JP2009249721A - スパッタリングターゲット - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ターゲット材と、バッキングプレートと、前記ターゲット材と前記バッキングプレートとの間に設置された少なくとも1枚の緩衝板と、前記ターゲット材、バッキングプレートおよび緩衝板を一体的に接合するボンディング材とを有してなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
【選択図】図1
Description
このようなスパッタリング法において用いられるスパッタリングターゲットは、一般に、薄膜を形成しようとする材料からなるターゲット材と、導電性・熱伝導性に優れた材質からなるバッキングプレートとを、ボンディング材を介して接合することによって構成されている。大面積のターゲット材を用いる必要がある場合には、複数の分割ターゲット材を使用して、磁場を加えながらスパッタリングを行う方法が採られている。
前記スパッタリングターゲットの表面が略面一となるように、前記複数の分割ターゲット材が配置されており、
前記緩衝板の材料が前記バッキングプレートの材料と同じであり、
前記緩衝板の厚みが0.5〜10mmであり、
緩衝板が1枚の場合には、前記ターゲット材と前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みと、前記バッキングプレートと前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みとの合計が0.25〜4.5mmであり、緩衝板が2枚以上の場合には、前記ターゲット材と前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みと、前記バッキングプレートと前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みと、前記緩衝板と緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みとの合計が0.25〜4.5mmであり、
前記ターゲット材の材料が、粉末冶金により製造された材料であり、
前記ターゲット材の材料が、セラミックスであり、
前記バッキングプレートが、前記ターゲット材を冷却する冷却水が流通する冷却水流通路を備えている。
図1および図2は、本発明のスパッタリングターゲットの一具体例であるスパッタリングターゲット1を示し、図1はその上面図であり、図2は、図1のV−V線での断面図である。
バッキングプレート2は、厚肉部の中央部2cと、薄肉部の端部2aおよび端部2bとから形成され、中央部2cと端部2aおよび端部2bとの間に段部を有する断面略凸状の形状を有する。
、導電性・熱伝導性等を確保する観点から、銅、リン酸銅、チタン、アルミニウムおよびステンレス等、前記バッキングプレート2の材料と同じにすることが好ましい。
端部分割ターゲット材4a、端部分割ターゲット材4bおよび中央部分割ターゲット材4cは、図2に示されるように、ターゲット材4の表面、すなわちスパッタリングターゲット1の表面が略面一となるように配置されている。つまり、スパッタリングターゲット1の表面が略面一となるように、バッキングプレート2の端部2aおよび2bおよび中央部2c、緩衝板3aおよび3b、端部分割ターゲット材4aおよび4bおよび中央部分割ターゲット材4c、並びにこれらの間に形成されているボンディング材5の厚みが決定されている。このように、スパッタリングターゲット1の表面が略面一であると、分割部にゴミが溜まりにくく、またパーティクルが発生せず、アーキングが発生しないという点で好ましい。
ターゲット材4の材料としては、特に制限されることはないが、クロムおよびモリブデン等の金属を用いた粉末冶金により製造された材料、並びにITO(Indium-Tin-Oxide)
、SnO2系、ZnO系、ガラスおよびAl2O3等からなるセラミックス等を挙げること
ができる。
スパッタリングターゲット1は以下のように作用する。
ト材24bおよび中央部分割ターゲット材24cからなるターゲット材24と、端部22a、端部22bおよび中央部22cからなるバッキングプレート22と、ボンディング材25とから構成されている。バッキングプレート22には、冷却水流通路入口27および冷却水流通路出口28を有する冷却水流通路26が設けられている。また、スパッタリングターゲット21の表面が略面一になるように、各部材の厚みが決定されている。
いずれにしても、スパッタリング中に生じるターゲット材24の割れは、バッキングプレート22が上方向に反ることが大きな要因である。
127mm×381mm×4.8mmの大きさを有するITO製のターゲット材(T)、150mm×440mm×7mmの大きさを有するCu製のバッキングプレート(BP)、および127mm×381mm×0.3mmの大きさを有するCu製の緩衝板を、図4に示すように積層して、インジウム系のボンディング材で接合し、スパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層(BN)の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング(BN)層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板を使用しなかったこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板の厚みを0.5mmとしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板の厚みを1mmとしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板の厚みを2mmとしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板の厚みを4mmとしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板の厚みを6mmとしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
ターゲット材と緩衝板との間、および緩衝板とバッキングプレートとの間にCu製のワイヤーをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例3と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.10mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.15mmであった。
ターゲット材と緩衝板との間、および緩衝板とバッキングプレートとの間にCu製のワイヤーをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例3と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.25mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.25mmであった。
ターゲット材と緩衝板との間、および緩衝板とバッキングプレートとの間にCu製のワイヤーをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例3と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであっ
た。
ターゲット材と緩衝板との間、および緩衝板とバッキングプレートとの間にCu製のテープをスペーサーとして挟み、ボンディング材で接合した後、ターゲット材と緩衝板との間のスペーサーを除去したこと以外は実施例3と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.80mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
ターゲット材と緩衝板との間にCu製のワイヤーをスペーサーとして挟み、緩衝板とバッキングプレートとの間にCu製のテープをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例3と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは1.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは1.00mmであった。
緩衝板を使用せず、ターゲット材とバッキングプレートとの間に径の異なるCu製のワイヤーをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例8と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
緩衝板を使用せず、ターゲット材とバッキングプレートとの間に径の異なるCu製のワイヤーをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例9と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは1.00mmであった。
緩衝板を使用せず、ターゲット材とバッキングプレートとの間に厚さの異なるCu製のテープをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例10と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは2.00mmであった。
緩衝板の厚みを2mmとし、ターゲット材とバッキングプレートとの間に挟む緩衝板を2枚としたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであり、2枚の緩衝板間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
緩衝板の厚みを2mmとし、ターゲット材とバッキングプレートとの間に挟む緩衝板を3枚とし、ターゲット材と緩衝板との間、緩衝板とバッキングプレートとの間、および各緩衝板間にCu製のテープをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは1.00mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは1.00mmであり、2枚の緩衝板間のボンディング層の厚みは各0.50mmであった。
緩衝板の厚みを2mmとし、ターゲット材とバッキングプレートとの間に挟む緩衝板を3枚とし、ターゲット材と緩衝板との間、緩衝板とバッキングプレートとの間、および各緩衝板間にCu製のテープをスペーサーとして挟んだこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは1.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは1.50mmであり、2枚の緩衝板間のボンディング層の厚みは各0.75mmであった。
緩衝板をAl製にしたこと以外は実施例9と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
緩衝板をSUS製にしたこと以外は実施例9と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
ターゲット材をガラス製にしたこと以外は実施例9と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
緩衝板を使用せず、ターゲット材をガラス製にしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
ターゲット材をAl2O3製にしたこと以外は実施例9と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
緩衝板を使用せず、ターゲット材をAl2O3製にしたこと以外は実施例1と同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
ターゲット材をSnO2−Sb2O3製にしたこと以外は実施例9と同様にしてスパッタ
リングターゲットを作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
緩衝板を使用せず、ターゲット材をSnO2−Sb2O3製にしたこと以外は実施例1と
同様にしてスパッタリングターゲットを作成した。ターゲット材とバッキングプレートと
の間のボンディング層の厚みは0.01mmであった。
冷却水流通間が設けられているスパッタリング装置(ULVAC製インライン式スパッタリング装置SDPシリーズ用)を用いて、図6に示すように、6枚のITO製分割ターゲット材44(両端の分割ターゲット材:300mm×100mm×9mm、両端以外の分割ターゲット材:300m×470mm×7mm)をCu製のバッキングプレート42上に並べ、両端の分割ターゲット材の下に、ワイヤーをスペーサーとして挟んでCu製の緩衝板43(300mm×100mm×3mm)を積層し、インジウム系のボンディング材で接合して、表面が略面一のスパッタリングターゲット(スパッタリングターゲット41A)を作成した。ターゲット材と緩衝板との間のボンディング層の厚みは0.50mmであり、緩衝板とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.05mmであった。
図7に示すように、緩衝板を使用しなかったこと以外は実施例20と同様にしてスパッタリングターゲット(スパッタリングターゲット41B)を作成した。ターゲット材とバッキングプレートとの間のボンディング層の厚みは0.50mmであった。
実施例1〜19および比較例1〜7で作成したスパッタリングターゲットに対して、以下の方法で耐圧性の試験を行った。図5に示すように、スパッタリングターゲットのバッキングプレート32をジグ10にネジで固定し、バッキングプレートの裏面全体に等圧がかかるようにした。空間11中に窒素ガスを導入して、バッキングプレート32に圧力を加えていき、ターゲット材34に割れが生じたときの圧力を測定した。実施例1〜11および比較例1〜4についての結果を表1に、実施例12〜19および比較例5〜7についての結果を表2に示した。
を使用すると、5.0Kgf/cm2以上の圧力に耐えられ、2.0mmの緩衝板を使用
すると、5.5Kgf/cm2以上の圧力に耐えられることがわかった。
実施例9および15〜16の結果より、異なる材料の緩衝板を使用しても、同様の効果が得られることがわかった。
実施例20で作成したスパッタリングターゲット(スパッタリングターゲット41A)および比較例8で作成したスパッタリングターゲット(スパッタリングターゲット41B)に対して、以下の方法で反り試験を行った。図8に示したように、台50の上に枕木51を置き、枕木51がスパッタリングターゲット41の中央部下に位置するように、スパッタリングターゲット41を枕木51の上に置き、スパッタリングターゲット41の両端においてネジ52を均等に締め付けて、スパッタリングターゲット41を台50に固定した。さらに2つのネジ52を均等に締め付けることにより、スパッタリングターゲット41を5mm反らせ、そのときに割れが発生したか否かを観察した。その結果、スパッタリングターゲット41Aには割れが発生せず、スパッタリングターゲット41Bには、端部分割ターゲット材において割れが発生した。
2 バッキングプレート
3a、3b 緩衝板
4 ターゲット材
4a、4b 端部分割ターゲット材
4c 中央部分割ターゲット材
5 ボンディング材
6 冷却水流通路
7 冷却水流通路入口
8 冷却水流通路出口
21 スパッタリングターゲット
22 バッキングプレート
24 ターゲット材
24a、24b 端部分割ターゲット材
24c 中央部分割ターゲット材
25 ボンディング材
26 冷却水流通路
27 冷却水流通路入口
28 冷却水流通路出口
32 バッキングプレート
33 緩衝板
34 ターゲット材
35 ボンディング材
41 スパッタリングターゲット
42 バッキングプレート
43 緩衝板
44 分割ターゲット材
Claims (9)
- ターゲット材と、バッキングプレートと、前記ターゲット材と前記バッキングプレートとの間に設置された少なくとも1枚の緩衝板と、前記ターゲット材、バッキングプレートおよび緩衝板を一体的に接合するボンディング材とを有してなることを特徴とするスパッタリングターゲット。
- 前記ターゲット材が、複数の分割ターゲット材から構成され、該分割ターゲット材の少なくとも1枚の下に、該分割ターゲット材と略同一の平面形状を有する少なくとも1枚の前記緩衝板が積層されている請求項1に記載のスパッタリングターゲット。
- 前記スパッタリングターゲットの表面が略面一となるように、前記複数の分割ターゲット材が配置されている請求項2に記載のスパッタリングターゲット。
- 前記緩衝板の材料が前記バッキングプレートの材料と同じである請求項1〜3のいずれか1項に記載のスパッタリングターゲット。
- 前記緩衝板の厚みが0.5〜10mmである請求項1〜4のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- 緩衝板が1枚の場合には、前記ターゲット材と前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みと、前記バッキングプレートと前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みとの合計が0.25〜4.5mmであり、
緩衝板が2枚以上の場合には、前記ターゲット材と前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みと、前記バッキングプレートと前記緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みと、前記緩衝板と緩衝板との間に介在する前記ボンディング材によって形成されるボンディング層の厚みとの合計が0.25〜4.5mmである
請求項1〜5のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。 - 前記ターゲット材の材料が、粉末冶金により製造された材料である請求項1〜6のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- 前記ターゲット材の材料が、セラミックスである請求項1〜6のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
- 前記バッキングプレートが、前記ターゲット材を冷却する冷却水が流通する冷却水流通路を備えている請求項1〜8のいずれかに記載のスパッタリングターゲット。
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