JP2002134676A - リードフレーム及びそれを備えた半導体パッケージ、並びにその半導体パッケージの製造方法 - Google Patents
リードフレーム及びそれを備えた半導体パッケージ、並びにその半導体パッケージの製造方法Info
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Abstract
にした改良リードフレームを提供すること。 【解決手段】 パッドと、多数のリードが形成された
支持部と、一端が前記支持部に連結され、その他端が前
記パッドに連結されて前記パッドを支持するタイバーと
を具備し、前記タイバーをダウンセット加工した時の前
記支持部から前記パッドまでの高さが、封入剤カプセル
が形成された時のその高さより高い半導体パッケージ用
のリードフレーム。
Description
それを備えた半導体パッケージ、並びにその半導体パッ
ケージの製造方法に関連し、特に半導体パッケージの製
造におけるモールド樹脂のバリの発生を防止可能にした
リードフレーム、及びそれを備えた半導体パッケージ、
並びにその半導体パッケージの製造方法に関する。
プをリードフレームのパッド上にマウントし、半導体チ
ップの電極とリードフレームのインナリードをワイヤー
ボンディングし、次にモールディング樹脂で前記パッド
とインナリードフレームを封入して形成される。
る一方、その大きさは小型化されてきている。例えば、
CSP(chip scale package)などの例がある。従来の半導
体パッケージでは、リードが半導体パッケージの側面か
ら突出しているが、最近開発されたCSPの形態はリード
が半導体パッケージの底面に露出している。リードが半
導体パッケージの底面に露出されるとパッケージ自体が
大幅に縮小され、パッケージの占有空間も減る。リード
をパッケージの底面に露出させるためにダウンセット加
工し、ハーフエッチングし、露出したリードがプリント
回路基板上の端子と接触するようにする。特定の例で
は、半導体チップがその上に配置されたパッドがパッケ
ージの底面に露出される。
の断面図であって、これは日本国特開昭59-2104
7号に開示されたものである。図面を参照すれば、パッ
ド11の上部表面に半導体チップ14がマウントされ、
リード12はダウンセット加工されている。リード12
の底面12aが樹脂カプセル(encapsulation)15の
底面に露出され、プリント回路基板上の接続端子(図示
せず)と接続できる。リード12の上端と半導体チップ
14の電極(図示せず)とは、ボンディングワイヤー1
3によって連結されている。パッド11はリード12の
上端より低い位置に配置される。図1は、リード12が
ダウンセット加工された例の典型である。
の他の例であって、これは日本国特開昭59-2271
43に開示されたものである。
導体チップ24がマウントされ、リード22はハーフエ
ッチングにより加工され、その底面22aが樹脂カプセ
ル25の底面から露出される。リード22の一端と半導
体チップ24の電極はボンディングワイヤー23によっ
て連結される。図2は、リード22がハーフエッチング
された例の典型である。
ージの概略的な断面図であり、これは米国特許第6,1
43,981号に開示されたものである。図面を参照す
れば、パッド31の上面に半導体チップ34がマウント
され、パッド31の底面及びリード32の底面32aは
それぞれ、樹脂カプセル35の底面から露出している。
すなわち、パッド31とリード32とは同じ高さに形成
される。リード32と半導体チップ34の電極はボンデ
ィングワイヤー33によって連結される。露出したリー
ド32は、プリント回路基板上の接続端子と接続され
る。露出したパッド31の底面は、半導体チップ34か
ら生じる熱を外部に放出する。露出したパッド31は、
プリント回路基板上の熱パッド(図示せず)と接合され
る。図3の半導体パッケージは、パッド31が外部に露
出される例の典型である。
パッケージを製造するために従来の製造工程を適用する
場合、2つの方式が考えられる。第1の方式では、図4
のように個別のリードフレーム41とそれを外側から取
囲むレール42を備えるリードフレームユニットを用い
る。このリードフレームユニットについて、ウェーハソ
ーイング、ダイのマウント、ワイヤーボンディング、モ
ールディング/バリ取り、マーキング、トリミング(切
断)/曲げを行う。このように個別にトリミングするリ
ードフレームの利点は、モールディングによるバリの発
生が相対的に抑制できることである。しかし、バリの発
生を完全に防止するのは不可能であり、実際にはバリを
除去する追加工程が必要である。
トリミングせず、多数の個別リードフレームがマトリッ
クス状に配列されたリードフレームユニットを一回でモ
ールディングする方式である。マトリックス状のリード
フレームユニットは図5に示されている。ここで符合5
1はそれぞれのリードフレームを指し、52は各リード
フレームの外側を取囲むレールを指す。このようなマト
リックス型リードフレームユニットは、ウェーハソーイ
ング、ダイのマウント、ワイヤーボンディング、モール
ディング/バリ取り、マーキング、ソーイング(各ダイ
に分割)の各工程によって形成される。
造工程において、個別にトリミングされるリードフレー
ムは、リードフレームストリップ型のユニット面積がマ
トリックス型のユニット面積より大きいため、単位面積
当りのユニット密度が小さくなる。したがって、単位面
積当りユニット単価が高まる。このような短所を補うた
めにマトリックス型のリードフレームが多く利用されて
いる。ところが、パッドがパッケージの底面に露出され
るタイプの半導体パッケージでは、マトリックス状にモ
ールディングする際のモールディング工程で多くのバリ
が形成されるため、マトリックス型リードフレームを適
用することができない。
用いたモールディング工程に従った、半導体パッケージ
のモールディング工程を示す断面図である。図面を参照
すれば、上部プレート61及び下部プレート62よりな
るモールディングプレート間に、半導体パッケージのモ
ールディングが行われる。前記上下部プレート61、6
2の間に、ワイヤーボンディングによってチップと連結
されたリードフレームを配置すると、前記プレート間に
空間が生じる。この空間にモールド樹脂64を充填する
ことができる。モールド樹脂64は、ゲート63を介し
て前記空間に流し込まれる。リードフレームはパッド6
5とリード67とを備え、前記パッド65上には半導体
チップ66がマウントされている。半導体チップ66の
電極とリード67は、ボンディングワイヤー68によっ
て連結されている。このリードフレームは、図5に示さ
れた個別に切断される前のマトリックス型フレームであ
る。
際に封入ステップが行われる際、パッド65及びリード
67の底面と下部プレート62の内面との間にモールデ
ィングによってバリが生じる。これは、リードフレーム
ユニットがモールディングプレート内に収容された状態
で加熱されると、リードフレームが熱膨張により捩じれ
るからである。また、上部プレート61は、リードフレ
ームユニットの端部のみをクランプするため、中央部に
はクランプされない領域が存在し、リードフレームユニ
ットが浮き上がり、モールド樹脂がリードの下部または
パッドの下部に侵入してバリが形成される。
防止するために、背面テープを用いる方式が紹介されて
いる。これはポリイミドあるいはテフロン(登録商標)
のような耐熱性テープをリードフレームの背面に積層さ
せるものである。ポリイミドテープには接着層があり、
このポリイミドテープと下部プレートの内面とを接着
し、これによってバリの発生を防止することができる。
しかしながら、このような背面テープを使用する方式
は、特定の会社の特殊なテープを使用しなければならな
いため、コストが高く、追加工程が必要となり、投資コ
ストが嵩む。また、テープを除去した後にリードフレー
ムの面に接着剤が残存するため熔接がしにくくなる。ま
た、これを除去するためには化学処理が必要となる。
点を解決するために案出されたものであって、本発明の
目的は、モールディング時のバリの発生を防止可能な改
良リードフレームを提供することである。
剥離現象を防止した半導体パッケージを提供することで
ある。
剥離現象を防止した半導体パッケージの製造方法を提供
することである。
パッケージの製造工程と同じ或いは類似の製造工程によ
って製造コストが低く信頼性が高い半導体パッケージを
具現し、これに必要なリードフレーム及び製造方法を提
供することである。
た目的を達成するために、パッドと、多数のリードが形
成された支持部と、タイバーとを含み、前記タイバーの
一端が前記支持部に連結され、その他端が前記パッドに
連結されて前記パッドを支持し、前記タイバーがダウン
セットされた時の前記支持部から前記パッドまでの高さ
が、樹脂カプセルが形成された時の高さより高いことを
特徴とする半導体パッケージ用のリードフレームが提供
される。
前記多数のリードに対して異なる平面に位置する。
なくとも一部がハーフエッチングにより形成され、その
ハーフエッチングされた部分が半導体チップの電極に電
気的に接続される。
ードの平面とは異なった平面に位置する前記パッドが、
モールディングプレートの内部空間に収容される。
ために、パッドと、多数のリードと、前記パッドの一表
面に取着された半導体チップと、前記パッドから延び、
前記パッドと前記多数のリードとが異なった平面に位置
するようにダウンセット加工されたタイバーと、前記半
導体チップの電極と前記多数のリードとを各々連結する
ボンディングワイヤーと、樹脂カプセルとを含み、前記
パッドの他方の表面が前記樹脂カプセルの一表面に露出
し、前記多数のリードがその他方の表面に露出するよう
に形成されることを特徴とする半導体パッケージが提供
される。
セルが形成された時の前記リードから前記パッドまでの
高さが、タイバーをダウンセット加工した時のその高さ
より低い。
は、前記多数のリードが配置された平面とは異なる平面
に配置された状態で、前記モールディングプレートの内
部空間に収容される。
ップがマウントされた前記パッドの表面が前記パッドの
底面であり、樹脂カプセルの一表面に露出しているパッ
ドの他方の表面が前記パッドの上面であり、前記パッド
が露出している前記樹脂カプセルの表面が前記樹脂カプ
セルの上面であり、リードが露出している前記樹脂カプ
セルの他方の表面が前記樹脂カプセルの底面である。
ップがマウントされた前記パッドの表面が前記パッドの
上面であり、樹脂カプセルの一表面に露出しているパッ
ドの他方の表面が前記パッドの底面であり、前記パッド
が露出している前記樹脂カプセルの表面が前記樹脂カプ
セルの底面であり、リードが露出している前記樹脂カプ
セルの表面が前記樹脂カプセルの底面である。
に、パッドと、多数のリードと、前記パッドから延び前
記パッドを支持するタイバーとを具備するリードフレー
ムを準備するステップと、前記パッドと前記多数のリー
ドとが異なる平面に位置し、かつダウンセット加工した
時の前記リードから前記パッドまでの高さが、樹脂カプ
セルを形成するためのモールディングプレートの内部空
間の高さより高くなるようにタイバーをダウンセット加
工するステップとを含むことを特徴とする半導体パッケ
ージの製造方法が提供される。
レームを準備するステップにおいて、前記各リードの少
なくとも一部がハーフエッチングされ、そのハーフエッ
チングされた部分が半導体チップと電気的に接続され
る。
ット加工ステップの後に、前記パッドの一表面に半導体
チップをマウントするステップと、前記半導体チップの
電極と前記多数のリードとをボンディングワイヤーで連
結するステップと、前記モールディングプレート内に前
記半導体チップがマウントされたリードフレームを収容
して前記パッドを加圧し、その状態でモールディングを
含む型にモールディング樹脂を注入して樹脂カプセルを
形成するステップと、前記リードが相互連結している部
分を切断するステップとが含まれる。
ップを前記パッドの底面にマウントする。
ップを前記パッドの上面にマウントする。
前記多数のリードとは異なる平面に配置された状態で前
記モールディングプレートの内部空間に収容される。
レームを準備するステップにおいて、前記リードフレー
ムが、多数のリードフレームがマトリックス状に相互連
結しているリードフレームユニットとして供給される。
レームを準備するステップにおいて、前記リードフレー
ムが個別にモールディングされ、トリミングされるリー
ドフレームである。
発明を詳しく説明する。
体パッケージを示す。図面を参照すれば、半導体チップ
74はパッド71の底面に取着されている。リード72
はパッド71と異なる高さに配置される。前記パッド7
1及びリード72には、ハーフエッチングによる所定の
加工が施され、銀またはパラジウムのような貴金属でメ
ッキされる。リード72と半導体チップ74の電極はボ
ンディングワイヤー75で相互連結される。前記パッド
71、リード72及び半導体チップ74は、樹脂カプセ
ル76によって覆われている。タイバー(図示せず)
は、その一端が前記パッド71の端部に連結されてそこ
から延び、その他端はリード72と同じ高さに延びてい
る。後述するが、タイバーはダウンセット加工が施され
ている。
ド71の上面は封入剤76の上面に露出し、リード72
の底面は封入剤76の底面に露出している。露出したリ
ード72の底面は、プリント回路基板の接続端子に接続
されると電気接続回路を構成する。露出したパッド71
の上面によって、半導体チップ74から生じる熱が外部
へ容易に放出される。
に用いられるリードフレームの概略的な斜視図である。
また、図9は図8のリードフレームの平面図である。図
面を参照すれば、パッド71の角からタイバー81が延
び、パッド71の回りに多数のリード72が配置されて
いる。前述したようにパッド71とリード72とは異な
る高さに配置されているが、これはタイバー81が前記
パッド71をリード72の平面より高い位置で支持する
ためである。すなわち、タイバー81の一定の長さをダ
ウンセット加工することで、パッド71がリード72に
対して異なる平面に維持されるようにする。参照符合8
1aはタイバー81のダウンセット加工された部分を示
し、81bはリード72と連結されたタイバー81の連
結部を示し、パッド71を異なる平面に支持している。
連結部81bとリード72は同じ平面に配置される。タ
イバー81とリード72は支持部83を介して連結され
る。
のリードフレームが、マトリックス状に相互連結され、
図5のようなリードフレームユニットを構成する。実際
には、ダウンセット加工をする前に、パッド71、リー
ド72及びタイバー81がパンチング、エッチングまた
はスタンピングによって形成される。図8のようにタイ
バー81がパッド71を支持する形状に、型によってダ
ウンセット加工が行われる。通常、リード72を相互連
結する支持部83は、モールディングの後に除去され
る。
製造方法について詳しく説明する。
れるリードフレームは通常の方法で製造できる。すなわ
ち、エッチングやスタンピングによってパッド、リー
ド、タイバーなどを形成し、少なくともワイヤーボンデ
ィングされるインナリード部やパッド部を銀またはパラ
ジウムでメッキする。メッキの厚さ及び種類は製品の用
途によって変わる。最近では、ニッケル/パラジウム材
料を用いたPPFメッキが一般的である。リードフレーム
を形成した後、機械的な方法でダウンセット加工する。
すなわち、図8に示されたように、タイバー81を塑性
変形させ、タイバー81が異なる平面でリード部とパッ
ド71を支持するようにする。
製造方法を概略的に示す図面である。図10を参照すれ
ば、リードフレームの材料をハーフエッチングして所定
の断面に形成する。ハーフエッチングによってリード7
2にランド73を形成する。ランド73は前述したよう
に樹脂カプセル76の底面に露出する部分である。また
パッド71も、その縁側部71aに沿ってハーフエッチ
ングされる。これは、後にモールディングする封入樹脂
とパッド71との密着力を高めるためである。
エッチングした後のパッド71は、タイバー81及び支
持部83を介してリード72に連結されている。
リード72の表面のそれぞれに、メッキ層101及び1
04が形成されている。ニッケルやパラジウム、または
銀などを用いてメッキする。
セットされたことが示されている。これはパッド71を
アップセットさせても同様の結果が得られる。すなわ
ち、図9に示されたように、型を用いてタイバー81の
ダウンセット部分81aを折り曲げることである。この
ようなダウンセットまたはアップセット過程によって、
パッド71とリード72が異なる平面に位置するように
する。
パッド71の底面に取着され、前記半導体チップ74の
電極とリード72とをボンディングワイヤーで連結させ
るワイヤーボンディング工程が行われる。一方、グラウ
ンドワイヤー105がパッド71に直接連結されること
によって、前述したようにタイバーを通じてグラウンド
端子の役割をする連結部81bと電気的に接続される。
71及びボンディングワイヤー75などをモールディン
グして樹脂カプセル76を形成したことを示す図面であ
る。前述したように、リード72のランド73が、樹脂
カプセル76の底面に露出されるようにモールディング
する。パッド71の上面も樹脂カプセル76の上部に近
接させるか、或いは露出することができる。図面には示
されていないが、パッド71の上面にヒートシンクを取
着することによって、半導体チップ74から生じる熱を
効果的に放出させることができる。
ージの底面が図15に示されている。図面を参照する
と、多数のリード72が四角形のパッケージの底面の回
りに配置され、グラウンド端子の役割をするタイバーの
連結部81bが4つの角に配置されている。前述したよ
うに、連結部81bは、トリミングされていないタイバ
ー81を介してパッド71に連結されているため、所定
のグラウンド作用を果たす。
ルディングの際に重要であり、本発明の様々な特徴の内
の1つである。図6を用いて説明したように、モールデ
ィングプレート内部には、半導体チップがマウントされ
たリードフレームが収容される空間が形成される。モー
ルディングプレートの内部空間の厚さをt1とし、ダウ
ンセット加工されたリードフレームユニットの全体の高
さをt2とすれば、t1<t2となるようにダウンセッ
ト加工する。すなわち、ダウンセットしたリードフレー
ムのユニットの全体の高さが、前記モールディングプレ
ートの内部空間の高さより高く形成されるべきである。
つまり、モールディングプレートの上部プレートと下部
プレートとを相互にクランプした状態でモールディング
する際、図8のパッド71の上面は上部プレートの内面
に圧接し、タイバー81の連結部81bの底面は下部プ
レートの内面に圧接している。また前記タイバー81の
連結部81bに対して支持部83を通じて連結したリー
ド72の底面も下部プレートの内面に対して加圧され
る。
ートによってリードフレームが押圧された状態を示す。
この図において、リードフレームの断面は、図9の線A
−Aに沿った断面である。図16において、クランプ
(図示せず)によって上部プレート111と下部プレー
ト112に圧力がかかっておらず、ダウンセットされた
リードフレームの全体の高さはt2である。
び112の間に配置され、図17に示されているように
クランピング圧力Pを受け、リードフレームが弾性変形
されるため、上下部プレート111及び112の間の内
部空間の高さは図17のようにt1となる。したがっ
て、パッド71の上面は上部プレート111の内面に圧
接し、タイバー81の連結部81bは下部プレート11
2の内面に圧接している。また、支持部83を介してタ
イバー81に連結されたリード72の底面も、下部プレ
ート112の内面に圧接している。このような状態で樹
脂モールディングを行うと、樹脂がリードとプレートと
の間及びパッドとプレートとの間に流れることによるバ
リの発生が防止される。
マトリックス型リードフレームユニットがモールディン
グプレート内に収容されたモールディング工程を示す概
略的な断面図である。図面を参照すれば、上部プレート
111と下部プレート112を含むモールディングプレ
ートの内部空間に、半導体チップ74がマウントされた
リードフレームが収容されている。リードフレームのパ
ッド71は上部プレート111の内面に圧接し、タイバ
ー81の連結部81bは下部プレート112の内面に圧
接している。モールディングは、モールディング樹脂を
モールディングプレートのゲート115から注入して行
う。モールディングされた後、通常の方法でバリを除去
してマーキングし、ダムバーを除去する。最後に、モー
ルディング樹脂を切断して個別の半導体パッケージに分
割する。
実施例に従った半導体パッケージの製造方法を示す。こ
の半導体パッケージでは、リード及びパッドの双方が半
導体パッケージの底面に露出されている。結果的に図3
の半導体パッケージと類似した断面形状を有する。
ート121a及び121bには圧力がかかっておらず、
半導体チップ127がマウントされているパッド122
がリード123の位置より低く位置するようにダウンセ
ットされている状態である。すなわち、リードフレーム
をダウンセット加工する際は、パッド122の高さをリ
ード123の高さより低く設定する。符合125はボン
ディングワイヤーを示す。
a及び121bがクランピングされて、モールディング
樹脂126が注入される状態を示す図面である。モール
ディングプレート121a及び121b内に収容された
リードフレームは、クランピング圧力Pを受けている。
モールディングプレートがクランプされると、パッド1
22が下部プレート121aの内面に圧接されるため、
バリの発生を防止することが可能である。
導体パッケージの製造方法は、リードフレームを個別に
モールディングする場合に適用するのが望ましい。すな
わち、図19及び図20に示された方法は、図5に示さ
れたマトリックス型リードフレームユニットよりも図4
に示されたリードフレームユニットを用いて行うのが望
ましい。しかしながら、製造コスト及び製造過程を考慮
すると図4のリードフレームユニットよりも図5のリー
ドフレームユニットの方が望ましい。
した半導体パッケージの製造方法を示す斜視図である。
図面を参照すれば、半導体チップ127がマウントされ
たリードフレームのパッド138からタイバー137が
延びている。タイバー137とリード123は、支持部
139を介して連結されている。支持部139及びリー
ド123は同じ平面に位置し、パッド138は支持部1
39及びリード123の平面と異なる高さにダウンセッ
ト加工される。図面を見やすくするために、ボンディン
グワイヤーは省略してある。モールディングプレートの
上部プレート121bを下部プレート121aに被せ、
内部空間を形成するために上部プレート121bの縁部
132をリード123及び支持部139に対してクラン
プする。パッド138は、前記リード123及び支持部
139の平面より低い位置にダウンセットされているの
で、リード123及び支持部139がクランプされる
と、パッド138の底面は、下部プレート121aの上
面に対して加圧された状態で接触することになる。した
がって、モールディングプレート内に形成された空間に
モールディング樹脂を注入する工程における、パッド1
38の底面と下部プレート121aの上面との間のバリ
の発生を防止することが可能である。
に基づいて説明してきたが、当業者であれば、請求の範
囲によってのみ制限された本発明の範囲を逸脱すること
なく、形状及び詳細の様々な改変が可能であることを理
解されたい。
レームでは、パッドと当該パッドから延びるタイバーが
異なる平面に位置するようにダウンセットまたはアップ
セット加工されるため、モールディングプレート内に樹
脂を封入する際のバリの発生を防止できる。したがっ
て、半導体パッケージの製造方法において、バリ発生の
影響を受けずにマトリックス型リードフレームユニット
を用いることが可能である。また、半導体パッケージの
信頼性が改善され、低い製造コストで高い生産性を期待
できる。
ある。
図である。
断面図である。
るリードフレームユニットのストリップを示す平面図で
ある。
リップを示す平面図である。
ムユニットを用いた半導体パッケージのモールディング
方法を示す断面図である。
ジの概略的な断面図である。
ードフレームの概略的な斜視図である。
を示す概略的な断面図である。
を示す概略的な断面図である。
を示す概略的な断面図である。
を示す概略的な断面図である。
を示す概略的な断面図である。
前のリードフレームの断面図である。
後のリードフレームの断面図である。
型リードフレームユニットがモールディングプレート内
に収容された状態のモールディング工程を示す概略的な
断面図である。
ッケージの製造方法を示す概略的な断面図である。
ッケージの製造方法を示す概略的な断面図である。
体パッケージの製造方法を示す斜視図である。
Claims (18)
- 【請求項1】 半導体パッケージ用のリードフレーム
であって、 パッドと、 多数のリードが形成された支持部と、 一端が前記支持部に連結され、その他端が前記パッドに
連結された前記パッドを支持するタイバーとを具備し、 前記タイバーをダウンセット加工した時の前記支持部か
ら前記パッドまでの高さが、樹脂カプセルが形成された
時のその高さより高いことを特徴とする半導体パッケー
ジ用のリードフレーム。 - 【請求項2】 前記パッドが、前記多数のリードとは
異なった平面に位置することを特徴とする請求項1に記
載の半導体パッケージ用のリードフレーム。 - 【請求項3】 前記リードの少なくとも一部がハーフ
エッチングにより形成され、前記各リードのハーフエッ
チングされた部分と半導体チップの電極が電気的に接続
されることを特徴とする請求項1に記載の半導体パッケ
ージ用のリードフレーム。 - 【請求項4】 前記多数のリードが配置された平面と
は異なる平面に配置された前記パッドが、前記モールデ
ィングプレートの内部空間に収容されることを特徴とす
る請求項2に記載の半導体パッケージ用リードフレー
ム。 - 【請求項5】 半導体パッケージであって、 パッドと、 多数のリードと、 前記パッドの一表面にマウントされる半導体チップと、 前記パッドから延び、前記パッドと前記多数のリードと
が異なる平面に配置されるようにダウンセット加工され
たタイバーと、 前記半導体チップの電極と前記多数のリードとを各々連
結するボンディングワイヤーと、 樹脂カプセルとを具備し、 前記パッドの他方の表面が前記樹脂カプセルの一表面に
露出し、前記多数のリードが前記樹脂カプセルの他方の
表面に露出するように形成されることを特徴とする半導
体パッケージ。 - 【請求項6】 前記樹脂カプセルが形成された時の前
記リードから前記パッドまでの高さが、タイバーをダウ
ンセット加工した時のその高さより低いことを特徴とす
る請求項5に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項7】 前記多数のリードが配置された平面と
は異なる平面に配置された前記パッドが、前記モールデ
ィングプレートの内部空間に収容された状態で製造され
ることを特徴とする請求項5に記載の半導体パッケー
ジ。 - 【請求項8】 前記半導体チップがマウントされる前
記パッドの表面が当該パッドの底面であり、前記樹脂カ
プセルの一表面に露出される前記パッドの他方の表面が
当該パッドの上面であり、前記パッドが露出される前記
樹脂カプセルの表面が当該樹脂カプセルの上面であり、
前記リードが露出される前記樹脂カプセルの他方の表面
が当該樹脂カプセルの底面であることを特徴とする請求
項5に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項9】 前記半導体チップがマウントされる前
記パッドの表面が当該パッドの上面であり、前記樹脂カ
プセルの一表面に露出される前記パッドの他方の表面が
当該パッドの底面であり、前記パッドが露出される前記
樹脂カプセルの表面が当該樹脂カプセルの底面であり、
前記リードが露出される前記樹脂カプセルの他方の表面
も当該樹脂カプセルの底面であることを特徴とする請求
項5に記載の半導体パッケージ。 - 【請求項10】 前記各リードの少なくとも一部がハ
ーフエッチングにより形成され、そのハーフエッチング
された前記各リード部分と半導体チップの電極とが電気
的に接続されることを特徴とする請求項5に記載の半導
体パッケージ。 - 【請求項11】 パッドと、多数のリードと、前記パ
ッドから延び、当該パッドを支持するように形成された
タイバーとを具備するリードフレームを準備する段階
と、 前記パッドと前記多数のリードとが異なる平面に位置す
るように前記タイバーをダウンセット加工する段階とを
含み、 前記タイバーをダウンセット加工した時の前記リードか
ら前記パッドまでの高さが、樹脂カプセルを形成するた
めのモールディングプレート内部空間の高さより高いこ
とを特徴とする半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項12】 前記リードフレームを準備する段階
において、前記各リードの少なくとも一部がハーフエッ
チングされ、ハーフエッチングされた前記各リード部分
が半導体チップに電気的に接続されることを特徴とする
請求項11に記載の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項13】 前記パッドの一表面に半導体チップ
をマウントする段階と、 前記半導体チップの電極と前記多数のリードとをボンデ
ィングワイヤーで連結する段階と、 前記半導体チップがマウントされたリードフレームを前
記モールディングプレート内に収容して前記パッドを加
圧し、その状態でモールディングプレートを含む型にモ
ールディング樹脂を注入して樹脂カプセルを形成する段
階と、 前記リードが相互連結している部分を切断する段階とが
前記ダウンセット加工段階の後に行われることを特徴と
する請求項11に記載の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項14】 前記半導体チップが前記パッドの底
面にマウントされることを特徴とする請求項13に記載
の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項15】 前記半導体チップが前記パッドの上
面にマウントされることを特徴とする請求項13に記載
の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項16】 前記多数のリードが配置された平面
とは異なる平面に配置された前記パッドが、前記モール
ディングプレートの内部空間に収容されることを特徴と
する請求項11に記載の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項17】 前記リードフレームを準備する段階
において、前記リードフレームが、多数のリードフレー
ムがマトリックス状に連結されたリードフレームユニッ
トとして提供されることを特徴とする請求項16に記載
の半導体パッケージの製造方法。 - 【請求項18】 前記リードフレームを準備する段階
において、前記リードフレームが、個別にモールディン
グ及びトリミングされるリードフレームであることを特
徴とする請求項16に記載の半導体パッケージの製造方
法。
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