JP2009231036A - 収差補正集束イオンビーム装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】正の加速電圧が印加されているイオン源15と、加速電圧よりも低い電位が印加されている引出電極4と、引き出されたイオンビームの開き角を制御する開き角制御レンズと、色収差や球面収差等を補正するための収差補正装置と、イオンビームを試料上に集束するための対物レンズを備えた収差補正集束イオンビーム装置において、加速電圧の変化に伴いイオン源15と引出電極4間の電圧を一定にするように、又は少なくとも加速電圧を変化させた場合よりもイオン源15と引出電極4間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧の2電圧を同時に変化させ、色収差を拡大させるように構成する。
【選択図】図1
Description
Vaccを現在使用している加速電圧Vacc,0を中心にして大きさΔV(>0)だけ、上下片方向(Vacc→Vacc,0+ΔV、又はVacc,0→Vacc−ΔV)、又は上下両方向
(Vacc→Vacc,0±ΔV)に振ることにより疑似的に大きなエネルギー拡がり
ΔEaqv=ΔV>>ΔEを作り出すことである。通常の装置では、これは加速電圧の上に乗っている電子源(エミッタ)先端(emitter tip)の電位だけをΔV変化させることを意味する。この原理を図5を使用して説明する。
Vcc=Vacc,0で全ての光学要素が過渡的に最適設定され、試料上でのビームスポットの大きさが最小である状態(ジャストフォーカス)にあるとする。次に、(b)に示すように加速電圧を除く他の設定を全てそのままにして、加速電圧絶対値だけをVacc=Varc,0+ΔV(ΔV>0)と設定すると、電子の運動エネルギーはΔVだけ大きくなるため、像点位置は試料表面位置よりも遠くになり、試料上のスポット径は大きくなる(ボケが発生する)。
Vext(<Vacc)を与える。いま色収差拡大のため、エミッタ11先端の電位Vacc(<0)だけをΔV(>0)だけ変化させることは、エミッタ11先端の電位と引出電極4の電位の差をΔVだけ変化させることを意味する。
(2)請求項2記載の発明によれば、加速電圧だけを使用する基準加速電圧に対して上下に変化させる第1の方法、又はイオン源と引出電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧を同時に変化させる第2の方法のうち、何れか一方を選択することができる。
(5)請求項2記載の発明によれば、加速電圧だけを使用する基準加速電圧に対して上下に変化させる第1の方法、又はイオン源とサプレッサ電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧とサプレッサ電圧を同時に変化させる第2の方法のうち、何れか一方を選択することができる。
本発明は、収差補正装置が搭載されたイオン光学系の色収差補正調整法に関する。このような光学系には集束イオンビーム装置又はイオン・リソグラフィー装置等があり、搭載されるイオン源はガリウム(Ga)で代表されるような液体イオン源(LMIS)、さらに最近研究が進んでいるガス電界イオン源(GFIS)等がある。
1)ACCステッピング(ACC−stepping):色修正補正の調整実行者の命令により、色収差を拡大するために加速電圧を変更する。変更された電圧は、次の命令が来るまで保持される。
2)ACCウォブリング(ACC−wobbling):色修正補正の調整実行者の命令により、色収差を拡大するために加速電圧を設定された周期、振幅により継続的に変更する。この動作は次の命令が来るまで保持される。
1)イオン源から放出されるエミッション電流の制御が引出電極のみで実行される場合。
2)イオン源から放出されるエミッション電流の制御がサプレッサ電極と引出電極の組で実行される場合。
(実施の形態1)
本実施の形態では、イオン源から放出されるエミッション電流の制御が、引出電極のみで実行される場合について説明する。この実施の形態は、請求項1〜請求項3に相当している。
(I)構成
色収差補正のための収差補正装置調整の際に色収差を拡大する手段として、対グランド電位に対してイオン源の電位を与える加速電圧だけを、使用する基準加速電圧を中心にして変化させる方法の代わりに加速電圧の変化だけでなく、イオン源と引出電極間の電圧を一定にするよう、又は少なくとも加速電圧だけを変化させた場合よりもイオン源と引出電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧の2電圧を同時に変化させる手段を実現するためには、特別の構成は必要としない。
1)ソフトウェア的対応
a)引出電圧電源が加速電圧上に乗っている場合
この機械的構成は、図7に既に示されている。今、イオン源、引出電極のみに限定した場合には、この構成は図1の(a)に示すように簡単になる。図1は設定値変更によるACC−stepping実施のための構成例を示す図である。図6と同一のものは、同一の符号を付して示す。図において、15は液体金属イオン源である。このような構成は、ソフトウェア的負担の少ないACC−steppingに適応していると思われるが、ACC−wobblingにも対応可能である。
b)引出電圧電源がGNDラインに乗っている場合
イオン源、引出電極のみに限定した場合の機械的構成図は図1の(b)に示すようになる。通常のFIBの場合、引出電圧電源3がGNDラインに乗っていると、加速電圧だけを変えると、エミッション電流が変化してしまうため、通常は用いられないが対応は可能である。
2)ハードウェア的対応
a)引出電圧電源が加速電圧上に乗っている場合
この場合の特性は、図2の(a)のようになる。この場合は、ΔVacc電圧電源、
ΔVext電圧電源の2電源が必要になる。この電源を周波数、振幅が設定できるようにするとACC−wobblingに適した構成になる。この場合は、周波数をゼロにすれば、ACC−steppingも可能になる。
b)引出電圧電源がグランドラインに乗っている場合
この場合の構成図は図2の(b)のようになる。この場合も、ΔVacc電圧電源、ΔVext電圧電源の2電源が必要となる。図2の(b)は引出電圧電源3とΔVext電圧電源8がグランドからの電位として与えられている。図2の(a)と同一のものは、同一の符号を付して示す。このように構成された装置の動作を説明すれば、以下の通りである。
(II)動作
ここでは、本実施の形態の動作を構成毎に分類して説明する。
1)ソフトウェア的対応
a)引出電圧電源が加速電圧上に乗っている場合
最初にACC−steppingについての発明の動作を図1の(a)ではなく、レンズ電極も考慮してある機械的構成図である図7によって説明する。いまACCステッピング電圧をΔVacc、このとき同時に変化させる引出電圧の値をΔVextと定義する。いま、オペレータにより電圧ΔVacc(>0)のACC−stepping指令が出たとする。
Vext→Vext−ΔVacc (2)
VCL→VCL−ΔVacc (3)
ここでの発明は、対グランド電位に対してイオン源の電位を与える加速電圧だけを、使用する基準加速電圧を中心にして変化させる方法の代わりに、加速電圧の変化だけでなくイオン源と引出電極間の電圧を一定にするよう、又は少なくとも加速電圧だけを変化させた場合よりもイオン源と引出電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧の2電圧を同時に変化させる手段を実現することである。
Vext→Vext−ΔVacc (5)
VCL→VCL−ΔVCL (6)
いま、ΔVext=0の時は、ACC−stepping時も、イオン源と引出電極間の電圧変化は無く、ΔVext=ΔVaccの時は従来のACC−stepping法になる。なお、この例はACCステッピングの方法を示すが、ソフトウェア的にΔVaccの値を、ある周期、振幅をもって変化させれば、ACC−wobblingも可能である。この場合も、0≦ΔVext≦ΔVaccの条件は守る必要がある。以下の説明では、簡単のためレンズ電圧の設定について説明を省く。
b)引出電圧電源がグランドラインに乗っている場合
ここではACC−steppingについての発明の動作を、図1の(b)によって説明する。今、オペレータにより電圧ΔVacc(>0)のACC−steppingの指令が出たとする。この時、ソフトウェア的方法により、各電圧Vacc、Vext、VCL(レンズ電圧)が下記のように自動的に変更されれば、これは従来の方法でイオン源電位のみを変化させることになる。
Vext=Vext(変化なし) (8)
この時、各電圧Vacc、Vext(0≦ΔVext≦ΔVacc)を、下記のように自動的に変化させれば、本発明の手段が実現される。
Vext→Vext+ΔVext
いま、ΔVext=0の時は、ACC−stepping時も、イオン源と引出電極間の電圧変化は無く、ΔVext=ΔVaccの時は従来のACC−stepping法になる。なお、この例はACCステッピングの方法を示すが、ソフトウェア的にΔVaccの値を、ある周期、振幅をもって変化させれば、ACC−wobblingも可能である。この場合も、0≦ΔVext≦ΔVaccの条件は守られる必要がある。
2)ハードウェア的対応
a)引出電圧電源が加速電圧上に乗っている場合
最初にACC−wobblingについての発明の動作を、図2の(a)によって説明する。通常の状態では、ΔVacc、ΔVext両電源の出力はゼロとする。いまACC−wobbling電圧振幅をΔVacc,0、この時同時に変化させる引出電圧振幅の値を
ΔVext,0と定義する。
ΔVext=−ΔVacc,0・cos(2πft) (10)
この時、ΔVacc、ΔVext両電源の出力が、下記のように自動的に変更されれば、本発明の手段が実現される(0≦ΔVext,0≦ΔVacc,0)。
ΔVext=−ΔVext,0・cos(2πft) (12)
ここでの説明は、ACC−wobblingについてであるが、周期f=0に設定すれば、ACC−steppingになる。
b)引出電圧がグランドラインに乗っている場合
ここでも最初にACC−wobblingについての発明の動作を図2の(b)によって説明する。いま、オペレータにより振幅ΔVacc,0、周期fのACC−wobbling指令が出たとする。この時、ΔVacc、ΔVext両電源の出力が以下のように変化すれば、これは従来の方法で、イオン源電位のみを変化させることになる。
ΔVext=ΔVacc,0・cos(2πft) (14)
この時、ΔVacc、ΔVext両電源の出力が、下記のように自動的に変更されれば、本発明の手段が実現される(0≦ΔVext,0≦ΔVacc,0)。
ΔVext=ΔVext,0・cos(2πft) (16)
ここでの説明は、ACC−wobblingについてであるが、周期f=0に設定すれば、ACC−steppingになる。
(実施の形態2)
実施の形態2では、イオン源から放出されるエミッション電流の制御が、サプレッサ電極と引出電極の組みで実行される場合について説明する。なお、この実施の形態は、請求項3〜6に相当する。
(I)構成
実施の形態2を示す代表的な構成を図3に示す。図3はサプレッサ電極搭載時での設定値変更によるACC−stepping実施のための構成例を示す図である。この実施の形態2は通常のサプレッサ電極を搭載したイオン光学系と同等である。図において、1は加速電圧電源、3は該加速電圧電源1の上に乗った引出電圧電源、31は同じく加速電圧電源1の上に乗ったサプレッサ電圧電源である。32は該サプレッサ電圧電源31が印加されるサプレッサ電極である。このような装置でも、本発明はソフトウェア的に実行可能である。
(II)動作
最初にACC−steppingについての発明の動作を図3によって説明する。いまACCステッピング電圧をΔVacc、この時同時に変化させるサプレッサ電圧の値を
ΔVsup、引出電圧の値をΔVsupと定義する。いま、オペレータにより電圧Vacc(>0)のACC−stepping指令が出たとする。この時、ソフトウェア的方法により、各電圧Vacc、Vext、VCL(レンズ電圧)が下記のように自動的に変更されれば、これは従来の方法でイオン源電位のみを変化させることになる。
Vsup→Vsup−ΔVacc (18)
Vext→Vext−ΔVacc (19)
ここでの発明は、対グランド電位に対してイオン源の電位を与える加速電圧だけを、使用する基準加速電圧を中心にして変化させる方法の代わりに、加速電圧の変化だけでなく、イオン源とサプレッサ電極間の電圧を一定にするよう、又は少なくとも加速電圧だけを変化させた場合よりもイオン源とサプレッサ電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧の2電圧を同時に変化させる手段を実現することである。
Vsup→Vsup−ΔVsup (21)
Vext→Vext−ΔVacc (22)
いま、ΔVsup=0の時は、ACC−stepping時も、イオン源とサプレッサ電極間の電圧変化は無く、ΔVsup=ΔVaccの時は従来のACC−stepping法になる。なお、この例はACCステッピングの方法を示すが、ソフトウェア的にΔVaccの値を、ある周期、振幅をもって変化させれば、ACC−wobblingも可能である。この場合も、0≦ΔVsup≦ΔVaccの条件は守る必要がある。
FIBの場合、色収差拡大のため実質的な引出電極を30〜100V振るということは、下方に振った場合はエミッションの停止、上方に振る場合はエミッション電流の200〜500%の増大を意味する。これは収差補正装置調整の際に必要な値の色収差拡大ができないということを意味し、大問題となる。この場合に、本発明の手段を実行することにより、色収差拡大時に、エミッション電流が遮断されたり、極端に大きな値になったりすることを防ぐことができるため、正確な色収差補正が可能となる。
2 引出電圧電源
10 ヒータ電源
11 液体金属イオン源
13 イオン源
25 SIM鏡筒
Claims (6)
- 正の加速電圧が印加されているイオン源と、加速電圧よりも低い電位が印加されている引出電極と、引き出されたイオンビームの開き角を制御する開き角制御レンズと、色収差や球面収差等を補正するための収差補正装置と、イオンビームを試料上に集束するための対物レンズを備えた収差補正集束イオンビーム装置において、
加速電圧の変化に伴いイオン源と引出電極間の電圧を一定にするように、又は少なくとも加速電圧を変化させた場合よりもイオン源と引出電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧の2電圧を同時に変化させ、色収差を拡大させるようにしたことを特徴とする収差補正集束イオンビーム装置。 - 色収差補正のための収差補正装置調整の際に色収差を拡大する手段として、加速電圧だけを使用する基準加速電圧に対して上下に変化させる第1の方法、又はイオン源と引出電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧と引出電圧を同時に変化させる第2の方法のうち、何れか一方を選択する選択手段を設けたことを特徴とする請求項1記載の収差補正集束イオンビーム装置。
- 色収差補正のための収差補正装置調整の際に色収差を拡大する手段として、加速電圧を使用する基準加速電圧に対して上下に振る際に、イオン源と引出電極間の電圧が加速電圧のみを変化させた場合と、加速電圧と引出電圧を同じ方向に同じ量だけ変化させた場合との間の任意の値に設定できるように加速電圧変化時での引出電圧変化量の調整を可能にしたことを特徴とする請求項1又は2記載の収差補正集束イオンビーム装置。
- 正の加速電圧が印加されているイオン源と、加速電圧よりも低い電位が印加されている引出電極と、引き出されたイオンビームの開き角を制御する開き角制御レンズと、色収差や球面収差等を補正するための収差補正装置と、イオンビームを試料上に集束するための対物レンズを備えた収差補正集束イオンビーム装置において、
加速電圧の変化に伴いイオン源とサプレッサ電極間の電圧を一定にするように、又は少なくとも加速電圧を変化させた場合よりもイオン源とサプレッサ電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧とサプレッサ電圧の2電圧を同時に変化させ、色収差を拡大させるようにしたことを特徴とする収差補正集束イオンビーム装置。 - 色収差補正のための収差補正装置調整の際に色収差を拡大する手段として、加速電圧だけを使用する基準加速電圧に対して上下に変化させる第1の方法、又はイオン源とサプレッサ電極間の電圧変化が小さくなる方向に加速電圧とサプレッサ電圧を同時に変化させる第2の方法のうち、何れか一方を選択する選択手段を設けたことを特徴とする請求項1記載の収差補正集束イオンビーム装置。
- 色収差補正のための収差補正装置調整の際に色収差を拡大する手段として、加速電圧を使用する基準加速電圧に対して上下に振る際に、イオン源とサプレッサ電極間の電圧が加速電圧のみを変化させた場合と、加速電圧とサプレッサ電圧を同じ方向に同じ量だけ変化させた場合との間の任意の値に設定できるように加速電圧変化時でのサプレッサ電圧変化量の調整を可能にしたことを特徴とする請求項1又は2記載の収差補正集束イオンビーム装置。
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JP2008074880A JP2009231036A (ja) | 2008-03-24 | 2008-03-24 | 収差補正集束イオンビーム装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013506959A (ja) * | 2009-09-30 | 2013-02-28 | カール ツァイス エヌティーエス エルエルシー | 可変エネルギー荷電粒子システム |
CN117293006B (zh) * | 2023-11-27 | 2024-04-05 | 青岛四方思锐智能技术有限公司 | 一种射频引出氢氦高能离子注入机 |
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2008
- 2008-03-24 JP JP2008074880A patent/JP2009231036A/ja active Pending
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