JP2009239310A - 露光装置 - Google Patents
露光装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009239310A JP2009239310A JP2009165474A JP2009165474A JP2009239310A JP 2009239310 A JP2009239310 A JP 2009239310A JP 2009165474 A JP2009165474 A JP 2009165474A JP 2009165474 A JP2009165474 A JP 2009165474A JP 2009239310 A JP2009239310 A JP 2009239310A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exposure
- mask
- exposed
- opening
- optical system
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
【解決手段】光源7から露光光をカラーフィルタ基板6に対して照射する露光光学系2と、該露光光学系2に対向して配置されカラーフィルタ基板6を載置して一定速度で搬送する搬送手段4とを備え、露光光学系2の光路上に介装するマスク10の開口部10aの像をカラーフィルタ基板6上に転写する露光装置1であって、搬送手段4の移動方向にて露光光学系2による露光位置の手前側を撮像位置とし、カラーフィルタ基板6に予め形成されたブラックマトリクス11を撮像する撮像手段3と、撮像手段3で撮像されたブラックマトリクス11に予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして露光光学系2の露光光の照射タイミングを制御し、カラーフィルタ基板6の所定位置にマスク10の開口部10aの像を転写させる制御手段5とを備えたものである。
【選択図】図1
Description
図1は本発明による露光装置の第1の実施形態を示す概念図である。この露光装置1は、露光光学系により露光光を照射して該露光光学系の経路上に介装するマスクの開口部の像を被露光体上に露光するもので、露光光学系2と、撮像手段3と、搬送手段4と、制御手段5とを備えてなる。なお、以下、被露光体として液晶表示素子のカラーフィルタ基板を例にして説明する。
先ず、露光装置1に電源が投入されると、図1に示す撮像手段3、照明手段及び制御手段5が起動してスタンバイ状態となる。次に、搬送手段4のステージ4a上にカラーフィルタ基板6が載置されて、図示省略のスイッチが操作されると、搬送手段4は、制御手段5の搬送手段コントローラ17により制御されてカラーフィルタ基板6を矢印A方向に一定速度で搬送する。そして、上記カラーフィルタ基板6が撮像手段3の撮像位置に達すると、以下の手順に従って露光動作が実行される。
θ=arctan(t1−t2)V/{K(EL5−EL1)}
を演算することにより求めることができる。
2,2’…露光光学系
3…撮像手段
4…搬送手段
5…制御手段
6…カラーフィルタ基板(被露光体)
7…光源
9…結像レンズ
10…マスク
10a,10a’…開口部
11…ブラックマトリクス(基準パターン)
12…ピクセル
29…アライメント手段
30…ビームスプリッター
30a…結像レンズ側反射面
Claims (6)
- 光源から露光光を被露光体に対して照射する露光光学系と、該露光光学系に対向して配置され前記被露光体を載置して一定速度で搬送する搬送手段とを備え、前記露光光学系の光路上に介装するマスクの開口部の像を前記被露光体上に露光する露光装置であって、
前記マスクの開口部は、前記搬送手段による前記被露光体の移動方向に直交する方向に細長状に形成し、
複数の受光素子が、前記マスクの開口部の長手方向の長さより長く、前記搬送手段による前記被露光体の移動方向と直交する方向に連続して一列状に配列して成り、前記被露光体の移動方向にて前記露光光学系による露光位置の手前側を撮像位置とし、前記被露光体に予め形成された基準パターンを撮像する撮像手段と、
前記撮像手段で撮像された画像を処理することによって、前記基準パターンに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記露光光学系の露光光の照射タイミングを制御し、前記被露光体の所定位置に前記マスクの開口部の像を露光させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記露光光学系は、前記マスクの開口部の像を前記被露光体上に結像する結像レンズを備えたことを特徴とする請求項1記載の露光装置。
- 所定の開口部を有するマスクを介して光源から露光光を被露光体に対して照射し、搬送される被露光体上に前記マスクの開口部の像を露光する露光装置であって、
前記被露光体を一定速度で搬送する搬送手段と、
該搬送手段の上方に配設されて、前記光源から前記被露光体に至る光路上に介装された前記マスクの開口部を前記被露光体上に結像する結像レンズ及び該結像レンズと前記マスクとの間の光路上に傾けて配置されたビームスプリッターを有する露光光学系と、
前記マスクの開口部は、前記搬送手段による前記被露光体の移動方向に直交する方向に細長状に形成し、
複数の受光素子が、前記マスクの開口部の長手方向の長さより長く、前記搬送手段による前記被露光体の移動方向と直交する方向に連続して一列状に配列して成り、前記ビームスプリッターの前記結像レンズ側反射面における反射光を受光可能に配設され、前記被露光体に予め形成された基準パターンを前記結像レンズを介して撮像する撮像手段と、
前記撮像手段で撮像された画像を処理することによって、前記基準パターンに予め設定された基準位置を検出し、該基準位置を基準にして前記露光光学系の露光光の照射タイミングを制御し、前記撮像手段によって撮像する位置と一致した前記被露光体の所定位置に前記マスクの開口部の像を露光させる制御手段と、
を備えたことを特徴とする露光装置。 - 前記光源は、露光光を間歇的に発射するフラッシュランプであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の露光装置。
- 前記制御手段は、前記基準パターンに定めた前記マスクの開口部の露光予定位置と実際の露光位置とのずれを前記基準位置に基づいて演算し、
前記搬送手段又は露光光学系のいずれか一方に、前記制御手段により演算された前記ずれを補正するアライメント手段を備えたことを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載の露光装置。 - 前記マスクは、不透明な部材に露光領域にて被露光体の移動方向に直交する方向に細長状の一つの開口部を形成し、該開口部の長手方向の長さを変更可能に構成したことを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の露光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009165474A JP4951036B2 (ja) | 2009-07-14 | 2009-07-14 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009165474A JP4951036B2 (ja) | 2009-07-14 | 2009-07-14 | 露光装置 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004194023A Division JP2006017895A (ja) | 2004-06-30 | 2004-06-30 | 露光装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009239310A true JP2009239310A (ja) | 2009-10-15 |
JP4951036B2 JP4951036B2 (ja) | 2012-06-13 |
Family
ID=41252814
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009165474A Expired - Lifetime JP4951036B2 (ja) | 2009-07-14 | 2009-07-14 | 露光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4951036B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012029142A1 (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-08 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置および基板位置検出方法 |
Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6289328A (ja) * | 1985-10-16 | 1987-04-23 | Canon Inc | 露光装置 |
JPH05175301A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-13 | Hisashi Matsuzaki | 固体撮像素子およびその素子を備えた位置合わせ制御装置 |
JPH07183203A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-21 | Sony Corp | 半導体露光装置 |
JPH07273014A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Sony Corp | 光学式位置検出装置用の光源及び位置検出方法 |
JPH09127702A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-05-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 大サイズ基板用露光装置および露光方法 |
JPH10335245A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-18 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH11145037A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Toshiba Corp | 電子ビーム描画装置及びマーク位置の検出方法 |
JPH11295056A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-29 | Nikon Corp | 位置検出方法、位置合わせ方法、および露光方法 |
JP2000133562A (ja) * | 1997-05-26 | 2000-05-12 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置 |
JP2001066111A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Nikon Corp | 位置計測方法及び位置計測装置、並びに露光方法及び露光装置 |
JP2002118046A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Nikon Corp | 露光装置およびマイクロデバイスの製造方法 |
JP2003347184A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-12-05 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
JP2004111713A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | 露光用マスク、露光方法、半導体装置の製造方法および露光用マスクの製造方法 |
JP2004165307A (ja) * | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Nikon Corp | 像検出方法、光学特性計測方法、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2004163814A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
-
2009
- 2009-07-14 JP JP2009165474A patent/JP4951036B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6289328A (ja) * | 1985-10-16 | 1987-04-23 | Canon Inc | 露光装置 |
JPH05175301A (ja) * | 1991-12-24 | 1993-07-13 | Hisashi Matsuzaki | 固体撮像素子およびその素子を備えた位置合わせ制御装置 |
JPH07183203A (ja) * | 1993-12-21 | 1995-07-21 | Sony Corp | 半導体露光装置 |
JPH07273014A (ja) * | 1994-03-30 | 1995-10-20 | Sony Corp | 光学式位置検出装置用の光源及び位置検出方法 |
JPH09127702A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-05-16 | Dainippon Printing Co Ltd | 大サイズ基板用露光装置および露光方法 |
JP2000133562A (ja) * | 1997-05-26 | 2000-05-12 | Hitachi Ltd | 縮小投影露光装置 |
JPH10335245A (ja) * | 1997-06-04 | 1998-12-18 | Nikon Corp | 露光装置 |
JPH11145037A (ja) * | 1997-11-07 | 1999-05-28 | Toshiba Corp | 電子ビーム描画装置及びマーク位置の検出方法 |
JPH11295056A (ja) * | 1998-04-15 | 1999-10-29 | Nikon Corp | 位置検出方法、位置合わせ方法、および露光方法 |
JP2001066111A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Nikon Corp | 位置計測方法及び位置計測装置、並びに露光方法及び露光装置 |
JP2002118046A (ja) * | 2000-10-05 | 2002-04-19 | Nikon Corp | 露光装置およびマイクロデバイスの製造方法 |
JP2003347184A (ja) * | 2002-05-22 | 2003-12-05 | Nikon Corp | 露光方法及び露光装置、デバイス製造方法 |
JP2004111713A (ja) * | 2002-09-19 | 2004-04-08 | Semiconductor Leading Edge Technologies Inc | 露光用マスク、露光方法、半導体装置の製造方法および露光用マスクの製造方法 |
JP2004165307A (ja) * | 2002-11-11 | 2004-06-10 | Nikon Corp | 像検出方法、光学特性計測方法、露光方法及びデバイス製造方法 |
JP2004163814A (ja) * | 2002-11-15 | 2004-06-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 露光装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012029142A1 (ja) * | 2010-09-01 | 2012-03-08 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置および基板位置検出方法 |
JP5383920B2 (ja) * | 2010-09-01 | 2014-01-08 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工装置および基板位置検出方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4951036B2 (ja) | 2012-06-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101149089B1 (ko) | 노광 장치 | |
US7812920B2 (en) | Production method of substrate for liquid crystal display using image-capturing and reference position detection at corner of pixel present in TFT substrate | |
TWI394007B (zh) | 曝光裝置 | |
JP2010102149A (ja) | 露光装置及びフォトマスク | |
JP4309874B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4871145B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP5098041B2 (ja) | 露光方法 | |
JP4971835B2 (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
JP5261847B2 (ja) | アライメント方法、アライメント装置及び露光装置 | |
JP5235062B2 (ja) | 露光装置 | |
KR20180037590A (ko) | 보조 노광 장치 및 노광량 분포 취득 방법 | |
JP4951036B2 (ja) | 露光装置 | |
WO2005106591A1 (ja) | 露光パターン形成方法 | |
JP4773160B2 (ja) | 露光装置 | |
KR101103155B1 (ko) | 노광 장치 | |
JP4338628B2 (ja) | 露光装置 | |
JP6879484B2 (ja) | 画像取得装置、露光装置、及び画像取得方法 | |
JP4613098B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4235584B2 (ja) | 露光装置及びパターン形成方法 | |
JP7489913B2 (ja) | 描画装置および描画方法 | |
JP4773158B2 (ja) | 露光装置 | |
JP4195413B2 (ja) | 露光装置及びパターン形成方法 | |
KR101242185B1 (ko) | 노광 장치 | |
JP2009251290A (ja) | 露光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090714 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20100928 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111122 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120306 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120309 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20190316 Year of fee payment: 7 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4951036 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |