JP2009246395A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 半導体装置におけるピン数の低減及び小型化。
【解決手段】 半導体装置は、上面及び前記上面の反対面となる下面並びに前記上面と前記下面を繋ぐ側面を有する絶縁性樹脂からなる封止体と、前記封止体内に封止される導電性のタブと、前記タブに連なり一部が前記封止体の前記下面及び前記側面に露出するタブ吊りリードと、前記タブの下面に固定される半導体チップと、内端部が前記封止体内に位置し外端部が前記封止体の下面及び側面に露出しかつ側面から封止体内に突出する突出部を有する複数の導電性のリードと、前記タブ吊りリードの側面から突出して前記封止体内に位置する突出部と、前記封止体内に位置し、前記半導体チップの下面の各電極と前記リード及び前記タブ吊りリードの各突出部を接続する導電性のワイヤとを有する。
【選択図】図1

Description

本発明は半導体装置及びその製造方法に係わり、特に、SON(Small Outline Non-Leaded Package),QFN(Quad Flat Non-Leaded Package)のように、パッケージの側方に意図的に外部電極端子を長く突出させることなく実装面側に露出させる半導体装置(ノンリード型半導体装置)の製造に適用して有効な技術に関する。
樹脂封止型半導体装置は、その製造においてリードフレームが使用される。リードフレームは、金属板を精密プレスによる打ち抜きやエッチングによって所望パターンに形成することによって製造される。リードフレームは半導体素子(半導体チップ)を固定するためのタブ,ダイパッド等と呼称される支持部や、前記支持部の周囲に先端(内端)を臨ませる複数のリードを有する。前記タブはリードフレームの枠部から延在するタブ吊りリードによって支持されている。
このようなリードフレームを使用して樹脂封止型半導体装置を製造する場合、前記リードフレームのタブに半導体チップを固定するとともに、前記半導体チップの電極と前記リードの先端を導電性のワイヤで接続し、その後ワイヤや半導体チップを含むリード内端側を絶縁性の樹脂(レジン)で封止して封止体(パッケージ)を形成し、ついで不要なリードフレーム部分を切断除去する。また、必要に応じて封止体から突出するリードの成形を行う。
一方、リードフレームを用いて製造する樹脂封止型半導体装置の一つとして、リードフレームの一面側に片面モールドを行ってパッケージを形成し、パッケージの一面に外部電極端子であるリードを露出させ、パッケージの周面から意図的にリードを突出させない半導体装置構造(ノンリード型半導体装置)が知られている。この半導体装置は、パッケージの一面の両側縁にリードを露出させるSONや、四角形状のパッケージの一面の4辺側にリードを露出させるQFNが知られている。また、封止体の上面にタブの上面を露出させた半導体装置も知られている(例えば、特許文献1)。
特許文献1には、樹脂カプセル(封止体)の下面周囲にリードの下面が露出した半導体パッケージが開示されている。また、リードの内端下面がハーフエッチングされ、そのハーフエッチングされた面と、半導体チップの下面の電極がワイヤで接続された構造になっている。また、半導体チップの電極とパッドがグランドワイヤーで電気的に接続されている。
特開2002−134676号公報
半導体装置は、機能向上等によって外部電極端子(ピン)のさらなる増大が図られている。また、半導体装置は各種電子機器に搭載することから、より一層の小型化が要請されている。
IC(Integrated Circuit)においては、回路上グランド等の電源電位を安定するため、複数箇所にグランド端子を配置している。グランド端子の増大は、ピン数の増大となり、半導体装置が大型化する。また、半導体チップが搭載されるタブをグランド電位とする半導体装置においては、半導体チップのグランド電極に接続するワイヤを半導体チップの外側に位置するタブ部分に接続してグランド端子数を少なくする方法もあるが、この場合、タブが大きくなり、半導体装置が大型化する。
本発明の目的は、半導体チップの電源電位電極数が多くても小型化が図れる半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の他の目的は、封止体の上面側から放熱が可能なノンリード型の半導体装置及びその製造方法を提供することにある。
本発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきらかになるであろう。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
(1)半導体装置は、上面及び前記上面の反対面となる下面並びに前記上面と前記下面を繋ぐ側面を有する絶縁性樹脂からなる封止体と、前記封止体内に封止される導電性のタブと、前記タブに連なり一部が前記封止体の前記下面及び前記側面に露出するタブ吊りリードと、前記タブの下面に固定される半導体チップと、内端部が前記封止体内に位置し外端部が前記封止体の下面及び側面に露出しかつ側面から封止体内に突出する突出部を有する複数の導電性のリードと、前記タブ吊りリードの側面から突出して前記封止体内に位置する突出部と、前記封止体内に位置し、前記半導体チップの下面の各電極と前記リード及び前記タブ吊りリードの各突出部を接続する導電性のワイヤとを有する。
前記ワイヤが接続される前記リード及び前記タブ吊りリードの前記突出部は、その下面が所定厚さエッチング除去されて薄くなり、この薄くなった下面に前記ワイヤが接続されている。また、前記タブ吊りリードに前記ワイヤを介して接続される前記半導体チップの電極は電源電位となる電極である。また、前記タブ吊りリードは途中で屈曲して前記タブの上面は前記封止体の上面に露出している。前記封止体の上面に露出する前記タブの表面はポリッシングによる付着樹脂除去処理が施された面である。
このような半導体装置は、
第1の面と前記第1の面の反対面となる第2の面をそれぞれ有する、側面に突出部を有する複数のリード、半導体チップを固定するタブ、前記タブに連なり側面に突出部を有する複数のタブ吊りリード、前記リード及び前記タブ吊りリードを連結する枠部を有し、かつ前記第2の面において前記リード及び前記タブ吊りリードの前記突出部の少なくとも一部は他の部分に比較して前記第1の面側に近く位置するワイヤ接続面を有するリードフレームを形成する工程と、
前記タブの前記第2の面に半導体素子を固定する工程と、
前記半導体素子の電極と前記第2の面側となる前記リード及び前記タブ吊りリードの前記ワイヤ接続面を導電性のワイヤを介して電気的に接続する工程と、
前記半導体素子、前記ワイヤ、前記リード、前記リード及び前記タブ吊りリードの突出部を絶縁性樹脂で封止し、かつ前記リード及び前記タブ吊りリードの第2の面を前記絶縁性樹脂から露出するように前記絶縁性樹脂による封止体を形成する工程と、
前記枠部から前記リード及びタブ吊りリードを切断分離する工程とによって製造される。
また、前記リードフレームを形成する工程において、前記リード及びタブ吊りリードの前記突出部に相当する表面を所定厚さエッチングしてワイヤ接続部を形成する。また、ワイヤ接続において半導体チップのグランド電位となる電極と前記タブ吊りリードの前記突出部を前記ワイヤで接続する。また、前記封止体の形成後、前記封止体の表面に露出する前記タブの表面に対して付着した樹脂をポリッシングによって除去する。
(2)上記(1)の構成において前記突出部は前記リード及び前記タブ吊りリードの両側面からそれぞれ突出している。
このような半導体装置の製造においては、前記リードフレームの形成時、前記突出部を前記リードの両側面に形成する。
(3)上記(1)の構成において前記リードの前記突出部はリードの両側面からそれぞれ突出している。また、前記隣接するリードにおける前記各突出部は、リードの交差方向に一列に並ばないようにリードの延在方向にずれて配列されている。そして、前記隣接するリードにおける前記各突出部と前記半導体チップの電極を接続する前記ワイヤの描くループ高さは接触しないように異なるループ形状となっている。
このような半導体装置の製造においては、前記リードフレームの形成時、前記突出部を前記リードの両側面に形成する。また、前記隣接するリードにおいて、前記各突出部がリードの交差方向に一列に並ばないようにリードの延在方向にずらして形成する。そして、前記隣接するリードにおける前記各突出部と前記半導体チップの電極を接続する前記ワイヤの描くループ高さは接触しないように異なるループ形状となるようにワイヤ接続を行う。
本願において開示される発明のうち代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりである。
前記(1)の手段によれば、(a)グランド電位とされるタブに連なるタブ吊りリードの側面に形成した突出部と、半導体チップのグランド電位とされる電極をワイヤで接続することから、グランド電位として用意するリードの数を減らすことができ、半導体装置の小型化が達成できる。
(b)グランド電位とされるタブに連なるタブ吊りリードの側面に形成した突出部と、半導体チップのグランド電位とされる電極をワイヤで接続し、前記ワイヤを半導体チップから外れたタブ部分に接続しないことから、タブの小型化が達成でき、半導体装置の小型化が達成できる。
(c)リードにおいては、ワイヤ接続を行うワイヤ接続部をリードの側面に突出させた突出部に設けることから、封止後、封止体からリードが抜け難くなり、半導体装置の信頼性が高くなる。
(d)封止体の上面に半導体チップを固定したタブの上面が露出することから、このタブに放熱体を取り付けることができ、放熱性の高い半導体装置を提供することができる。また、露出するタブの表面はポリッシングによって付着する樹脂の除去が図られているため、放熱の熱抵抗物質も存在しなくなり、さらに放熱性が向上する。
前記(2)の手段によれば、前記リード及び前記タブ吊りリードの両側にそれぞれ前記突出部が設けられていることから、ワイヤ接続箇所が多くなり、ピン数の低減が達成できる。
前記(3)の手段によれば、前記リードに設けられる突出部は、隣接リード間において、リードの交差方向に一列に並ばないようにリードの延在方向にずれて配列されている。また、前記隣接するリードにおける前記各突出部と前記半導体チップの電極を接続する前記ワイヤの描くループ高さは接触しないように異なるループ形状となっている。これにより、半導体装置の信頼性が高くなる。
本発明の実施例1である半導体装置のリード,ワイヤ及び半導体チップ等を透視した模式的底面図である。 本発明の実施例1である半導体装置の平面図である。 図2の略A−A線に沿う模式的断面図である。 図2の略B−B線に沿う模式的断面図である。 前記半導体装置において、ワイヤを接続するリード部分を示す裏返し状態の模式的斜視図である。 前記半導体装置において、ワイヤを接続するリード部分を示す裏返し状態の各図である。 前記半導体装置において、ワイヤを接続するタブ吊りリード部分を示す裏返し状態の模式的斜視図である。 前記半導体装置において、ワイヤを接続するタブ吊りリード部分を示す裏返し状態の各図である。 前記半導体装置の実装状態を示す模式的断面図である。 本実施例1の半導体装置の製造で用いるリードフレームの平面図である。 本実施例1の半導体装置の製造において、タブ上に半導体チップを固定し、半導体チップの各電極とリード及びタブ吊りリードをワイヤで接続した状態を示すリードフレームの平面図である。 本実施例1の半導体装置の製造において、タブ吊りリード及びリードの一部と、半導体チップ,ワイヤ,タブ等を封止体で覆った状態を示すリードフレームの平面図である。 本実施例1の半導体装置の製造において、封止体の下面に露出するタブの表面に付着したレジンをポリッシングして除去する状態を示す模式図である。前記半導体装置の封止体の一部をとあ除いた模式的平面図である。 本発明の実施例2である半導体装置においてリード,ワイヤ及び半導体チップ等を透視した状態を示す模式的底面図である。 本実施例2の半導体装置において、ワイヤを接続する突出部を片側に有する片翼リード部分の裏返し状態の各図である。 本実施例2の半導体装置において、ワイヤを接続する突出部を両側に有する両翼リード部分の裏返し状態の各図である。 本発明の実施例3である半導体装置においてリード,ワイヤ及び半導体チップ等を透視した状態を示す模式的底面図である。 本実施例3の半導体装置におけるタブ吊りリードの延在方向に沿う模式的断面図である。 本実施例3の半導体装置において、内端側にワイヤを接続する突出部を両側に有する内翼リードにおけるワイヤ接続状態を示す模式的断面図である。 本実施例3の半導体装置において、内端側にワイヤを接続する突出部を両側に有する内翼リード部分の裏返し状態の各図である。 本実施例3の半導体装置において、中程にワイヤを接続する突出部を両側に有する中翼リードにおけるワイヤ接続状態を示す模式的断面図である。 本実施例3の半導体装置において、中程にワイヤを接続する突出部を両側に有する中翼リードの部分の裏返し状態の各図である。 本実施例3の半導体装置において、内翼リードと中翼リードにおけるワイヤのループ高さの違いを示す模式図である。 本発明の実施例4である半導体装置においてリード,ワイヤ及び半導体チップ等を透視した状態を示す模式的底面図である。 本実施例4の半導体装置において、内側にワイヤを接続する突出部を両側に有する内翼リード部分の裏返し状態の各図である。 本実施例4の半導体装置において、中程にワイヤを接続する突出部を両側に有する中翼リード部分の裏返し状態の各図である。 本発明の実施例5である半導体装置のリード,ワイヤ及び半導体チップ等を透視した状態を示す模式的底面図である。 本実施例5の半導体装置におけるタブ吊りリードの延在方向に沿う模式的断面図である。 本実施例5の半導体装置において、ワイヤを接続する突出部を両側に有するタブ吊りリード部分の裏返し状態の各図である。 本実施例5の半導体装置において、内端にワイヤを接続するリードにおけるワイヤ接続状態を示す模式的断面図である。 本実施例5の半導体装置において、内端にワイヤを接続するリード部分の裏返し状態の各図である。 本実施例5の半導体装置の製造で用いるリードフレームの平面図である。 本実施例5の変形例による半導体装置におけるタブ吊りリードの延在方向に沿う模式的断面図である。 本実施例5の変形例による半導体装置におけるワイヤを接続する突出部を両側に有するタブ吊りリード部分の裏返し状態の各図である。 本実施例4の変形例である半導体装置における隣接する2本のリード7を示す模式的平面図である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を説明するための全図において、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
〔実施例1〕
図1乃至13は本発明の実施例1である半導体装置に係わる図である。図1乃至図8は半導体装置の構造に係わる図であり、図9は半導体装置の実装状態を示す図である。図10乃至図13は半導体装置の製造方法に係わる図である。
本実施例1では、四角形の封止体の上面にタブの上面を露出させ、封止体の下面の周囲4辺にそれぞれリードの下面を露出させるノンリード型の半導体装置(QFN)に本発明を適用した例について説明する。
QFN型の半導体装置1は、図1乃至図4に示すように、偏平の四角形体(矩形体)からなる絶縁性樹脂で形成される封止体(パッケージ)2を有している。封止体2の四隅は面取り加工が施されて傾斜面2a(図2乃至図4参照)が設けられている。封止体2の内部には四角形状の半導体チップ(半導体素子)3が埋め込まれている。この半導体チップ3は四角形のタブ4の下面に接着剤5によって固定されている(図3及び図4参照)。
タブ4の四隅にはそれぞれ細いタブ吊りリード6が設けられている。これらタブ吊りリード6は四角形状のタブ4の対角線方向に延在し、外端を封止体2の傾斜面2aに露出する構造になっている。これは、半導体装置1の製造時、封止体2の傾斜面2aから突出するタブ吊りリード6を傾斜面2aの突出箇所で切断することによる。
また、タブ4は半導体チップ3よりもわずかに大きくなっている。半導体チップ3の各辺の外側にタブ4の各辺が延在し、さらにその外側に封止体2の各辺が沿って延在するようになっている。
図3及び図4に示すように、封止体2の下面は半導体装置1を実装基板に実装するときの実装面になる。パッケージ2の実装面には、図3及び図4に示すように、前記タブ4に連なるタブ吊りリード6及びリード7の下面が露出する構造になっている。この封止体2の下面に露出するリード7及びタブ吊りリード6部分は、半導体装置1を実装基板に実装する際の実装面となる。タブ吊りリード6は、その内端側が封止体2の上面に上面が露出するタブ4に連なり、その外端部分はその下面を封止体2の下面に露出させるため、図4に示すように、その途中部分は階段状に一段屈曲させられた構造になっている。
ここで、説明の便宜上、タブ4,タブ吊りリード6,リード7及び封止体2の上面を第1の面と呼称し、下面を第2の面と呼称する。また、後述するが、半導体装置1はリードフレームを使用して製造され、前記タブ4,タブ吊りリード6及びリード7はこの1枚のリードフレームの所定部分の切断によって形成される。リードフレームは1枚の金属板をエッチングにより、またはプレスによる打ち抜きによって所定のリードパターンに形成される。このリードパターンから半導体装置1が製造される。本実施例1では、リードフレームは、例えば、厚さ0.2mmの銅板で形成される。
半導体チップ3の電極(電極パッド)9とリード7は導電性のワイヤ10で電気的に接続されている。半導体チップ3は裏面電極が接着剤5を介してタブ4の下面(第2の面)に接続される構造になっていることから、半導体チップ3の下面に複数の電極(電極パッド)9が位置することになる(図1参照)。このため、電極9に接続するワイヤの接続はリード7の下面(第2の面)を裏返しにして上面とした状態で、半導体チップ3の電極9とリード7との間を常用のワイヤボンディング装置を使用してワイヤボンディングするようになる。また、ワイヤは封止体2の下面(第2の面)側から突出したり、あるいは表面(第2の面)に露出することは、耐湿性や外観的な点においても好ましくない。従って、リード7の先端部分は一面(第2の面)から所定深さエッチングし、このエッチング面(第2の面)をワイヤ接続面としてワイヤを接続する。例えば、厚さ0.2mmのリードフレームのリード7を第2の面側から所定厚さエッチングし、接続されたワイヤの高さ(ワイヤループ高さ)をエッチング深さよりも低くすれば、ワイヤの封止体2の下面(第2の面)からの露出は防止することができる。なお、図示しないが、前記ワイヤの接続性を良好とするために、ワイヤ接続面にはメッキ膜が形成される。このメッキ膜は、例えば、Au,Ag,Pd等によって形成する。
図5及び図6にリード7を示す。図5はワイヤ10が接続された裏返し状態のリード7の一部示す斜視図である。図6(a)はリード7の正面図、図6(b)はリード7の平面図、図6(c)はリード7の側面図である。図5において上面が第2の面となる。先端部分はその一部が一側方に曲がりかつ一側方に張り出すワイヤ接続部11aを形成している。このワイヤ接続部11aは第2の面側からエッチングされて薄くなっている。エッチングによって引っ込んだ面がワイヤ接続面11を形成している。このワイヤ接続面11にワイヤ10が接続されている。一面からのエッチングによることから、リード7のワイヤ接続面11の反対面となる第1の面はリード7の第1の面は同一平面上に位置することになる。リード7の先端部分は一側方に曲がり、かつ一側方に張り出していることから、封止体2を形成する樹脂に食い込み、この結果、リード7が封止体2から脱落しないようになっている。
本実施例1では、リード7の封止体2からの脱落を防止するため、さらにリード7の両側に突出する薄い固定辺15を設けるとともに、第1の面には窪み16を形成してある。固定辺15は封止体内に食い込み、窪み16内には樹脂が入り込むことから、リード7が封止体2から脱落し難くなる。
一方、図1及び図7乃至図8に示すように、タブ吊りリード6の両側には、突出部17が設けられている。図8(a)はタブ吊りリード6の正面図、図8(b)はタブ吊りリード6の平面図、図8(c)はタブ吊りリード6の側面図である。図7に示すように、タブ吊りリード6の外端部分は、一部が幅が広くなる幅広部20が形成され、この幅広部20の両側からタブ吊りリード6の厚さよりも薄い突出部17が突出形成されている。この突出部17は、リードフレームの第2の面側から所定深さタブ吊りリード6部分をエッチングすることによって形成される。従って、突出部17の第1の面はタブ吊りリード6の第1の面と連なり、同一平面上に位置している。
また、突出部17があることから、突出部17が封止体2を形成する樹脂内に食い込むため、タブ吊りリード6が封止体2内に強固に保持される。タブ吊りリード6の幅広部20の第1の面側及び外端縁には窪み21,22が設けられている。この窪み21,22には封止体2を形成する樹脂が入り込む、この結果、タブ吊りリード6の幅広部20は樹脂に強固に保持される。
本実施例1の半導体装置1においては、タブ4がグランド電位となることから、当然にしてタブ吊りリード6もグランド電位となる。そこで、タブ吊りリード6に設けられる突出部17に接続されるワイヤ10は半導体チップ3のグランド電位となる電極9に接続される。タブ吊りリード6の突出部17のワイヤ接続面もワイヤの接続性を良好とするために、ワイヤ接続面にはメッキ膜が形成される。このメッキ膜は、例えば、Au,Ag,Pd等によって形成する。
本実施例1ではリード7のワイヤ接続面11を有するワイヤ接続部11a及び固定辺15並びに突出部17をエッチングによって形成したが、プレスによる押し潰し加工(コイニング)で形成してもよい。プレス成形はエッチングに比較して大量生産に向きコストの低減が達成できる。
リード7の外端は、半導体装置1の製造における封止体2の形成後、プレスによるリード部分の切断加工によって形成される。従って、リード7は封止体2から0.1mm程度の突出長さで切断される。
ここで、半導体装置1の高さ方向の寸法の一例を示す。リード7及びタブ吊りリード6の厚さは0.2mm、エッチングにより低くなるワイヤ接続面11の深さは0.1mm、ワイヤ10のループ高さは80μm程度、半導体チップ3の厚さは280μm程度であり、半導体装置1の厚さは0.5〜0.8mm程度となる。
図9は半導体装置1を配線基板からなる実装基板30に実装した断面図である。実装基板30の一面には、前記半導体装置1の外部電極端子となるリード7やタブ吊りリード6に対応して、電極(ランド)31が設けられている。そして、これらランド31上に半導体装置1の外部電極端子となるリード7やタブ吊りリード6が重ねられ、かつ半田等による接合材32を介して電気的に接続されている。また、封止体2の上面に露出するタブ4の上面には熱電導性の良好な接着剤33によって放熱フィン34を有する放熱体35が固定されている。この放熱体35によって、半導体チップ3で発生した熱は大気中に効率的に放散され、半導体装置1の安定動作が可能になる。
つぎに、本実施形態1の半導体装置1の製造方法について、図10乃至図13を参照しながら説明する。
最初に、図10に示すようなリードフレーム40が形成される。図10は本実施例1によるQFN型の半導体装置1を製造する際使用するマトリクス構成のリードフレーム40の模式的平面図である。
このリードフレーム40は、特に限定はされないが、図10に示すように、単位リードパターンからなる製品形成部41がリードフレーム40の長手方向(X方向)に沿って5行、リードフレーム40の幅方向(Y方向)に沿って3列配置され、1枚のリードフレーム40から15個の半導体装置1を製造することができるようになっている。本実施例1では、各製品形成部41毎に封止体2を形成することから、各製品形成部41間は比較的広くなっている。
リードフレーム40の各部には、リードフレーム40の搬送や位置決め等に使用するガイド孔42が設けられている。また、各行の間には細いスリット43が設けられ、熱歪みを緩和することができるようになっている。
リードフレーム40は、例えば、厚さ0.2mmの銅合金板をエッチングあるいはプレスの打ち抜きによって所望のリードパターンに形成するものである。製品形成部41のリードパターンは、図10に示すように、矩形状の枠部の各隅からタブ吊りリード6が突出し、枠部の中央に位置する四角形状のタブ4の各角部を支持する構造になっている。また、枠部の内辺の各4辺から複数のリード7が突出する構造になっている。タブ吊りリード6及びリード7の構造は、既に図5乃至図8を参照して説明したとおりであることからその説明は省略する。タブ吊りリード6の突出部17、リード7の固定辺15及びワイヤ接続部11aはエッチングによって形成されている。そして、図示しないが、タブ吊りリード6及びリード7のワイヤ接続面には、ワイヤの接続性を良好とするためにメッキ膜が形成されている。このメッキ膜は例えば、Au,Ag,Pd等によって形成されている。
つぎに、図11に示すように、各製品形成部41のタブ4の1面、例えば、第2の面に半導体チップ3を接着剤5(図3及び図4参照)によって固定(搭載)する。半導体チップ3の主面には複数の電極(電極パッド)9が形成され、裏面には裏面電極が形成されている。そこで、この裏面電極がタブ4の第2の面に対面するようにして接着剤5によって半導体チップ3をタブ4に接続する。接着剤5は、例えば、Agペーストを使用する。従って、Agペーストによる固定後、Agペーストをベークして硬化させて半導体チップ3をタブ4に固定する。
つぎに、図11に示すように、半導体チップ3の電極9とリード7のワイヤ接続面11を導電性のワイヤ10で接続する。ワイヤ10は例えば、金線である。この際、グランド電位となる電極9とタブ吊りリード6の突出部17をワイヤ10で接続する。
つぎに、常用のトランスファモールディングによってリードフレーム40の第1の面側を片面モールディングして、図12に示すように、封止体2を形成する。各製品形成部41において、半導体チップ3,ワイヤ10,タブ4,タブ吊りリード6及びリード7の一部が封止体2で封止される。
つぎに、図13に示すように、封止体2を形成したリードフレーム40をポリッシング装置のテーブル45上に固定し、研磨体46を回転させ、図示しない研磨材及び洗浄水を供給しながら封止体2の上面に露出するタブ4の表面をポリッシングする。このポリッシングによって、トランスファモールディングの際、タブ4の表面に滲み出て付着した樹脂バリ47を除去することができる。このポリッシングによって、傾斜面2aの上面に露出するタブ4の表面(上面)はきれいになり、効率的な熱放散面になる。
なお、ポリッシングを省略する方法として、樹脂封止体2の形成時において、上金型のキャビテイ内壁面とタブ4の間にフレキシブルシートを用いたトランスファモールド技術を使用できる。前記フレキシブルシートは、金型との離型性、トランスファモールド時の樹脂漏れを考慮し、例えば、フッ素系樹脂シートが用いられる。このようなフレキシブルシートを用いるトランスファモールド技術は、一般的に、ラミネートモールドや、シートモールドと呼ばれている。
つぎに、封止体2の周囲から突出するリード7を切断するとともに、封止体2の傾斜面2aから突出するタブ吊りリード6を切断させ、図2乃至図4に示す半導体装置1を複数製造する。
本実施例1によれば、以下の効果を有する。
(1)グランド電位とされるタブ4に連なるタブ吊りリード6の側面に形成した突出部17と、半導体チップ3のグランド電位とされる電極9をワイヤ10で接続することから、グランド電位として用意するリード7の数を減らすことができ、半導体装置1の小型化が達成できる。
(2)グランド電位とされるタブ4に連なるタブ吊りリード6の側面に形成した突出部17と、半導体チップ3のグランド電位とされる電極9をワイヤ10で接続し、前記ワイヤ10を半導体チップ3から外れたタブ部分に接続しないことから、タブ4の小型化が達成でき、半導体装置の小型化が達成できる。
(3)リード7においては、先端(内端)にワイヤ10が接続されるが、このワイヤ接続部11aは幅広になると共に一側方に張り出している。従って、この張出部分が封止体2を形成する樹脂中に食い込み、リード7の封止体2からの脱落を防止している。また、リード7には、その側面に突出した固定辺15が設けられ、さらに第2の面に窪み16が設けられていることから、これら固定辺15及び窪み16は封止体2を形成する樹脂と食い込み合う。従って、リード7の封止体2からの脱落を防止することになる。この結果、半導体装置1の信頼性が高くなる。なお、リード7において、真っ直ぐな形状のリードとし、固定辺15を設けるだけであってもリード7の脱落防止が可能になる。
(4)封止体2の上面に半導体チップ3を固定したタブ4の上面が露出することから、このタブ4に放熱体35を取り付けることができ、放熱性の高い半導体装1を提供することができる。
(5)封止体2の上面に露出するタブ4の表面はポリッシングによって付着する樹脂の除去が図られているため、熱抵抗物質も存在しなくなり、さらに放熱性が向上する。
〔実施例2〕
図14乃至図16は本発明の実施例2である半導体装置に係わる図である。本実施例2の半導体装置1は、実施例1の半導体装置1において、リード7を短くし、リード7の一方の側面または両側面にワイヤ接続部となる薄い突出部18を突出形成した構造になっている。
図14はリード,ワイヤ及び半導体チップ等を底面から透視した状態を示す半導体装置の模式的底面図である。図15及び図16は裏返し状態、即ち第2の面が上面となる状態にしたリード7を示す図である。図15は一側面に突出部18を設けたリード7であり、図15(a)はリードの正面図、図15(b)はリードの平面図、図15(c)はリードの側面図である。
図14に示すように、封止体2の各辺に並ぶリード7において、略中央に位置するリード7は図16に示すように、リード7の両側面から突出部18を突出させる構造となり、他のリード7はリード7の右側面または左側面に突出部18を突出させる構造となっている。リードピッチは、実施例1の半導体装置1と同様である。全てのリード7の両側面に突出部18を設けると、隣接するリードが接触してしまう。
そこで、図14に示すように、中央のリード7は左右の側面から突出部18を突出させるリード、即ち両翼リード7dになっている。そして、この両翼リード7dの右側に配置されるリード7は右側面にしか突出部18を配置しない片翼リード7eとなり、この両翼リード7dの左側に配置されるリード7は左側面にしか突出部18を配置しない片翼リード7fとなっている。
図16は両翼リード7dを示す図であり、図15は片翼リード7fを示す図である。突出部18はリード7の内端面からリード7の途中部分に亘って形成されている。突出部18の形成方法は実施例1のタブ吊りリード6における突出部17の形成と同じ方法であり、リードフレームの形成時にエッチングによって形成される。そして、エッチング面がワイヤ接続面11となる。
図15に示すように、片翼リードにおいても、実施例1のリード7と同様に突出部18が設けられない側面に固定辺15が形成され、第2の面には窪み16が形成される。また、図16に示すように、両翼リード7dの第2の面にも実施例1のリード7と同様に窪み16が形成されている。
本実施例2においては、実施例1の場合と同様な効果を得ることができるが、リードの長さが実施例1の半導体装置1に比較して短くなることから、リード7をタブ4に接近させることができ、半導体装置1の小型化や短ワイヤ化による原価低減及び放熱性の向上が図れる。
〔実施例3〕
図17乃至図23は本発明の実施例3の半導体装置に係わる図である。本実施例3の半導体装置1は、実施例2の半導体装置1において、全てのリード7を両翼リード7dとし、かつ隣接するリード間の突出部18が相互に接触しないように、隣接するリードにおけるリード延在方向の位置を変化させた(ずらした)構造である。
一つのリード7は、図20(a)〜(c)に示すように、リード7の内端側の両側面に四角形状の突出部18をそれぞれ設けた構造となり(内翼リード7g)、他の一つのリード7は、図22(a)〜(c)に示すように、リード7の中程(途中)の両側面に突出部18をそれぞれ設けた構造になっている(中翼リード7h)。そして、本実施例3の半導体装置1は、図17に示すように、封止体2の各辺に内翼リード7gと中翼リード7hを交互に配置した構造になっている。中翼リード7hの突出部18と、隣接する内翼リード7gの突出部18は、リードの延在方向にずらして配置されていることから、両者は接触することがない。図20(a)〜(c)及び図22(a)〜(c)において、エッチングによって形成された面がワイヤ接続面11となる。内翼リード7g及び中翼リード7h共に第2の主面には窪み16が設けられている。
半導体チップ3の電極9とタブ吊りリード6及びリード7はワイヤ10で接続される。図18はタブ吊りリード6の突出部17と半導体チップ3をワイヤ10で接続する状態を示す。また、図19に半導体チップ3と内翼リード7gの突出部18を接続するワイヤ10の接続状態を示し、図21に半導体チップ3と中翼リード7hの突出部18を接続するワイヤ10の接続状態を示す。
本実施例3の半導体装置1の製造においては、隣接するリード7における各突出部18は、リード7の交差方向に一列に並ばないようにリードの延在方向にずれて配列されている。即ち、隣接するリード7における突出部18の配列がリードの配列方向に一列に並ばない配列になっていることから、ワイヤボンディング時、隣接するリードにおける各突出部18と半導体チップの電極9を接続する際、ワイヤ10の描くループ高さを隣接するワイヤと接触しない異なるループ形状として形成することができる。隣接するリードにおけるワイヤ10は、図17及び図23に示すように、接触することなく延在している。図23は内翼リード7gと中翼リード7hを併記して、両者のリードにおけるワイヤ10の形状及びループ高さの違いを示す模式図である。
本実施例3においては、実施例1及び実施例2が有する効果に加えて、さらにリード7におけるワイヤ接続部が多くなり、より複雑な配線レイアウトに対処できる。また、グランド電位となる半導体チップの電極を全てタブ吊りリード6に接続できず、幾本かのリードをグランドリードとする場合でも、リードにおけるワイヤ接続部が多くなることからグランドリード数を少なくでき、半導体装置1の小型化が可能になる。
〔実施例4〕
図24乃至図26は本発明の実施例4の半導体装置に係わる図である。図24はリード,ワイヤ及び半導体チップ等を透視した状態を示す模式的底面図、図25は内端側に突出部有する内翼リード部分の裏返し状態の各図、図26はリードの中程に突出部を有する中翼リード部分の裏返し状態の各図である。
本実施例4は実施例3の半導体装置1において、リード7に設ける突出部18の平面形状を変えたものである。図25(a),(b),(c)及び図26(a),(b),(c)に示すように、内翼リード7g及び中翼リード7hに設ける突出部18を付け根部分が細くなり先端が太くなるように形成している。そして、例えば、先端は円形状になっている。
このように突出部18の付け根部分を細くすることによって、突出部18と封止体2を形成する樹脂との食い込み状態が良好になり、リード7が封止体2から脱落し難くなる。 図35は本実施例4の変形例である。図35は隣接する2本のリード7を示す模式図である。本変形例では、隣接するリード7の突出部18は、図35に示すように破線が延びる方向と垂直方向において、オーバーラップしてもよい。この場合、隣接する突出部18のオーバーラップ量だけ隣接するリード7間のピッチを狭くすることが可能である。
〔実施例5〕
図27乃至図34は本発明の実施例5の半導体装置に係わる図である。本実施例5では、半導体装置1の製造において図32に示すようなリードフレーム40を使用する。このリードフレーム40は、半導体装置1を製造できる製品形成部41を、リードフレーム40の長手方向に沿って9行、リードフレーム40の幅方向に3列配列されるため、1枚のリードフレーム40から27個の半導体装置1を製造することができるようになっている。
本実施例5のリードフレーム40は、製品形成部41の枠が隣接する製品形成部41の枠と共用されている結果、チップボンディング,ワイヤボンディングが終了した後、リードフレーム40の1面に樹脂層を形成し、リードフレーム40と樹脂層を一緒に切断することによって、図27に示すような四角形状の半導体装置1を製造することができる。
切断は、所定厚さのダイシングブレードで行い、この切断によって細い枠部分は切断されて消滅し、切断面にはリード7及びタブ吊りリード6の端面が露出するようになる。また、切断に際しては、樹脂層の表面に支持テープを貼り付け、切断においては支持テープの途中深さまで切断を行ってリードフレーム40及び樹脂層の切断を行い。その後、支持テープを剥がして半導体装置1を得る。
なお、図示はしないが、前記リードフレーム40におけるワイヤ接続面は、ワイヤの接続性を良好とするためにメッキ膜が形成されている。このメッキ膜は、例えば、Au,Ag,Pd等によって形成する。
本実施例5の半導体装置1は、実施例1の半導体装置1において、タブ4が半導体チップ3よりも小さくかつ円形となっている点が異なる。また、この例では、タブ吊りリード6の突出部17及びリード7の先端の屈曲した幅広のワイヤ接続部11aは、プレスによる折り曲げ加工によって形成してある点が異なっている。図28はタブ吊りリードの延在方向に沿う半導体装置1の模式的断面図であり、図29(a)〜(c)がプレスによって屈曲させて形成した突出部17を両側に有するタブ吊りリード部分の裏返し状態の図であり、図29(a)が正面図、図29(b)が平面図、図29(c)が側面図である。
また、図30はリード7の延在方向に沿う半導体装置1の模式的断面図であり、図31(a)〜(c)がプレスによって屈曲させて形成したワイヤ接続部11aを内端側に有するリード7の裏返し状態の図であり、図31(a)が正面図、図31(b)が平面図、図31(c)が側面図である。
このように、ワイヤ接続面をリードやタブ吊りリードの第2の面に対して段差を付ける場合、エッチング以外にプレスによる折り曲げ(屈曲)加工という手法も採用できる。プレスによる折り曲げ加工は大量生産に適し、製造コストの低減が可能になる。
図33及び図34は本実施例5の変形例によるものであり、タブ吊りリード6の突出部17をプレスによる押し潰し加工(コイニング)で形成した例である。即ち、タブ吊りリード6の封止体2の角部分対応する部分に、タブ吊りリード6の両側面に突出部を形成しておき、その後この突出部をプレスで押し潰して、図34に示す突出部17を形成する。図34は、タブ吊りリード6の裏返し状態の図であり、図34(a)が正面図、図34(b)が平面図、図34(c)が側面図である。
本実施例の変形例においてもプレスでタブ吊りリード6の突出部17を形成することから、製造コストの低減が可能になる。
なお、タブ4の形状は円形に限定されるものでなく、チップの面積より小さい範囲で、四角形状、十字形状であってもよい。
以上本発明者によってなされた発明を実施形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。例えば、実施例の半導体装置では、端子配列は1列のQFNがモデルであるが、複数列の外部端子を持つQFN(LLGA:Leadframe Land Grid Array )に関しても同様な効果が得られる。
1…半導体装置、2…封止体、2a…傾斜面、3…半導体チップ、4…タブ、5…接着剤、6…タブ吊りリード、7…リード、7d…両翼リード、7e…片翼リード、7f…片翼リード、7g…内翼リード、7h…中翼リード、9…電極(電極パッド)、10…ワイヤ、11…ワイヤ接続面、11a…ワイヤ接続部、15…固定辺、16…窪み、17,18…突出部、20…幅広部、21,22…窪み、30…実装基板、31…電極(ランド)、32…接合材、33…接着剤、34…放熱フィン、35…放熱体、40…リードフレーム、41…製品形成部、42…ガイド孔、43…スリット、45…テーブル、46…研磨体、47…樹脂バリ。

Claims (11)

  1. 第1の面と前記第1の面の反対面となる第2の面をそれぞれ有する、複数のリード、半導体チップを固定するタブ、前記タブに連なり側面に突出部を有する複数のタブ吊りリード、前記リード及び前記タブ吊りリードを連結する枠部を有し、かつ前記第2の面において前記リード及び前記突出部の少なくとも一部は他の部分に比較して前記第1の面側に近く位置するワイヤ接続面を有するリードフレームを形成する工程と、
    前記タブの前記第2の面に半導体素子を固定する工程と、
    前記半導体素子の電極と前記第2の面側となる前記リード及び前記突出部の前記ワイヤ接続面を導電性のワイヤを介して電気的に接続する工程と、
    前記半導体素子、前記ワイヤ、前記リード、前記タブ吊りリード及び前記タブ吊りリードの突出部を絶縁性樹脂で封止し、かつ前記リード及び前記タブ吊りリードの第2の面を前記絶縁性樹脂から露出するように前記絶縁性樹脂による封止体を形成する工程と、
    前記枠部から前記リード及びタブ吊りリードを切断分離して半導体装置を形成する工程とを有することを特徴とする半導体装置の製造方法。
  2. 前記リードフレームを形成する工程において、前記リード,前記タブ,前記タブ吊りリード,前記突出部及び前記枠部を含む製品形成部を縦横に整列配置したリードフレームを形成し、
    前記封止体の形成工程において、前記各製品形成部を前記絶縁性樹脂で覆って樹脂層を形成し、
    前記リード及び前記タブ吊りリードの切断分離工程において、前記製品形成部の縁に沿うように前記リードフレームを前記樹脂層と一緒に縦横に切断して複数の半導体装置を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  3. 前記リードフレームを形成する工程において、前記リードフレームの前記第2の面を所定厚さエッチングして前記ワイヤを接続する前記リード部分及び前記突出部部分を薄く形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  4. 前記リードフレームを形成する工程において、前記リードフレームを前記第2の面側からプレスによって押し潰して前記ワイヤを接続する前記リード部分及び前記突出部部分を薄く形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  5. 前記リードフレームを形成する工程において、前記リードフレームを前記第2の面側から前記第1の面側に掛けてプレスによって屈曲させて前記ワイヤを接続する前記リード部分及び前記突出部部分を形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  6. 前記リードフレームを形成する工程において、ワイヤを接続するための突出部を前記リードの側面に形成し、かつ前記突出部の前記第2の面となるワイヤ接続面は前記リードの前記第2の面より引っ込んだ面に形成することを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
  7. 前記突出部を前記リードの内端部の側面に形成することを特徴とする請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
  8. 前記突出部を前記リードの両側面に形成することを特徴とする請求項7に記載の半導体装置の製造方法。
  9. 前記隣接するリードにおいて、前記各突出部がリードの交差方向に一列に並ばないようにリードの延在方向にずらして形成することを特徴とする請求項6または請求項8に記載の半導体装置の製造方法。
  10. 前記突出部の前記リード及び前記タブ吊りリードの付け根部分が細くなり先端は太くなるように形成することを特徴とする請求項1または請求項6に記載の半導体装置の製造方法。
  11. 前記タブ吊りリードを途中で屈曲させて前記タブの上面が前記封止体の上面に露出するように形成し、前記封止体の形成後、前記封止体の上面に露出する前記タブの表面に対して付着した樹脂を除去する処理を行うことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置の製造方法。

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012227445A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Renesas Electronics Corp 半導体装置及びその製造方法
JP2013093483A (ja) * 2011-10-27 2013-05-16 Semiconductor Components Industries Llc 半導体装置及びその製造方法
US9324677B2 (en) 2011-04-04 2016-04-26 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US9331041B2 (en) 2011-02-08 2016-05-03 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09139444A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Yamaha Corp 樹脂封止型半導体装置
JP2001267461A (ja) * 2000-03-23 2001-09-28 Mitsui High Tec Inc 半導体装置の製造方法
JP2002134676A (ja) * 2000-09-15 2002-05-10 Samsung Techwin Co Ltd リードフレーム及びそれを備えた半導体パッケージ、並びにその半導体パッケージの製造方法
JP2002184927A (ja) * 2000-12-19 2002-06-28 Mitsui High Tec Inc 半導体装置の製造方法
JP2003204027A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd リードフレーム及びその製造方法、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2003224239A (ja) * 2002-01-29 2003-08-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
WO2004004005A1 (ja) * 2002-07-01 2004-01-08 Renesas Technology Corp. 半導体装置およびその製造方法
JP2004022725A (ja) * 2002-06-14 2004-01-22 Renesas Technology Corp 半導体装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09139444A (ja) * 1995-11-13 1997-05-27 Yamaha Corp 樹脂封止型半導体装置
JP2001267461A (ja) * 2000-03-23 2001-09-28 Mitsui High Tec Inc 半導体装置の製造方法
JP2002134676A (ja) * 2000-09-15 2002-05-10 Samsung Techwin Co Ltd リードフレーム及びそれを備えた半導体パッケージ、並びにその半導体パッケージの製造方法
JP2002184927A (ja) * 2000-12-19 2002-06-28 Mitsui High Tec Inc 半導体装置の製造方法
JP2003204027A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd リードフレーム及びその製造方法、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP2003224239A (ja) * 2002-01-29 2003-08-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体装置およびその製造方法
JP2004022725A (ja) * 2002-06-14 2004-01-22 Renesas Technology Corp 半導体装置
WO2004004005A1 (ja) * 2002-07-01 2004-01-08 Renesas Technology Corp. 半導体装置およびその製造方法

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9331041B2 (en) 2011-02-08 2016-05-03 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and semiconductor device manufacturing method
US9324677B2 (en) 2011-04-04 2016-04-26 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US9653384B2 (en) 2011-04-04 2017-05-16 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US10186496B2 (en) 2011-04-04 2019-01-22 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device to prevent separation of terminals
US10497666B2 (en) 2011-04-04 2019-12-03 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US10707185B2 (en) 2011-04-04 2020-07-07 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US11367704B2 (en) 2011-04-04 2022-06-21 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US11735561B2 (en) 2011-04-04 2023-08-22 Rohm Co., Ltd. Semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
JP2012227445A (ja) * 2011-04-21 2012-11-15 Renesas Electronics Corp 半導体装置及びその製造方法
US9184142B2 (en) 2011-04-21 2015-11-10 Renesas Electronics Corporation Semiconductor device and manufacturing method of the same
JP2013093483A (ja) * 2011-10-27 2013-05-16 Semiconductor Components Industries Llc 半導体装置及びその製造方法

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