JP2009247501A - 履き物、その内部構造体及び姿勢矯正方法 - Google Patents

Abstract

【課題】立ち姿勢の矯正を容易に行うことができる履き物、その内部構造体及び履き物の製造方法を提供する。
【解決手段】靴２０の内部構造体１は、足の拇指球に対応する拇指球位置、小指球に対応する小指球位置、踵骨の内側の位置である踵内側位置、踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうち３位置において、各々対応する位置の足骨を各別に持ち上げる足骨支持部を備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、履き物、その内部構造体及び姿勢矯正方法に関する。

人体は、利き腕、利き足による左右の違いや生活習慣に起因して、前後左右の筋肉の緊張量に差が生じている。筋肉の緊張量に差があると、骨格が前後左右に歪み、バランスが崩れてしまう。こうした骨格の歪みが生じると、姿勢が悪くなり、身体の各部位に作用する荷重が一方向に偏ってしまい、肩こり、頭痛、視力の低下等の症状が生じることが知られている。

これに対し、近年、骨格の歪みを矯正したり、体重を支える各支点を結ぶ足のアーチを回復させるインソール等が開発されている。例えば、特許文献１には、縦方向に緩やかに湾曲する突部を備えた靴の中敷きが記載されている。この突部は、足のアーチの頂点となる舟状骨や立方骨等を支持することで、足のアーチ構造の回復を図っている。
特開平９−２２４７０３号公報

ところで、人体の骨格バランスの崩れ方及びその度合いには、個人差がある。特許文献１に記載された中敷きでは、人それぞれ異なる骨格バランスの崩れに対応することができない。また、使用者毎に、姿勢を矯正する方向や、矯正を行う度合いを調整した履き物をそれぞれ製造する場合にあっては、一足の製造工程に手間が掛かり、コストも増大が避けられない。

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、立ち姿勢の矯正を容易に行うことができる履き物、その内部構造体及び姿勢矯正方法を提供することにある。

請求項１に記載の発明は、足の拇指球の位置である拇指球位置、及び小指球の位置である小指球位置、及び踵の内側の位置である踵内側位置、及び踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうちの３位置において、各々対応する位置の足骨を各別に持ち上げる足骨支持部を備えることを要旨とする。

請求項１に記載の発明によれば、履き物は、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置の４位置のうち、３位置において、各々対応する位置の足骨を持ち上げる足骨支持部を備える。このため、骨格の歪みの要因となる位置に足骨支持部が設けられた履き物を履くことによって、重心位置が適切な位置となって前後左右のバランスが整えられ、使用者の立ち姿勢を理想的な姿勢にすることができる。

請求項２に記載の発明は、前記各足骨支持部の各々は、その高さが各別に設定されていることを要旨とする。
請求項２に記載の発明によれば、足骨突き上げ部は、その高さが各別に設定されているので、人それぞれ異なる骨格バランスの崩れ方の度合いに対応することができる。

請求項３に記載の発明は、請求項１又は２に記載の履き物において、前記足骨支持部が設けられる３位置は、前記拇指球位置及び前記小指球位置のいずれかと、前記踵内側位置と、前記踵外側位置であることを要旨とする。

請求項３に記載の発明によれば、踵内側位置及び踵外側位置と、拇指球位置及び小指球位置のいずれかに足骨支持部が設けられるので、骨格の前後左右のバランスを理想的なバランスに整えることができる。

請求項４に記載の発明は、足の拇指球の位置である拇指球位置、及び小指球の位置である小指球位置、及び踵の内側の位置である踵内側位置、及び踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうちの３位置において、各々対応する位置の足骨を各別に持ち上げる足骨支持部を備えることを要旨とする。

請求項４に記載の発明によれば、内部構造体は、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置の４位置のうち、３位置において、各々対応する位置の足骨を持ち上げる足骨支持部を備える。このため、骨格の歪みの要因となる位置に足骨支持部が設けられた内部構造体を履き物に設け、その履き物を履いた際に、重心位置が適切な位置となって前後左右のバランスが整えられ、使用者の立ち姿勢を理想的な姿勢にすることができる。

請求項５に記載の発明は、請求項４に記載の履き物の内部構造体において、前記各足骨支持部の各々は、その高さが各別に設定されていることを要旨とする。
請求項５に記載の発明によれば、足骨突き上げ部は、その高さが各別に設定されているので、人それぞれ異なる骨格バランスの崩れ方の度合いに対応することができる。

請求項６に記載の発明は、請求項４又は５に記載の内部構造体において、前記足骨支持部が設けられる３位置は、前記拇指球位置及び前記小指球位置のいずれかと、前記踵内側位置と、前記踵外側位置であることを要旨とする。

請求項６に記載の発明によれば、内部構造体には、踵内側位置及び踵外側位置と、拇指球位置及び小指球位置のいずれかに足骨支持部が設けられるので、骨格の前後左右のバランスを理想的なバランスに整えることができる。

請求項７に記載の発明は、使用者の立ち姿勢を矯正する姿勢矯正方法であって、足の拇指球の位置である拇指球位置、及び小指球の位置である小指球位置、及び踵の内側の位置である踵内側位置、及び踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうちの３位置において、各々対応する位置の足骨を持ち上げる足骨支持部を備える履き物もしくはその内部構造体をそれら足骨支持部の配置及び高さの違いに応じて複数用意し、それら足骨支持部の配置及び高さが異なる履き物もしくはその内部構造体を右足及び左足にそれぞれ選択的に適用することによって使用者の立ち姿勢を矯正することを要旨とする。

請求項７に記載の発明によれば、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置にそれぞれ対応して、対応する位置の足骨を突き上げる足骨支持部の配置及び高さを変更した履き物もしくは内部構造体を複数用意する。そして、履き物もしくは内部構造体を右足及び左足にそれぞれ選択的に適用する。このため、使用者の骨格の歪みの要因となる位置に足骨突き上げ部が設けられた履き物又は内部構造体を選択することによって、骨格の前後左右のバランスを理想的なバランスに整えることができる。

本発明によれば、使用者の骨格バランスの崩れに応じて姿勢の矯正を容易に行うことができる。

以下、本発明を具体化した一実施形態を図１〜図９に従って説明する。図１は、履き物
としての靴２０の内部構造体１を示す分解斜視図であって、右足用の内部構造体１を示している。

靴２０の内部構造体１は、靴２０の内側に配置され、使用者の足を足裏側から支持する部材である。図１に示すように、内部構造体１は、使用者の足裏面に当接する中敷き３と、中敷き３の下方に配置された中底２とを有している。また、中底２と中敷き３との間には、足骨を支持する各支持部材４がそれぞれ設けられ、各支持部材４は、足の拇指球、小指球、踵内側及び踵外側の４位置のうち３位置の足骨を支持する足骨支持部を構成する。これらの支持部材４の配置を変更することによって、右足及び左足のそれぞれに２つの配置パターンが存在し、さらに支持部材４の厚さを変更することによって、右足及び左足のそれぞれに４つのパターンが存在する。

図２（ａ）及び図２（ｂ）に示す内部構造体１は、右足用の内部構造体１である。右足における支持部材４の配置パターンには、配置パターンＡ及び配置パターンＢのパターンがある。図２（ａ）に示す内部構造体１は、配置パターンＡの内部構造体１であって、拇指球支持部５Ａ、踵内側支持部６Ａ及び踵支持部７が中底２と中敷き３との間に介在している。中底２と中敷き３との間に設けられた拇指球支持部５Ａは、使用者が靴２０を履いた際に、その拇指球を支持する足骨支持部を構成する。拇指球支持部５Ａの大きさは、拇指球を安定して支持できる大きさであればよく、その形状は、楕円形状、円形状、矩形状等、特に限定されない。また、拇指球支持部５Ａ自体の厚さは、第１の厚さ（例えば１ミリ）、又は第１の厚さよりも大きい第２の厚さ（例えば２ミリ）である。拇指球支持部５Ａの材質は、特に限定されないが、低反発性に優れる軟質のポリウレタン等を採用すると履き心地を向上できる。

また、踵内側支持部６Ａは、踵内側を支持する足骨支持部を構成し、踵支持部７上に重ねられている。配置パターンＡでは、踵内側支持部６Ａは、踵全域を支持する踵支持部７の左半分に配置される。踵内側支持部６Ａの大きさは、踵部の内側を安定して支持できる大きさであればよく、その形状は、楕円形状、円形状、矩形状、台形状等、特に限定されない。尚、踵内側支持部６Ａは、図では踵支持部７の約半分の大きさとし、踵支持部７からはみ出さないように重ねたが、踵支持部７からはみ出すように重ねてもよい。

また、踵内側支持部６Ａ自体の厚さは、第１の厚さ（例えば１ミリ）、又は第１の厚さよりも大きい第２の厚さ（例えば２ミリ）である。踵内側支持部６Ａの材質は、特に限定されないが、低反発性に優れる軟質のポリウレタン等を採用すると履き心地を向上できる。

さらに、踵支持部７のうち、踵内側支持部６Ａが被覆していない外側位置は、踵外側を支持する足骨支持部を構成する。踵支持部７は、踵全域を支持できる大きさであればよく、その形状は、楕円形状、円形状、矩形状、半月形状等、特に限定されない。また、踵支持部７は、例えば１ミリの厚さに形成されている。

図２（ｂ）に示す内部構造体１は、配置パターンＢの内部構造体１であって、小指球支持部５Ｂ、踵外側を支持する踵外側支持部６Ｂ及び踵支持部７が中底２と中敷き３との間に介在している。中底と中敷き３との間に設けられた小指球支持部５Ｂは、使用者が靴２０を履いた際に小指球を支持する足骨支持部を構成する。小指球支持部５Ｂの大きさは、小指球を安定して支持できる大きさであればよく、その形状は、楕円形状、円形状、矩形状等、特に限定されない。小指球支持部５Ｂ自体の厚みは、第１の厚さ（例えば１ミリ）又は第１の厚さよりも大きい第２の厚さ（例えば２ミリ）である。尚、図では、拇指球支持部５Ａと小指球支持部５Ｂとを異なる大きさにしたが、同じ大きさ及び形状に形成してもよい。小指球支持部５Ｂの材質は、特に限定されないが、低反発性に優れる軟質のポリ
ウレタン等を採用すると履き心地を向上できる。

また、踵外側支持部６Ｂは、踵外側を支持する足骨支持部を構成する。踵外側支持部６Ｂの大きさは、踵部の外側を安定して支持できる大きさであればよく、その形状は、踵内側支持部６Ａと同様に、特に限定されない。さらに踵外側支持部６Ｂ自体の厚さは、第１の厚さ（例えば１ミリ）、又は第１の厚さよりも大きい第２の厚さ（例えば２ミリ）である。尚、図では、踵内側支持部６Ａと、踵外側支持部６Ｂとを左右対称の形状及び同じ面積（大きさ）としたが、同じ形状にしてもよいし、左右対称とはならない異なる形状及び面積（大きさ）にしてもよい。

さらに、踵支持部７のうち、踵外側支持部６Ｂが被覆していない内側位置は、踵内側を支持する足骨支持部を構成する。
一方、左足用の内部構造体１には、上記配置パターンＡを左右反転させた配置パターンＣと、上記配置パターンＢを左右反転させた配置パターンＤとが存在する。さらに、これらの各配置パターンＡ〜Ｄには、支持部材４の厚さを変更したパターンがそれぞれ２種類ずつあるため、右足用の内部構造体１及び左足用の内部構造体１の組合せは、合計で１６種類となる。そして、これらの１６種類の中から、使用者のバランスの崩れに合わせたパターンが選択的に適用される。

次に、内部構造体１の高さ方向の構造について図３に従って説明する。図３（ａ）及び図３（ｂ）は、図２（ａ）のＡ−Ａ線における断面図、図３（ｃ）及び図３（ｄ）は、図２（ａ）のＢ−Ｂ線における断面図、図４は、図２（ａ）のＣ−Ｃ線における断面図である。

図３（ａ）は第１の厚さの拇指球支持部５Ａを有する内部構造体１であり、図３（ｂ）は第２の厚さの拇指球支持部５Ａを有する内部構造体１を示す。拇指球支持部５Ａを取り付ける際は、例えば中底２の表面２Ａに対し、接着剤等により拇指球支持部５Ａを貼着し、その上から中敷き３を敷設して、中底２と中敷き３との間に拇指球支持部５Ａを挟み込む。中敷き３は数ミリ程度の厚さであるため、拇指球支持部５Ａの介在により、足の拇指球に当接する拇指球位置が、周囲の中敷き３の表面３Ａより突出した、足骨支持部としての突部１０となる。この突部１０は、拇指球支持部５Ａの厚さが異なると、図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように異なる高さになる。また、小指球支持部５Ｂを中底２に貼着し、その上に中敷き３を敷設した場合もまた、小指球位置が周囲の中敷き３の表面３Ａより突出した突部１０を形成する。

また図３（ａ）及び図３（ｂ）に示すように、拇指球支持部５Ａの側縁には、中底２側（下方）に向かって傾斜するテーパ部１１が形成されている。尚、図では、拇指球支持部５Ａの側縁のうち、内部構造体１の側縁にあたる一部には、テーパ部１１を形成しないようにしたが、全周に形成してもよい。また、小指球支持部５Ｂにも同様に、テーパ部１１が形成されている。これにより、中底２と支持部５Ａ，５Ｂとの間に大きな段差が生じないため、使用者の足裏が中敷き３を介して中底２と各支持部５Ａ，５Ｂとの境目に当接した際に違和感を感じることがない。また、中敷き３が、各支持部５Ａ，５Ｂのテーパ形状に沿って敷設されるので、中底２と中敷き３との間であって、各支持部５Ａ，５Ｂの側縁付近に不要な隙間が形成されない。

また、図３（ｃ）は、第１の厚さの踵内側支持部６Ａを有する内部構造体１であり、図３（ｄ）は第２の厚さの踵内側支持部６Ａを有する内部構造体１を示す。踵支持部７及び踵内側支持部６Ａを取り付ける際は、例えば中底２の表面２Ａに対し、接着剤等により踵支持部７を貼着し、踵支持部７の半分に踵内側支持部６Ａを貼着して、その上から中敷き３を敷設する。その結果、踵内側位置は、踵内側支持部６Ａ及び踵支持部７の介在により
、その周囲の中敷き３の表面３Ａよりも突出し、踵内側を支持する足骨支持部としての突部１２となる。また、踵外側位置は、踵支持部７の介在により、その周囲（土踏まず側）の中敷き３の表面３Ａよりも突出した突部１４となる。踵内側位置の突部１２の高さは、踵外側位置の突部１４よりも高くなっている。また、踵支持部７及び踵外側支持部６Ｂを中底２に貼着し、その上に中敷き３を敷設した場合もまた、踵内側位置及び踵外側位置が、周囲の中敷き３の表面３Ａより突出した突部となる。

また、図３（ｃ）及び図３（ｄ）に示すように、踵内側支持部６Ａの側縁には、中底２側（下方）に向かって傾斜するテーパ部１３が形成されている。尚、図では踵内側支持部６Ａの側縁のうち、内部構造体１の側縁にあたる一部には、テーパ部１３を形成しないようにしたが、全周に形成してもよい。また、踵外側支持部６Ｂにも同様に、テーパ部１３が形成されている。これにより、中底２と支持部６Ａ，６Ｂとの間に大きな段差が生じないため、使用者の足裏が中敷き３を介して中底２と支持部６Ａとの境目に当接した際に違和感を感じることがない。また、中敷き３が、各支持部６Ａ，６Ｂのテーパ形状に沿って敷設されるので、中底２と中敷き３との間であって、各支持部６Ａ，６Ｂの側縁付近に不要な隙間が形成されない。

また、本実施形態では、一つの内部構造体１では、各支持部材４のうち、踵支持部７以外の支持部材４の厚さをそれぞれ同一の厚さとする。例えば、配置パターンＡの拇指球支持部５Ａが上記した第１の厚さである場合には、踵内側支持部６Ａも第１の厚さになっている。また、拇指球支持部５Ａが第２の厚さである場合には、踵内側支持部６Ａも第２の厚さになっている。さらに、小指球支持部５Ｂが第１の厚さである場合には、踵外側支持部６Ｂも第１の厚さになっており、小指球支持部５Ｂが第２の厚さである場合には、踵外側支持部６Ｂも第２の厚さになっている。尚、使用者の左足用の内部構造体１と、右足用の内部構造体１とで、支持部材４の厚みが異なっていてもよい。例えば、左足用の配置パターンＡの内部構造体１の拇指球支持部５Ａ及び踵内側支持部６Ａの厚さが、第１の厚さであって、右足用の配置パターンＤの内部構造体１の小指球支持部５Ｂ及び踵外側支持部６Ｂの厚さが、第２の厚さであってもよい。

図４は、第１の厚さの拇指球支持部５Ａと、第１の厚さの踵内側支持部６Ａとを有する内部構造体１の縦方向の断面図である。踵内側位置の突部１２は、踵支持部７が中敷き３と踵内側支持部６Ａとの間に介在することにより、拇指球位置の突部１０よりも若干高くなっているが、各支持部５Ａ，６Ａの厚さを揃えることにより、骨格の前後方向のバランスが整えられるようになっている。

次に、配置パターンの組合せについて図５に従って説明する。右足用の配置パターンＡ，Ｂと、左足用の配置パターンＣ，Ｄとをそれぞれ組み合わせると、図５（ａ）〜（ｄ）の４つの配置パターンが得られる。

図５（ａ）は、右足用に配置パターンＡの内部構造体１を採用し、左足用に配置パターンＤの内部構造体１を採用した場合の平面図である。この配置パターンの組合せにおいて、踵支持部７以外の支持部材の厚さの組合せである「左足の支持部材の厚さ；右足の支持部材の厚さ」は、「第１の厚さ；第１の厚さ」、「第１の厚さ；第２の厚さ」、「第２の厚さ；第１の厚さ」、「第２の厚さ；第２の厚さ」の４つの組合せがある。このため、図５（ａ）の配置パターンの組合せには、厚さの組合せにより、さらに４つのパターンが存在する。

図５（ｂ）は、右足用に配置パターンＢの内部構造体１を採用し、左足用に配置パターンＤの内部構造体を採用した場合の平面図である。上記したように、この配置パターンにおいて、厚さの組合せは、図５（ａ）の場合と同様に４つの組合せがある。即ち、図５（
ｂ）の配置パターンの組合せにも、厚さの組合せにより、さらに４つのパターンが存在する。

図５（ｃ）は、右足用に配置パターンＡの内部構造体１を採用し、左足用に配置パターンＣの内部構造体１を採用した場合の平面図である。この配置パターンにおいても、厚さの組合せにより、さらに４パターンが存在する。

図５（ｄ）は、右足用に配置パターンＢの内部構造体１を採用し、左足用に配置パターンＣの内部構造体１を採用した場合の平面図である。この配置パターンにおいても、厚さの組合せにより、４つのパターンが存在する。

これにより、図５（ａ）〜図５（ｄ）の配置パターンには、それぞれ４つの厚さの組合せがあるため、使用者が選択可能な靴２０のパターンとしては、上記したように１６通りのパターンがある。この１６通りのパターンのうち、使用者のバランスの崩れを矯正するために最適なパターンが一つ選択される。例えば、右足において内側の方向にバランスが崩れている場合等には、右足に対して配置パターンＡの履き物が選択され、バランスが崩れた度合いにより、第１の厚さ又は第２の厚さが選択される。このため、１６種類の予め製造された左右一対の靴２０を用意し、例えば使用者に試し履きをさせるなど、予め決定された選択方法に従い、使用者の骨格バランスの崩れ方に応じた最適なパターンを選択することができる。即ち、人それぞれ異なる骨格の歪みやバランスの崩れ方に対応した姿勢の矯正を容易に行うことができる。

次に、足骨支持部の作用について図６〜図９に従って説明する。図６〜図９は、右足用の内部構造体１の模式図であって、図６及び図７は、配置パターンＡの内部構造体１を示し、図８及び図９は、配置パターンＢの内部構造体１を示す。

配置パターンＡは、右足の内側にバランスが下がった使用者に適している。図６に示すように、配置パターンＡの拇指球位置に形成された突部１０は、中敷き３等を介して、足１００の拇指球Ｐ１を足裏側から支持する。図７に示すように、拇指球位置には、基節骨１０２及び第１中足骨１０３等が存在し、突部１０は基節骨１０２の及び第１中足骨１０３等を足裏側から突き上げて、その高さ方向（鉛直方向）の位置を高くする。

また、踵位置の突部１２，１４は、踵全体の高さを全体的に上げて、歩行性や運動性を向上する。また、踵内側の突部１２は、踵内側支持部６Ａが介在することにより、踵外側の突部１４よりも高く、図７に示すように、踵内側位置の踵骨１０４の内側を持ち上げて、踵内側の高さ方向（鉛直方向）の位置を高くする。

この配置パターンＡに適した使用者が、この内部構造体１の靴２０を右足に履き、さらに左足にも最適な靴２０を選択すると、バランスの崩れた方向の部位が持ち上げられ、首部の頚骨の骨頭部から、膝関節、股関節を結ぶ軸が作られる。また、大腿骨の向きが適切な向きに調整され、骨盤の上下方向における傾き、左右のバランスも調整される。このため、立ち姿勢における重心位置が適切な位置となり、理想的なバランスの姿勢となる。また、このようにバランスが整えられると、足のアーチ（図６参照）も理想的な状態に形成される。

また、図８に示すように、配置パターンＢの内部構造体１の小指球支持部５Ｂは、中敷き３等を介して、足の小指球Ｐ２を足裏側から支持する。図９に示すように、小指球位置には、基節骨１０５と第５中足骨１０６等が存在し、小指球支持部５Ｂは、基節骨１０５及び第５中足骨１０６を足裏側から突き上げて、その高さ方向（鉛直方向）の位置を高くする。

また、踵位置の突部１２，１４は、踵全体の高さを上げて歩行性や運動性を向上する。また、踵外側の突部１２は、踵外側支持部６Ｂが介在することにより、踵内側の突部１４よりも高い。このため、突部１２は、図９に示すように、踵骨１０４の外側を持ち上げて、その高さ方向（鉛直方向）の位置を高くする。

その結果、この配置パターンＢに適した使用者が、この内部構造体１が装着された靴２０を右足に履き、さらに左足にも最適なパターンの靴２０を選択すると、上記した効果と同様に、立ち姿勢における重心位置が適切な位置となり、理想的なバランスの姿勢となる。また、このようにバランスが整えられると、足のアーチ（図８参照）も理想的な状態に形成される。

上記実施形態によれば、以下のような効果を得ることができる。
（１）上記実施形態では、靴２０の内部構造体１は、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置の４位置のうち、３位置において、各々対応する位置の足骨を各別に持ち上げる支持部材４を中底２と中敷き３との間に備えている。各支持部材４は、中敷き３の表面３Ａから突出した足骨支持部をそれぞれ形成する。このため、骨格の歪みやバランスの崩れの要因となる位置にその突部が設けられた靴２０を履くことによって、人それぞれ異なる骨格の歪みやバランスの崩れ方に対応した立ち姿勢の矯正を容易に行うことができる。

（２）上記実施形態では、各々対応する足骨を支持する突部１０，１２，１４はその高さが各別に設定されている。このため、人それぞれ異なる骨格バランスの崩れ方の度合いに対応することができる。

（３）上記実施形態では、踵内側位置と踵外側位置とに足骨支持部が設けられるとともに、拇指球位置及び小指球位置のいずれかに足骨支持部が設けられる。このため、３位置で骨格バランスの崩れを効率的に矯正することができる。

（４）上記実施形態では、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置の４位置のうち３位置において、支持部材４を備えた内部構造体１を備えた左右一対の靴２０を、支持部材４の配置及び厚さの違いに応じて１６種類用意し、その靴２０を右足及び左足にそれぞれ選択的に適用するようにした。従って、使用者の骨格バランスの崩れ方に合わせて履き物をオーダーメードする必要が無く、製造コストを低減し、立ち姿勢を容易に矯正することができる。

尚、上記実施形態は以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、踵支持部７を省略し、踵内側、踵外側をそれぞれ支持する踵内側支持部材、踵外側支持部材を中底２と中敷き３との間に介在させて足骨支持部を構成してもよい。そして、その厚さを各別に設定することにより、踵内側及び踵外側の高さ位置を変更するようにしてもよい。

・上記実施形態では、各支持部５，６を中底２と中敷き３との間に設けたが、中敷き３の表面３Ａに設けても良い。また中底２の下に設けられる部材に貼着してもよい。各支持部５，６を中敷き３の表面３Ａに設けるとき、例えば各支持部５，６を、赤、青等の色付きの材質で形成すると、各支持部５，６が設けられていることを一目で認識させることができる。

・上記実施形態では、靴２０として靴を例に挙げたが、スリッパ、サンダル等に具体化してもよい。図１０は、履き物をスリッパ２１に具体化した場合の平面図である。スリッ
パ２１のうち、左足用のスリッパ２１Ａには、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置に支持部材４が設けられ、踵外側支持部６Ｂの厚さは、踵内側支持部６Ａの厚さよりも大きくなっている。右足用のスリッパ２１Ｂには配置パターンＡが用いられ、拇指球位置、踵内側位置及び踵外側位置に支持部材４が設けられている。各支持部材４は、足裏面と当接する底部２２Ａ，２２Ｂに埋め込まれている。或いは、底部２２Ａ，２２Ｂの上面２３Ａ，２３Ｂに各支持部材４を貼着してもよい。或いは、各支持部材４を設ける替わりに、底部２２Ａ，２２Ｂのうち、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置の４位置のうち３位置を、肉厚にして突部を形成してもよい。

・支持部材４は、例えばインソール等、履き物に対して着脱可能な内部構造体に設けてもよい。例えば、インソールの上層と下層との間に各支持部材４を介在させてもよいし、インソール本体の表面又は裏面に各支持部材４をそれぞれ貼着するようにしてもよい。

・上記実施形態では、左足用の靴２０に用いる配置パターンと、右足用の靴２０に用いる配置パターンとを分けたが、左右両用の内部構造体１又は靴２０である場合には、配置パターンは、配置パターンＡと配置パターンＢのみとなる。さらに、これらに厚さの変化をもたせると、合計４パターンとなる。この場合、４パターンの靴２０を製造すればよいので、製造コストを低減できる。

・上記実施形態では、各支持部材４を中底２及び中敷き３の間に挟むことにより、突部を形成したが、プレス成形等を施した配置パターンＡ〜Ｄの樹脂板に履き心地を向上するための中敷きを敷設して、内部構造体１を構成してもよい。或いは、ウレタン材等を配置パターンＡ〜Ｄの立体形状に切削加工した内部構造体１を製造してもよい。或いは、拇指球位置、小指球位置、踵内側位置及び踵外側位置の４位置のうち３位置を肉厚にしたポリウレタン等により内部構造体１を製造してもよい。

・上記実施形態では、内部構造体１に足骨を支持する突部を形成するようにしたが、ウレタン等の軟質な内部構造体に、各支持部材４をプラスチック等の硬質な部材を埋め込んで、表面を平らにしてもよい。そして、靴２０を履いた際に、軟質部分だけが荷重によって沈み込み、各支持部材４は各々対応する足骨を支持するようにしてもよい。

・上記した１６種類のパターン以外に、特殊なバランスの崩れ方に対応するために、拇指球位置及び小指球位置と、踵内側位置及び踵外側位置のいずれか一方とに支持部材４を設けてもよい。

靴の内部構造体を示す分解斜視図。 （ａ）は配置パターンＡ、（ｂ）は配置パターンＢの内部構造体の平面図。 （ａ）は第１の厚さ、（ｂ）は第２の厚さの拇指球支持部を有する内部構造体の横断面図、（ｃ）は第１の厚さ、（ｄ）は第２の厚さの踵内側支持部を有する内部構造体の横断面図。 内部構造体の縦断面図。 （ａ）は配置パターンＡ，Ｄ、（ｂ）は配置パターンＢ，Ｄ、（ｃ）は配置パターンＡ，Ｃ、（ｄ）は配置パターンＢ，Ｃの組合せの各内部構造体の平面図。 配置パターンＡの履き物を履いた場合の模式図。 拇指球支持部及び踵内側支持部と、足骨の対応関係を示す模式図。 配置パターンＢの履き物を履いた場合の模式図。 小指球支持部及び踵外側支持部と、足骨の対応関係を示す模式図。 別例の履き物の平面図。

符号の説明

１…内部構造体、１０…足骨支持部としての突部、１２…足骨支持部としての突部、１４…足骨支持部としての突部、２０…履き物としての靴、２１…履き物としてのスリッパ、Ｐ１…拇指球、Ｐ２…小指球、１００…足、１０１…踵。

Claims (7)

1. 足の拇指球の位置である拇指球位置、及び小指球の位置である小指球位置、及び踵の内側の位置である踵内側位置、及び踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうちの３位置において、各々対応する位置の足骨を各別に持ち上げる足骨支持部を備えることを特徴とする履き物。
2. 前記各足骨支持部の各々は、その高さが各別に設定されていることを特徴とする請求項１に記載の履き物。
3. 前記足骨支持部が設けられる３位置は、前記拇指球位置及び前記小指球位置のいずれかと、前記踵内側位置と、前記踵外側位置であることを特徴とする請求項１又は２に記載の履き物。
4. 足の拇指球の位置である拇指球位置、及び小指球の位置である小指球位置、及び踵の内側の位置である踵内側位置、及び踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうちの３位置において、各々対応する位置の足骨を各別に持ち上げる足骨支持部を備えることを特徴とする履き物の内部構造体。
5. 前記各足骨支持部の各々は、その高さが各別に設定されていることを特徴とする請求項４に記載の履き物の内部構造体。
6. 前記足骨支持部が設けられる３位置は、前記拇指球位置及び前記小指球位置のいずれかと、前記踵内側位置と、前記踵外側位置であることを特徴とする請求項４又は５に記載の内部構造体。
7. 使用者の立ち姿勢を矯正する姿勢矯正方法であって、
   足の拇指球の位置である拇指球位置、及び小指球の位置である小指球位置、及び踵の内側の位置である踵内側位置、及び踵の外側の位置である踵外側位置の４位置のうちの３位置において、各々対応する位置の足骨を持ち上げる足骨支持部を備える履き物もしくはその内部構造体をそれら足骨支持部の配置及び高さの違いに応じて複数用意し、それら足骨支持部の配置及び高さが異なる履き物もしくはその内部構造体を右足及び左足にそれぞれ選択的に適用することによって使用者の立ち姿勢を矯正することを特徴とする姿勢矯正方法。

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