割合で配合し、予備混合した後、3本ロールミルで練肉分散させて熱硬化性樹脂組成物のペーストを得た。
試料を0.2ml採取し、コーンプレート型粘度計(東機産業(株)製TV−33)を用いて、25℃、回転数5rpmの30秒値を粘度とした。
前記実施例1〜6及び比較例1、2の各穴埋め用熱硬化性樹脂組成物を、GTS−MP箔(古河サーキットフォイル社製)の光沢面側(銅箔)上にアプリケーターにより塗布し、熱風循環式乾燥炉にて150℃で60分間、硬化させた。その後、硬化物を銅箔より剥離した後、測定サイズにサンプルを切り出し、TMA測定に供した。
TMA測定は、サンプルを10℃/分の昇温速度で室温より300℃まで昇温して実施し、ガラス転移点Tg、及びTg以下の領域における熱膨張率CTE(α1)とTg以上の領域における熱膨張率CTE(α2)を測定した。
その結果を表4に示す。
前記実施例1〜7及び比較例1〜5の各穴埋め用熱硬化性樹脂組成物を用いて、下記の方法で穴埋め+プリプレグ試験用基板及び穴埋め+ソルダーマスク形成基板を作製し、下記の試験方法で、図2に示すデラミXの発生や内部クラックYの発生の有無を調査した。
その結果を表5に示す。
厚さ1.6mm、めっきスルーホール径0.25mm、スルーホール・ピッチ1mmの両面基板(パターン形成なし、スルーホール数25個)を前処理として酸洗した後、半自動印刷機(セリア社製)により熱硬化性樹脂組成物を穴埋め印刷した。次いで、熱風循環式乾燥炉にて150℃で60分間、硬化させた。その後、ハイカットバフ#320(住友3M社製)を用いたバフ研磨機((株)石井表記製)により、硬化物の基板表面からはみ出している部分を研磨した。
次いで、前処理としてMEC社製のCZ−8100(1μmエッチング)+CL−8300処理を行った後、基板両面に厚さ0.1mmのプリプレグ(松下電工(株)製R−1661 FR−4相当)及び銅箔(古河サーキットフォイル社製GTS−MP−18)をプレス機(北川精機(株)製KVHC−PRESS)によりプレス成型した。
上記のようにプレス成型した試験用基板を、288℃のはんだ液中に10秒間、5回浸漬した後、室温まで放冷した。得られた試験用基板を断面観察用に研磨した後、光学顕微鏡で観察し、デラミ及び穴埋め硬化物の内部クラックの発生の有無を評価した。デラミについては、観察した穴数に対するデラミが発生したNG穴の割合で評価し、NG穴がない場合を○とした。内部クラックについては、クラックの発生がない場合を○、クラック発生ありの場合を×とした。
厚さ1.6mm、めっきスルーホール径0.25mm、スルーホール・ピッチ1mmの両面基板(パターン形成なし、スルーホール数25個)を前処理として酸洗した後、半自動印刷機(セリア社製)により熱硬化性樹脂組成物を穴埋め印刷した。次いで、熱風循環式乾燥炉にて150℃で60分間、硬化させた。その後、ハイカットバフ#320(住友3M社製)を用いたバフ研磨機((株)石井表記製)により、硬化物の基板表面からはみ出している部分を研磨した。
次いで、前処理としてハイカットバフ#800(住友3M社製)を用いたバフ研磨機((株)石井表記製)により研磨処理を行った後、基板両面に太陽インキ製造(株)製のソルダーレジスト(PSR−4000SP08)をスプレーコートし、熱風循環式乾燥炉にて80℃で30分乾燥(仮硬化)させた後、ORC社製露光機(HMW−680)により露光量300mJ/cm2で露光し、熱風循環式乾燥炉にて150℃で60分間本硬化を行った。
上記のように作製した試験用基板を、260℃のはんだ液中に10秒間、5回浸漬した後、室温まで放冷した。得られた試験用基板を目視及び光学顕微鏡で観察し、剥離の程度を確認した。
2 基板
3 めっきスルーホール
4 導体回路層
5 穴部絶縁層(熱硬化性樹脂組成物の硬化物)
6 外層絶縁層
X デラミ
Y 内部クラック
Claims (3)
- (A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、及び(C)無機フィラーを含有し、プリント配線板の穴部に充填される熱硬化性樹脂組成物であって、上記エポキシ樹脂(A)が2官能のエポキシ樹脂(A−1)と3官能以上のエポキシ樹脂(A−2)を含み、上記無機フィラー(C)が周期律表のIIa族の元素の塩からなることを特徴とする穴埋め用熱硬化性樹脂組成物。
- 前記エポキシ樹脂(A)は、3官能以上のエポキシ樹脂(A−2)を液状の2官能エポキシ樹脂(A−1)に溶解した混合物であり、その溶解後の粘度が25℃で5〜100dPa・sであることを特徴とする請求項1に記載の穴埋め用熱硬化性樹脂組成物。
- プリント配線板の穴部が、前記請求項1又は2に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物で充填されていることを特徴とするプリント配線板。
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