JP2009267256A - 基板保持体及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】上面に基板を載置するセラミックス焼結体からなる基体11と、基体11中に埋設された発熱体13と、基板を冷却する冷却板20と、基体11と冷却板20との間に配置された熱伝導率の分布を変化させた接合膜30とを備える。
【選択図】 図2
Description
ΔT=(Ql)/(λS) …(1)
接合膜30について、ヒータパワー(Q)が3KW、材料の厚み(l)が300μm、材料の熱伝導率(λ)が0.2W/mK、材料の断面積(S)が700cm2であり、温度差ΔTは64℃である。又、基体11(Al2O3)について、ヒータパワー(Q)が3KW、材料の厚み(l)が3mm、材料の熱伝導率(λ)が25W/mK、材料の断面積(S)が700cm2であり、温度差ΔTは5℃である。したがって、冷却板20の温度が5℃の時、3KWのヒータパワーが入ると、接合膜30及び基体11の温度差により基体11の表面温度は約74℃となる。
上述した本発明の実施の形態に係る基板保持体10の製造方法は一例であり、種々の方法が使用可能である。例えば、図4〜図11で説明した工程の代わりに図21〜図25の工程を用いても良い。
上記のように、本発明は実施の形態及び変形例によって記載したが、この開示の一部をなす論述及び図面はこの発明を限定するものであると理解すべきではない。この開示から当業者には様々な代替実施の形態、実施例及び運用技術が明らかとなろう。
11…基体
11a,11b,11c,11d,11e,11d,11f…アルミナ成形体(アルミナ焼結体)
12…静電チャック電極(ESC電極)
13…発熱体
20…冷却板
21…流路
30…接合膜
40,41…電極端子
42…直流電源
43…交流電源
44…高周波電源
50…基板
51…処理室
52…対向電極
53…ガス導入孔
54…ガス配管
55…測定用窓
56…温度測定器
57…保持部材
60…クランプ装置
61…クランプ部材
62…ピン
63,64…締め付けボルト
Claims (8)
- 上面に基板を載置するセラミックス焼結体からなる基体と、
前記基体中に埋設された発熱体と、
前記基板を冷却する冷却板と、
前記基体と前記冷却板との間に配置された熱伝導率の分布を変化させた接合膜
とを備えることを特徴とする基板保持体。 - 前記接合膜が、前記熱伝導率の分布を形成する開口部を有することを特徴とする請求項1に記載の基板保持体。
- 前記開口部が、前記接合膜の面内を分割した領域毎に異なる密度で設けられていることを特徴とする請求項2に記載の基板保持体。
- 前記接合膜に含まれるフィラーの量の分布が変化していることを特徴とする請求項1に記載の基板保持体。
- 上面に基板を載置するセラミックス焼結体からなる基体を作製する工程と、
前記基体と前記基板を冷却する冷却板との間に第1の接合膜を挟んでクランプする工程と、
前記基体表面の温度分布を測定する工程と、
前記基体及び前記冷却板と前記第1の接合膜とを分離する工程と、
前記温度分布を緩和するように前記第1の接合膜の熱伝導率の分布を変化させた第2の接合膜を作製する工程と、
前記基体と前記冷却板との間に前記第2の接合膜を挟んで前記基体及び前記冷却板のそれぞれと前記第2の接合膜とを接合する工程
とを含むことを特徴とする基板保持体の製造方法。 - 前記第2の接合膜を作製する工程は、前記温度分布に応じて前記第1の接合膜に開口部を開口することを特徴とする請求項5に記載の基板保持体の製造方法。
- 前記第2の接合膜を作製する工程は、
前記温度分布に応じて前記第1の接合膜の面内を複数の領域に分割し、
前記複数の領域毎に異なる密度で前記開口部を開口する
ことを特徴とする請求項6に記載の基板保持体の製造方法。 - 前記第2の接合膜を作製する工程は、前記温度分布に応じてフィラーの量の分布を変化させた前記第2の接合膜を作製することを特徴とする請求項5に記載の基板保持体の製造方法。
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