JP2009248515A - 印刷用ゴムブランケットおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。
【解決手段】細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケットである。
【選択図】図１

Description

この発明は、印刷用ゴムブランケットに関し、特に液晶ディスプレイ（以下ＬＣＤという。）用のカラーフィルター（以下ＣＦという。）パターン、プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰという。）用の電極パターンなどの細線パターンを印刷する際に用いるゴムブランケットおよびその製造方法に関するものである。

近年、オフセット印刷法を用いて細線のパターニングを実施することが盛んに検討されている。即ち、オフセット印刷法を用いてガラス基板上にＬＣＤのＣＦパターンを印刷することや、ＰＤＰ用の電極パターンを印刷することや、各種樹脂フイルムに様々な回路パターンを印刷することなどが盛んに検討されている。この印刷法が検討されている理由は、工程が簡素化されるとともに大型設備を必要としないことからコスト的に有利なことがあげられている。しかしこの印刷法による細線パターニングでは、画線形状など性能レベルを従来法と比較して落とすことなく低コスト化できることが求められている。

オフセット印刷は、最終的な被印刷体へのパターン転写にゴムブランケットが使用されるものである。ゴムブランケットは、基布とゴムとの複合体からなる基材の上に、有機ゴム材料が表面ゴムとして配置されその表面が研磨されているもので、新聞印刷や商業印刷に以前から幅広く使用されてきた。しかし、細線パターニングのためには従来のゴムブランケットではその表面が粗く、インキ転写率がよくないなどその適用が困難な面が多く、ゴムブランケットの表面性状改質やゴムブランケットを構成する材料の開発が進められている。

細線パターニングを実施するためには、その被印刷体の表面粗さに出来るだけ合致するようにした表面粗さを持つゴムブランケットとすることが必要である。また、表面ゴムとしてはシリコーンゴムが離型性が優れているので特に好ましく、インキ転写率をその他の有機ゴムと比べて非常に高くすることができる。

また、細線パターニングの実施に際してはゴムブランケットの表面粗さが非常に重要である。ゴムブランケットの表面粗さが大きい場合には画線の乱れが生じることは勿論、ゴムブランケットとインキ材との密着力が強まりピンホールの発生といった問題も生じる。

一般に、これまで細線パターニングではゴムブランケットの表面粗さは加工できる範囲で出来るだけ小さい方が好ましいとされているが、表面粗さを小さく制御することは技術的に難しく、また表面粗さを小さくしようとすればそれに伴ってゴムブランケットの製造に必要な他の各種の部材は高価となり製造プロセスは複雑化するなど、コストの増大を招くことになる。またゴムブランケットの表面粗さが小さ過ぎる場合には、印刷条件によっては印刷版や被印刷体とゴムブランケットとの密着力が強まって、逆に転写率を低下させたり、或いは印刷品質を低下させる不具合を引き起こすことのあることも知られている。

これまでも細線パターニングに使用されるゴムブランケットの表面粗さ及びその製造方法については様々な提案がなされている。例えば、ＰＤＰの電極基板印刷のため、算術平均粗さＲａが０．１ｎｍ以上２０ｎｍ未満、十点平均粗さＲｚが０．１ｎｍ以上１００ｎｍ未満の表面ゴムを持つゴムブランケットを使用することが提案されている（例えば、特許文献１。）。また、高分子エレクトロルミネッセンス材料の印刷のため、十点平均粗さＲｚが２μｍ以下、算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ以下の表面ゴム層を持つゴムブランケットが好ましいとされている（例えば、特許文献２。）。また、金型内に基材と平滑部材を平行に配置しこれにゴム原料を注入して硬化させ、平滑部を剥がすことによって表面ゴムの成形を行うゴムブランケットの製造方法が提案されている（例えば、特許文献３。）。また、水平架台上に基材を密着させ、その基材上に液状のゴム原料を流し込みセルフレベリングさせそのまま硬化させることにより表面ゴム成形を行うゴムブランケットの製造方法が提案されている（例えば、特許文献４。）。

特開２００５−１９０９６９号公報（請求項１） 特開２００５−３１０４１１号公報（請求項１） 特開平８−１１２９８１号公報（請求項１） 特開２００３−１３６８５６号公報（請求項１）

しかしながら、特許文献１の技術は印刷用ブランケット表面性状を、表面の算術平均粗さＲａが０．１〜２０ｎｍ、十点平均粗さＲｚが０．１〜１００ｎｍと規定しているが、この印刷用ブランケットを使用しても、被印刷体の表面性状によってはさらに平滑さが求められる場合、この範囲の表面性状を持つブランケットでも平滑さは十分でない場合がある一方で、被印刷体によってはこれより表面粗さの大きいブランケットが必要となる場合もある。

同じように、特許文献２の技術においても被印刷体とゴムブランケットの表面性状との関係を何ら規定するものでないので、この場合も被印刷体の表面性状にとって必要かつ十分な表面性状の平滑さを有する表面性状となっているものではない。

特許文献３の技術は金型内に基材とこれに離間して対向するようにして配置した表面粗さ１μｍ以下の離型可能シートの間に表面ゴム層の材料を注入して成形し、その後この表面シートを剥がすものであるが、このものも前記先行技術と同様に被印刷体とゴムブランケットの表面性状との関係を何ら規定するものでないので、この場合も被印刷体の表面性状との関係で必要かつ十分な表面性状となっているものではない。また、特許文献４の技術は液状ゴムをセルフレベリングさせて硬化させるものであるが、この場合も被印刷体の表面性状と関係した表面性状となっているものではない。

以上のように従来の技術においては被印刷体の表面粗さとは関連無くゴムブランケットの表面粗さを規定しており、またその製造方法においても被印刷体の表面粗さとの関係を論じるものではない。実用上、被印刷体はその用途によって様々な表面粗さを持っており、ゴムブランケットもそれらに応じた最適な表面粗さを持つ必要があったが、従来被印刷体とゴムブランケットの表面粗さの関係及びそのゴムブランケットの製造方法は知られていないのが現状であった。

この発明は、細線パターニング用のゴムブランケットにおいて、ゴムブランケットの表面ゴムの表面粗さが、被印刷体の表面の表面粗さに対して所定の範囲にあることにより目的とするパターンの印刷が出来ることを見出したものであり、更に所定の表面粗さを持つゴムブランケットを製造する方法を明らかにしたものである。

この発明は、細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケット（請求項１）、細線パターニングに使用されるゴムブランケットの製造方法であって、ゴムブランケット表面ゴム層の形成に際して、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対して０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の範囲の算術平均粗さを持つ部材に前記ゴムブランケット表面ゴムの原料を接触させて硬化させ、その後部材から表面ゴムを剥がしてゴムブランケット表面ゴムを形成する印刷用ゴムブランケットの製造方法（請求項２）および表面ゴム層の原料がシリコーンゴムである請求項１に記載の印刷用ゴムブランケット（請求項３）である。

この発明によれば、細線パターニングに必要なゴムブランケットの表面の算術平均粗さを、被印刷体に対して最適化させることにより、良好なパターンを印刷することができる。さらに、そのブランケットの製造は、被印刷体そのものもしくは所定の範囲の表面粗さを持つ部材の表面形状をゴムブランケットのゴム表面に転写するもので、開発費用を低く抑えることができ、且つ安価にゴムブランケットを製造することができる。

この発明のゴムブランケットは、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の算術平均粗さを持つゴムブランケットである。発明者は、細線パターニングに用いるゴムブランケットの表面粗さを、被印刷体との関連で最適化させることにより画線形状が良好になることを見出したものである。その際のゴムブランケットの表面粗さは、被印刷体の表面粗さと同一に限るものではなく、被印刷体の表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し、０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の範囲の算術平均粗さＲａを持つゴムブランケットを使用することが好ましい。

被印刷体の表面の算術平均粗さＲａに対し、０．０５×Ｒａ（ｐ）未満では印刷条件によって転写不良（部分的な画線乱れ）を招くことがある。また、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し、４．５×Ｒａ（ｐ）の値を超えた大きな算術平均粗さを有するゴムブランケットを用いた場合、表面ゴムの表面粗さが大きく画線が乱れる。また、インキとゴムブランケットとの密着力が強まりピンホール等の欠陥を生ずることがある。発明者が実験を重ねたところ、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し、０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の算術平均粗さを持つゴムブランケットを使用して前記被印刷体に印刷した場合、画線形状を良好にすることができ、かつピンホール等の欠陥を無くすことができる。

また、そのゴムブランケットを製造する方法として、被印刷体の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対して０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の範囲の算術平均粗さを持つ部材に、ゴムブランケット表面ゴムの原料ゴムを接触させたまま硬化させ、表面ゴムが硬化した後にこれを引き剥がすことにより前記表面ゴムの表面粗さが得られることを見出したものである。

また、その表面粗さを得るブランケットの製造方法として、被印刷体の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対して０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の算術平均粗さを持つ部材（型）に、ゴムブランケットの表面ゴムの原料を接触させたまま硬化させ、その後これを引き剥がすことにより表面ゴムの成形を行った場合、そのゴムブランケットの算術平均粗さが０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）となることが明らかとなった。

前記ゴムブランケット及びゴムブランケット製造用の部材（型）については、特に被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し、０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の算術平均粗さを持つ部材を使用することが好ましく、より好ましくは０．２×Ｒａ（ｐ）から２×Ｒａ（ｐ）の値の算術平均粗さを持つ部材である。

被印刷体の表面粗さをゴムブランケットの表面ゴムに転写させる方法は、水平架台上に被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の表面粗さを持つ部材（型材）を水平に密着させ、その上に液状のゴム原料を種々の方法でコーティングし、硬化させ、その後に接着剤をゴム表面に塗布しブランケット基材を貼り合わせ、これを型材から剥がすことにより表面形状を転写してゴムブランケットを製造する方法がある。この他にも、金型内にブランケット基材と被印刷体（型材）とを平行に配置し、そのブランケット基材と型材間に液状ゴム原料を注入し、そのまま硬化させ型材から剥がすことによりゴムブランケットを製造することもできる。被印刷体（型材）の種類の如何に拘らず製造が可能という点では金型を使わずに水平架台を用いる前者の方法が好ましい。

図１はこの発明の一例になるゴムブランケットで、１１の表面ゴムとその下層の基材１２からなる。基材１２は、表面ゴム１１直下のポリエチレンテレフタレートフイルム（以下ＰＥＴフイルムという。）１２１と圧縮層１２２とその下の最下層のポリエステル布１２３からなる。基材は、綿布、ポリエステル布、ナイロン布など公知な織布、またはＰＥＴフイルム、ポリエチレンナフタレートフイルム（以下ＰＥＮフイルムという。）、ポリイミドフイルムなどの各種プラスチックフイルム単体、或いはこれらの織布やプラスチックフイルムおよびゴム材などの複合材からなる。好ましくは、この基材部分の層中に独立もしくは連続気泡を含む圧縮層を配置することが好ましい。この圧縮層を基材中に導入することにより、印刷時のバルジの発生を防ぎ印刷物の寸法精度の向上を期待することができる。

表面ゴム層は、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、エチレンプロピレンゴム、天然ゴム、シリコーンゴムなど既存のゴム原料を使用することができる。中でもシリコーンゴムはゴム表面のインキ転写率が優れている。このシリコーンゴムは被印刷体（型）の表面形状を転写加工しやすい液状原料を使用することが好ましい。

表面ゴム層の厚さとしては０.1から1mmとすることが好ましく、より好ましくは０.３から０.８mmである。表面ゴム層の厚さが０.1mmより薄い場合には下層の基材の影響が表面ゴムにも反映され、表面の平坦性に問題を生じる。表面ゴムの厚さが１mmよりも厚い場合にはゴムブランケット使用時の表面ゴム層への溶剤膨潤による表面ゴム層の体積変化が大きくなり、結果的には印刷精度の悪化という問題を生じる。

被印刷体は特に制限するものではない。ガラス基板はＬＣＤのＣＦ用またはＰＤＰの電極用などに使用され、細線パターニングを施す用途として最も広く検討されている。また、各種プラスチックフィルムも回路パターニングの対象となっており、ＰＥＴフイルム、ＰＥＮフイルム、ポリイミドフイルムなど既存のフイルム単体の他に、これらプラスチックフイルム上にアクリル樹脂やポリエステル樹脂をコーティングし表面を平滑にしたもの或いはインキ密着性を高めたものなどが用いられる。

ブランケット製造時に使用される型材としては、被印刷体そのものが望ましいが、被印刷体そのものでなくとも、被印刷体と同等の表面粗さを備えたものを適用することができる。これらの型材はゴムブランケットの製造に使用する場合に、その使用可能回数を増やすために離型処理をほどこすことが好ましい。離型処理に用いられる材質としてはフッ素含有材料、珪素含有材料の液状原料である材料などが使用され、ディッピング、ワイピング、スプレーなどの方法により型材上に均一に塗布される。この型材を使用して上記のようにゴムブランケットの表面ゴムの形成を行うことにより、低コストで容易に被印刷体に要求される表面粗さを備えたゴムブランケットを製造することができる。

図２は他の実施例になるゴムブランケットで、２１は表面ゴムＴＳＥ３４５３Ｔ（モメンテイブパフォーマンスマテリアルズジャパン合同会社製品、２液型シリコーンゴム）で、厚さは０．４mmである。基材２２は０．５mmの軟質ポリウレタンフォーム２２２に、０．１mmのＰＥＴフイルムＳ−１０（東レ株式会社製品）２２１を接着剤で接着したものである。

このブランケットを使用した凸版反転印刷機の概念を図３に示す。図３（Ａ）に示すように、ゴムブランケット３１はブランケットシリンダ３２の周囲に装着されている。インキタンク３６から供給されたインキはスリットダイ３３よりゴムブランケット３１上に直接供給される。ゴムブランケット３１上にはインキのベタ膜が形成される。印刷版３４により非画像部のインキを取除いた後にゴムブランケット３１上に残る必要な画線パターンを被印刷体３５に転写する。

実施例１
被印刷体はＬＣＤ用ＣＦグレードのガラス基板を用いた。このガラス基板の算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このガラス基板を水平架台上に密着させ、その上に表面ゴム原料（液状シリコーンゴム）を流し込みそのまま硬化させ、硬化させたゴム上に接着剤を塗布し、その上にゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にガラス基板からゴムを剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のガラス基板に所定の画線を印刷した。インキは銀ペーストを用い、画線パターンは線幅を印刷版設計値２５μｍのストライプパターンとして印刷物の画線形状の良否を判断した。また、画線内におけるピンホール欠陥の発生の有無を調べた。その結果、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例２
被印刷体はＬＣＤ用ＣＦグレードのガラス基板を用いた。ガラス基板の算術平均粗さは０．５ｎｍであった。一方、表面にアクリル樹脂をコーティングして平滑性を高めたＰＥＴフイルムを準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．４ｎｍであった。

実施例１と同じようにして、上記ＰＥＴフィルムを水平架台に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込んだ。その上にゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは２．０ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のガラス基板に実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例３
被印刷体にポリイミドフイルムを用いた。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであつた。一方、ブランケット成形用の型材としてＬＣＤ用のＣＦグレードのガラス基板を準備した。このガラス基板の算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このガラス基板を所定の金型内にブランケット基材と平行に配置し、基材とガラス基板の間に表面ゴム原料を注入した。ゴムが硬化した後に金型から基材と一体になったガラス基板を取り出し、基材からガラス基板を剥がして印刷用ゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．３ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のポリイミドフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例４
被印刷体にポリイミドフイルムを用いた。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであつた。一方、表面の平滑性を高めるためにポリエステル樹脂を表面にコーティングしたＰＥＴフイルムを型材として準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．６ｎｍであった。実施例１と同様にしてこのＰＥＴフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込み、それにゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がして印刷用ゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．９ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記ポリイミドフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例５
被印刷体にポリイミドフイルムを用いた。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであつた。このポリイミドフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込み、ゴムが硬化した後に接着剤を塗布し、基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にポリイミドフイルムを剥がして印刷用ゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは６．５ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記ポリイミドフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例６
被印刷体にポリイミドフイルムを用いた。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであつた。一方、超高透明のグレードＰＥＴフイルムを型材として準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。実施例１と同様にしてこのＰＥＴフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込み、それにゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がして印刷用ゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは２０．４ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記ポリイミドフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例７
被印刷体として超高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この超高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。一方、型材として表面にアクリル樹脂をコーティングしたＰＥＴフイルムを準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．４ｎｍであった。実施例１と同様にしてこの後者のアクリル樹脂コーティングＰＥＴフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込み、ＰＥＴフイルムに接触させたままゴムを硬化させ、ゴムが硬化した後に接着剤を塗布し、ブランケットの基材を貼り合わせ、アクリル樹脂コーティングＰＥＴフイルムを剥がしゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．７ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様にして前記超高透明グレードのＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例８
被印刷体として超高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この超高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。一方、型材として高透明グレードのＰＥＴフイルムを準備した。後者の高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを実施例３と同様に金型内にブランケット基材と平行配置し、基材とＰＥＴフイルム間にブランケット表面ゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ＰＥＴフイルムを剥がしゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは９．１ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様に前記超高透明グレードのＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例９
被印刷体として超高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この超高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。一方、型材として透明グレードのＰＥＴフイルムを準備した。この後者ＰＥＴフイルムの算術平均粗さは４０．８ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを実施例３と同様に金型内にブランケット基材と平行配置し、基材とＰＥＴフイルム間にブランケット表面ゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ＰＥＴフイルムを剥がしゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは６０．９ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様に前記超高透明グレードのＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例１０
被印刷体として高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。一方、型材としてポリエステル樹脂を表面にコーティングしたＰＥＴフイルムを準備した。この後者のポリエステル樹脂コーティングＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．６ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを実施例３と同様に金型内にブランケット基材と平行配置し、基材とＰＥＴフイルム間にブランケット表面ゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ＰＥＴフイルムを剥がしゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．８ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様に前記高透明グレードのＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例１１
被印刷体として高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。一方、超高透明グレードのＰＥＴフイルムを型材として準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。実施例１と同様にしてこの超高透明グレードのＰＥＴフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴムの原料を注入し、それにゴムブランケット基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がして印刷用用のゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは２０．４ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記高透明グレードのＰＥＴフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

実施例１２
被印刷体として高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。一方、透明グレードのＰＥＴフイルムを型材として準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは４５．０ｎｍであった。実施例１と同様にしてこのＰＥＴフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴムの原料を流し込み、それにゴムブランケット基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がして印刷用のゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは６７．３ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記高透明グレードのＰＥＴフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、良好な画線形状が得られピンホールなどの発生はなかった。

比較例１
被印刷体はＬＣＤ用ＣＦグレードのガラス基板を用いた。ガラス基板の表面粗さは０．５ｎｍとした。一方、表面にポリエステル樹脂をコーティングしたＰＥＴフイルムを準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．６ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを水平架台に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込んだ。その上にゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは２．４ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のガラス基板に所定の画線を印刷したところ、全体的に画線の乱れが確認され、また一部ピンホールの発生も確認された。

比較例２
被印刷体はアクリル樹脂を表面にコーティングしたＰＥＴフイルムを用いた。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．４ｎｍであった。一方、ポリイミドフイルムを型材として準備した。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであった。実施例１と同様にしてこのＰＥＴフイルムを水平架台に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込み、それにゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは６．５ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のアクリル樹脂をコーティングしたＰＥＴフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、印刷全面に画線の乱れが確認された。ピンホールなどの発生はなかった。

比較例３
被印刷体はアクリル樹脂を表面にコーティングしたＰＥＴフイルムを用いた。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．４ｎｍであった。一方、超高透明グレードのＰＥＴフイルムを型材として準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。実施例１と同様にしてこの超高透明グレードのＰＥＴフイルムを水平架台に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込み、それにゴムブランケットの基材を貼り合わせた。ゴムが硬化した後にＰＥＴフイルムを剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは１０．４ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のアクリル樹脂を表面にコーティングしたＰＥＴフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、全体的に画線の乱れが確認された。ピンホールの発生も見られた。

比較例４
被印刷体としてポリイミドフイルムを用意した。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであった。一方、表面を精密研磨したガラス基板を型材として用意した。このガラス基板の算術平均粗さは０．４ｎｍであった。このガラス基板を水平架台に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込んだ。その上にゴムブランケットの基材を貼り合わせ、ゴムが硬化した後にこれをガラス基板から剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．２ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記のポリイミドフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、ピンホールの発生は無かったが、局所的に画線の乱れが確認された。

比較例５
被印刷体としてポリイミドフイルムを準備した。このポリイミドフイルムの算術平均粗さは４．８ｎｍであった。一方、高透明グレードのＰＥＴフイルムを型材として準備した。このＰＥＴフイルムの表面粗さは１５．２ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを実施例３と同様に金型内にブランケット基材と平行に配置し、基材とＰＥＴフイルム間にブランケット表面ゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ＰＥＴフイルムを剥がし、ゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは２２．２ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様に前記ポリイミドフイルム上に所定の画線を印刷したところ、ピンホールの発生は無かったが、画線の乱れが確認された。

比較例６
被印刷体として超高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この超高透明グレードのＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。一方、型材としてガラス基板を準備した。このガラス基板の算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このガラス基板を実施例３と同様にして金型内にブランケット基材と平行に配置し、基材とガラス基板間にブランケット表面ゴムのゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ガラス基板より表面ゴムを剥がし、ゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様に前記超高透明グレードのＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、ピンホールの発生は確認されなかったが、部分的に画線の乱れが確認された。

比較例７
被印刷体として超高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。この超高透明グレードＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１３．８ｎｍであった。一方、型材として汎用のＰＰフイルムを準備した。このＰＰフイルムの算術平均粗さは４５．０ｎｍであった。このＰＰフイルムを実施例３と同様にして金型内にブランケット基材と平行に配置し、基材とＰＰフイルム間にブランケット表面ゴムのゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ＰＰフイルムを剥がしゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは６７．３ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて実施例１と同様に前記超高透明グレードＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、印刷全面に画線の乱れが確認され、ピンホールの発生も見られた。

比較例８
被印刷体として高透明グレードのＰＥＴフイルムを用いた。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。一方、型材としてガラス基板を準備した。このガラス基板の算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このガラス基板を水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケットの基材を貼り合わせ、ゴムが硬化した後にこれをガラス基板から剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．５ｎｍであった。このゴムブランケットを用いて前記の高透明グレードのＰＥＴフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、全体的な画線の乱れが確認されたがピンホールの発生は確認されなかった。

比較例９
被印刷体として高透明グレードのＰＥＴフイルムを準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。一方、型材としてアクリル樹脂表面にコーティングしたＰＥＴフイルムを準備した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１．４ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを実施例３と同様にして金型内にブランケット基材と平行配置し、基材とＰＥＴフイルム間にブランケット表面ゴムの原料を注入し、硬化させた後に金型より取り出し、ＰＥＴフイルムを剥がしゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは０．７ｎｍであった。このブランケットを用いて実施例１と同様に前記高透明グレードのＰＥＴフイルム上に所定の画線を印刷したところ、ピンホールの発生はなかったが、局所的に画線の乱れが確認された。

比較例１０
被印刷体として高透明グレードのＰＥＴフイルムを用意した。このＰＥＴフイルムの算術平均粗さは１５．２ｎｍであった。一方、半透明グレードのＰＥＴフイルムを型材として用意した。この半透明ＰＥＴフイルムの算術平均粗さは４８．０ｎｍであった。このＰＥＴフイルムを水平架台上に密着させ、その上にゴムブランケット表面ゴム原料を流し込んだ。その上にゴムブランケットの基材を貼り合わせ、ゴムが硬化した後にこれをＰＥＴフイルムから剥がし、表面にゴム層を有するゴムブランケットを得た。このゴムブランケットの算術平均粗さは６９．６ｎｍであった。このブランケットを用いて前記の高透明グレードＰＥＴフイルムに実施例１と同様にして所定の画線を印刷したところ、全体的な画線の乱れと、局所的なピンホールの発生が確認された。これらの実施例および比較例の結果を表１に示した。

以上のように、被印刷体の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し、０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の表面粗さを有する部材（型）に接して硬化させた表面ゴムを有する実施例のゴムブランケットはいずれも良好な細線パターニングを形成することが可能である。これに対してこの範囲を外れた型で成形された表面ゴムを有する比較例のゴムブランケットを用いた細線パターニングでは、良好な画線を形成することが出来ないか、或いはピンホールが発生して不良品となることがわかる。

図１はこの発明のゴムブランケットの断面図。 図２はこの発明の他の実施例になるゴムブランケットの断面図。 図３はこの発明のゴムブランケットを用いて被印刷体に画線パターンを印刷する状態を概念的に示した説明図。

符号の説明

１１，２１‥表面ゴム、１２，２２‥基材層、３１‥ブランケット、３２‥ブランケットシリンダ、３３‥スリットダイ、３４‥印刷版。

Claims (3)

1. 細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の算術平均粗さを持つ印刷用ゴムブランケット。
2. 細線パターニングに使用されるゴムブランケットの製造方法であって、ゴムブランケット表面ゴムの形成に際して、被印刷体の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対して０．１×Ｒａ（ｐ）から３×Ｒａ（ｐ）の範囲の算術平均粗さを持つ部材に、前記ゴムブランケット表面のゴム原料を接触させて硬化させ、その後表面ゴムが硬化した後に前記部材から表面ゴムを剥がしてゴムブランケット表面ゴムを形成する印刷用ゴムブランケットの製造方法。
3. 表面ゴム層の原料がシリコーンゴムである請求項１に記載の印刷用ゴムブランケット。

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