JP2009243749A - 乾燥装置及び光学フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】乾燥に要するエネルギー消費を少なくし、且つ品質を低下させることなく乾燥速度を上げる。
【解決手段】
可撓性フィルム１２上に形成した塗布層を熱風乾燥する乾燥装置１８において、塗布膜を、熱風温度以下の温度で加熱する赤外線放射板２０を備えた。
【選択図】 図１

Description

本発明は乾燥装置及び光学フィルムの製造方法に係り、特に、連続走行する可撓性フィルム上に各種塗布液を塗布した塗布膜を乾燥する技術に関するものである。

塗布膜を乾燥させる方法として、塗布膜面に所定温度の乾燥風を吹き付けることにより乾燥させる方法が広く採用されている。しかし、吹き付けた空気の圧力により塗布膜面に凹凸を伴った吹かれムラを生じることがあった。

この対策として、例えば、特許文献１では、乾燥風による吹かれムラを抑制するために、塗布膜に当たる乾燥風の風速を極力抑えた上で、塗布後１０秒以内は赤外線ヒータやマイクロウェーブ等により加熱することが提案されている。これにより、乾燥速度を向上できるとされている。

特許文献２では、乾燥炉内に設置したパネル式の電気式赤外線ヒータ等により、塗布膜に含まれる溶剤ガスを蒸発、乾燥させることが提案されている。また、乾燥初期の塗布膜温度を低温から徐々に昇温させる制御を行うことで、塗布膜中の溶剤が気泡となって現れて塗布ムラになるのを抑制している。

特許文献３では、感光性平版印刷版の感光層を赤外線ヒータにより乾燥させる際に、該感光層に悪影響を及ぼす特定の波長を除去することにより、加熱効率を維持することが提案されている。
特開２０００−３２９４６３号公報 特開平１１−２５４６４２号公報 特開２００５−２１５０２４号公報

しかしながら、上記特許文献１〜３では、乾燥初期の塗布膜を、主に赤外線ヒータにより乾燥する。このため、赤外線ヒータの加熱温度を塗布膜温度に対して十分に上げなければならず、エネルギー効率が極めて低くなるという問題がある。

即ち、特許文献１では、塗布直後の塗膜温度が低い状態から昇温させて乾燥しており、特許文献２では、赤外線ヒータの加熱温度を５００℃程度に設定する必要があり、いずれも赤外線ヒータの加熱温度を十分に上げる必要があった。

また、特許文献２のように、赤外線ヒータの高温下に曝されると塗布膜の品質を低下させる虞がある。このため、乾燥初期の塗布膜温度を低くする必要があり、制御が複雑になるという問題があった。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、乾燥に要するエネルギー消費を少なくし、且つ品質を低下させることなく乾燥速度を飛躍的に向上させる乾燥装置及び光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。

本発明の請求項１は前記目的を達成するために、支持体上に形成した塗布膜を熱風乾燥する乾燥装置において、前記塗布膜を、前記熱風温度以下の温度で加熱する赤外線放射体を備えたことを特徴とする乾燥装置を提供する。

請求項１によれば、熱風乾燥装置において、塗布膜を加熱する赤外線放射体を備える。これにより、熱風乾燥のみを行う場合と比較して、赤外線放射体により乾燥初期の塗布膜温度を迅速に昇温することができる。また、赤外線放射体は熱風温度以下で加熱するため、塗布膜を加熱し過ぎて品質を低下させる虞もない。これにより、エネルギーの消費を少なくし、乾燥速度を向上させることができる。赤外線放射体は、赤外線を放射して熱風温度以下の低温で加熱できる部材であればよく、例えば、パネル式赤外線ヒータ等も含まれる。

請求項２は請求項１において、前記赤外線放射体は、前記支持体に所定間隔で対向配置された板部材又はパイプ部材であることを特徴とする。

請求項２によれば、板部材又はパイプ部材を、支持体に所定間隔で対向するように配置するので、支持体面の全体に対して略均一に輻射熱を照射できる。これにより、乾燥速度を塗布膜全体で均一に上げることができる。

請求項３は請求項２において、前記赤外線放射体と前記支持体との間隔は１００ｍｍ以下であることを特徴とする。

請求項３によれば、赤外線放射体と支持体との間隔は１００ｍｍ以下にするので、赤外線放射体の輻射熱を効率よく利用することができる。

請求項４は請求項１〜３の何れか１項において、前記赤外線放射体は、表面がセラミック又は黒色で覆われたことを特徴とする。

請求項４によれば、赤外線放射体の表面をセラミックスや黒色で覆うので、赤外線放射効率を高めることができる。

請求項５は請求項１〜４の何れか１項において、前記赤外線放射体は、金属製であることを特徴とする。

請求項５によれば、赤外線放射体が熱伝導率の高い金属製であるので、装置内の熱風の熱を効率よく吸収できる。このため、赤外線放射体の熱源に要するエネルギーを低減できる。

請求項６は請求項１〜５の何れか１項において、前記赤外線放射体は、前記熱風乾燥工程又は他の工程において生成される熱風、蒸気、過熱蒸気、熱水のいずれか一以上により加熱されることを特徴とする。

請求項６によれば、赤外線放射体の熱源として、熱風乾燥工程或いは他の工程の排熱を利用するので、乾燥に要するエネルギーを低減できる。

本発明の請求項７は前記目的を達成するために、走行する長尺状支持体上に光学用途の塗布液を塗布した後、熱風乾燥させる光学フィルムの製造方法において、前記塗布液を、請求項１〜６の何れか１項の装置を用いて乾燥することを特徴とする光学フィルムの製造方法を提供する。

請求項７によれば、光学用途の塗布膜を、熱風温度以下の低温で、迅速に乾燥することができる。

請求項８は請求項７において、赤外線放射体の加熱温度は、８０〜１５０℃であることを特徴とする。

加熱温度が低すぎると加熱効果が小さく、高すぎると塗布膜や支持体の品質を低下させる虞がある。請求項８によれば、特に光学用途の塗布液を使用する場合において、赤外線放射体の加熱温度を上記範囲とすることで、塗布膜の品質を低下させることなく、乾燥・加熱速度を向上させることができる。

請求項９は請求項７又は８において、前記塗布液は、液晶性化合物を含むことを特徴とする。

請求項９によれば、液晶性化合物を含む光学異方性層を初期乾燥する際、低温で迅速に乾燥できる。このため、配向不良、乾燥ムラ等の不具合を生じることなく効率よく乾燥できる。

本発明によれば、乾燥に要するエネルギー消費を少なくし、且つ品質を低下させることなく乾燥速度を上げることができる。

以下、添付図面に従って本発明に係る乾燥装置の好ましい実施の形態について説明する。

図１は、本発明の塗布膜の乾燥装置を組み込んだ塗布・乾燥ライン１０の一例を示す概念図である。

図１に示されるように、塗布・乾燥ライン１０は、主として、ロール状に巻回された可撓性フィルム１２を送り出す送り出し装置（図示略）、バックアップローラ１４に巻き掛けられた可撓性フィルム１２に塗布液を塗布する塗布手段１６、可撓性フィルム１２に塗布形成された塗布膜を乾燥させる乾燥装置１８、及び塗布・乾燥により製造された製品を巻き取る巻き取り装置（図示略）と、可撓性フィルム１２が走行する搬送経路を形成する多数のガイドローラ１９、１９…とより構成される。

可撓性フィルム１２としては、ポリエチレン、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＴＡＣ（トリアセテート）等の樹脂フィルム、紙、金属箔等を使用できる。

塗布手段１６は、各種方式のものが使用できる。たとえば、スロット・ダイコータ、ワイヤーバーコータ、ロールコータ、グラビアコータ、スライドホッパ塗布方式、カーテン塗布方式、等が使用できる。

なお、塗布手段１６の前段に、除塵設備を設置したり、可撓性フィルム１２の表面に前処理等を施したりしてもよい。ゴミ等の殆どない高い品質が求められる光学性フイルム等では、これらを同時に採用することで、高品質な塗布、乾燥膜を得ることができる。

乾燥装置１８は、塗布直後の塗布膜に熱風を給排気して乾燥する装置本体内に、可撓性フィルム１２に赤外線を放射する赤外線放射板２０（赤外線放射体）が複数設けられている。

図２は、乾燥装置１８の構成をさらに説明する断面模式図である。なお、同図では、塗布膜１２Ａは鉛直方向上側に形成された場合である。

同図に示されるように、乾燥装置１８は、乾燥装置本体１８Ａに、塗布膜面に熱風を給気する給気ダクト２２と塗布膜を乾燥させた熱風を排気する排気ダクト２４とを備え、可撓性フィルム１２の非塗布膜面側には、所定距離をおいて複数の赤外線放射板２０が配設されている。

給気ダクト２２は、可撓性フィルム１２の走行方向上流側に配置され、塗布膜面に対して熱風を吹き当てるように構成されている。そして、排気ダクト２４は、給気ダクト２２よりも可撓性フィルム１２の走行方向下流側に配置され、塗布膜から蒸発した溶剤等を排出できるように構成されている。

赤外線放射板２０は板状部材であり、可撓性フィルム１２の非塗布膜面と一定の距離Ｌをおいて対向するように配設される。赤外線放射板２０は、乾燥装置本体１８Ａ内の熱風で加熱されることで赤外線を放射し、輻射熱により可撓性フィルム１２を加熱する。

赤外線は、約０．７６μｍ〜１ｍｍの波長領域を有しており、近赤外線領域（０．７６〜２μｍ）、中赤外線領域（２〜４μｍ）、遠赤外線領域（４μｍ〜１ｍｍ）に区分される。波長領域が短くなるに従って加熱効率が良くなるが、塗布膜面の樹脂等に対する吸収性が優れる点で遠赤外線領域が好適である。

赤外線放射板２０の材質は、特に制限はないが、熱風の熱を取り込み易くする上で、熱伝導率が１０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上のものが好ましく、中でも、耐食性に優れるステンレス等の金属が好ましい。その他の材質としては、セラミック等が挙げられ、特にアルミナ系やジルコニウム系のファインセラミックが好適である。

赤外線放射体は、可撓性フィルム１２の面内全体を均一に加熱できるものであれば、上記赤外線放射板２０のような板状部材に限定されず、例えば、パイプ状部材等でもよい。さらに、赤外線の放射効率を高める上で、赤外線放射体の表面に赤外線放射量が多い素材でコーティングを施すことが好ましい。このような赤外線放射量が多い素材でのコーティングとしては、セラミックコートが挙げられる。また、黒体塗料を塗布したり黒体テープを貼着したりすることによって黒色コートするなど、赤外線放射体が黒体として作用する処理（黒体化処理）を施してもよい。ここで、黒体とは、赤外線領域での放射率が高いものであり、たとえば波長５〜１５μｍの領域で放射率８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上がさらに好ましい。また、黒体化処理とは、黒体に近い性質を付与する処理を施すことであって、必ずしも可視光域において黒色をしているとは限らない。赤外線放射体の表面には、板部材やパイプ部材の表面積を大きくする表面形状・加工を施したりしてもよい。中でも、赤外線放射板２０としては、表面を黒色コートした金属板が好ましい。赤外線放射体の赤外線の波長や放射効率は、赤外線放射体の材質や表面コートの種類、加熱温度等により調整することができる。

赤外線放射体は、上述した板状部材やパイプ状部材に限らず、赤外線を放射する一般的な赤外線ヒータ、例えばパネル状の電気式赤外線ヒータ、遠赤外線ヒータ等も含まれる。

赤外線放射板２０と可撓性フィルム１２の距離Ｌは、輻射熱による加熱効率を高める上で、１００ｍｍ以下であることが好ましく、５０ｍｍ以下であることがより好ましく、１０ｍｍ以下であることが更に好ましい。赤外線放射板２０の大きさは、塗布膜面全体を均一に加熱する上で、塗布膜の幅と同等以上とすることが好ましい。

次に、図１の塗布・乾燥ライン１０における作用について説明する。

可撓性フィルム１２を不図示の送り出し装置により送り出し、塗布手段１６に搬送する。なお、必要に応じて、可撓性フィルム１２の表面を不図示の除塵装置で除塵してもよい。

次いで、塗布手段１６により可撓性フィルム１２上に塗布液を塗布した後、乾燥装置１８において塗布膜を乾燥させる。塗布膜の湿潤厚みは、２５μｍ以下程度とすることができる。

乾燥装置１８内では、塗布膜の表面側から熱風を吹き出して乾燥すると同時に、可撓性フィルム１２の非塗布面側からは赤外線放射板２０による輻射熱で加熱する。即ち、赤外線放射板２０は、熱風により加熱されて赤外線を放射し、塗布膜を加熱する。例えば、光学補償シートの光学異方性層を１３０℃の熱風を風速５ｍ／秒以下で乾燥・加熱する場合、赤外線放射板２０の温度は、熱風温度以下、具体的には８０〜１３０℃とすることが好ましい。

なお、熱風の風速が大きすぎると、特に乾燥初期では流動状態の塗布膜面に吹かれムラを生じる虞があるため、０．５ｍ／秒以下とすることが好ましい。

このように、熱風乾燥に赤外線による低温加熱を併用することで、塗布後の乾燥初期における塗布膜面の温度上昇不足による乾燥遅れや加熱不足を解消すると共に、塗布膜の昇温時間を短縮できる。これにより、設備上工程長を延長しなくても、理論上の有効工程長を長くすることができるので、生産効率を飛躍的に向上させることができる。

また、熱風乾燥と赤外線による加熱とを併用するので、赤外線による加熱温度を熱風温度よりも高くする必要がない。このため、乾燥に要するエネルギー消費を少なくできると共に、乾燥効率を飛躍的に向上させることができる。

また、赤外線による輻射熱は、熱風を熱源とするため熱風温度よりも高くなることはない。このため、温度制御をしなくても熱風温度以下の低温で加熱でき、塗布膜を高温にし過ぎることによる品質の低下を防止できる。また、赤外線放射板２０を非塗布膜面側に配置するので、塗布膜面に赤外線放射板２０に起因する異物が落下、付着する虞もない。

さらに、連続的に製造する工程において機械の故障等でラインが停止した場合でも、赤外線による加熱温度が熱風温度以下であるため、高温ヒータのように可撓性フィルムの加熱が急激に進み、品質を低下させるのを防止できる。

本実施形態では、熱風温度以下の低温で加熱する赤外線放射体として、赤外線放射板２０を設置する例で説明したが、これに限定されない。たとえば、赤外線放射体の加熱温度を調整する必要がある場合は、図３のような構成を採ることができる。

図３は、乾燥装置１８の他の実施形態について説明する説明図である。

図３に示すように、赤外線放射板２０を除外し、パイプ状の赤外線放射体２６、該パイプ状赤外線放射体２６の加熱温度を測定する温度計２８、及びパイプ状赤外線放射体２６を所定の加熱温度に制御する制御手段３０を設けた以外は図２とほぼ同様に構成される。

パイプ状赤外線放射体２６としては、例えば、１本の中空状パイプを蛇行させてパネル状に形成したものが使用される。パイプ状赤外線放射体２６は、バルブ３２を備えた配管２７と連通しており、この配管２７を通して別工程からの排熱源（熱風、過熱蒸気、熱水、蒸気等）が供給されるようになっている。

制御手段３０には、温度計２８での測定結果が入力される。制御手段３０は、該測定した結果に基づいてバルブ３２の開度を制御して、パイプ状赤外線放射体２６への排熱源の供給量を調整する。これにより、パイプ状赤外線放射体２６を所定の加熱温度、即ち熱風温度以下となるように調整することができる。

このように構成することで、塗布膜を乾燥・加熱する際、熱風乾燥に赤外線による加熱を併用することにより、乾燥・加熱効率を飛躍的に向上させることができる。

また、赤外線による加熱温度を調整できるので、塗布膜の品質を低下させないような加熱温度に維持することができる。

以上説明したように、本発明に係る乾燥方法及び装置を採用することにより、塗布後の乾燥初期における塗布膜の昇温時間を短縮することができる。これにより、設備上工程長を延長しなくても、理論上の有効工程長を長くすることができ、生産効率を飛躍的に向上させることができる。また、赤外線による加熱温度を熱風温度よりも高くする必要がない。このため、乾燥に要するエネルギー消費を少なくできると共に、品質を低下させることなく乾燥効率を飛躍的に向上させることができる。

なお、上記各実施形態では、塗布膜が鉛直方向上向きの状態で乾燥・加熱する例を示したが、これに限定されることはなく、塗布膜が鉛直方向下向きの状態で乾燥・加熱してもよい。また、赤外線放射体をいずれも塗布膜が形成されていない面側（可撓性フィルムの非塗布面側）に設置する例を示したが、これに限定されず、塗布膜面側に対向するように設置してもよい。この場合、例えば、赤外線放射体と塗布膜面との間において熱風が均一に塗布膜近傍を流れるように、熱風の吹出口や排出口、赤外線放射体等を配置することが好ましい。

上記各実施形態では、主に塗布膜の乾燥初期に本発明の乾燥装置及び方法を適用する例を示したが、これに限定されず、塗布膜を初期乾燥させた後の各種加熱工程（熱処理工程）にも適用できる。

また、上記図３の実施形態において、排熱源を冷媒等と熱交換させた後、パイプ状赤外線放射体２６に供給するように構成してもよい。これにより、パイプ状赤外線放射体２６の温度を更に調整自在にすることができる。

本発明は、塗布膜の乾燥・加熱工程に幅広く適用できるが、例えば、光学補償シートや反射防止フィルム、防眩性フィルム、偏光板等の光学フィルムの製造に好適に適用できる。その他、例えば、各種電池用電極材料や磁性材料、感光材料等の乾燥或いは加熱工程等の製造技術にも適用可能である。

以下、実施例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明するが、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔実施例１〕
図４に示されるように、光学補償シートの製造ラインは、たとえば下記の工程により行われる。なお、同図において、配向膜形成プロセスでは塗布面は鉛直方向下向きとし、ラビング処理以降のプロセスでも塗布面は下向きとする。

１）透明フィルム４２の送出工程５０；
２）透明フィルム４２の表面に配向膜形成用樹脂を含む塗布液を塗布、乾燥する配向膜形成用脂層の形成工程５２；
３）表面に配向膜形成用樹層が形成された透明フィルム４２上に、樹脂層の表面にラビング処理を施し透明フィルム４２上に配向膜を形成するラビング工程５４；
４）液晶性ディスコティック化合物を含む塗布液を、配向膜上に塗布する液晶性ディスコティック化合物の塗布工程５６；
５）該塗布膜を乾燥して該塗布膜中の溶媒を蒸発させる乾燥工程５８（本発明に係る乾燥装置）；
６）該塗布膜をディスコティックネマティック相形成温度に加熱して、ディスコティックネマティック相の液晶層を形成する液晶層形成工程６０；
７）該液晶層を固化する（すなわち、液晶層形成後急冷して固化させるか、または、架橋性官能基を有する液晶性ディスコティック化合物を使用した場合、液晶層を光照射（または加熱）により架橋させる）工程７２；
８）該配向膜および液晶層が形成された透明フィルム４２を巻き取る巻取り工程６４。

なお、図４において、乾燥工程５８に本発明に係る乾燥方法及び装置が適用された場合とする。また、５３は乾燥ゾーンを、６４は検査装置を、６６は保護フィルムを、６８はラミネート機を、７０は除塵設備をそれぞれ示す。

光学補償シートの製造方法は、図４に示されるように長尺状の透明フィルムを送り出す工程から、得られた光学補償シートを巻き取る工程まで一貫して連続的に行なった。トリアセチルセルロース（フジタック、富士写真フィルム（株）製、厚さ：１００μｍ、幅：５００ｍｍ）の長尺状の透明フィルム４２の一方の側に、長鎖アルキル変成ポバール（ＭＰ−２０３、クラレ（株）製）５重量％溶液を塗布し、９０℃で４分間乾燥させて、膜厚２．０μｍの配向膜形成用樹脂層を形成した。この配向膜形成用樹脂層の表面にラビング処理して配向膜を形成し、該配向膜を除塵した。なお、ラビング処理は、ラビングローラの回転数を３００ｒｐｍとして行った。

上記トリアセチルセルロースフィルムは、フィルム面内の直交する二方向の屈折率をｎｘ、ｎｙ、厚さ方向の屈折率をｎｚ、そしてフィルムの厚さをｄとしたとき、（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ＝１６ｎｍ、｛（ｎｘ−ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ＝７５ｎｍであった。

次いで、得られた配向膜上に、ディスコティック化合物ＴＥ−８の（３）とＴＥ−８の（５）の重量比で４：１の混合物に、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）を上記混合物に対して１重量％添加した混合物の１０重量％メチルエチルケトン溶液（塗布液）を、ワイヤーバー塗布機にて、塗布量を５ｃｃ／ｍ^２で塗布した。

次いで、乾燥および加熱ゾーンを通過させた。乾燥ゾーンには５ｍ／秒の風を送り、加熱ゾーンは１２０℃に調整した。塗布後３秒後に乾燥ゾーンに入り、３秒後に加熱ゾーンに入った。加熱ゾーンは約３分で通過した。

そして、この配向膜及び液晶層が塗布された透明フィルム４２を、液晶層の表面に紫外線ランプにより紫外線を照射した。即ち、上記加熱ゾーンを通過した透明フィルム４２は、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、液晶層を架橋させた。なお、透明フィルム４２の搬送速度は４０ｍ／分とした。

上記の乾燥・加熱工程において、赤外線放射板２０の設置の効果、及び赤外線放射板２０の温度、赤外線放射板２０と透明フィルム４２との距離等の条件が、塗布膜面の昇温速度や品質に与える影響について試験を行った。以下に、その条件および結果を記す。

（試験１）
赤外線放射板２０を、透明フィルム４２との距離が１０ｍｍとなる位置に設置した。赤外線放射板２０の温度は、熱風温度と同じ１２０℃であった。そして、塗布膜が乾燥ゾーンに入った後、室温から熱風温度と同じ温度になるまでに要する時間を昇温時間（秒）として求めた。また、乾燥後の塗布膜の光学特性については以下のレタデーション値により以下の基準で評価した。

なお、レターデーション値（Ｒｔｈ）は、下記数式（１）で定義される値であり、Ｒｅレターデーション値（Ｒｅ）は、下記数式（２）で定義される値である。

数式（１）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
数式（２）：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
［数式（１）及び（２）において、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率であり、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率であり、またｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率である。そして、ｄはフィルムの厚さである。］
○…Ｒｔｈが目標値（範囲）を満足するレベル
×…Ｒｔｈが目標値（範囲）よりも高いまたは低いレベル
この結果を図５の表に示す。

（試験２）
赤外線放射板２０を、透明フィルム４２との距離が５０ｍｍとなる位置に設置した以外は試験１と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験３）
赤外線放射板２０を、透明フィルム４２との距離が１００ｍｍとなる位置に設置した以外は試験１と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験４）
赤外線放射板２０を、透明フィルム４２との距離が２００ｍｍとなる位置に設置した以外は試験１と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験５）
赤外線放射板２０の温度を７０℃にした以外は試験３と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験６）
赤外線放射板２０の温度を１２０℃とし、熱風温度を１５０℃とした以外は試験３と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験７）
赤外線放射板２０を設置しなかった以外は試験１と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験８）
赤外線放射板２０の温度を２４０℃にした以外は試験３と同様とした。この結果を図５の表に示す。

（試験９）
赤外線放射板２０の温度を１２０℃とし、熱風温度を１００℃とした以外は試験３と同様とした。この結果を図５の表に示す。

図５の表に示すように、試験１〜６は、熱風温度以下の赤外線放射板２０を設置した場合であり、試験７は赤外線放射板２０を設置しなかった場合である。試験８、９は、熱風温度よりも高い温度の赤外線放射板２０を設置した場合である。

試験１〜６は、いずれも試験７と比較して塗布膜を短い時間で昇温できることがわかった。また、試験８は、塗布膜を短い時間で昇温できるが、赤外線放射板２０が高温であるためにＲｔｈが目標範囲よりも高くなってしまい、試験９は熱風温度が低いためにＲｔｈが低くなってしまうことがわかった。

また、試験１〜６に示すように、赤外線放射板２０と透明フィルム４２との距離が大きくなるにつれ、塗布膜の昇温時間は増加する傾向を示した。これは、赤外線放射板２０と塗布膜との距離が離れると輻射熱が到達し難くなるためと考えられる。これにより、赤外線放射板２０と可撓性フィルム１２との距離は１００ｍｍ以下にすることが好ましいことがわかった。

また、試験３、５〜６に示すように、赤外線放射板２０の温度は、熱風温度よりも低すぎても加熱効果が小さいため、熱風温度と同じ温度、或いは熱風温度よりも３０℃程度低い温度程度とすることが好ましいこともわかった。

次に、透明フィルム４２の搬送速度を変えた場合について、赤外線放射板２０の設置の有無における昇温速度、これによる乾燥工程の有効工程長への影響、について検討した。

（試験１０）
赤外線放射板２０を透明フィルム４２から１０ｍｍ離れた位置に設置した。また、赤外線放射板２０の温度は、熱風温度と同じ１２０℃とした。そして、透明フィルム４２の搬送速度を２０ｍ／分のときの昇温時間（秒）を測定した。そして、赤外線放射板２０を設置しなかったときの昇温時間（秒）と比較した。また、赤外線放射板２０の設置により、実質的に伸びる乾燥工程有効長についても以下の式を用いて算出し、以下の基準で評価した。

乾燥工程有効長＝効果時間（設置有無での時間差）×その時間の滞在ゾーン長
例えば、試験１０では、乾燥工程有効長は、（１２−８）／６０×２０＝１（ｍ）となる。

○…伸びた乾燥工程有効長が４ｍ以上
△…伸びた乾燥工程有効長が０ｍよりも長く４ｍよりも短い
×…乾燥工程有効長の伸びはなし（赤外線放射板２０を設けなかった場合と同じ）
この結果を図６の表に示す。

（試験１１）
透明フィルム４２の搬送速度を４０ｍ／分とした以外は試験１０と同様とした。この結果を図６の表に示す。

（試験１２）
透明フィルム４２の搬送速度を６０ｍ／分とした以外は試験１０と同様とした。この結果を図６の表に示す。

（試験１３）
透明フィルム４２の搬送速度を８０ｍ／分とした以外は試験１０と同様とした。この結果を図６の表に示す。

（試験１４）
透明フィルム４２の搬送速度を１００ｍ／分とした以外は試験１０と同様とした。この結果を図６の表に示す。

図６の表に示すように、透明フィルム４２の搬送速度が大きくなるほど、赤外線放射板２０を設置をすることで塗布膜の温度上昇が速くなることがわかった。また、赤外線放射板２０を設置をすることで、赤外線放射板２０を設置しなかった場合よりも有効工程長分だけ余分に加熱したのと同等の効果が得られることがわかった。

これにより、透明フィルム４２の搬送速度を大きくしても、所望の乾燥・加熱を行うことができ、生産効率を飛躍的に向上できることがわかった。

本実施形態における塗布・乾燥ラインの一例を説明する説明図である。 本実施形態における乾燥装置の一例を説明する説明図である。 他の実施形態を示す概略図である。 本実施形態における光学補償シートの製造装置の一例を示した概略図である。 本実施例における結果を示す表図である。 本実施例における結果を示す表図である。

１２…塗布・乾燥ライン、１２…可撓性フィルム、１６…塗布手段、１８…乾燥装置、２０…赤外線放射板、２２…給気ダクト、２４…排気ダクト、２６…パイプ状赤外線放射体、２８温度計、３０…制御手段、３２…バルブ、４２…透明フィルム、５８…乾燥工程、６０…液晶層形成工程

Claims (9)

1. 支持体上に形成した塗布膜を熱風乾燥する乾燥装置において、
   前記塗布膜を、前記熱風温度以下の温度で加熱する赤外線放射体を備えたことを特徴とする乾燥装置。
2. 前記赤外線放射体は、前記支持体に所定間隔で対向配置された板部材又はパイプ部材であることを特徴とする請求項１に記載の乾燥装置。
3. 前記赤外線放射体と前記支持体との間隔は１００ｍｍ以下であることを特徴とする請求項２に記載の乾燥装置。
4. 前記赤外線放射体は、表面がセラミック又は黒色で覆われたことを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の乾燥装置。
5. 前記赤外線放射体は、金属製であることを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の乾燥装置。
6. 前記赤外線放射体は、前記熱風乾燥工程又は他の工程において生成される熱風、蒸気、過熱蒸気、熱水のいずれか一以上により加熱されることを特徴とする請求項１〜５の何れか１項に記載の乾燥装置。
7. 走行する長尺状支持体上に光学用途の塗布液を塗布した後、熱風乾燥させる光学フィルムの製造方法において、
   前記塗布液を、請求項１〜６の何れか１項の装置を用いて乾燥することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
8. 前記赤外線放射体の加熱温度は、８０〜１５０℃であることを特徴とする請求項７に記載の光学フィルムの製造方法。
9. 前記塗布液は、液晶性化合物を含むことを特徴とする請求項７又は８に記載の光学フィルムの製造方法。

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