JP2009229706A - 光学補償フィルムの製造方法および製造装置、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光学補償フィルムの耐久性や耐傷性とフィルムの光学特性を独立して制御できる光学補償フィルムの製造方法および製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
表面に配向層が形成され、連続的に搬送される透明支持体４ｃ上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液を配向層上に塗布する液晶層塗布工程１０と、液晶層を乾燥する液晶層乾燥工程１１と、乾燥工程の乾燥温度より低い温度に冷却した状態で、液晶層を硬膜する冷却硬膜工程と、冷却硬膜工程の冷却温度より高い温度に加熱した状態で、配向層を硬膜する加熱硬膜工程と、を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法である。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学補償フィルムの製造方法および製造装置、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置に係り、特に、耐久性および耐傷性と光学特性との両方を向上させた光学補償フィルムの製造方法および製造装置、光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置に関する。

従来より、光学補償フィルムを製造する方法として、液晶性化合物を有機溶剤に溶解させた溶液を作製し、それを塗布、乾燥、硬化することで連続的に製造する方法が用いられている。これらの光学補償フィルムは、液晶の均一な配向性が求められており、配向膜を塗布した透明支持体上に液晶性化合物を塗布し、その後高温で乾燥した後、光や熱により重合、硬化させることで均一な性能を発揮させている。

なかでも、紫外線照射などによる光硬膜は、光学補償フィルムの生産性の観点で効率の良い手段であり、光学補償フィルムの耐久性や耐傷性の向上を目的に硬膜度を上げる手段として、加熱（１００℃以上）しながら、光照射し硬膜する方法が開示されている（特許文献１から３参照）。
特開２００６−２６７６２８号公報 特開２００６−１５４７０９号公報 特開２００７−１０１６５８号公報

光学補償フィルムにおいては、光学異方性層の液晶性化合物を配向させるため配向膜層が設けられている。この配向膜層は水分を吸収しやすいため、光学補償フィルムと偏光子を貼りあわせた偏光板を搭載した液晶表示装置を高温高湿度下に置いた場合、偏光板が吸水し伸縮するため、液晶セルのガラス基板との間で歪みが生じる。そして、支持体や偏光子と比べて光学異方性層は薄くて脆いため、その歪みに耐えられず亀裂を生じ、結果として表示品位を損なうことがあるため、耐久性の向上が求められている。

さらに、光学補償フィルムのロール搬送時などの取り扱いにおいて、光学補償フィルムの表面に配置される光学異方性層に傷がつき、結果として液晶パネル表示部において、点欠陥になることがあるため、耐傷性の向上も求められている。

耐久性、耐傷性については、特許文献１から３に記載されているように、配向膜層および光学異方性層の硬膜温度を上げることにより、向上させることができる。しかしながら、硬膜温度を上げることにより、フィルムの光学特性が変化して光学補償機能が損なわれる問題、特に、液晶パネルに設置したときの表示品位として上方向の視野角コントラストが低下する問題があった。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、光学補償フィルムの耐久性や耐傷性とフィルムの光学特性を独立して制御できる光学補償フィルムの製造方法および製造装置、これらの製造方法により得られた光学補償フィルム、偏光板、液晶表示装置を提供することを目的とする。

本発明の請求項１は前記目的を達成するために、表面に配向層が形成され、連続的に搬送される透明支持体上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液を該配向層上に塗布する液晶層塗布工程と、前記液晶層を乾燥する液晶層乾燥工程と、前記乾燥工程の乾燥温度より低い温度に冷却した状態で、前記液晶層を硬膜する冷却硬膜工程と、前記冷却硬膜工程の冷却温度より高い温度に加熱した状態で、前記配向層を硬膜する加熱硬膜工程と、を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法を提供する。

液晶層は配向層と比較し、硬膜を行う際、少ない紫外線照射量で容易に硬膜を行うことができるので、配向層と同じ条件で硬膜を行うと光学特性が変化し、品質不良が生じてしまう。請求項１によれば、液晶層を乾燥した後、温度を下げて、まず、液晶層の硬膜を行う。そして、加熱し温度を上げた後、配向層の硬膜を行う。加熱硬膜工程において、温度を上昇させても、液晶層の硬膜がすでに行われているため、光学特性が変化することなく光学補償フィルムの製造を行うことができる。また、配向層、光学異方性層とも硬膜に充分な温度条件で行われているため、耐久性、耐傷性も充分確保することができる。

請求項２は請求項１において、前記液晶層および前記配向層に紫外線を照射することにより硬膜を行うことを特徴とする。

請求項２は、液晶層および配向層を硬膜する手段について規定したものであり、紫外線を用いて硬膜することが好ましい。

請求項３は請求項１または２において、前記液晶層乾燥工程では、前記液晶層の温度が１２０℃以上１４０℃以下であり、前記冷却硬膜工程では、前記液晶層の温度が４０℃以上１００℃以下であり、前記加熱硬膜工程では、前記配向層の温度が１００℃以上１３５℃以下であることを特徴とする。

請求項３は、各工程での温度を規定したものであり、上記範囲とすることにより、工程内で膜の硬化を終了させることができ、品質、光学特性に優れた膜を製造することができる。

請求項４は請求項１から３いずれかにおいて、前記冷却硬膜工程は、前記液晶層の温度を冷却する冷却工程と、前記冷却後の温度を維持しながら硬膜を行う硬膜工程と、を有することを特徴とする。

請求項４によれば、冷却硬膜工程を、冷却工程と硬膜工程に分けて液晶層の硬膜を行っているため。硬膜工程において精密な温度調整が可能であり、より品質の高い光学補償フィルムを製造することができる。

請求項５は請求項１から４いずれかにおいて、前記加熱硬膜工程は、前記配向層を加熱する加熱工程と、前記加熱後の温度を維持しながら硬膜を行う硬膜工程と、を有することを特徴とする。

請求項５によれば、加熱硬膜工程を加熱工程と硬膜工程に分けて配向層を硬膜しているため、液晶層の硬膜時と同様に、精密な温度制御が可能であり、より品質の高い光学補償フィルムを製造することができる。

本発明の請求項６は前記目的を達成するために、表面に配向層が形成された透明支持体を連続走行させる支持体走行手段と、該透明支持体上に液晶性化合物を含む液晶層塗布液を塗布する塗布手段と、該液晶層塗布液を乾燥し液晶層を形成する乾燥手段と、該配向層と該液晶層を硬膜する硬膜手段と、を備える光学補償フィルムの製造装置において、前記硬膜手段の前半部に前記配向層および液晶層を冷却する冷却手段を備え、後半部に前記配向層および液晶層を加熱する加熱手段を備えることを特徴とする光学補償フィルムの製造装置を提供する。

請求項６は請求項１の光学補償フィルムの製造方法を製造装置として展開したものであり、請求項６によれば、請求項１と同様の効果を得ることができる。

請求項７は請求項６において、前記硬膜手段が、紫外線照射であることを特徴とする。

請求項７は硬膜手段を規定したものであり、硬膜手段として紫外線を用いることが好ましい。

請求項８は請求項６または７において、前記硬膜手段は、４つ以上のゾーンからなり、前半の２つ以上のゾーンのそれぞれに前記冷却手段と少なくとも１つのゾーンに硬膜手段を備え、後半の２つ以上のゾーンのそれぞれに前記加熱手段と少なくとも１つのゾーンに硬膜手段を備え、前記ぞれぞれのゾーン内部の温度が制御可能であることを特徴とする。

請求項８によれば、硬膜手段を４つ以上のゾーンとし、それぞれのゾーンで温度管理を可能としている。また、硬膜手段を冷却手段を有するゾーン、加熱手段を有するゾーンに備えているため、配向層および液晶層の温度を所望の温度にしたのち、硬膜を行うことができる。したがって、配向層および液晶層の温度制御をより精密に行うことができ、品質の高い光学フィルムを製造することができる。

請求項９は請求項６から８いずれかにおいて、前記冷却手段がノズルまたはスリット板からの冷却風、または、温度調節可能な冷却ロールであることを特徴とする。

請求項１０は請求項６から９いずれかにおいて、前記加熱手段が温度調節可能な加熱ロールであることを特徴とする。

請求項９は冷却手段を、請求項１０は加熱手段を規定したものであり、冷却手段として冷却風または冷却ロール、加熱手段として加熱ロールを用いることが好ましい。

請求項１１は請求項６から１０いずれかにおいて、前記乾燥手段における前記液晶層の温度が１２０℃以上１４０℃以下であり、前記冷却手段における前記液晶層の温度が４０℃以上１００℃以下であり、前記加熱手段における前記配向層の温度が１００℃以上１３５℃以下であることを特徴とする。

請求項１１は、各手段における温度範囲を規定したものであり、上記範囲とすることにより、硬膜手段内で膜の効果を終了させることができ、品質、光学特性に優れた膜を製造することができる。

本発明の請求項１２は前記目的を達成するために、請求項１から５いずれか記載の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルムを提供する。

本発明の請求項１３は前記目的を達成するために、請求項１２に記載の光学補償フィルムの少なくとも１つを有することを特徴とする偏光板を提供する。

本発明の請求項１４は前記目的を達成するために、請求項１２に記載の光学補償フィルム、または、請求項１３に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。

本発明の光学補償フィルムの製造方法および装置によれば、配向性や光学特性を損なうことなく、耐傷性や高温度高湿度下での耐久性が改良された光学補償フィルム、光学補償フィルムと偏光子を貼り付けた偏光板、および、高温度高湿度下においても表示品位を損なうことなく良好な視野角特性を有する液晶表示装置を提供することができる。

以下、添付図面に従って、本発明の光学補償フィルムの製造方法および製造装置の好ましい実施の形態について説明する。

図１に本発明の光学補償フィルムの製造装置の概略図を示す。フィルムの長尺ロール（フィルムロール）５ａから送出機１ａにより送り出された透明支持体４ａは、駆動ローラにより搬送され、表面除塵機２により除塵された後、塗布機３により配向層形成用樹脂を含む塗布液が塗布され、乾燥ゾーン５で乾燥され、配向層がフィルム表面上に形成される。

配向層が形成された透明支持体４ｂは、ラビングローラ８、スプリングでローラステージに固定されたガイドローラ６及びラビングローラに備え付けられた除塵機７からなるラビング装置により、ラビング処理が施され、形成された配向層の表面は、ラビング装置に隣接して設けられた表面除塵機９により除塵される。ラビング装置は、上記以外の公知の装置を使用しても良い。ラビング処理が施された透明支持体４ｃは、駆動ローラにより搬送され、配向層上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液が塗布機１０により塗布される（液晶層塗布工程）。次いで、乾燥ゾーン１１において、加熱し液晶層塗布液中の溶媒を乾燥させ（液晶層乾燥工程）、紫外線照射装置１２を通過させる。ここで、冷却された透明支持体４ｃの表面に紫外線が照射されると、液晶層が架橋するため硬膜し、光学異方性層を形成する（冷却硬膜工程）。その後、加熱し紫外線を照射することにより、配向層は、配向層中の紫外線を受けて光異性化を起こす化合物が異性化反応を起こし硬膜する（加熱硬膜工程）。

配向層及び液晶層が硬膜した透明支持体は、検査装置１３により透明支持体表面の光学特性が測定され、異状がないかどうか検査が行なわれる。次いで、光学異方性層表面に保護フィルム１４がラミネート機１５によりラミネートされ、巻き取り機１６に巻き取られる。

また、配向層形成用樹脂を塗布後、乾燥し、配向層を形成した透明支持体４ｂを巻き取り、この巻き取りフィルムを用いて、光学補償フィルムを作成して巻き取るまでの工程を連続的に、一貫生産で行うこともできる。この場合、配向層が形成された透明支持体４ｂは、フィルムロールから送出機により送り出され、ラビング工程以下の工程が図１と同様の装置により行われる。

上記透明支持体４ａを送り出しする際、および、配向層を有する透明支持体４ｂを送り出しする際に使用される送出機としては、一般にプラスチックフィルムの送り出しに使用されているものを使用することができる。具体的には、特開平９−７３０８１号公報に記載されている送出機を用いることができる。

また、透明支持体上に配向層形成用樹脂を塗布する工程、配向層形成用樹脂を乾燥する工程、配向層が形成された透明支持体にラビング処理を行う工程、配向層表面を除塵する工程についても、特開平９−７３０８１号公報に記載された方法、装置により行うことができる。

配向層上に液晶性化合物を含む液晶層塗布液を塗布する液晶層塗布工程は、図２および図３を参照しながら詳しく説明する。なお、ワイヤーバー塗布装置の例で説明するが、この塗布装置に限定されず、各種の塗布装置を使用することが可能である。図２はワイヤーバー塗布装置の平面図、図３はワイヤーバー塗布装置の断面図である。ワイヤーバー６１は、両端でベアリング６３により支持され、またそのベアリングの間にある部分は、バックアップ６２で支持されている。バーの端部はカップリング６４でモータ６５に連結されている。液晶層塗布液は、供給口６９Ａから送られ、一次側液溜り６６、更に連結管７６を経て二次側液溜り６７に充填される。一次側液溜り６６と二次側液溜り６７の液面は、液面規制板７２により規制され、オーバーフローした液は、オーバーフロー液溜り６８を介して排出液口６９Ｂから排出される。排出された塗布液は、粘度調整室７５で、塗布液を加える、必要により溶剤を加えることにより適当な粘度に調整され、ポンプ７７で送液されながら、フィルタ７３でろ過され後再び供給口６９Ａに送られる。フィルタ７３の前で密度計が配置されており、この情報を基に粘度調整が行なわれるようにされている。塗布は、搬送される配向層を有するフィルム７４ａの配向層面に、ワイヤーバー６１を接触あるいは塗布液を介して接触することにより行なわれる。ワイヤーバー６１は、一般に直径５〜２０ｍｍのロッドに直径２０〜１５０μｍのワイヤを密に巻付けたもので、これをフィルム７４ａの搬送方向と同方向に、且つ搬送速度とほぼ同速度で回転させ、一次側液溜り６６から引き揚げられた塗布液をフィルム７４ａに接触させることにより塗布が行なわれる。

液晶層を乾燥して液晶層中の溶媒を蒸発させる液晶層乾燥工程を、図４を参照しながら詳しく説明する。なお、乾燥装置はも図４に記載の乾燥装置に限定されず、各種の乾燥装置を使用することが可能である。塗布手段８１で塗布された液晶層を有する透明支持体８４が、整流板８２に沿って乾燥ゾーン８６に搬送され、更に加熱ゾーン８９に搬送される。塗布直後からの数秒ないし数分は、液晶層中の溶媒含有量の減少が時間に比例する恒率乾燥期間（化学工学辞典、７０７〜７１２頁、丸善株式会社発行、昭和５５年１０月２５日）であり、この期間に、不均一に風が当たったり、不均一に加熱された場合、液晶層の膜厚が不均一となり、最終的に得られる光学異方性層の配向にムラが生ずるとの問題がある。このため、塗布直後から加熱ゾーン８９に入るまでは、液晶層にできるだけ風を当てることは好ましくなく、整流板を過ぎた後の乾燥ゾーン８６の金網８５ａから塗布室給気口８３ａからの風（ほぼフィルムの搬送速度と同じ風力、風向の風）が導入される。塗布室給気口８３ａからの風は、塗布室排気口８３ｂから排気されると共に、金網８５ａから多孔板８８及び金網８５ｂを介して排気孔８７から排気される。また、整流板とフィルムの間隙は１〜５０ｍｍが一般的である。整流板の長さは、１〜１０ｍが好ましい。乾燥ゾーン８６の温度は、室温〜５０℃が好ましい。乾燥ゾーン８６に導入される風は、０．０１〜０．６ｍ／秒が一般的である。乾燥ゾーン８６にて低温で乾燥を行った後、加熱ゾーン８９にて乾燥温度を上昇させ、乾燥を行う。加熱乾燥を塗布面側から行うと、液晶層の表面がまず乾燥するため、表面の液晶分子が配向層からの配向規制を受けることなく配列し、層全体として液晶分子の配向ムラが起こる。このため、加熱ゾーン８９では、透明支持体の両側に設けられた熱風吹き出し口８９ａから熱風が吹き出し、透明支持体の両側に熱風が当たるようにされていてもよいし、塗布面若しくは裏面の片側から風を吹いてもよい。加熱温度は液晶層の温度が１２０℃以上１４０℃以下とすることが好ましい。

上記のようにして得られた配向層と液晶層を有する透明支持体は、硬膜手段である紫外線照射装置１２に搬送され、配向層および液晶層に紫外線が照射される。紫外線照射装置１２内は、例えば図５に示すように、紫外線ランプ１０２、冷却手段である温度調節可能な冷却ロール１０４、加熱手段ある温度調節可能な加熱ロール１０６から形成されている。

紫外線照射装置１２内に搬送された透明支持体は、冷却ロール１０４に巻かれて固定された状態で、ロール上に設けられた紫外線ランプ１０２を通過する。透明支持体は、冷却ロール１０４により冷却されているため、温度が低くなっており、液晶層の架橋性官能基を有する液晶性化合物のみ架橋し、硬膜され光学異方性層が形成される。

次に、透明支持体は、加熱ロール１０６に巻かれて固定された状態で、ロール上に設けられた紫外線ランプ１０２を通過する。透明支持体は、加熱ロール１０６により加熱されているため、配向層中の紫外線を受けて光異性化を起こす化合物が異性化反応を起こし硬膜する。また、液晶層（光学異方性層）は、冷却ロール１０４上での紫外線ランプ１０２により、硬膜されているため、加熱ロール１０６上での紫外線照射により、光学補償機能を損なうことなく光学補償フィルムを製造することができる。

紫外線照射装置１２内の配向層および液晶層の温度は、液晶層の硬膜を行う冷却ロール１０４上での液晶層の温度が、４０℃以上１００℃以下であることが好ましい。温度範囲を上記範囲とすることにより、光学補償機能を損なうことなく、耐久性、耐傷性に優れたフィルムを製造することができる。また、次の加熱ロール１０６上での加熱硬膜工程において、完全に液晶層を硬膜させることができる。また、配向層の硬膜を行う加熱ロール１０６上での配向層の温度が１００℃以上１３５℃以下であることが好ましい。配向層は液晶層と比べ、硬膜しにくいため、温度を１００℃以上で行うことが好ましい。さらに、１００℃以上で行うことにより、耐久性、耐傷性を向上させることができる。また、温度が１３５℃より高くなると透明支持体のガラス転移温度（Ｔｇ）を超える場合があり、透明支持体の平面性が維持できないため、光学補償フィルム自体の平面性が損なわれる。

紫外線照射装置の別の実施形態を図６に示す。図６に示す紫外線照射装置１００は、ゾーン１１２ａ、１１２ｂに分かれて構成される。透明支持体の搬送方向に対して上流側のゾーン１１２ａは、冷却ゾーンであり、下流側のゾーン１１２ｂは、加熱ゾーンである。なお、冷却ゾーンとは、乾燥ゾーン１１を通過した透明支持体の温度を冷却するゾーンであり、冷却ゾーン内を好ましくは２５℃〜１１０℃の範囲で冷却することにより透明支持体の温度を冷却する。同様に加熱ゾーンは、加熱ゾーン内を加熱することにより、透明支持体の温度を加熱する。冷却ゾーンを冷却する方法としては、例えば、冷却風を供給することにより行うことができ、加熱ゾーンを加熱する方法としては、熱風を供給することにより行うことができる。以下、冷却風および熱風を例にして説明する。

乾燥ゾーン１１内にて、液晶層塗布液中の溶媒が除去された透明支持体は、紫外線照射装置１００における冷却ゾーン１１２ａに搬送される。冷却ゾーン１１２ａ内は、冷却風吹出し口（図示せず）から供給される冷却風により所定の温度に調節されており、冷却ゾーン１１２ａ内で液晶層が冷却され、紫外線ランプ１０２により、紫外線が照射され、液晶層が硬膜する。なお、図６においては、通常のローラ１０６を用いているが、冷却風のみで充分冷却できない場合は、ローラ１０６に代えて冷却ロールを用いることもできる。

次に冷却ゾーン１１２ａを通過した透明支持体は加熱ゾーン１１２ｂに搬送される。加熱ゾーン１１２ｂ内は、熱風吹出し口（図示せず）から供給される熱風により温度が調節されており、加熱ゾーン１１２ｂ内で配向層が加熱され、加熱ゾーン１１２ｂ内で所定の温度を維持することができる。また、図６においては、加熱ロール１０６により、温度の制御を行っている。このように加熱され、所定の温度を維持した透明支持体は、紫外線ランプ１０２により紫外線が照射され、配向層が硬膜する。

このように、冷却風、熱風によりゾーンの温度を制御することにより、一定の温度で硬膜を行うことができるので、品質の高い光学フィルムを製造することができる。

図７は、紫外線照射装置のさらに別の実施形態を示す。図７に示す紫外線照射装置１２０は、乾燥ゾーン１１および各ゾーン１２２ａ、１２２ｂが仕切り板により分かれて構成されている点が図６の紫外線照射装置１００と異なっている。１２２ａが冷却ゾーン、１２２ｂが加熱ゾーンであり、冷却ゾーン１２２ａ内は冷却風により温度調節され、紫外線ランプ１０２により液晶層の硬膜が行われる。また、加熱ゾーン１２２ｂ内は熱風により温度調節され、配向層が加熱される。図７においては、加熱ゾーン１２２ａ内の最初のローラを加熱ローラ１０６とし、他のローラを搬送ローラ１１６としているが、温度条件に応じて、適宜変更できる点は、図６に記載の装置と同様である。

図８は、紫外線照射装置のさらに別の実施形態を示す。図８に示す紫外線照射装置１０１は、冷却手段および加熱手段として、冷却風を吹き出す冷却風吹出し口１０８、熱風を吹き出す熱風吹出す口１１０を備える。また、冷却風吹出し口１０８および熱風吹出し口１１０の透明支持体を挟んだ反対側に、図示しない排気口を有する。このように４つのゾーン１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄに分割することにより、ゾーン１１４ａにおいて、透明支持体の冷却を行い、温度を一定にして次のゾーン１１４ｂにおいて、その温度を維持しながら紫外線ランプ１０２により硬膜を行うことができる。ゾーン１１４ｃ、１１４ｄについても同様に、ゾーン１１４ｃにおいて透明支持体の加熱を行い、温度を一定にして、１１４ｄにおいて、温度を維持し、硬膜を行うことができる。したがって、精密で安定した温度で硬膜を行うことができる。

図９は、紫外線照射装置のさらに別の実施形態を示す。図９に示す紫外線照射装置１３０は、紫外線ランプ１０２が、塗布面の反対側に設けられている点が図８の紫外線照射装置と異なっている。図９の装置によれば、紫外線を塗布面の反対側から照射しても、液晶層、配向層の硬化を行うことができる。

なお、図８、９は冷却風、熱風の吹出し口としてスリット状の吹出し口を用いているが、これに限定されず、例えばノズル状の吹出し口を用いることもできる。また、図８、９は、紫外線照射装置内を４つのゾーンに仕切り板を用いて分割する構成としたが、ゾーンの数は特に限定されず、また、仕切り板でなく、各ゾーンをボックス状に分割することも可能である。

このようにして形成された光学補償フィルムは、検査装置１３により光学特性が測定され、異常がないかどうか検査が行われる。次いで、光学異方性層表面に保護フィルム１４がラミネート機１５によりラミネートされ、巻き取り装置に巻き取られる。

次に、本発明の光学補償フィルムの製造方法および製造装置に用いられる材料について説明する。

［透明支持体］
本発明では、透明支持体を用いる。透明支持体とは、光透過率が８０％以上の支持体をいう。また、透明支持体の波長分散は小さいのが好ましく、具体的には、Ｒｅ４００／Ｒｅ７００の比が１．２未満であることが好ましい。さらに、透明支持体は、光学異方性が小さいことが好ましく、具体的には、面内レターデーション（Ｒｅ）が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。さらに、環境変化によって生じる面内レターデーション変化が２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。

透明支持体としては、ポリマーフィルムが好ましい。ポリマーの例には、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリレートおよびポリメタクリレートが含まれる。セルロースエステルが好ましく、アセチルセルロースがさらに好ましく、トリアセチルセルロースが最も好ましい。特にトリアセチルセルロースを用いる場合は、酢化度６０．２５〜６１．５０のものが好ましい。ポリマーフィルムは、ソルベントキャスト法により形成することが好ましい。

本発明では、長尺ロール状の支持体を用い、連続的に光学異方性層を塗布するのが好ましい。光学異方性層を形成してから、必要な大きさに切断することができる。透明支持体の厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜２００μｍであることがさらに好ましい。また、透明支持体とその上に設けられる層（接着層、水平配向層、垂直配向層あるいは光学異方性層）との接着を改善するため、透明支持体に表面処理（例、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、ケン化処理）を実施してもよいし、透明支持体の上に接着層（下塗り層）を設けてもよい。表面処理としてはケン化処理が好ましい。

［配向層］
本発明では、液晶性化合物を配向させるためには配向層を用いることが好ましい。配向層は、有機化合物（好ましくはポリマー）のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成、あるいはラングミュア・ブロジェット法（ＬＢ膜）による有機化合物（例えば、ω−トリコ酸、ジオクタデシルジメチルアンモニウムクロリド、ステアリル酸メチルなど）の累積のような手段で設けることができる。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向層も知られている。ポリマーのラビング処理により形成する配向層が特に好ましい。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施する。

配向層にするポリマーの種類は，液晶性化合物の配向（特に平均傾斜角）に応じて決定する。液晶性化合物を水平に配向させるためには配向層の表面エネルギーを低下させないポリマー（通常の配向用ポリマー）を用いる。具体的なポリマーの種類については液晶セルまたは光学補償シートについて種々の文献に記載がある。本発明では、液晶性化合物からなる光学異方性層と透明支持体（配向層）との密着性を改善する目的で、配向層に重合性基を有するポリマーを用いる。重合性基は、側鎖に重合性基を有する繰り返し単位を導入するか、あるいは、環状基の置換基として導入することができる。界面で液晶性化合物と化学結合を形成する配向層を用いることがより好ましく、かかる配向層としては、特開平９−１５２５０９号公報に記載されているものが挙げられる。配向層の厚さは０．０１〜５μｍが好ましく、０．０５〜１μｍがさらに好ましい。

［液晶性化合物］
本発明では、光学異方性層の形成に、光硬化型液晶性化合物を用いる。光硬化型液晶性化合物としては、重合性基を有する、光硬化型棒状液晶性化合物または光硬化型円盤状液晶性化合物が好ましく、少なくとも１層の光学異方性層（好ましくは、配向層に隣接する光学異方性層）の形成に、光硬化型棒状液晶性化合物を用いる。棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。以上のような低分子液晶性分子だけではなく、高分子液晶性分子も用いることができる。高分子液晶としては、特に高分子鎖にペンダント状に棒状液晶が結合されたものが好ましく、本明細書中では棒状液晶性化合物の範疇に含む。

特に好ましく用いられる、低分子の光硬化型棒状液晶性化合物（以下、「重合性棒状液晶性化合物」という場合もある）としては、下記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。

式（Ｉ）
Ｑ^１−Ｌ^１−Ｃｙ^１−Ｌ^２−（Ｃｙ^２−Ｌ^３）_ｎ−Ｃｙ^３−Ｌ^４−Ｑ^２
式中、Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立に重合性基を表し、Ｌ^１およびＬ^４はそれぞれ独立に二価の連結基であり、Ｌ^２およびＬ^３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基であり、Ｃｙ^１、Ｃｙ^２およびＣｙ^３はそれぞれ独立に二価の環状基であり、ｎは０、１または２である。

以下にさらに重合性棒状液晶性化合物について説明する。式中、Ｑ^１およびＱ^２はそれぞれ独立に重合性基である。重合性基の重合反応は、付加重合（開環重合を含む）または縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応または縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。以下に重合性基の例を示す。

前記式（Ｉ）中、Ｌ^１およびＬ^４はそれぞれ独立に二価の連結基である。Ｌ^１およびＬ^４はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ^２−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。上記Ｒ２は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子である。

組み合わせからなる二価の連結基の例を以下に示す。ここで、左側がＱ（Ｑ^１またはＱ^２）に、右側がＣｙ（Ｃｙ^１またはＣｙ^３）に結合する。
Ｌ−１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−
Ｌ−２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−
Ｌ−１１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１２：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１３：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−１４：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１５：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１６：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−
Ｌ−１７：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−１８：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−Ｏ−ＣＯ−
Ｌ−１９：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−
Ｌ−２０：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−ＣＯ−Ｏ−
Ｌ−２１：−ＣＯ−Ｏ−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−二価の環状基−二価の鎖状基−Ｏ−ＣＯ−
前記式中、二価の鎖状基は、アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基、アルキニレン基または置換アルキニレン基を意味する。アルキレン基、置換アルキレン基、アルケニレン基、置換アルケニレン基が好ましく、アルキレン基およびアルケニレン基がさらに好ましい。アルキレン基は、分岐を有していてもよい。アルキレン基の炭素数は１〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがもっとも好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。アルケニレン基は、分岐を有していてもよい。アルケニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがもっとも好ましい。置換アルキレン基のアルキレン部分は、上記アルキレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。アルキニレン基は、分岐を有していてもよい。アルキニレン基の炭素数は２〜１２であることが好ましく、２〜１０であることがさらに好ましく、２〜８であることがもっとも好ましい。置換アルキニレン基のアルキニレン部分は、上記アルキニレン基と同様である。置換基の例としてはハロゲン原子が含まれる。二価の鎖状基の具体例としては、エチレン、トリメチレン、プロピレン、ブタメチレン、１−メチル−ブタメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、オクタメチレン、２−ブテニレン、２−ブチニレンなどが上げられる。

二価の環状基の定義および例は、後述するＣｙ^１、Ｃｙ^２およびＣｙ^３の定義および例と同様である。Ｒ^２は、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることがもっとも好ましい。

Ｌ^２またはＬ^３はそれぞれ独立に単結合または二価の連結基である。Ｌ^２およびＬ^３はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＮＲ^２−、二価の鎖状基、二価の環状基およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基または単結合であることが好ましい。上記Ｒ^２は炭素原子数が１〜７のアルキル基または水素原子であり、炭素原子数１から４のアルキル基または水素原子であることが好ましく、メチル基、エチル基または水素原子であることがさらに好ましく、水素原子であることがもっとも好ましい。二価の鎖状基、および二価の環状基についてはＬ^１およびＬ^４の定義と同義である。

式（Ｉ）において、ｎは０、１または２である。ｎが２の場合、二つのＬ^３は同じであっても異なっていてもよく、２つのＣｙ^２も同じであっても異なっていてもよい。ｎは１または２であることが好ましく、１であることがさらに好ましい。

式（Ｉ）において、Ｃｙ^１、Ｃｙ^２およびＣｙ^３は、それぞれ独立に、二価の環状基である。環状基に含まれる環は、５員環、６員環、または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好ましく、６員環であることが最も好ましい。環状基に含まれる環は、縮合環であってもよい。ただし、縮合環よりも単環であることがより好ましい。環状基に含まれる環は、芳香族環、脂肪族環、および複素環のいずれでもよい。芳香族環の例には、ベンゼン環およびナフタレン環が含まれる。脂肪族環の例には、シクロヘキサン環が含まれる。複素環の例には、ピリジン環およびピリミジン環が含まれる。ベンゼン環を有する環状基としては、１，４−フェニレンが好ましい。ナフタレン環を有する環状基としては、ナフタレン−１，５−ジイルおよびナフタレン−２，６−ジイルが好ましい。シクロヘキサン環を有する環状基としては１，４−シクロへキシレンであることが好ましい。ピリジン環を有する環状基としてはピリジン−２，５−ジイルが好ましい。ピリミジン環を有する環状基としては、ピリミジン−２，５−ジイルが好ましい。

環状基は、置換基を有していてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、炭素原子数が１〜５のアルキル基、炭素原子数が１〜５のハロゲン置換アルキル基、炭素原子数が１〜５のアルコキシ基、炭素原子数が１〜５のアルキルチオ基、炭素原子数が２〜６のアシルオキシ基、炭素原子数が２〜６のアルコキシカルボニル基、カルバモイル基、炭素原子数が２〜６のアルキル置換カルバモイル基および炭素原子数が２〜６のアシルアミノ基が含まれる。

以下に、本発明に使用可能な光硬化型棒状液晶性化合物の具体例を示すが、本発明はこれらによって限定されるものではない。

本発明において、光硬化型液晶性化合物として、光硬化型円盤状液晶性化合物を用いることができる。円盤状液晶性化合物は、ポリマーフィルム面に対して実質的に垂直（５０〜９０度の範囲の平均傾斜角）に配向させることが好ましい。円盤状液晶性化合物は、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載されている。円盤状液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。円盤状液晶性化合物を重合により固定するためには、円盤状液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。即ち、光硬化型円盤状液晶性化合物は、下記式（ＩＩ）で表わされる化合物であることが好ましい。

式（ＩＩ）
Ｄ（−Ｌ−Ｐ）_ｎ
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｐは重合性基であり、ｎは４〜１２の整数である。

前記式（ＩＩ）中の円盤状コア（Ｄ）、二価の連結基（Ｌ）および重合性基（Ｐ）の好ましい具体例は、それぞれ、特開２００１−４８３７号公報に記載の（Ｄ１）〜（Ｄ１５）、（Ｌ１）〜（Ｌ２５）、（Ｐ１）〜（Ｐ１８）であり、同公報に記載の内容を好ましく用いることができる。

その他、液晶層塗布液に、配向制御用添加剤、液晶配向添加剤を添加させることができる。このような材物質としては、特開２００４−１４５０７１号公報に記載されている物質を用いることができる。

上記製造方法および製造装置により製造された光学補償フィルムは、偏光膜を両面から挟む２枚のフィルムのうち少なくとも１枚を光学補償フィルムとした偏光板に使用することができる。

また、本発明の光学補償フィルム、偏光板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）適用することができる。例えば、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。

以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。

＜実施例１＞
厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（フジタック、富士フイルム（株）製）を２．０Ｎの水酸化カリウム溶液（２５℃）に２分間浸漬した後、硫酸で中和し、純水で水洗、乾燥した。次に下記の組成の塗布液を、＃１６のワイヤーバーコータで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥し膜を形成した。次に、フィルムの長手方向と平行な方向に、形成した膜にラビング処理を実施し、配向層付きフィルムを得た。

［配向層形成用塗布液］
・下記の変性ポリビニルアルコール ・・・ １０ 質量部
・水 ・・・３７１ 質量部
・メタノール ・・・１１９ 質量部
・グルタルアルデヒド ・・・ ０．５質量部

次に、以下に示す液晶層塗布液を調整し、上記で作製した配向層付きフィルム上に塗布した。塗布液の溶剤であるメチルエチルケトンを室温で揮発させた後、乾燥ゾーン内で、塗膜の温度が１３０℃の状態で、２分間乾燥工程に滞在させた。その後、図６に示すように、冷却ゾーン内で冷風を用いてゾーン内を冷却し、塗膜が８０℃の状態で紫外線を照射しながら１５秒間滞在させ、液晶層を硬化させ、光学異方層を形成した。次に、加熱ゾーン内で熱風を用いてゾーン内およびフィルムを加熱、さらに加熱ローラを用いてフィルムを加熱し、塗膜が１１０℃の状態で紫外線を照射しながら１５秒間滞在させ、配向層を硬化させた。最後に、巻き取り機により巻き取り実施例１の光学補償フィルムを得た。

［液晶層塗布液］
下記の組成物を、１０７質量部のメチルエチルケトンに溶解して塗布液を調整した。塗布液の粘度はメチルエチルケトンの添加量を加減して所望の値に調整した。
・下記のディスコティック液晶性化合物 ・・・４１．０１質量部
・エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ・・・ ４．０６質量部
・セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５５１−０．２、イーストマンケミカル社製） ・・・ ０．９ 質量部
・セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ５３１−１、イーストマンケミカル社製） ・・・ ０．２１質量部
・フルオロ脂肪族基含有ポリマー（メガファックＦ７８０ 大日本インキ（株）製） ・・・ ０．１４質量部
・光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ・・・ １．３５質量部
・増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ・・・ ０．４５質量部

＜実施例２〜８、比較例１、２＞
乾燥温度、紫外線照射温度（冷却時、加熱時）の温度を表１に記載の温度とした以外は実施例１と同様の方法により光学補償フィルムを製造した。

＜評価＞
≪配向性≫
製造した光学補償フィルムを偏光顕微鏡で観察し、配向状態を確認した。配向性の評価は以下の基準で判定した。
◎：シュリーレンが全く発生せず、均一に配向している。
○：僅かに極微小なシュリーレンが発生しているが、製品としては問題にならない。
△：僅かに極微小なシュリーレンが発生しており、消光度が上昇しているが、製品としては問題にならない。
×：シュリーレンが発生していて、または配向せず製品として使用不可能。

なお、消光度測定は、Ｗｉｎ６ＯＤ（大塚電子（株）製）を用いて計測した。

≪配向層硬膜≫
製造した光学補償フィルムを４０℃の水に３０分間浸漬し、その後フィルムを温水から取り出し、不織布で５００ｇ荷重２５往復擦り、配向層の剥がれ状態を目視観察した。配向層硬膜の評価は以下の基準で判定した。
◎：強い密着強度を保っており、全く剥がれない。
○：剥がれは見られないが、密着強度の低下が見られる。製品使用の耐湿熱環境では問題にならない。
△：剥がれは見られないが、密着強度の大きな低下が見られる。湿熱環境によっては問題が発生するケースがある。
×：容易に剥れが発生する弱い密着強度であり、製品として使用不可能。

≪光学異方性層硬膜≫
製造した光学補償フィルムを３０ｇ荷重の針で引掻き、光学異方性層の傷の状態を目視および顕微鏡で観察した。光学異方性層硬膜の評価は以下の基準で判定した。
◎：顕微鏡でも傷（微小な欠陥）が確認できない。
○：顕微鏡では僅かに傷（微小な欠陥）が観察できるが、目視では観察できず製品として問題にならない。
△：顕微鏡で傷（微小な欠陥）の増加が認められ、製品品質が低下している。
×：目視で容易に傷が観察できて、製品として使用不可。

≪フィルム平面性≫
製造した光学補償フィルムロールを長手方向に１ｍ切り出し、平らな台に平置きして目視観察した。フィルム平面性の評価は以下の基準で判定した。
○：長手方向にトタン状のスジが認識できない。
△：長手方向に若干のトタン状のスジが認識できない
×：長手方向にトタン状のスジが認識でき、製品としては使用不可。

≪コントラスト視野角特性および色味≫
製造した光学補償フィルムの支持体面にポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の一方の面に貼り付け、偏光子のもう一方の面には表面が鹸化されたトリアセチルセルロースフィルムを貼り付け偏光板を作製した。作製した変更板を設置した液晶パネルの上方向コントラスト視野角および青色の色味具合を評価した。
◎：コントラスト、視野角特性、青色の色味具合は製品規格内でバラツキが非常に少なく良好である。
○：コントラスト、視野角特性、青色の色味具合は製品規格内であるが、若干のバラツキが見られる。
△：コントラスト、視野角特性、青色の色味具合はバラツキが見られ、一部製品規格外のものが発生している。
×：コントラスト、視野角特性、青色の色味具合は大きなバラツキが見られ、製品規格外で製品として不可である。

≪総合評価≫
上記項目を総合的に判断し、◎〜×で評価を行った。

表１に示すように、実施例１から３においては、良好な品質の光学補償フィルムを製造することができた。液晶層の硬膜温度（冷却紫外線照射温度）を配向層の硬膜温度（加熱紫外線照射温度）と同じ温度で高くした比較例１においては、光学特性が劣化していた。逆に、加熱紫外線照射温度を冷却紫外線照射温度と同じ温度で低くした比較例２においては、配向層および光学異方性層で硬膜がされていなかった。冷却紫外線照射温度を低くした実施例４においては、製品として問題ない程度であったが、配向層の剥がれ、光学異方性層での傷が確認された。

また、乾燥温度、加熱紫外線照射温度を１４０℃以上として実施例５、７、８においては、透明支持体のＴｇを超えているため、透明支持体の平面性がいじできず、光学補償フィルム自体の平面性も劣化していた。

本発明の光学補償フィルムの製造装置の一例を示す概略図である。 本発明の製造装置に使用することができるワイヤーバー塗布装置の平面図の一例を示す。 本発明の製造装置に使用することができるワイヤーバー塗布装置の断面図の一例を示す。 本発明の製造装置に使用することができる液晶層を乾燥する装置の一例を示す。 本発明の製造装置に使用することができる紫外線照射装置の一例を示す。 本発明の製造装置に使用することができる紫外線照射装置の別の例を示す。 本発明の製造装置に使用することができる紫外線照射装置のさらに別の例を示す。 本発明の製造装置に使用することができる紫外線照射装置のさらに別の例を示す。 本発明の製造装置に使用することができる紫外線照射装置のさらに別の例を示す。

符号の説明

１ａ…送出機、２…表面除塵機、３…塗布機、４ａ…透明支持体、４ｂ…配向層が形成された透明支持体、４ｃ…ラビング処理が施された透明支持体、５ａ…フィルムロール、５…乾燥ゾーン、６…ガイドローラ、７…除塵機、８…ラビングローラ、９…表面除塵機、１０…塗布機、１１…乾燥ゾーン、１２、１００、１０１…紫外線照射装置、１３…検査装置、１４…保護フィルム、１５…ラミネート機、１６…巻き取り機、６１…ワイヤーバーコータ、６２…バックアップ、６３…ベアリング、６４…カップリング、６５…モータ、６６…一次側液溜り、６７…二次側液溜り、６８…オーバーフロー液溜り、６９Ａ…供給口、６９Ｂ…排出液口、７２…液面規制板、７３…フィルタ、７５…粘度調整室、７６…連結管、７７…ポンプ、７８…密度計、８１…ワイヤーバー塗布機、８２…整流板、８３ａ…塗布室給気口、８３ｂ…塗布室排気口、８４…液晶層を有する透明支持体、８５ａ、８５ｂ…金網、８６…乾燥ゾーン、８８…多孔板、８９…加熱ゾーン、１０２…紫外線ランプ、１０４…冷却ロール、１０６…加熱ロール、１０８…冷却風吹き出し口、１１０…熱風吹き出し口、１１２ａ、１１２ｂ、１１４ａ、１１４ｂ、１１４ｃ、１１４ｄ…ゾーン、１１６…ローラ

Claims (14)

1. 表面に配向層が形成され、連続的に搬送される透明支持体上に、液晶性化合物を含む液晶層塗布液を該配向層上に塗布する液晶層塗布工程と、
   前記液晶層を乾燥する液晶層乾燥工程と、
   前記乾燥工程の乾燥温度より低い温度に冷却した状態で、前記液晶層を硬膜する冷却硬膜工程と、
   前記冷却硬膜工程の冷却温度より高い温度に加熱した状態で、前記配向層を硬膜する加熱硬膜工程と、を有することを特徴とする光学補償フィルムの製造方法。
2. 前記液晶層および前記配向層に紫外線を照射することにより硬膜を行うことを特徴とする請求項１に記載の光学補償フィルムの製造方法。
3. 前記液晶層乾燥工程では、前記液晶層の温度が１２０℃以上１４０℃以下であり、前記冷却硬膜工程では、前記液晶層の温度が４０℃以上１００℃以下であり、前記加熱硬膜工程では、前記配向層の温度が１００℃以上１３５℃以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学補償フィルムの製造方法。
4. 前記冷却硬膜工程は、前記液晶層の温度を冷却する冷却工程と、前記冷却後の温度を維持しながら硬膜を行う硬膜工程と、を有することを特徴とする請求項１から３いずれかに記載の光学補償フィルムの製造方法。
5. 前記加熱硬膜工程は、前記配向層を加熱する加熱工程と、前記加熱後の温度を維持しながら硬膜を行う硬膜工程と、を有することを特徴とする請求項１から４いずれかに記載の光学補償フィルムの製造方法。
6. 表面に配向層が形成された透明支持体を連続走行させる支持体走行手段と、該透明支持体上に液晶性化合物を含む液晶層塗布液を塗布する塗布手段と、該液晶層塗布液を乾燥し液晶層を形成する乾燥手段と、該配向層と該液晶層を硬膜する硬膜手段と、を備える光学補償フィルムの製造装置において、
   前記硬膜手段の前半部に前記配向層および液晶層を冷却する冷却手段を備え、後半部に前記配向層および液晶層を加熱する加熱手段を備えることを特徴とする光学補償フィルムの製造装置。
7. 前記硬膜手段が、紫外線照射であることを特徴とする請求項６に記載の光学補償フィルムの製造装置。
8. 前記硬膜手段は、４つ以上のゾーンからなり、前半の２つ以上のゾーンのそれぞれに前記冷却手段と少なくとも１つのゾーンに硬膜手段を備え、後半の２つ以上のゾーンのそれぞれに前記加熱手段と少なくとも１つのゾーンに硬膜手段を備え、前記ぞれぞれのゾーン内部の温度が制御可能であることを特徴とする請求項６または７に記載の光学補償フィルムの製造装置。
9. 前記冷却手段がノズルまたはスリット板からの冷却風、または、温度調節可能な冷却ロールであることを特徴とする請求項６から８いずれかに記載の光学補償フィルムの製造装置。
10. 前記加熱手段が温度調節可能な加熱ロールであることを特徴とする請求項６から９いずれかに記載の光学補償フィルムの製造装置。
11. 前記乾燥手段における前記液晶層の温度が１２０℃以上１４０℃以下であり、前記冷却手段における前記液晶層の温度が４０℃以上１００℃以下であり、前記加熱手段における前記配向層の温度が１００℃以上１３５℃以下であることを特徴とする請求項６から１０いずれかに記載の光学補償フィルムの製造装置。
12. 請求項１から５いずれか記載の光学補償フィルムの製造方法により製造された光学補償フィルム。
13. 請求項１２に記載の光学補償フィルムの少なくとも１つを有することを特徴とする偏光板。
14. 請求項１２に記載の光学補償フィルム、または、請求項１３に記載の偏光板を有することを特徴とする液晶表示装置。

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