従って、本発明の一目的は高性能を有する電気機械的スイッチング素子の提供にある。
本発明の別の目的は前述のスイッチング素子の形成方法の提供にある。
前述の本発明の一目的を達成するために、本発明の実施例によるメモリ素子は、メモリセル内に、電荷を保存するためのストレージノードが具備される。メモリセル内に、第1電極及び第2電極が具備される。前記第1電極は第2部分と電気的に接続される第1部分を含む。前記第1部分は前記第2電極に電圧が印加された際、移動して前記ストレージノードと接続する。
前記ストレージノードから伝達を受ける前記電荷は前記第1部分を通じて前記第2部分の端部と接続された電圧センシング回路へ伝達されることができる。
前記第1部分及び第2部分は前記コンタクトプラグを通じて接続されることができる。
前記第1部分の第1端部は前記ストレージノードに保存された電荷をリードするか或いは前記ストレージノードに電荷を保存するために、第1位置から第2位置へ移動することができる。
前記第2電極に電圧が印加される際、前記第1部分の第1端部が前記ストレージノードと接触するために前記第1部分の第1端部は前記第2位置に位置することができる。
前記第1部分の第2端部は前記コンタクトプラグ上に接触されることができる。
前記第1位置及び第2位置の間の第1距離は前記第2電極とこれに対応する前記第1電極の第1部分との間の第2距離と実質的に同一であり得る。
これとは別に、前記第1位置及び第2位置の間の第1距離は前記第2電極とこれに対応する前記第1電極の第1部分との間の第2距離よりも短くあり得る。
前記第1部分は第1膜及び第2膜を含むことができ、前記第1膜は前記第2膜と異なる物質からなることができる。
前記第1部分は第2部分よりも実質的に短いことができる。
前記第2電極に電圧が印加される際、前記第2電極が活性化されることができる。
メモリ素子は基板をさらに含むことができ、前記基板上に第2部分が形成され、前記基板はガラス、半導体、またはプラスチックの内、少なくとも1つからなることができる。
前記ストレージノードはコンデンサを含み、前記コンデンサは第3電極、誘電膜、及び第4電極を含むことができる。
前記第3電極は前記第1部分の第1端部を受け入れ、前記第4電極は前記導電性プレート上に形成されることができる。
前記ストレージノードは絶縁物質によって囲まれている導電性パターンを含むことができる。
前記メモリ素子は導電性プレートがさらに含まれることができ、前記導電性プレート上に前記ストレージノードが形成されることができる。
前記第1電極はビットラインを含み、前記第2電極はワードラインを含むことができる。
本発明の目的を達成するため、本発明の実施例による集積回路メモリ素子は第1ワードライン及び第1電荷及び第1電荷を保存するための第1ストレージノードを含む第1メモリセルを含む。第2ワードライン及び第2電荷を保存するための第2ストレージノードを含む第2メモリセルを含む。前記第1メモリセルに形成された第1部分と前記第2メモリセルに形成された第2部分を有するビットラインが具備される。前記第1メモリセルに形成された第1部分と前記第2メモリセルに形成された第2部分を有し、前記ビットラインと電気的に接続されるビームラインを含む。前記第1ワードラインに電圧が印加された際、前記ビームラインの第1部分の端部は前記第1ストレージノードと接続されるように移動し、前記第2ワードラインに電圧が印加された際、前記ビームラインの第2部分の端部は前記第2ストレージノードと接続するように移動する。
前記ビットライン及びビームラインはコンタクトプラグを通じて接続されることができる。
前記ビームラインの中心部位は前記コンタクトプラグの上部面と接触されることができる。
前記ビームラインは前記コンタクトプラグに対して実質的に対称な形状を有することができる。
前記第1ストレージノードから伝達を受けた第1電荷は第1部分を通じて前記第2部分の端部と接続された電圧センシング回路へ伝達されることができる。
前記ビームラインの第1端部は前記第1ストレージノードに保存された第1電荷をリードするか或いは前記第1ストレージノードに第1電荷を使うために第1位置から第2位置へ移動できる。
前記第1ワードラインに電圧が印加された際、前記ビームラインの第1端部が前記第1ストレージノードと接触するために、前記ビームラインの第1端部は前記第2位置に位置できる。
前記第1位置と第2位置との第1距離は前記第1ワードラインとこれに対応する前記ビームライン間の第2距離と実質的に同一であり得る。
これとは別に、前記第1位置と第2位置間の第1距離は前記第1ワードラインとこれに対応する前記ビームライン間の第2距離よりも短いこともある。
前記ビームラインは第1膜及び第2膜を含むことができ、前記第1膜は前記第2膜と異なる物質を含むことができる。
前記ビームラインは前記ビットラインよりも実質的に短いことがある。
前記第1ワードラインは電圧が印加される際、活性化されることができる。
前記メモリ素子は基板をさらに含み、前記基板上に前記ビットラインが形成され、前記基板はガラス、半導体、またはプラスチックの内、少なくとも1つからなることができる。
前記第1ストレージノードはコンデンサからなることができ、前記コンデンサは第1電極、誘電膜、及び第2電極を含むことができる。
前記第1電極は前記ビームラインの第1端部を受け入れ、前記第2電極は前記導電性プレート上に形成されることができる。
前記第1ストレージノードは絶縁物質によって囲まれている導電性パターンを含むことができる。
前記メモリ素子は導電性プレートがさらに含まれることができ、前記導電性プレート上に前記第1ストレージノードが形成されることができる。
本発明の一目的を達成するために、本発明の実施例によるメモリ素子は、ビットラインと接続され、第1ビームラインを有する一対の第1メモリセルを含む。前記一対の第1メモリセルと隣接して形成されて前記ビットラインと接続され、第2ビームラインを有する別の一対の第2メモリセルを含む。各々のワードラインに電圧が印加される際、前記ビームラインは電荷が保存される各々のストレージノードに接続されるように移動することができる。
前記ビットライン及び各々のビームラインは各々のコンタクトプラグを通じて電気的に接続されることができる。
前記各々のビームラインは各々のコンタクトプラグ上に接触されることができる。
前記各々のビームラインは前記各々のコンタクトプラグに対して実質的に対称されることができる。
前記各々のストレージノードから伝達を受けた電荷は前記ビットラインの端部に接続された電圧センシング回路を通じて伝達を受けることができる。
前記各々のストレージノードに保存された電荷をリードするか或いは各々のストレージノードに電荷を保存するために、前記各々のビームラインの端部は第1位置から第2位置へ移動できる。
前記各々のワードラインに電圧が印加された際、前記各々のビームラインの端部は前記ストレージノードと接触されるため、前記各々のビームラインの端部は前記第2位置に位置できる。
前記第1位置と第2位置間の第1距離は前記各々のワードラインとこれに対応する各々のビームライン間の第2距離と実質的に同一であり得る。
前記第1位置と第2位置間の第1距離は前記各々のワードラインとこれに対応する各々のビームライン間の第2距離よりも短いことがある。
前記各々のビームラインは第1膜及び第2膜を含み、前記第1膜は前記第2膜と互いに異なる物質からなることができる。
前記各々のビームラインは前記ビットラインよりも実質的に短いことがある。
前記各々のワードラインは電圧が印加された際、活性化されることができる。
前記メモリ素子は基板をさらに含み、前記基板上に前記ビットラインが形成され、前記基板はガラス、半導体、またはプラスチックの内、少なくとも1つからなることができる。
前記各々のストレージノードはコンデンサからなり、前記コンデンサは第1電極、誘電膜、及び第2電極を含むことができる。
前記第1電極は前記ビームラインの第1端部を受け入れ、前記第2電極は前記導電性プレート上に形成されることができる。
前記各々のストレージノードは絶縁物質によって囲まれている導電性パターンを含むことができる。
前記半導体素子は導電性プレートをさらに含み、前記導電性プレート上に前記各々のストレージノードが形成されることができる。
本発明の一目的を達成するために、本発明の実施例によるメモリ素子は、基板及び前記基板上に形成されたビットラインを含む。前記ビットライン上にはワードラインが具備される。前記ワードライン上にはビームラインが具備される。前記ビームラインと基板との間には電荷を保存するためのコンデンサが具備される。前記ビームラインは前記ワードラインに電圧が印加される際、前記コンデンサと接触するように移動できる。
前記メモリ素子は前記ビットライン及びビームラインと接続されるコンタクトプラグをさらに含むことができる。
前記メモリ素子は前記ビームライン上に複数の細孔を有する第1層間絶縁膜がさらに含まれることができる。
前記メモリ素子は前記第1層間絶縁膜上に第2層間絶縁膜がさらに含まれることができる。
前記コンデンサに保存された電荷をリードするか或いは前記コンデンサに電荷を保存するために、前記ビームラインの第1端部は第1位置から第2位置へ移動できる。
前記ワードラインに電圧が印加された際、前記ビームラインの第1端部が前記コンデンサと接触されるため、前記ビームラインの第1端部は第2位置に位置できる。
前記ビームラインの第2端部は前記コンタクトプラグと接触される。
前記第1部分と第2部分間の第1距離は前記第1ワードラインとこれに対応する前記ビームライン間の第2距離と実質的に同一であることができる。
前記第1部分と第2部分間の第1距離は前記第1ワードラインとこれに対応する前記ビームライン間の第2距離よりも短いことがある。
前記ビームラインは第1膜及び第2膜を含むことができ、前記第1膜は第2膜と互いに異なる物質からなることができる。
前記ビームラインは前記ビットラインよりも実質的に短いことがある。
前記ワードラインは電圧が印加される際、活性化できる。
前記基板は、ガラス、半導体、またはプラスチックの内の少なくとも1つからなることができる。
前記コンデンサは第1電極、誘電膜、及び第2電極を含むことができる。
前記第1電極は前記ビームラインの第1端部を受け入れ、前記第2電極は前記導電性プレート上に形成されることができる。
前記メモリ素子は導電性プレートがさらに含まれ、前記導電性プレート上に前記コンデンサか形成されることができる。
本発明の一目的を達成するために、本発明の実施例によるメモリ素子の製造方法をもって、基板上に第1セルのビットラインを形成する。前記ビットライン上にワードラインを形成する。前記ワードライン上に第1ギャップを有するビームラインを形成する。前記ビットライン及びビームラインは互いに電気的に接続することができる。前記ビームラインの端部と基板との間にコンデンサを形成する。前記ビームラインの端部は前記コンデンサの上部面と第2ギャップを有する。前記ビーム上に層間絶縁膜を形成する。前記層間絶縁膜上に第2セルのビットラインを形成する。
前記第1ギャップは実質的に前記第2ギャップと同一である。
前記第1ギャップは前記第2ギャップよりも小さい。
本発明の一目的を達成するために、本発明の実施例によるメモリ素子の製造方法をもって、基板上に第1導電膜を形成する。前記基板のペリフェラル領域のトランジスタを形成し、セル領域の基板にビットラインを形成するために、前記導電膜をパターニングする。前記トランジスタとビットライン上に第1層間絶縁膜を形成する。前記セル領域に、前記第1層間絶縁膜上にコンデンサを形成する。前記ペリフェラル領域の第1層間絶縁膜を貫通して第1コンタクトプラグを形成し、前記セル領域の第1層間絶縁膜を貫通して第2コンタクトプラグを形成する。前記第1コンタクトプラグ、第2コンタクトプラグ、及びコンデンサ上に第2導電膜を形成する。前記セル領域にワードラインを形成するために、第2導電膜をパターニングする。前記ワードライン上に第1犠牲膜を形成する。前記第1犠牲膜上にビームラインを形成する。前記ビームライン上に第2犠牲膜を形成する。そして、前記第1及び第2犠牲膜を除去する。
前記方法において、前記第2層間絶縁膜上に複数の細孔を有する第2層間絶縁膜を形成する工程をさらに遂行する。
前記第1及び第2犠牲膜は前記複数の細孔を通じてエッチングケミカルを流入することによって除去されることができる。
前記方法において、前記第2層管絶縁膜上に第3層間絶縁膜を形成する工程をさらに遂行できる。
前記第1犠牲膜は位置別に相互に異なる厚さを有することができる。前記第1犠牲膜は均一な厚さを有することができる。
以下、添付された図面を参照して本発明の実施例による集積回路メモリセル及びその製造方法に対して詳しく説明するが、本発明が下記の実施例に制限されることはなく、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと理解される。添付図面において、基板、層(膜)、電極、領域、パッド、パターン、または構造物のサイズは本発明の明確性に基づくために実際より拡大して図示したものである。本発明において、各層(膜)、領域、電極、プラグ、パッド、パターン、または構造物が基板、各層(膜)、領域、電極、プラグ、パッド、またはパターン上の「上に」、「上部に」、または「下部に」形成されることと言及される場合には各層(膜)、領域、電極、プラグ、パッド、パターン、または構造物が直接基板、各層(膜)、領域、パッド、またはパターン上に形成されるか或いは下に位置することを意味するかまたは別の層(膜)、別の領域、別のパッド、別の電極、別のパターン、または別の構造物が基板上に追加的に形成されることができる。また、物質、層(膜)、領域、パッド、電極、パターン、または構造物が「予備」、「第1」、「第2」、及び/または「第3」と言及される場合、このような部材を限定するためではなく、単に各物質、層(膜)、領域、電極、プラグ、パッド、パターン、または構造物を区分するためである。従って、「予備」、「第1」、「第2」、及び/または「第3」は各物質、層(膜)、領域、電極、プラグ、パッド、パターン、または構造物に対して各々選択的にまたは交換的に使われることができる。一方、添付図面全体において、実質的に同一であるか或いは類似の部材に対しては同一の参照符号を使用する。
図1は、本発明の一実施例による電気機械的スイッチを示す斜視図である。前記電気機械的スイッチはDRAM素子のようなメモリ素子を構成するメモリセルに使われることができる。前記電気機械的スイッチは前記メモリ素子ではない別の電気素子にも使うことができる。
図1を参照すれば、電気機械的スイッチはメモリセル内に配置される第1電極及び第2電極を含む。前記第1電極はワードライン146であることができ、前記第2電極は空中に浮んでいるビームライン(suspended beam line)160及び埋立ビットライン110を含むビームライン構造であることができる。前記埋立ビットライン110はダイレクトコンタクトを通じて前記ビームライン160と電気的に接続される。前記ダイレクトコンタクトの例としてはコンタクトプラグ136を挙げることができる。前記埋立ビットライン110は基板100上に配置される。前記基板100は、例えば、ガラス、半導体、またはプラスチックを含むことができる。
一実施例として、前記ビームライン160は第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)を含み、前記第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)は互いに反対方向へ延長される。前記第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)は前記コンタクトプラグ136と対応する部位から下方に向かって支持されている。一実施例において、前記ビームライン160及びコンタクトプラグ136の間には導電パターン144が具備されることができる。前記ビームライン160は前記コンタクトプラグ136に対して実質的に対称なように位置できる。前記第1フレキシブル延長部160aの長さは実質的に前記第2フレキシブル延長部160bの長さと同一である。前記ビームライン160の長さは前記埋立ビットライン110の長さより実質的にさらに短い。
一実施例において、前記第1フレキシブル延長部160aの移動は前記第2延長部160bの移動に影響を与えない。例えば、前記第2フレキシブル延長部160bは動かずに前記第1フレキシブル延長部160aは下方に向かって動くことができる。前記第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)は実質的に曲がっていない形状を有することができる。これとは別の例として、前記第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)は曲がった形状を有することができる。または前記第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)は複数の凹んだ部位及び突出された部位を有することができ、前記第1及び第2フレキシブル延長部(160a、160b)の下にはパターンの突出された部位の表面が配置されることができる。
一実施例において、前記ビームライン160は第1膜及び第2膜を含む。前記第1膜は第2膜上に積層されることができる。前記第1膜と第2膜は同一の物質を含むことができる。または前記第1膜と第2膜は互いに異なる物質で形成されることができる。例えば、前記第1膜はシリコン酸化膜(SiO2)またはシリコン酸化膜(SiN)を含むことができ、前記第2膜はタンタル(Ta)またはタンタル窒化物(TaN)のようなタンタルを含む導電物質を含むことができる。前記第1及び第2膜が互いに異なる物質からなるビームラインは前記第1及び第2膜が1つの同一物質からなるビームラインと比較する際、さらにフレキシブルである。
前記第1フレキシブル延長部160aと前記埋立ビットライン110の間にはストレージノードが具備される。前記ストレージノードは電荷を保存するための電気的ノードである。前記第1フレキシブル延長部160aとストレージノードが電気的に接続される際、電荷は前記第1フレキシブル延長部160aと前記コンタクトプラグ136を通じて前記埋立ビットライン110の端部と接続されている電圧センシング回路へ移動できる。一実施例において、前記ストレージノードはコンデンサ152の電極ノードであり得る。これとは別の例として、前記ストレージノードは絶縁体によって取り囲まれている電極パターンのノードであり得る。前記コンデンサ152は上部電極130a、下部電極126、及び前記上、下部電極の間に配置される誘電膜128を含む。
前記コンデンサ152は前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部と隣接するように配置される。前記第1フレキシブル延長部160aの第2端部は前記コンタクトプラグ上に配置される。前記上部電極130aは、例えば、直方体の形状を有することができる。前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部は前記上部電極130aと接触されることができる。一実施例として、前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部は前記上部電極130aの中心部と接触されることができる。前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部と前記上部電極130aが互いに接触する部分はある地点、ライン、または表面になることができる。一実施例として、前記上部電極130a上には導電パッドパターン148がさらに具備されることができる。
前記垂直方向に対して調べてみると、前記ワードライン146は前記第1フレキシブル延長部160aと埋立ビットライン110の間の配置されることができる。また、水平方向に対して調べてみると、前記ワードライン146は前記第1フレキシブル延長部160aの第2端部と前記コンデンサ152の間に配置されることができる。前記ワードライン146に電圧が印加された際、前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部が下方へ移動することにより前記コンデンサ152と接続される。一実施例において、前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部は前記導電パッドパターン148を通じて前記コンデンサ152と電気的に接続されることができる。前記ワードライン146は電圧が印加されることによって活性化されることができる。前記ワードライン146に電圧が印加されることによって前記第1フレキシブル延長部160aに引力が加わる際、前記ワードライン146と前記第1フレキシブル延長部160a間の距離は非常に近くなるが、前記ワードライン146と前記第1フレキシブル延長部160aは互いに接触しないべきである。また、前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部は前記コンデンサ152の上部電極130aと接触されるか或いは前記上部電極130a上に形成された導電パッドパターン148と接触されるべきである。データのライト動作において、前記接触によって前記コンデンサ152には電荷が充電されることができる。これと類似にデータのリード動作を遂行する際、前記ワードライン146が前記第1フレキシブル延長部160aに引力を加えることによって前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部と上部電極130aまたは前記第1フレキシブル延長部160aの第1端部と上部電極130aの上に形成された導電パッドパターン148が互いに接触するようにする。前記にように接触されれば、前記ビットライン110は前記コンデンサ152内に電荷が存在するかを感知するようになる。
前記第2フレキシブル延長部160bに対応する第2メモリセルは前記第1フレキシブル延長部160aと対応する第1メモリセルと互いに対称な形状を有する。例えば、ワードライン146が前記第2フレキシブル延長部160bに引力を加える際、前記第2フレキシブル延長部160bは下方へ移動して前記コンデンサ152と接触する。このように、前記ワードライン146に電圧が印加されれば、前記第1フレキシブル160aは移動によって前記コンデンサ152と接触し、前記第2フレキシブル延長部160bと対応する別のワードライン146に電圧が印加されれば、第2フレキシブル延長部160bは移動によって前記第2フレキシブル延長部160bの下に位置する別のコンデンサ152と接続する。
前記メモリセルの第1対は前記第1フレキシブル延長部160aを含む第1メモリセルと、前記第2フレキシブル延長部160bを含む第2メモリセルを含む。前記メモリセルの第2対は前記メモリセルの第1対の構造と実質的に同一構造を有し、前記メモリセルの第1対と隣接する部位に形成される。前記メモリセルの第1及び第2対は前記埋立ビットライン110を通じて接続されることができる。このように、規則的な間隔を有して配置される一対以上のメモリセルが前記埋立ビットライン110を通じて互いに接続されることができる。前記ワードライン方向に、互いに対称な延長部を有する一対以上のメモリセルが、例えば、規則的な間隔を有しつつ配置されることができる。
図2は、本発明の一実施例による電気機械的スイッチの移動部分を示す。
図2を参照すれば、前記第1フレキシブル延長部161aの第1端部は前記コンデンサ152に保存された電荷をリードするかまたはコンデンサ152に電荷を保存するために第1位置P1から第2位置P2へ移動する。前記ワードライン146に電圧が印加される際、前記第1フレキシブル延長部161aの第1端部は前記コンデンサ152と接触するために前記第2位置P2にあるようになる。一実施例において、前記第1位置P1及び第2位置P2間の第1距離D1は前記ワードライン146とこれに対応して前記ワードライン146の上に位置する前記第1フレキシブル延長部161a間の第2距離D2と実質的に同一である。一実施例において、前記第1距離D1及び第2距離D2は約10nm〜15nmであり得る。
図3は、本発明の一実施例による電気機械的スイッチの移動部分を示す。
図3を参照すれば、前記ビームライン162は第1フレキシブル延長部162a及び第2フレキシブル延長部162bを含む。一実施例として第1位置P3と第2位置P4間の第1距離D3は前記ワードライン146とこれに対応して前記ワードライン146上に位置する前記第1フレキシブル延長部162a間の第2距離D4よりさらに短いことがある。一実施例において、前記第1距離D3は約10nm〜15nmであり、前記第2距離D4は約20nm〜25nmであり得る。従って、前記ワードライン146が前記第1フレキシブル延長部162aに引力が加わる際、前記第2距離D4が前記第1距離D3よりさらに長いため、前記第1フレキシブル延長部162aと前記ワードライン146が互いに接触することを防ぐことができる。即ち、前記第1距離D3が0である際にも前記第2距離D4は一定距離で維持できる。前記ワードライン146が前記第1フレキシブル延長部162aと接触すれば、前記ワードライン146及び/または前記第1フレキシブル延長部162aが損傷されて動作不良が発生する。前記メモリ素子の動作電圧は前記第2距離D4が最小距離を維持することができるように下げることができる。
図4は本発明の一実施例による、ペリフェラル領域に形成されたMOSトランジスタ及びセル領域に形成された電気機械的スイッチを含むメモリ素子を示す断面図である。
図4を参照すれば、前記セル領域の基板100にトレンチ素子分離膜102bが具備される。前記基板100は半導体基板であり得る。前記基板100及びトレンチ素子分離膜102b上には埋立ビットライン110が形成される。前記埋立ビットライン110は導電膜パターン104、前記導電膜パターン104上に位置するマスクパターン108を含む。前記埋立ビットライン110上には第1層間絶縁膜114が形成される。前記第1層間絶縁膜114を貫通し、前記埋立ビットライン110の導電膜パターン104と接触するコンタクトプラグ136が具備される。前記コンタクトプラグ136上には導電パッドパターン144が形成されることができる。前記導電パッドパターン144上にはビームライン160が形成されることができる。前記ビームライン160と前記第1層間絶縁膜114上に位置する第2層間絶縁膜134間にはワードライン146が具備される。前記ワードライン146及び第1フレキシブル延長部160a間は第2距離d2ほど離隔されることができる。前記ビームライン160の端部と隣接する部分と第1層間絶縁膜114間にはコンデンサ152が具備される。一実施例において、前記導電パッドパターン148が前記コンデンサ152上に具備されることができる。前記ビームライン160と導電パッドパターン148間は第1距離d1ほど離隔されることができる。前記ワードライン146に電圧が印加されなかった際、前記第1及び第2距離(d1、d2)は実質的に同一である。
ペリフェラル領域において、前記基板100にはトレンチ素子分離膜102aが形成される。前記基板100上にはゲート電極106及びマスクパターン108を含むMOSトランジスタが形成される。前記ゲート電極106及びマスクパターン108を取り囲むゲートスペーサー116が具備される。前記ゲートスペーサー116に隣接する基板にはソース/ドレイン領域118が形成される。前記ペリフェラル領域のゲート電極106及び前記セル領域の導電性パターン104は同様の膜として形成されることができる。前記層間絶縁膜(114、134)を貫通して前記ソース/ドレイン118と接触するコンタクトプラグ136が具備される。前記コンタクトプラグ136上には導電性ラインパターン150が具備される。
図5は、本発明の一実施例による、ペリフェラル領域及びセル領域を有し、電気機械的スイッチを含むメモリ素子を示す断面図である。
図5を参照すれば、セル領域に、前記図4に図示されたのと類似する構造の電気機械的スイッチが基板300上に形成される。前記基板300はシリコン物質からなっていない基板を使うことができるため、前記基板にトレンチ素子分離膜を省略することができる。前記基板300は、例えば、ガラスまたはプラスチックを含むことができる。ペリフェラル領域に、前記MOSトランジスタに代わって電気機械的スイッチが具備されることができる。
図6は、本発明の一実施例による、ペリフェラル領域にMOSトランジスタを含む積層構造を有するメモリ素子の断面図である。
図6を参照すれば、セル領域において、前記ビームライン160上に複数の微細な細孔206を含む層間絶縁膜204が配置される。前記ビームライン160と層間絶縁膜204間にはギャップ(gap)が生成されている。ペリフェラル領域の基板100上には前記MOSトランジスタが形成される。前記層間絶縁膜は前記導電性ラインパターン150上に形成される。前記セル領域及びペリフェラル領域において、前記層間絶縁膜204の上を覆う上部絶縁膜208が具備される。前記上部絶縁膜208上には電気機械的スイッチを含むまた別のメモリセルアレイが具備される。このように、メモリセルからなる第1アレイ及び第2アレイが積層されることができる。一実施例として、メモリセルからなる追加アレイがさらに積層されることができる。
図7は、本発明の一実施例による積層構造を有するメモリ素子を示す断面図である。
図7を参照すれば、メモリセルの第1アレイ領域400に該当する基板300上に電気機械的スイッチが形成される。前記メモリセルの第1アレイ400上にはメモリセルの第2アレイ500が具備される。前記メモリセルの第2アレイ500は、セル領域及びペリフェラル領域に前記電気機械的スイッチを含む。
図8は、本発明の一実施例による、ペリフェラル領域にMOSトランジスタとセル領域に電気機械的スイッチを含むメモリ素子を示す断面図である。
図8を参照すれば、ビームライン164は凹んだギャップ(dimpled gap)を有する。即ち、第1距離d3は第2距離d4よりさらに短い。前記メモリ素子で前記凹んだギャップが使われれば、前記ワードライン(この前記ビームラインに引力を加える際、前記ビームラインが前記ワードラインと接触されることを防ぐことができる。また、前記第1距離が減少されるべきであるため、前記メモリ素子の動作電圧は減少されるべきである。一実施例として、前記ビームラインは複数の凹んだ部位を有することができ、前記ビームラインの下には突出された部位の表面が配置されることができる。
図9は、本発明の一実施例によるセル領域及びペリフェラル領域に電気機械的スイッチを含むメモリ素子を示す断面図である。
図9を参照すれば、前記セル領域の電気機械的スイッチには前記ビームライン164と前記導電パッドパターン148との間に凹んだギャップが生成されている。前記導電パッドパターン148は前記コンデンサ152上に形成されている。別の例として、前記コンデンサ152上に前記導電パッドパターン148が具備されていない場合には、前記セル領域の前記電気機械的スイッチは前記ビームライン164とコンデンサ152との間に凹んだギャップが生成されている。前記ペリフェラル領域において、前記電気機械的スイッチは前記ビームライン164及び導電パッドパターン148間に凹んだギャップを含み、前記導電パッドパターン148は前記層間絶縁膜134上に形成される。
図10は、本発明の一実施例による、ペリフェラル領域に形成されたMOSトランジスタとセル領域に形成された電気機械的スイッチを含むメモリ素子を示す断面図である。
図10を参照すれば、メモリセルの第1及び第2アレイ内の電気機械的スイッチは前記ビームライン164と前記導電パッドパターン148との間に凹んだギャップを含んでいる。これとは別の例として、前記メモリセルの第1及び第2アレイ内の電気機械的スイッチは前記ビームライン164とコンデンサ152との間に凹んだギャップを含み、前記コンデンサ152は前記ビームライン164の端部と直接的に接触される。
図11〜図22は、本発明の一実施例による電気機械的スイッチを有するメモリ素子の形成方法を示す。
図11を参照すれば、基板100にトレンチ素子分離膜(102a、102b)を形成する。前記基板100は、例えば、シリコンを含むことができる。前記トレンチ素子分離膜(102a、102b)は後に随行される化学機械的研磨工程でディッシングが発生されることを防ぐために形成される。
図12を参照すれば、前記ペリフェラル領域にMOSトランジスタ112を形成する。前記セル領域には前記導電膜104及びマスクパターン108を含む埋立ビットライン110を形成する。前記トレンチ素子分離膜102a及び基板100上に絶縁膜99を形成する。前記導電膜104及びマスク膜108は前記絶縁膜99上に形成される。前記導電膜104は低抵抗を有する物質からなることができる。前記導電膜104として使用できる物質の例としては金属、金属シリサイド、またはドーピングされた半導体物質を上げることができる。前記ペリフェラル領域に形成されるMOSトランジスタ112のゲート電極106は前記マスク膜108及び導電膜104をパターニングすることによって形成されることができる。前記ゲート電極106の周辺にスペーサー116を形成する。前記スペーサー116の両側の基板にソース/ドレイン領域118を形成する。
図13を参照すれば、前記第1層間絶縁膜114は前記埋立ビットライン110のマスクパターン108及び前記MOSトランジスタ112上に形成される。前記第1層間絶縁膜114上に第1電極120を形成する。前記第1電極120上には誘電膜122を形成する。前記誘電膜122上には第2電極124を形成する。前記第1電極120は多層構造を有することができる。前記第1電極120はバリア金属膜120a、金属膜102b、及びキャッピング膜120cに形成されることができる。前記バリア金属膜120aは例えば、チタンまたはチタン窒化物を含むことができる。前記金属膜120bは例えば、タングステンを含むことができる。前記キャッピング膜120cは例えば、チタン窒化物を含むことができる。一実施例として、前記誘電膜122は例えば、酸化物‐窒化物‐酸化物(ONO)、アルミニウム酸化物、ジルコニウム酸化物、ハフニウム酸化物、タンタル酸化物、またはこれらの混合物を含むことができる。前記第2電極124はまた複合膜構造を有することができる。前記第2電極124はバリア膜124a及び金属膜124bを含むことができる。前記バリア膜124aは例えば、チタン窒化物を含むことができる。前記金属膜124bは例えば、タングステンを含むことができる。図14を参照すれば、前記第1電極120、前記誘電膜122及び前記第2電極124をエッチングすることによって、予備コンデンサ132が形成される。
図15及び図16を参照すれば、前記第1層間絶縁膜114上に前記第2層間絶縁膜134を形成する。前記第1コンタクトプラグ136は前記層間絶縁膜(134、114)を貫通して形成される。前記第1コンタクトプラグ136は前記埋立ビットライン110と接触する。ペリフェラル領域には、前記層間絶縁膜(134、114)を貫通する第2コンタクトプラグ138が形成される。前記第2コンタクトプラグ138はソース/ドレイン領域118と接触する。前記コンタクトプラグ(136、138)は例えば、チタン、チタン窒化物、タングステン、アルミニウム、または銅を含むことができる。
図17及び図18を参照すれば、前記ワードライン146及び導電パッドパターン144を形成する。具体的に、前記予備コンデンサ132、コンタクトプラグ(136、138)、及び前記第2層間絶縁膜134上に導電膜140aを形成する。前記導電膜140a上にキャッピング膜140bを形成する。前記導電膜140a及びキャッピング膜140bは導電パターン140を構成する。前記キャッピング膜140bは前記コンデンサとビームラインとの間の接触特性を向上させる。前記キャッピング膜140b上にマスクパターン142が形成される。前記マスクパターン142を使用し、前記キャッピング膜140b及び導電膜140aをエッチングする。図18を参照すれば、前記導電パッドパターン144は導電パターン144a上に形成されたキャッピング膜144bを含む。前記ワードライン146は前記導電パターン146a上に形成されたキャッピング膜146bを含む。前記導電パターン148aは前記導電パターン148a上に形成されたキャッピング膜148bを含む。
図19、図20及び21を参照すれば、前記導電パッドパターン144の上部表面を露出する開口部158を有する犠牲膜156を形成する。前記犠牲膜156は前記導電パッドパターン(144、148)及び前記層間絶縁膜154上に形成される。前記犠牲膜156は前記層間絶縁膜154と異なるエッチング選択比を有する。また、前記犠牲膜156は後続工程で前記犠牲膜156上に形成されてビームライン160へ提供される物質とも互いに異なるエッチング選択比を有する。例えば、前記犠牲膜156はポリシリコン、原子層酸化膜、シリコンゲルマニウム、シリコン窒化物、ドーピングされたシリコン、またはドーピングされたシリコン酸化物を使用して形成されることができる。前記ビームライン160及び前記ワードライン146間の第2距離と前記ビームライン160及びコンデンサ上に形成された導電パッドパターン144間の第1距離は前記犠牲膜156の厚さを変化させて調節することができる。前記第1及び第2距離は犠牲膜156の厚さに対応され、前記犠牲膜156は後続工程を通じて除去される。一実施例として、前記犠牲膜156はセル領域の全体にわたって実質的に同一厚さを有することができる。従って、前記第1及び第2距離は同一であり得る。
図21及び22を参照すれば、前記犠牲膜156上に高い弾性及び復元力を有する前記ビームライン160が形成される。前記ビームライン160は例えば、チタン、チタン窒化物、チタン金属合金、タンタル、タンタル窒化物、タンタル金属合金、またはカーボンナノチューブを含む単一膜構造を有することができる。一実施例として、前記ビームライン160は2層構造を有することができ、第1膜が第2膜上に積層されることができる。例えば、前記第1膜はシリコン酸化物またはシリコン窒化物を含み、前記第2膜はチタン、チタン窒化物、チタン金属合金、タンタル、タンタル窒化物、タンタル金属合金、またはカーボンナノチューブのような導電物質を含むことができる。一実施例として、前記ビームライン160は多層の積層構造を有することができる。例えば、3層構造である場合、前記第1膜はシリコン酸化物を含み、前記第2膜はチタン窒化物及び第3膜はタンタル窒化物を含むことができる。前記ビームライン160は前記コンタクトプラグ136上に形成されている導電パッドパターン144に接触される形状を有する。一実施例として、前記ビームライン160は蒸着工程を通じて前記導電パッドパターン144上に形成されるため前記ビームライン160は前記導電パッドパターン144に直接付着された形状を有する。前記犠牲膜156は、例えば湿式エッチング工程、クリティカルポイントドライヤー(critical point dryer,CPD)またはプラズマ化学乾式エッチングを通じて除去されることができる。
図23〜図28は本発明の一実施例によってメモリセルの第1アレイ上にメモリセルの第2アレイを形成する方法を示す断面図である。一実施例として、メモリセルの積層膜は1つまたはその以上に積層されることができる。メモリセルの第1アレイとしては、図11〜図22を参照に説明した一実施例の第1アレイが使用できる。
図23及び24を参照すれば、前記ビームライン160上に追加犠牲膜200を形成する。前記追加犠牲膜200はペリフェラル領域及びセル領域に各々形成される。前記ペリフェラル領域の追加犠牲膜200を除去する。一実施例として、前記追加犠牲膜200は前記犠牲膜156と同一物質からなることができる。前記追加犠牲膜及び犠牲膜(200、156)は後続工程で共に除去される。これによって、前記ビームライン160の周辺には空間が生成される。前記ビームライン160の下に生成された空間を通じて前記ビームライン160は上側方向及び下側方向へ移動する。前記空間は真空状態であり得る。または、前記空間は窒素のような不活性ガスで埋めることできる。
図25及び26を参照すれば、前記追加犠牲膜202上に絶縁膜204を形成する。前記絶縁膜204は複数の細孔206を有する。前記細孔206は前記犠牲膜(156、202)を除去することにおいて使用されるガスまたはケミカルが伝達される経路として使われることができる。また、前記除去された犠牲膜(156、202)は前記細孔206を通じて移動できる。例えば、前記犠牲膜(156、202)を湿式エッチング工程を通じて除去する工程において、エッチング液は細孔206を通じて伝達できる。前記細孔206は10〜20nmの直径を有することができる。一実施例として、前記細孔206は規則的パターンで形成されることができる。一実施例として、前記絶縁膜204は前記追加犠牲膜202上に形成され、前記細孔206は前記絶縁膜204内に形成されることができる。前記絶縁膜204は例えば、ポリスチレン(polystyrene)またはポリメチル・メタクリレート(PMMA)を含むことができる。
図27及び28を参照すれば、前記細孔を有する絶縁膜204上に上部絶縁膜208を形成する。前記上部絶縁膜208上にメモリセルの上部アレイが形成される。メモリセルの下部アレイを形成するために、基板100が使用されるべきである。しかし、前記メモリセルの上部アレイを形成する際には前記基板100が具備されずに省略されることもある。その理由は、本発明の一実施例による電気機械的スイッチを絶縁膜上に直接形成できるためである。
図29〜図34は、本発明の一実施例による凹んだギャップ部位を有する電気機械的スイッチの形成方法を示す。
図29及び30を参照すれば、前記導電パッドパターン144及びワードライン146上に第1犠牲膜156を形成する。前記コンデンサ152と対向する前記第1犠牲膜156を除去する。
図31及び32を参照すれば、前記第1犠牲膜156a及び前記コンデンサ上に位置する導電パッドパターン148上に第2犠牲膜198を形成する。前記コンタクトプラグ136と対向している第1及び第2犠牲膜(156a、198)をエッチングすることによって開口部158を形成する。前記開口部158は前記導電パッドパターン148の上部表面を露出する。
図33及び34を参照すれば、前記第2犠牲膜198及び前記導電パッドパターン148上に前記ビームライン164を形成する。第1及び第2犠牲膜(156a、198)を除去する。従って、第1及び第2距離(d3、d4)を有して前記ワードライン146及び導電パッドパターン148と離隔されたビームライン160が完成される。一実施例として、前記第1距離d3は約10〜15nmで、前記第2距離d4は約20〜25nmであり得る。
図35及び36は、本発明の一実施例による凹んだギャップを有する電気機械的スイッチを形成するための犠牲膜の形成方法を示す。
図35及び36を参照すれば、前記導電パッドパターン144及びワードライン146上に前記第1犠牲膜156を形成する。次に、前記第1犠牲膜156上に第2犠牲膜170を形成する。前記コンデンサ152と対向している第2犠牲膜170部分を除去する。次に、前記コンタクトプラグ136上の導電パッドパターン144の上部表面を露出する開口部160を形成する。これによって、第2犠牲膜パターン170aが形成される。その後、前記開口部160内部を埋めつつ、前記第2犠牲膜パターン170a上にビームライン164を形成する。次に、前記第1犠牲膜156及び第2犠牲膜パターン170aを除去する。
図37及び38は、本発明の一実施例による凹んだギャップを有する電気機械的スイッチを形成するための犠牲膜の形成方法を示す。
図37及び38を参照すれば、前記導電パッドパターン144及びワードライン146上に犠牲膜180aを形成する。前記コンデンサ152と対向する部位の犠牲膜180aは前記ワードライン146と対向する部位の犠牲膜180aよりさらに薄い。前記コンタクトプラグ136上に位置する導電パッドパターン144の上部面を露出する開口部158を形成する。その後、前記開口部158の内部及び前記犠牲膜パターン180b上にビームライン164を形成する。次に、前記犠牲膜180bを除去する。
図39及び41は、本発明の一実施例による凹んだギャップを有する電気機械的スイッチを形成するための犠牲膜の形成方法を示す。
図39、図40、及び図41を参照すれば、前記導電パッドパターン144及びワードライン146上に犠牲膜190を形成する。前記コンデンサと対向する部位の犠牲膜190の一部を選択的に酸化させる。前記犠牲幕190において酸化された部位192は後続工程を通じて除去される。従って、前記犠牲膜190において前記部位190bはさらに薄くなる。前記コンタクトプラグ138上に位置する導電パッドパターン144の上部面を露出する開口部158を形成する。前記開口部158の内部及び前記犠牲膜190上にビームライン164を形成する。次に、前記犠牲膜190を除去する。
図42は、本発明に一実施例によるメモリ素子を含むシステムを示す。
図42を参照すれば、システム500はコントローラー510、入出力素子520、メモリ530、インターフェース540、及び信号バス550を含む。前記システム500はパーソナルデータアシスタンス(PDA)、ポータブルコンピュータ、ウェブタブレット(web tablet)、無線電話、携帯電話、デジタル音楽プレイヤー、またはメモリカードのようなモバイルシステムを含むことができる。一実施例として、前記システムは情報送受信のための全てのシステムを含むことができる。前記コントローラー510は、例えば、マイクロプロセッサー、デジタルシグナルプロセッサー、またはマイクロコントローラーを含むことができる。前記入出力素子520はキーパッド、キーボード、またはディスプレーを含むことができる。前記メモリ530は、本発明によるメモリ素子を含む。前記メモリ530はコントローラーによって実行される命令を保存できる。前記メモリ530及び前記インターフェース540は前記信号バス550と結合されることができる。前記システム500はコミュニケーションネットワークにデータを伝送するためのインターフェースまたは前記コミュニケーションネットワークからデータの伝送を受けるためのインターフェースを使用できる。
本発明の一実施例は電気機械的スイッチを含むメモリ素子を提供する。前記メモリ素子は前記電気機械的スイッチにおいてのジャンクション漏洩がほとんどないため、電荷保有能力が優れている。
本発明の一実施例は電気機械的スイッチを含むメモリ素子を提供する。前記電気機械的スイッチは互いに異なる多様なタイプの基板上に形成できるため、前記メモリ素子は多様な基板に具現されることができる。
本発明の一実施例において、メモリセルの多層に積層されたアレイを有する積層構造のメモリ素子を提供する。2つの隣り合うメモリセルのアレイの間に基板が具備されなくても結構であるため、多層アレイを使用して高い集積度を有するようにすることができる。
本発明の一実施例において、回路を開放するか或いは段落するためのスイッチとして使用される電極(例えば、ビームライン)を含む電気機械的スイッチを提供する。従って、回路を開放するか或いは段落するための追加的なスイッチを具備されなくてもいい。
本発明の一実施例においてMOSトランジスタよりさらに小さいサイズの電機機械的スイッチを含むメモリ素子を提供する。これによって、本発明の一実施例による前記メモリ素子の大きさはさらに減少できる。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。