JP2009227932A - シクロオレフィン系樹脂フィルム及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】ゲルの発生による光学特性の低下を抑制し、且つ、スリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるシクロオレフィン系樹脂フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】シクロオレフィン系樹脂フィルムに残留するゲルを、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下とする。
【選択図】 図２

Description

本発明は、シクロオレフィン系樹脂フィルム及びその製造方法に係り、特に、シクロオレフィン系樹脂のペレットを押出機で溶融して製造されるシクロオレフィン系樹脂フィルム及びその製造方法に関する。

シクロオレフィン系樹脂より製造されたフィルム（以下、「シクロオレフィン系樹脂フィルム」という。）は、セルローストリアセテートフィルムの吸湿性や透湿性を改良できるフィルムとして注目され、熱溶融製膜および溶液製膜によるフィルムの製造方法が検討されている。また、シクロオレフィン系樹脂フィルムは、高い光学特性の発現性を有しており、さらには温度変化による光学特性の変化が少なく、位相差膜（以下、「位相差フィルム」ともいう。）などの光学フィルムとしての開発が行われている。このようなフィルムは、シクロオレフィン系樹脂のペレットを押出機で加熱溶融し、この溶融樹脂をダイからシート状に吐出し、これを冷却ドラム上で冷却し、剥離することによって製造されている。

しかしながら、シクロオレフィン系樹脂の溶融製膜では、押出機で溶融押出する際にゲルが大量に発生し、これが、シクロオレフィン系樹脂フィルム上に残留することで、異物故障となっていた。

これに対し、ゲルを低減するため、酸化を抑制する添加剤などを付与する検討がなされてきた（例えば、特許文献１及び２）。
特開２００７−１６０７２０号公報 特開平７−１４２１３号公報

しかしながら、特許文献１や特許文献２に記載されている酸化を抑制する添加剤を付与する方法では、シクロオレフィン系樹脂のゲルを完全になくすことになり、滑り性が悪くなり製膜時のハンドリング性が悪化するという問題があった。ハンドリング性が悪化すると、例えば、シクロオレフィン系樹脂が冷却ドラム上で滑ってしまい、製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルムの光学物性が不均一になってしまう。そこで、ハンドリング性が悪化するのを防止するために、通常、スリップ材を配合する。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、シクロオレフィン系樹脂フィルムの溶融製膜において、ゲルの発生による光学特性の低下を抑制し、且つ、スリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるシクロオレフィン系樹脂フィルム及びその製造方法を提供することを目的とする。

請求項１に記載の発明は、前記目的を達成するために、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下であることを特徴とする。

請求項１に記載の発明によれば、シクロオレフィン系樹脂フィルムにおいて、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下の微細サイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズの粗大ゲルが１０個／ｍｍ^２以下の密度であることで、ゲルの発生による光学特性の低下を抑制し、且つ、スリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができる。即ち、製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルムに積極的に円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２で含ませ、且つ、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下とすることで、押出機での溶融により発現するゲルにより光学特性の妨げとなることがなくスリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるので、高品質なシクロオレフィン系樹脂フィルムを提供することができる。

尚、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルは、５０〜１０００個／ｍｍ^２の密度であることが好ましく、１００〜５００個／ｍｍ^２の密度であることが更に好ましい。

請求項２に記載の発明は、前記目的を達成するために、シクロオレフィン系樹脂を溶融して製膜するシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法であって、ペレットのガラス転移温度以下の融点を有する滑剤又はペレットのガラス転移温度以下で液体状態である滑剤０．０１〜３．０ｗｔ％と、熱安定剤０．０１〜０．５ｗｔ％と、ガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋４０℃に加温したシクロオレフィン系樹脂を含有するペレットと、を混合し、前記混合した混合物を、酸素濃度０．１％以上１０％以下の雰囲気下で可塑化させて製膜されることを特徴とする。

請求項２によれば、（ａ）ペレットのガラス転移温度以下の融点を有する滑剤又はペレットのガラス転移温度以下で液体状態である滑剤０．０１〜３．０ｗｔ％と、（ｂ）熱安定剤０．０１〜０．５ｗｔ％と、を（ｃ）ペレットと混合する。（ｄ）均一混合する際には、シクロオレフィン系樹脂のペレットを、ペレットのガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋４０℃の範囲で加温し、（ｅ）混合物を酸素濃度０．１％以上１０％以下の雰囲気下で可塑化させて製膜する。（ａ）〜（ｅ）の条件全てを満たすようにすることで、微小なゲルが生成される条件で製膜を行なうことができる。即ち、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下とすることができる。従って、押出機での溶融により発現するゲルにより光学特性の妨げとなることがなくスリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法を提供することができる。

請求項３に記載の発明は、請求項２の発明において、前記ペレットは、角の無い丸形状のペレットであることを特徴とする。

また、請求項４に記載の発明は、請求項３の発明において、前記角の無い丸形状のペレットは、ホットカット及びアンダーウオーターカットによりカッティングされたペレットであることを特徴とする。

請求項３によれば、ゲルの発生による光学特性の低下を更に抑制するには、ペレットは角の無い丸形状のペレットを用いることが好ましい。角の無い丸形状のペレットを用いることで、押出機内でのシクロオレフィン系樹脂（ペレット）との摩擦を減らすことができる。従って、特に、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルを更に減らすことができる。また、請求項４によれば、ペレットがホットカット及びアンダーウオーターカットにより製造されることで、良好に角の無い丸形状のペレットを得ることができる。

請求項５に記載の発明は、請求項２〜４の何れか１に記載の発明において、前記シクロオレフィン系樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０℃以上であることを特徴とする。

請求項５によれば、シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０℃以上であることが好ましい。

請求項６に記載の発明は、請求項２〜５の何れか１に記載の発明において、タッチロール法により製膜したことを特徴とする。

本発明は、溶融樹脂をタッチロールで冷却するタッチロール法によりシクロオレフィン系樹脂を製膜する場合に特に有効である。即ち、タッチロール法は、一対のローラで挟みながら溶融樹脂の冷却を行うポリシングローラ法とは異なり、溶融樹脂が冷却ドラム上での滑り易いという特徴があるが、本発明に係るシクロオレフィン系樹脂フィルムは、滑り性（滑り難さ）が良好なので、特に有効である。

請求項７に記載の発明は、請求項２〜６の何れか１に記載の発明において、フィルム厚みが、２０〜３００μｍの範囲であることを特徴とする。

請求項７によれば、フィルム厚みが２０〜３００μｍの範囲である場合に、押出機での溶融により発現するゲルにより光学特性の妨げとなることがなく、スリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法を提供することができる。

請求項８は請求項１に記載のシクロオレフィン系樹脂がノルボルネン系樹脂であることを特徴とするシクロオレフィン系樹脂フィルムであり、請求項９は前記シクロオレフィン系樹脂がノルボルネン系樹脂であることを特徴とする請求項２〜７の何れか１に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法である。

シクロオレフィン系樹脂であるノルボルネン系樹脂は高い光学特性を有しているので、液晶表示板用光学補償フィルムや偏光板に適している。

本発明によれば、押出機での溶融により発現するゲルにより光学特性の妨げとなることがなく、スリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるシクロオレフィン系樹脂フィルム及びその製造方法を提供することができる。

本発明のシクロオレフィン系樹脂フィルムは、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下であることを特徴とする。

以下添付図面に従って上記のゲル密度条件を満足する本発明に係るシクロオレフィン系樹脂フィルムを製造するための製造方法の好ましい実施の形態について説明する。

図１は、シクロオレフィン系樹脂フィルムの製造装置の概略構成の一例を示している。図１に示すように製造装置１０は主として、延伸前のシクロオレフィン系樹脂フィルム１２を製造する製膜工程部１４と、製膜工程部１４で製造されたシクロオレフィン系樹脂フィルム１２を縦延伸する縦延伸工程部１６と、横延伸する横延伸工程部１８と、延伸されたシクロオレフィン系樹脂フィルム１２を巻き取る巻取工程部２０とで構成される。

製膜工程部１４では、押出機２２で溶融されたシクロオレフィン系樹脂がダイ２４からシート状に吐出され、回転する冷却ドラム２６上でキャストされて急冷固化され、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２が得られる。このシクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、冷却ドラム２６から剥離された後、縦延伸工程部１６、横延伸工程部１８に順に送られて延伸され、巻取工程部２０でロール状に巻き取られる。これにより、延伸シクロオレフィン系樹脂フィルム１２が製造される。以下、各工程部の詳細について説明する。

図２は製膜工程部１６の押出機２２の構成を示している。同図に示すように、押出機２２は、単軸スクリュー型の押出機であり、シリンダ３２内に単軸スクリュー３８を備えている。単軸スクリュー３８はスクリュー軸３４にスクリュー羽根３６が取りつけられて構成されており、回転自在に支持されるとともに、不図示のモータによって回転駆動される。

シリンダ３２の外周部には、不図示のジャケットが取りつけられており、所望の温度に温度制御できるようになっている。

シリンダ３２の供給口４０にはホッパー４２が取り付けられており、このホッパー４２からシクロオレフィン系樹脂が供給口４０を介してシリンダ３２内に供給される。

ここで、ホッパー４２内に供給されるシクロオレフィン系樹脂は予めペレット化されている。本発明では、このペレットに、ペレットのガラス転移温度以下の融点を有する滑剤又はペレットのガラス転移温度以下で液体状態である滑剤０．０１〜３．０ｗｔ％と、熱安定剤０．０１〜０．５ｗｔ％と、を混合して押出機２２のシリンダ３２内に供給される。

尚、ここで滑剤とは、押し出し機内での樹脂とバレル及び／又はスクリューとの摩擦を低減する効果のある、所謂一般的に外滑剤と言われるものであり、例えば、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、アラキジン酸、ベヘン酸、モンタン酸等の脂肪酸や、ステアリルステアレート、ベヘニルベヘネート、ペンタエリスルトールトリステアレート、ペンタエリスルトールテトラステアレート、グリセリンモノステアレート、グリセリンモノベヘネート等の脂肪酸エステル；ステアリルアミド、パルミチルアミド、オレイルアミド、メチレンビスステアロアミド、エチレンビスステアロアミド等の脂肪酸アミドやステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム等の金属石けん、モンタンロウ等の天然ワックス等の１種以上を用いることができる。なかでも、脂肪酸エステルが好ましい。脂肪酸エステルを形成する脂肪酸としては、炭素数１２〜３６の脂肪酸残基と炭素数１〜３６のアルコール残基とから成る脂肪酸エステルである必要があり、好ましくは炭素数１６〜３２の脂肪酸残基と炭素数１〜３６のアルコール残基からなる脂肪酸エステル、更に好ましくは炭素数１６〜３２の脂肪酸残基と炭素数１〜２０のアルコール残基からなる脂肪酸エステルである。

熱安定剤とは、酸化防止機能及び／又はラジカルトラップ機能を有するものを意味し、フェノール系酸化防止剤やリン系酸化防止剤、イオウ系酸化防止剤があげられる。フェノール系酸化防止剤の具体例としては、ｐ−シクロヘキシルフェノール、３−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、４，４’−イソプロピリデンジフェノール、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等の非ヒンダードフェノール系酸化防止剤、２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、４−ヒドロキシメチル−２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、スチレン化フェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス［４−メチル−６−（１，３，５−トリメチルヘキシル）フェノール］、４，４’−メチレンビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，６−ビス（２−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス［２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル］ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス［３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル］ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、トリス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル］イソシアヌレート、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−チオビス（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、チオビス（β−ナフトール）等のヒンダードフェノール系酸化防止剤などが挙げられる。特に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤は、それ自体安定ラジカルとなり易いためにラジカルトラップ剤として好適に使用することが出来る。ヒンダードフェノール系酸化防止剤の分子量は、通常２００以上、好ましくは５００以上であり、その上限は通常３０００である。

イオウ系酸化防止剤の具体例としては、ジドデシルチオジプロピオネート、ジテトラデシルチオジプロピオネート、ジオクタデシルチオジプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３−ドデシルチオプロピオネート）、チオビス（Ｎ−フェニル−β−ナフチルアミン）、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、テトラメチルチウラムモノサルファイド、テトラメチルチウラムジサルファイド、ニッケルジブチルジチオカルバメート、ニッケルイソプロピルキサンテート、トリラウリルトリチオホスファイト等が挙げられる。特に、チオエーテル構造を有するチオエーテル系酸化防止剤は、酸化された物質から酸素を受け取って還元するため、好適に使用することが出来る。イオウ系酸化防止剤の分子量は、通常２００以上、好ましくは５００以上であり、その上限は通常３０００である。

リン系酸化防止剤としては、例えば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリ（ノニルフェニル）ホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等が挙げられる。

ペレット、滑剤、及び熱安定剤は、混合させるために、ペレット、滑剤、及び熱安定剤を混合する前に、ペレットをペレットのガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋４０℃の範囲で加温し、この温度範囲に加温されたペレットに滑剤及び熱安定剤を配合し、これらの混合物を混ぜ合わせる。尚、シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０℃以上であることが好ましい。

ペレットは、角の無い丸形状のペレットであることが好ましい。角の無い丸形状のペレットは、ホットカット及びアンダーウオーターカットによりカッティングすることで製造することができる。ゲルの発生による光学特性の低下を更に抑制するには、ペレットは角の無い丸形状のペレットを用いることが好ましい。角の無い丸形状のペレットを用いることで、押出機内でのシクロオレフィン系樹脂（ペレット）との摩擦を減らすことができる。

押出機２２内であるシリンダ３２内は、酸素濃度０．１％以上１０％以下の雰囲気下にする。シリンダ３２内の酸素濃度を０．１％以上１０％以下であるようにすることで、溶融時にシクロオレフィン系樹脂が酸化することでゲルが発現するのを抑えることができ、特に、円形度が０．７以上で円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルの発現を抑えることができる。尚、シリンダ３２内の酸素濃度は０．１％以上１０％以下であることが好ましいが、より好ましくは０．１％以上３％以下である。

シリンダ３２内の酸素濃度を０．１％以上１０％以下であるようにする方法として、図２に示すように押出機２２の供給口４０付近に配管（不図示）を設け、不活性ガスをシリンダ３２内に送り込み、シリンダ３２内を不活性ガス雰囲気とすることが好ましい。そして、押出機２２内に不活性ガスを０．１リットル／ｍｉｎ〜１リットル／ｍｉｎの範囲で流すことで、押出機２２内の酸素濃度を０．１％以上１０％以下にすることができる。ここで、効果的にシリンダ３２内の酸素濃度を０．１％以上１０％以下であるようにするには、ペレットが主たる混合物を押出機２２内に投入する前にシリンダ３２内に不活性ガスを流入させておくことが好ましい。また、配管（不図示）の途中にはフィルター（不図示）を設け不活性ガス中の細かいゴミを取り除いた後に押出機２２内に流入させることが好ましい。このようにすることで、熱による酸化を起こしやすいシクロオレフィン系樹脂において、酸化することがなくなるので、異物の発生の少ない、光学用途の高機能性フィルムとして好適なシクロオレフィン系樹脂フィルムを提供することができる。ここで、不活性ガスの流量が０．１リットル／ｍｉｎよりも少ないとセルロース系樹脂の酸化を防ぐ効果がなく、不活性ガスの流量が１リットル／ｍｉｎよりも多くても１リットル／ｍｉｎの場合と比べ酸化防止の効果は変わらない。尚、不活性ガスは特に限定しないが、手に入れやすく安価である窒素ガスを好適に使用することができる。

また、シリンダ３２内の酸素濃度を０．１％以上１０％以下であるようにする別の方法として、図２に示すようにホッパーを真空ホッパー４４’とすることが考えられる。真空ホッパー４４’には真空引き用の配管４８が設けられており、ホッパーの供給口５２を不図示の蓋によって密閉し真空ポンプ５０を作動させることでポッパー内部及び押出機２２のシリンダ３２内の酸素濃度を下げることができる。

シリンダ３２内は供給口４０側から順に、供給口４０から供給されたシクロオレフィン系樹脂を定量輸送する供給部（Ａで示す領域）と、シクロオレフィン系樹脂を混練・圧縮する圧縮部（Ｂで示す領域）と、混練・圧縮されたシクロオレフィン系樹脂を計量する計量部（Ｃで示す領域）とで構成される。

押出機２２のスクリュー圧縮比は、２〜５に設定され、Ｌ／Ｄは２０〜５０に設定される。ここで、スクリュー圧縮比とは、背圧をかけて混練するために成形材料を溶融状態で圧縮する程度をいい、供給部Ａと計量部Ｃとの容積比（すなわち供給部Ａの単位長さ当たりの容積÷計量部Ｃの単位長さ当たりの容積）で表され、供給部Ａのスクリュー軸３４の外径ｄ１、計量部Ｃのスクリュー軸３４の外径ｄ２、供給部Ａの溝部径ａ１、及び計量部Ｃの溝部径ａ２とを使用して算出される。また、Ｌ／Ｄとは、図２のシリンダ内径（Ｄ）に対するシリンダ長さ（Ｌ）の比である。また、押出機２２の温度は、ペレット（シクロオレフィン系樹脂）のガラス転移温度（Ｔｇ）以上（Ｔｇ＋４０℃）以下の範囲に設定される。

なお、スクリュー圧縮比が２を下回って小さすぎると、十分に混練されず、未溶解部分が発生したり、剪断発熱が小さく結晶の融解が不十分となる。逆に、スクリュー圧縮比が５を上回って大きすぎると、剪断応力がかかり過ぎて発熱により樹脂が劣化したり、分子の切断が起こり分子量が低下してしまう。これにより、溶融樹脂が不均一となってしまい、押出機２２の吐出圧の変動が大きくなってしまう。したがって、押出機２２の吐出圧変動を小さくし、フィルムの厚みムラを小さくするためには、スクリュー圧縮比は２〜５の範囲が良く、より好ましくは２．５〜４．５の範囲、特に好ましくは３〜４の範囲である。

また、Ｌ／Ｄが２０を下回って小さすぎると、溶融不足や混練不足となり、圧縮比が小さい場合と同様に微細な結晶が残存し易くなる。逆に、Ｌ／Ｄが５０を上回って大きすぎると、押出機２２内でのシクロオレフィン系樹脂の滞留時間が長くなり過ぎ、樹脂の劣化を起こし易くなる。また、滞留時間が長くなると分子の切断が起こり分子量が低下してしまう。したがって、押出機２２の吐出圧変動を小さくし、フィルムの厚みムラを小さくするためには、Ｌ／Ｄは２０〜５０の範囲が良く、好ましくは２５〜４５の範囲、特に好ましくは３０〜４０の範囲である。

そして、押出機２２の圧縮部Ｂの長さは、供給部Ａの長さ及び／又は計量部Ｃの長さに比べ１／５〜２／３の範囲にする。そうすることで、圧縮部Ｂでセルロース系樹脂が圧縮されることによる分解を防止する。即ち、特にセルロース系樹脂は、熱などのエネルギーによって分解しやすいため、押出機の圧縮部の長さを規制することで圧縮時間を少なくし、分解を防止することができる。よって、溶融樹脂に微細な結晶が残存されにくく、セルロース系樹脂が分解することがなくなるので溶融樹脂が均一となる。ここで、押出機２２の圧縮部Ｂの長さが、供給部Ａの長さ及び／又は計量部Ｃの長さに比べ１／５〜２／３の範囲であるのは、１／５よりも短いとセルロース系樹脂を溶融できなくなり、２／３よりも長いとセルロース系樹脂が分解してしまうからである。

また、押出機２２の供給部Ｂの温度を１６０〜２００℃の範囲にすることで、ペレット化されたセルロース系樹脂を溶融しやすくする。押出機２２の供給部Ａの温度が１６０℃を下回って低すぎると、結晶の融解が不十分となり、溶融樹脂に微細な結晶が残存してしまう。逆に、押出機２２の供給部Ａの温度が２００℃を超えて高すぎると、シクロオレフィン系樹脂が供給部Ａのスクリュー３８部分に粘着してしまい、供給部Ａのスクリュー３８部分に粘着した樹脂は圧縮部Ｂに送られにくくなるため、熱により劣化してしまう。したがって、押出温度は１６０℃〜２００℃が良く、好ましくは１７０℃〜１９０℃の範囲、特に好ましくは１７５℃〜１８５℃の範囲である。

上記の如く構成された押出機２２によってシクロオレフィン系樹脂が溶融され、その溶融樹脂が吐出口４２からダイ２４（図１参照）に１０％以内の吐出圧変動で連続的に送られる。また、押出機２２の下流には、吐出量制御用のギアポンプと異物除去フィルター（不図示）を設けることが好ましい。また、吐出量制御用のギアポンプの量を調節することにより、スクリュー押出機の出口圧力を所望の値に調節することが可能となる。

押出機２２によってダイ２４に送られた溶融樹脂は、ダイ２４からシート状に押し出され、冷却ドラム２６上にキャストされて冷却固化され、樹脂フィルム１２が製膜される。なお、ダイ２４から押し出された際の溶融ポリマー温度は、熱劣化や着色を防止するために、Ｔｇ＋１００℃以上、Ｔｇ＋１３０℃以下が好ましい。さらに、ダイ２４は、そのスリットが、鉛直方向と、冷却ドラム２６の回転方向に４５°で傾斜した方向との範囲で形成されることが好ましい。

以上のように製膜工程部１４で製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２の密度で含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下の密度のシクロオレフィン系樹脂フィルムとすることができる。

従来、溶融樹脂を冷却ドラム上で冷却する際、添加剤の添加も原因して、溶融樹脂が冷却ドラム上で滑ってしまうことがあり、製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルムの光学物性が不均一になってしまうという問題があった。

溶融製膜法によって製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルムにおいて、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下とすることで、ゲルの発生による光学特性の低下を抑制し、且つ、スリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができる。即ち、製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルムに積極的に円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２で含ませ、且つ、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下とすることで、押出機での溶融により発現するゲルにより光学特性の妨げとなることがなくスリップ材を配合することなしで優れたハンドリング適正を付与することができるので、高品質なシクロオレフィン系樹脂フィルムを提供することができる。尚、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルは、５０〜１０００個／ｍｍ^２の密度であることが好ましく、１００〜５００個／ｍｍ^２の密度であることが更に好ましい。

尚、本発明において、ゲルのサイズは、フィルムを２５℃でシクロヘキサンに溶解させて、１０wt％の溶液を調整し、セイシン企業製粒度・形状分布測定器（型式ＰＩＴＡ−１ ）を用いて、調整溶液４ｍｌ中に含まれる全てのゲルのＣＣＤカメラ画像撮影を行い、円相当径と円形度を求めている。そして、円相当径は、画像データから粒子の面積を測定し、その粒子と等しい面積をもつ円を仮定しその円の直径を求めている。また、円形度は、粒子の面積と等しい円を仮定し、その円の円周長を粒子周囲長で割った値である。１．０に近い程真円に近い。

製膜工程部１４で製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、縦延伸工程部１６、横延伸工程部１８で延伸される。

以下に、製膜工程部１４で製膜したシクロオレフィン系樹脂フィルム１２を延伸し、延伸シクロオレフィン系樹脂フィルム１２を製造するまでの延伸工程について説明する。

シクロオレフィン系樹脂フィルム１２の延伸は、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２中の分子を配向させ、面内のレターデーション（Ｒｅ）と厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を発現させるために行われる。尚、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、ＲｅとＲｔｈを発現させないで使用される場合には、延伸工程を経ることなく図１の巻取工程部２０でロール状に巻き取られる。

図１に示すように、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、先ず、縦延伸工程部１６で長手方向に縦延伸される。縦延伸工程部１６では、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２が予熱された後、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２が加熱された状態で、二つのニップロール２８、３０に巻き掛けられる。出口側のニップロール３０は、入口側のニップロール２８よりも早い搬送速度でシクロオレフィン系樹脂フィルム１２を搬送しており、これによって、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２が縦方向に延伸される。

縦延伸工程部１６における予熱温度はＴｇ−４０℃以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ−２０℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。また、縦延伸工程部１６の延伸温度は、Ｔｇ以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ＋２℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下がより好ましく、Ｔｇ＋５℃以上、Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。縦方向の延伸倍率は１．０倍以上２．５倍以下が好ましく、１．１倍以上、２倍以下がさらに好ましい。

縦延伸されたシクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、横延伸工程部１８に送られ、幅方向に横延伸される。横延伸工程部１８では例えばテンターを好適に用いることができ、このテンターによってシクロオレフィン系樹脂フィルム１２の幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に延伸する。この横延伸によって、レターデーションＲｔｈを一層大きくすることができる。

横延伸は、テンターを用いて実施するのが好ましく、好ましい延伸温度はＴｇ以上、Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、より好ましくはＴｇ＋２℃以上、Ｔｇ＋４０℃以下、さらに好ましくはＴｇ＋４℃以上、Ｔｇ＋３０℃以下である。延伸倍率は１．０倍以上、２．５倍以下が好ましく、１．１倍以上２．０倍以下がさらに好ましい。横延伸の後に縦、横のいずれか、または両方に緩和させることも好ましい。これにより幅方向の遅相軸の分布を小さくすることができる。

このような延伸により、Ｒｅが０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは１０ｎｍ以上４００ｎｍ以下、さらに好ましくは１５ｎｍ以上３００ｎｍ以下、また、Ｒｔｈが０ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下、さらに好ましくは７０ｎｍ以上３５０ｎｍ以下である。

このうちＲｅ≦Ｒｔｈを満足するものがより好ましく、さらに好ましくはＲｅ×２≦Ｒｔｈを満足するものがさらに好ましい。このような高Ｒｔｈ、低Ｒｅを実現するためには、上述のように縦延伸したものを、横（幅）方向に延伸するのが好ましい。即ち、縦方向と横方向の配向の差が面内のレターデーションの差（Ｒｅ）となるが、縦方向に加えその直交方向である横方向にも延伸することで、縦横の配向の差を小さくし面配向（Ｒｅ）を小さくできる。一方、縦に加え横にも延伸することで面積倍率は増加するため、厚みの減少に伴い厚み方向の配向は増加し、Ｒｔｈを増加させることができるためである。

さらに、Ｒｅ，Ｒｔｈの幅方向、長手方向の場所による変動をいずれも５％以下、より好ましくは４％以下、さらに好ましくは３％以下にすることが好ましい。

延伸後のシクロオレフィン系樹脂フィルム１２は、図１の巻取工程部２０でロール状に巻き取られる。その際、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２の巻取りテンションは、０．０２ｋｇ／ｍｍ² 以下とすることが好ましい。巻取りテンションをこのような範囲に設定することによって、延伸シクロオレフィン系樹脂フィルム１２にレタ−デーション分布を発生させることなく巻き取ることができる。尚、シクロオレフィン系樹脂フィルム１２の厚みは、２０〜３００μｍの範囲であることが好ましい。

（光学用フィルムの素材）
＜シクロオレフィン系樹脂＞
本発明のシクロオレフィン系樹脂フィルムの素材はシクロオレフィン系樹脂を用いる。その中でも、シクロオレフィン系化合物から重合される環状オレフィンが好ましい。この重合は開環重合、付加重合いずれの方法でも行うことができるが、環状オレフィンの中でも付加重合のもののほうが好ましい。

付加重合としては例えば特許３５１７４７１のものや特許３５５９３６０、特許３８６７１７８、特許３８７１７２１、特許３９０７９０８、特許３９４５５９８、特表２００５−５２７６９６、特開２００６−２８９９３、ＷＯ２００６−００４３７６に記載のものが挙げられる。特に好ましいのは特許３５１７４７１に記載のものである。

開環重合としてはＷＯ９８−１４４９９、特許３０６０５３２、特許３２２０４７８、特許３２７３０４６、特許３４０４０２７、特許３４２８１７６、特許３６８７２３１、特許３８７３９３４、特許３９１２１５９に記載のものが挙げられる。なかでも好ましいのがＷＯ９８−１４４９９、特許３０６０５３２に記載のものである。

ペレット化は、通常は重合後溶剤を除去した後に、コールドカット方式のペレタイザを用いてペレット化されているが、再度真空付き二軸混練装置を用いて溶融〜ストランド状に加工した後、押出し加工を行なうことも問題ない。特に、ペレット形状については、ホットカット式ペレタイザ（東芝機械製 装置名ＰＰＨ）あるいはアンダーウオーター式ペレタイザ（東芝機械製 装置名ＰＰＷ）を用いて、角の無い丸形状にすることが、１０μｍ以上の大きなゲルを防止するに有効である。

＜添加剤＞
これらのシクロオレフィン系樹脂フィルムには、可塑剤としてアルキルフタルリルアルキルグリコレート類、リン酸エステル類、カルボン酸エステル類、多価アルコール類を０〜２０質量％添加できる。安定剤としてフォスファイト系安定剤（例えばトリス（４−メトキシ−３，５−ジフェニル）フォスファイト、トリス（ノニルフェニル）フォスファイト、トリス（２，４−ジ−t−ブチルフェニル）フォスファイト）、フェノール系安定剤（たとえば、２，６−ジ−t−ブチル−４−メチルフェノール、２，２−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチルテトラキス[．３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドキシフェニル）プロピオレート、４，４−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、１，１,−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオレート]、エポキシ化合物、チオエーテル化合物を０〜３質量％添加できる。マット剤としてシリカ、チタニア、ジルコニア、アルミナ、炭酸カルシウム、クレイ等の無機微粒子、架橋アクリル、架橋スチレン等の有機微粒子を０〜１０００ｐｐｍ添加できる。また紫外線吸収剤（例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２，−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−[（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール]］）や赤外線吸収剤、レターデーション調整剤を添加することも好ましい。

（シクロオレフィン系樹脂フィルムの製膜）
＜溶融製膜法＞
イ）ペレット化
前記樹脂と添加物とは溶融製膜に先立ち、樹脂表面にまぶして混合することが好ましいが、ペレット化しても構わない。

ペレット化は前記樹脂と添加物を乾燥した後、２軸混練押出機を用い１５０℃〜３００℃で溶融後、ヌードル状に押出したものを空気中あるいは水中で固化し裁断することで作製できる。また、押出機による溶融後水中に口金より直接押出ながらカットする、アンダーウオーターカット法等によりペレット化を行ってもかまわない。

押出機の回転数は１０ｒｐｍ〜１０００ｒｐｍが好ましく、より好ましくは２０ｒｐｍ〜７００ｒｐｍである。押出滞留時間は１０秒以上１０分以内、より好ましくは２０秒間〜５分以内である。

好ましいペレットの大きさは１０ｍｍ^３〜１０００ｍｍ^３がこのましく、より好ましくは３０ｍｍ^３〜５００ｍｍ^３である。

ロ）混練溶融
溶融製膜に先立ちペレット中の水分を減少させることが好ましい。好ましい乾燥温度は４０〜２００℃、さらに好ましくは６０〜１５０℃である。これにより含水率が１．０質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以下であることがさらに好ましい。乾燥は空気中で行っても良く、窒素中で行っても良く、真空中で行っても良い。

乾燥したペレットは押出機の供給口を介してシリンダ内に供給され混練、溶融される。シリンダ内は供給口側から順に、供給部（領域Ａ）、圧縮部（領域Ｂ）、計量部（領域Ｃ）とで構成される。押出機のスクリュー圧縮比は１．５〜４．５が好ましく、シリンダ内径に対するシリンダ長さの比（Ｌ／Ｄ）は２０〜７０が好ましく、シリンダ内径は３０ｍｍ〜１５０ｍｍが好ましい。ここで、スクリュー圧縮比とは、背圧をかけて混練するために成形材料を溶融状態で圧縮する程度をいい、供給部Ａと計量部Ｃとの容積比（すなわち供給部Ａの単位長さ当たりの容量÷計量部Ｃの単位長さ当たりの容積）で表わされ、供給部Ａのスクリュー軸３４の外径ｄ１、計量部Ｃのスクリュー軸３４の外径ｄ２、供給部Ａの溝部径ａ１、および計量部Ｃの溝部径ａ２とを使用して算出される。また、Ｌ／Ｄとは、図２のシリンダ内径（Ｄ）に対するシリンダ長さ（Ｌ）の比である。押出温度は１９０〜３００℃が好ましい。押出機２２内での温度が２３０℃を超える場合には、押出機２２とダイ２４との間に冷却機（図示せず）を設けることもできる。さらに残存酸素による溶融樹脂が酸化し、ゲルが発生するのを防止するため、押出機内を不活性（窒素等）気流中、あるいはベント付き押出し機を用い真空排気しながら実施するのも好ましい。

ハ）濾過
溶融樹脂中のゲルなどの異物を濾過するためブレーカープレート式の濾過やリーフ型ディスクフィルターを組み込んだ濾過装置を設けることが好ましい。濾過は１段で行っても良く多段濾過でもよい。濾過精度は１５μｍ〜３μｍが好ましくさらに好ましくは１０μｍ〜３μｍである。濾材はステンレス鋼を用いることが望ましい。濾材の構成は、線材を編んだもの、金属繊維もしくは金属粉末を焼結したもの（焼結濾材）が使用でき、中でも焼結濾材が好ましい。

ニ）ギアポンプ
吐出量の変動を減少させ厚み精度を向上させるために、押出機出機とダイの間にギアポンプを設けることが好ましい。これによりダイ内の樹脂圧力変動巾を±１％以内にできる。

ギアポンプによる定量供給性能を向上させるために、スクリューの回転数を変化させて、ギアポンプ前の圧力を一定に制御する方法も用いることができる。
ホ）ダイ
前記の如く構成された押出機によって溶融され、必要に応じ濾過機、ギアポンプを経由して溶融樹脂がダイに連続的に送られる。ダイはＴダイ、フィッシュテールダイ、ハンガーコートダイの何れのタイプでも構わない。またダイの直前に樹脂温度の均一性アップのためスタティックミキサーを入れることも好ましい。Ｔダイ出口部分のクリアランスは一般的にフィルム厚みの１．０〜１０倍がよく、好ましくは１．２〜５倍である。

ダイは５〜５０ｍｍ間隔で厚み調整可能であることが好ましい。また下流のフィルム厚み、厚み偏差を計算し、その結果をダイの厚み調整にフィードバックさせる自動厚み調整ダイも有効である。単層製膜装置以外にも、多層製膜装置を用いて製造も可能である。

このようにして、樹脂が供給口から押出機に入ってからダイから出るまでの滞留時間は１分〜４０分が好ましく、さらに好ましくは２分〜１０分である。

ヘ）キャスト
ダイよりシート上に押し出された溶融樹脂（メルト）をキャスティングドラム上で冷却固化し、フィルムを得る。この時、ダイとキャスティングドラムの間を遮蔽し風の影響を抑制することが好ましい。

メルトがキャスティングドラムに接触する際、静電印加法、エアナイフ法、エアーチャンバー法、バキュームノズル法、タッチロール法等を用い、キャスティングドラムとメルトとの密着を上げることが好ましく、中でもタッチロール法が好ましい。このような密着向上法はメルトの全面に実施してもよく、一部に実施してもよい。

タッチロール法とは、キャストドラム上にタッチロールを置いてフィルム表面を整形するものである。この時、タッチロールは通常の剛性の高いものではなく、弾性を有するものが好ましい。これにより過剰な面圧により表面凹凸を本発明易の範囲以下にすることを抑制できる。このためには、ロールの外筒厚みを通常のロールよりも薄くすることが必要であり、外筒の肉厚Ｚは、０．０５ｍｍ〜７．０ｍｍが好ましく、より好ましくは０．２ｍｍ〜５．０ｍｍ、さらに好ましくは０．３ｍｍ〜３．５ｍｍである。タッチロールは金属シャフトの上に設置し、その間に熱媒（流体）を通してもよく、外筒と金属シャフトの上に間に弾性体層を設け、外筒の間に熱媒（流体）を満たしたものが挙げられる。タッチロールによる押付けは弱いほうがＲｔｈをより低減でき好ましいが小さすぎると本発明の表面粗さを達成できず、一方大きすぎると表面粗さは小さくなるがＲｔｈが増加し易い。このためタッチロールの面圧は０．１ＭＰａ〜５ＭＰａが好ましく、より好ましく０．２ＭＰａ〜３ＭＰａ、さらに好ましくは０．３ＭＰａ〜２ＭＰａである。ここでいう面圧とはタッチロールを押し付けている力をシクロオレフィン系樹脂フィルムとタッチロールの接触面積で割った値である。

タッチロールの温度は６０℃〜１６０℃、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃に設定するのが好ましい。このような温度制御はこれらのロール内部に温調した液体、気体を通すことで達成できる。このように内部に温調機構を有するものがより好ましい。

タッチロールの材質は金属であることが好ましく、より好ましくはステンレスであり、表面にメッキを行うことも好ましい。一方ゴムロールやゴムでライニングした金属ロールではゴム表面の凹凸が大きすぎ、上記の表面凹凸を持つシクロオレフィン系樹脂フィルムを製膜できず好ましくない。

タッチロール、キャスティングロールの表面は、算術平均高さＲａが１００ｎｍ以下、好ましくは５０ｎｍ以下、さらに好ましくは２５ｎｍ以下である。タッチロールは例えば特開平１１−３１４２６３号公報、特開２００２−３６３３２号公報、特開平１１−２３５７４７号公報、国際公開第９７／２８９５０号パンフレット、特開２００４−２１６７１７号公報、特開２００３−１４５６０９号公報記載のものを利用できる。

キャスティングドラム（ロール）は複数本用いて徐冷することがより好ましい（このうち前記タッチロールを用いるのは最上流側（ダイに近い方）の最初のキャスティングロールにタッチさせるように配置する）。一般的には３本の冷却ロールを用いることが比較的よく行われているが、この限りではない。ロールの直径は１００ｍｍ〜１５００ｍｍが好ましく、より好ましくは１５０ｍｍ〜１０００ｍｍである。複数本あるロールの間隔は、面間で０．３ｍｍ〜３００ｍｍが好ましく、より好ましくは、１ｍｍ〜１００ｍｍ、さらに好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。キャスティングドラムは６０℃〜１６０℃が好ましく、より好ましくは７０℃〜１５０℃、さらに好ましくは８０℃〜１４０℃である。

この後、キャスティングドラムから剥ぎ取り、ニップロールを経た後巻き取る。巻き取り速度は１０ｍ／分〜１００ｍ／分が好ましく、より好ましくは１５ｍ／分〜８０ｍ／分、さらに好ましくは２０ｍ／分〜７０ｍ／分である。

製膜幅は０．７ｍ〜３ｍが好ましく、１ｍ〜２ｍがさらに好ましい。製膜後（未延伸）の厚みは３０μｍ〜３００μｍが好ましく、より好ましくは４０μｍ〜２５０μｍ、さらに好ましくは６０μｍ〜２００μｍである。

ト）トリミング、厚みだし加工、巻取り
このようにして延製膜した後、両端をトリミングすることも好ましい。トリミングで切り落とした部分は破砕し、再度原料として使用してもよい。

また片端あるいは両端に厚みだし加工（ナーリング処理）を行うことも好ましい。厚みだし加工による凹凸の高さは１μｍ〜５０μｍが好ましく、より好ましくは３μｍ〜２０μｍである。厚みだし加工は両面に凸になるようにしても、片面に凸になるようにしても構わない。厚みだし加工の幅は１ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは３ｍｍ〜３０ｍｍである。押出し加工は室温〜３００℃で実施できる。

巻き取る前に片面或いは両面にラミフィルムを付けることも好ましい。ラミフィルムの厚みは５μｍ〜１００μｍが好ましく、１０μｍ〜５０μｍがより好ましい。材質はポリエチレン、ポリエステル、ポリプロピレン等、特に限定されない。好ましい巻き取り張力は２ｋｇ／ｍ幅〜５０ｋｇ／幅、より好ましくは５ｋｇ／ｍ幅〜３０ｋｇ／幅である。

（延伸）
溶融製膜した樹脂フィルムは縦延伸、横延伸を行うのが好ましく、さらに収縮処理を組み合わせても良い。中でも好ましいのが縦延伸後に横延伸を行うもの、あるいは横延伸と縦収縮処理を組み合わせるものであり、前者は高Ｒｔｈを発現させるのに適し、後者は低Ｒｔｈを発現させるのに適する。横延伸と縦収縮処理を組合せて実施する場合、縦収縮は横延伸中に実施しても良く、横延伸後に実施しても良く、両方で実施しても良い。さらにこの横延伸の前又は後或いは両方に縦延伸を組み合わせても良い。

［縦延伸］
縦延伸単独で行っても良く、横延伸と組合せて実施しても良い。縦延伸は横延伸の前、後どちらで実施しても良いが、横延伸前に行うのがより好ましい。また縦延伸は１段で実施しても良く、多段に分けて実施しても良い。

縦延伸は２対のニップロールを設置し、この間を加熱しながら出口側のニップロールの周速を入口側のニップロールの周速より速くすることで達成できる。この際、ニップロール間の間隔（Ｌ）と延伸前のフィルム幅（Ｗ）を変えることで厚み方向のレターデーションの発現性を変えることができる。Ｌ／Ｗが２を超え５０以下（長スパン延伸）ではＲｔｈを小さくでき、Ｌ／Ｗが０．０１以上０．３以下（短スパン延伸）ではＲｔｈを大きくできる。本発明では長スパン延伸、短スパン延伸、これらの間の領域（中間延伸＝Ｌ／Ｗが０．３を超え２以下）どれを使用しても良いが、配向角を小さくできる長スパン延伸、短スパン延伸が好ましい。さらに高Ｒｔｈを狙う場合は短スパン延伸、低Ｒｔｈを狙う場合は長スパン延伸と区別して使用することがより好ましい。

これらの縦延伸の好ましい延伸温度は（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋５０）℃、より好ましくは（Ｔｇ−５℃）〜（Ｔｇ＋４０）℃、さらに好ましくは（Ｔｇ）〜（Ｔｇ+３０）℃である。好ましい延伸倍率は２％〜２００％であり、より好ましくは４％以上１５０％以下、さらに好ましくは６％〜１００％である。

≪長スパン延伸≫
延伸に伴いフィルムは伸張されるが、この時フィルムは体積変化を小さくしようと厚み、幅を減少させる。ニップロール間隔を大きくすると幅方向収縮しやすくなり厚み減少を抑制でき（厚み方向の圧縮が少なく）、フィルム面内の分子配向が抑制されＲｔｈを小さくできる。

Ｌ／Ｗは２を越え５０以下が好ましく、より好ましくは３〜４０、さらに好ましくは４〜２０である。このような長スパン延伸は３対以上ニップロールで多段延伸しても良く、多段のうち最も長い縦横比が上記範囲に入っていれば良い。

このような長スパン延伸は所定の距離離した２対のニップロールの間でフィルムを加熱して延伸すればよく、加熱方法はヒーター加熱法（赤外線ヒーター、ハロゲンヒーター、パネルヒーター等をフィルム上や下に設置し輻射熱で加熱）でも良く、ゾーン加熱法（熱風等を吹き込み所定の温度に調温したゾーン内で加熱）でも良い。

≪短スパン延伸≫
Ｌ／Ｗが０．０１を越え０．３未満、より好ましくは０．０３〜０．２５、さらに好ましくは０．０５〜０．２で縦延伸（短スパン延伸）を行う。これによりネックイン（延伸に伴う延伸と直行する方向の収縮）を小さくでき、厚みが減少し易い。この結果、厚み方向に圧縮されたようになり、厚み方向の配向（面配向）が進みＲｔｈが増加し易い。

短スパン延伸は２対以上のニップロール間で搬送速度を変えることにより実施できるが、通常のロール配置（特開２００７−１５２５５８の図３の縦延伸工程部（１０８）に示すようにニップロールを平行に配置、ロール間に隙間が発生しＬ／Ｗを小さくできない）と異なり、２対のニップロールを斜めに（前後のニップロールの回転軸を上下にずらす）配置することで達成できる（特開２００６−５１８０４の図１の縦延伸工程部（２０）に示すようにニップロールを上下にずらして配置する。但しこの図ではニップロール（２２、２４）が広く描いてあるが、この間隔を狭めニップロールを近接させることでＬ／Ｗを小さくできる）。これに伴いニップロール間に加熱用ヒーターは設置できないため、ニップロール中に熱媒を流しフィルムを昇温することが好ましい。さらに入口側ニップロールの前に内部に熱媒を流した予熱ロールを設け、フィルムを延伸前に加熱することも好ましい。

［横延伸］
横延伸はテンターを用い実施することができる。即ちフィルムの幅方向の両端部をクリップで把持し、横方向に拡幅することで延伸する。この時、テンター内に所望の温度の風を送ることで延伸温度を制御することができる。延伸温度は、Ｔｇ−１０℃以上Ｔｇ＋６０℃以下が好ましく、Ｔｇ−５℃以上Ｔｇ＋４５℃以下がより好ましく、Ｔｇ以上Ｔｇ＋３０℃以下がさらに好ましい。好ましい延伸倍率は１０％以上２５０％以下、より好ましくは２０％以上２００％以下、さらに好ましくは３０％以上１５０％以下である。ここでいう延伸倍率とは下記式で定義されるものである。

延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−(延伸前の長さ)｝／（延伸前の長さ）
このような延伸の前に予熱、延伸の後に後熱処理を行うことで延伸後のＲｅ，Ｒｔｈ分布を小さくし、ボーイングに伴う配向角のばらつきを小さくできる。予熱、後熱処理はどちらか一方であっても良いが、両方行うのがより好ましい。これらの予熱、後熱処理はクリップで把持して行うのが好ましく、即ち延伸と連続して行うのが好ましい。

後熱処理は延伸温度より１℃以上５０℃以下、より好ましく２℃以上４０℃以下、さらに好ましくは３℃以上３０℃以下低くすることが好ましい。さらに好ましくは延伸温度以下でかつＴｇ以下にするのが好ましい。好ましい予熱時間は１秒以上１０分以下であり、より好ましくは５秒以上４分以下、さらに好ましくは１０秒以上２分以下である。熱固定の際、テンターの幅はほぼ一定に保つことが好ましい。ここで「ほぼ」とは延伸終了後のテンター幅の０％（延伸後のテンター幅と同じ幅）〜−１０％（延伸後のテンター幅より１０％縮める＝縮幅）を指す。延伸幅以上に拡幅すると、フィルム中に残留歪が発生しやすくなるため好ましくない。

予熱は延伸温度±５０℃、より好ましくは延伸温度±３５℃、さらに好ましくは延伸温度±２０℃である。後熱処理後のボーイングが進行方向に凸の場合は延伸温度より下げるのが好ましく、進行方向に凹の場合は延伸温度より高くするのが好ましい。好ましい予熱時間は１秒以上１０分以下であり、より好ましくは５秒以上４分以下、さらに好ましくは１０秒以上２分以下である。予熱の際、テンターの幅はほぼ一定に保つことが好ましい。ここで「ほぼ」とは未延伸フィルムの幅の±１０％を指す。このように熱固定温度＜延伸温度＜予熱温度であることがより好ましい。

このような延伸によりＲｅ、Ｒｔｈの幅方向、長手方向のばらつき、配向角のＭＤ（長手方向）あるいはＴＤ（幅方向）からのずれを小さくできる。

［収縮処理］
延伸中或いは延伸後に収縮処理を行うことが好ましく、より好ましくは横延伸中或いは横延伸後に縦（長手）方向に収縮緩和処理を行うことが好ましい。収縮処理は縦方向の搬送速度を上流側より下流側を低くすることで達成でき収縮量は０．１％以上５０％以上が好ましく、より好ましくは１％以上４０％以下、さらに好ましくは５％以上３５％である。ここで云う収縮量とは、下記式で表される。

収縮量（％）＝１００×｛（収縮処理前の長さ）−（収縮処理後の長さ）｝／（収縮処理前の長さ）
収縮処理温度は（Ｔｇ−２０）℃〜（Ｔｇ＋５０）℃、より好ましくは（Ｔｇ−１０）℃〜（Ｔｇ＋４０）℃、さらに好ましくはＴｇ〜（Ｔｇ＋３０）℃が好ましく、収縮処理時間は１秒以上１５分以下、より好ましくは５秒以上１０分以下、さらに好ましくは１０秒以上５分以下である。

延伸により延伸方向に伸張されるが、これに伴う物質収支を合わせるため延伸と直交方向、厚み方向が減少する。この厚み減少に伴いフィルム面が圧縮され面内に分子が配向し面配向が強くなる。この結果Ｒｔｈが増加する。しかし縦収縮を行うことで厚み減少を抑制でき低いＲｔｈを実現できる。即ち縦収縮することでＲｔｈ＜Ｒｅ×１．５、より好ましくはＲｔｈ＜Ｒｅを実現できる。さらにこの縦収縮により延伸後のフィルムの熱収縮を抑制する効果もあり、８０℃１００ｈｒでの熱収縮量を０．５％以下、より好ましくは０．３％以下にできる。

このような縦収縮は例えば下記のような方法により達成することができる。

≪延伸中の収縮処理≫
横延伸中の縦収縮は、テンター内のクリップの搬送速度を入口側から出口側に向って遅くしながら幅方向に延伸することで達成でき、例えば、二軸延伸機を用いて行うことができ、具体的には、横延伸と縦収縮とを同時に行うことができる。例えば、特開２００３−２１１５３３、特開平６−２１０７２６、特開平６−２７８２０４、特開平１１−７７８２５、特開２０００−２４６７９５、特開２００４−１０６４３４、特開２００４−１９５７１２、特開２００６−１４２５９５、特開２００６−２２９１６等に記載の装置を使用できる。具体的には、市金工業社製の高機能薄膜装置（商品名ＦＩＴＺ）等が使用できる。この装置は、縦方向（フィルムの長手方向＝フィルムの進行方向）の延伸倍率と横方向（幅方向＝フィルムの進行方向と垂直方向）の延伸倍率を任意に設定でき、さらに縦方向（長手方向）の収縮倍率も任意に設定可能であるため、延伸および収縮を同時に所定の条件で行うことができる。また、例えば、一般的に知られているレール幅制御方式、パンダグラフ方式、リニアモーターによる走行速度を制御する方式等を適宜組み合わせることによって、幅方向の延伸倍率を制御するとともに、フィルム端部を挟時したクリップの間隔を変化させて長手方向の長さを制御するようにした二軸延伸機等も使用できる。

≪延伸後の収縮処理≫
下記Ｉ）、II）、III）、IV）の方法を挙げることができるが、好ましい方法は、II）及びIV）である。

Ｉ）横延伸（テンター延伸）中あるいは／およびこれに引き続きテンター内のクリップの搬送速度を、延伸部入口のクリップの搬送速度より遅くする。

横延伸はクリップでフィルム両端を拡幅することで行われる（テンター延伸）が、延伸と直交方向の収縮を促し厚み収縮を促進するため、横延伸中あるいは／および延伸後にテンター内のクリップの搬送速度を延伸部入口より遅くする。

この中でもより好ましいのが横延伸後に縦収縮を行うものである（横延伸と縦収縮を同時に行うと、面内に延伸と伸張が同時に発生し残留歪が発生し易い上、面内の均一性が低下し易い）。このような横延伸後の縦収縮は、例えば横延伸と縦収縮を別のテンターレールを用意し、速度を独立に制御できるようにすることで達成でき、特開平６−２１０７２６号公報、特開平６−２７８２０４号公報、特開平１１−７７８２５号公報、特開２００４−１９５７１２号公報、特開２００６−１４２５９５号公報等に記載のようなものを使用し、縦（搬送方向）に収縮させることで実現できる。

II）テンターによる横延伸の後、熱処理ゾーンの入口側より出口側の搬送速度を遅くしながら熱処理する。

この方法では横延伸後（テンターから出た後）、フィルムを２対以上のニップロールを設けた熱処理ゾーンに挿入し、出口側のニップロールより入口側のニップロールの搬送速度を早くすることで達成できる。この縦収縮ゾーンではフィルムの収縮は縦、横両方向に発生するため、縦収縮を優先して発現させるためには、熱処理ゾーンの縦横比（ゾーン長を入口側フィルム幅で割った値）は０．０１〜２であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜１．６、さらに好ましくは０．１〜１．３である。熱処理ゾーンの加熱方法は、ニップロール間に熱処理ゾーンやヒーターを設けて行ってもよく、またニップロールを加熱し樹脂フィルムを加熱しても良い。このような出口側の搬送速度を下げる縦収縮は、搬送張力を弱くしただけの熱処理とは効果が全く異なる。即ち搬送張力低下だけでは上記のようなネックインを促すような効果は全く発生しない。

III）テンターのチャック上で樹脂フィルムを搬送方向に収縮させる。

横延伸中あるいは横延伸後にチャック上で樹脂フィルムを搬送方向にスリップさせることで縦収縮させることができる。即ち、チャックに搬送（縦）方向に樹脂フィルムが滑るようにしておくと縦収縮させることができる。このような方法としては特に限定されないが、例えばチャックのクリップ部に搬送方向に滑車を設置することでも達成でき、またクリップの樹脂フィルム把持面に滑性の素材（例えばテフロン（登録商標））を貼り付けてもよい。

IV）横延伸後のロール間低張力搬送
横延伸後（テンター後）、フィルムを低張力で熱処理すると縦、横両方向に収縮しようとするが、この時フィルムを、ロール間を搬送させることで、ロールとフィルムの摩擦力により横方向の収縮を抑制し縦収縮を優先して発現させることができる。

フィルムの横収縮を抑制するために必要な摩擦力を得るために、フィルムがロール上をラップしている長さ（Ｗ）と、ロール間でフィルムがロールと接触していない長さ（Ｇ）の比（Ｗ／Ｇ）は０．０１以上３以下が好ましく、より好ましくは０．０３以上１以下、さらに好ましくは０．０５以上０．５以下である。この範囲を超えるとロール間が長くなり摩擦力が低下しＴＤ収縮が発生しＲｅが低下、Ｒｔｈ／Ｒｅが上昇し易い上、縦皺が発現し易く好ましくない。一方、Ｗ／Ｇがこの範囲未満では延伸で発生した残留歪が解消せず熱寸法変化が増大し好ましくない。

ロールの数は２本以上１００本以下が好ましく、より好ましくは３本以上５０本以下、さらに好ましくは４本以上２０本以下である。好ましいロールの直径は５ｃｍ以上１００ｃｍ以下が好ましく、より好ましくは１０ｃｍ以上８０ｃｍ以下、さらに好ましくは１５ｃｍ以上６０ｃｍ以下である。

さらにロールと樹脂フィルムの間の摩擦力を充分に得るために樹脂フィルムの表面粗さ（Ｒａ）は０．００５μｍ以上０．０４μｍ以下が好ましく、より好ましくは０．００７μｍ以上０．０３５μｍ以下、さらに好ましくは０．００９μｍ以上０．０３０μｍ以下である。このような表面を持つフィルムはタッチロール製膜法により達成できる。これはキャストした直後のフィルムを両面から表面の平滑なロールで挟み込むことで、これを用いない場合に比べ高い平滑性を達成でき上述の表面粗さを実現できる。

上記Ｉ）、II）の縦収縮処理は単独で行っても良く、組合わせて行っても良い。II）の収縮処理は横延伸後、オンラインで行っても良く、延伸後巻き取ったあとオフラインで実施しても良い。好ましいのはオンライン処理である。

［延伸中の揮発成分］
上記縦延伸、横延伸は揮発成分（溶剤や水分など）が樹脂に対し、０．５ｗｔ％以下であることが好ましく、より好ましくは０．３ｗｔ％以下、さらに好ましくは０ｗｔ％である。揮発成分が存在すると乾燥に伴う収縮応力が働き、ボーイングがより顕著になるためである。

［延伸・収縮処理後のフィルム物性］
このようにして延伸、収縮処理後のフィルムＲｅ、Ｒｔｈは下式（Ｒ−１）および（Ｒ−２）を満足することが好ましい。
式（Ｒ−１）：０ｎｍ≦Ｒｅ≦３００ｎｍ
式（Ｒ−２）：１０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦３００ｎｍ
より好ましくは下式（Ｒ−３）および（Ｒ−４）を満足することが好ましい。
式（Ｒ−３）：２０ｎｍ≦Ｒｅ≦２００ｎｍ
式（Ｒ−４）：２０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦２００ｎｍ
本明細書において、Ｒｅ(λ)、Ｒｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ(λ)はKOBRA 21ADHまたはWR（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定されるもので、測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルまたはプログラム等で交換して測定することができる。

測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーションン値はその符号を負に変更した後、KOBRA 21ADHまたはWRが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーションン値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（３）及び式（４）よりＲｔｈを算出することもできる。

なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値をあらわす。式（３）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。

Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ −−−式（４）
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（optic axis)がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）を算出することができる。Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHまたはWRにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーションン値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHまたはWRが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、KOBRA 21ADHまたはWRはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

製膜方向（長手方向）とフィルムのＲｅの遅相軸とのなす角度θは、０°、＋９０°もしくは−９０°に近いほど好ましい。即ち、０°、９０°、−９０°からの振れ角は±３°以内が好ましく、より好ましくは±２°以内、さらに好ましくは±１°以内である。θは０°（縦配向）、９０°あるいは−９０°（横配向）いずれでも構わないが、より好ましくは横配向である。Ｒｅ，Ｒｔｈの面内、長手方向のばらつきは０％から８％が好ましく、より好ましく０％から５％、さらに好ましくは０％から３％である。

８０℃２００時間経時前後のＲｅ，Ｒｔｈの変化は０％以上８％以下が好ましく、より好ましくは０％以上６％以下、さらに好ましくは０％以上４％以下である。８０℃２００時間経時前後の縦（ＭＤ）、横（ＴＤ）の寸法変化はいずれも０％以上±０．５％以下が好ましく、より好ましくは０％以上±０．３％以下、さらに好ましくは０％以上±０．１％以下である。

延伸後のフィルムの厚みは、１５μｍ〜２００μｍが好ましく、より好ましくは２０μｍ〜１２０μｍ、さらに好ましくは２５μｍ〜８０μｍである。厚みむらは長手方向、幅方向いずれも０％〜３％が好ましく、より好ましくは０％〜２％、さらに好ましくは０％〜１％である。

（フィルムの加工）
このようにして得た樹脂フィルムは単独で使用してもよく、これらと偏光板とを組み合わせて使用してもよく、これらの上に液晶層や屈折率を制御した層（低反射層）やハードコート層を設けて使用してもよい。これらは以下の工程により達成できる。

≪表面処理≫
表面処理を行うことによって、各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着を向上させることができる。例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０−３〜２０Ｔｏｒｒ（０．１３〜２７００Ｐａ）の低圧ガス下でおこる低温プラズマ処理を含む。また、大気圧下でのプラズマ処理も好ましいグロー放電処理である。

これらの中でも、好ましいのがグロー放電処理、コロナ処理、火炎処理であり、さらに好ましいのがコロナ処理である。

機能層との接着のため、下塗り層を設けることも好ましい。この層は表面処理をした後、塗設してもよく、表面処理なしで塗設してもよい。下塗層についての詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁に記載されている。これらの表面処理、下塗り工程は、製膜工程の最後に組み込むこともでき、単独で実施することもでき、後述の機能層付与工程の中で実施することもできる。

≪機能層の付与≫
本発明のシクロオレフィン系樹脂フィルムに、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３２頁〜４５頁に詳細に記載されている機能性層を組み合わせることが好ましい。中でも好ましいのが、偏光層の付与（偏光板）、光学異方性層（光学補償層）の付与、反射防止層の付与（反射防止フィルム）である。

〔光学異方性層〕
光学異方性層は、液晶表示装置の黒表示における液晶セル中の液晶性化合物を補償するように設計することが好ましい。黒表示における液晶セル中の液晶性化合物の配向状態は、液晶表示装置のモードにより異なる。この液晶セル中の液晶性化合物の配向状態に関しては、ＩＤＷ'００、ＦＭＣ７−２のＰ４１１〜４１４等に記載されている。

光学異方性層は、支持体上に直接液晶性化合物から形成するか、もしくは配向膜を介して液晶性化合物から形成する。配向膜は、１０μｍ以下の膜厚を有することが好ましい。

光学異方性層に用いる液晶性化合物には、棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物が含まれる。棒状液晶性化合物およびディスコティック液晶性化合物は、高分子液晶でも低分子液晶でもよく、さらに、低分子液晶が架橋され液晶性を示さなくなったものも含まれる。光学異方性層は、液晶性化合物および必要に応じて重合性開始剤や任意の成分を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成できる。本発明の配向膜として好ましい例は、特開平８−３３８９１３号公報に記載されている。

［棒状液晶性化合物］
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。

なお、棒状液晶性化合物には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマーも、棒状液晶性化合物として用いることができる。すなわち、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合していてもよい。

棒状液晶性化合物については、例えば、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学会編の第４章、第７章および第１１章、および液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１４２委員会編の第３章に記載のものを採用できる。

棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあることが好ましい。

棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好ましい。重合性基は、不飽和重合性基またはエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。

［ディスコティック液晶性化合物］
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年））に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告（Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０））に記載されているトルキセン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告（Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９８４年））に記載されたシクロヘキサン誘導体およびＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告（Ｊ．Ｃ．Ｓ．，Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年））、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年））に記載されているアザクラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

ディスコティック液晶性化合物としては、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基、アルコキシ基、置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造の化合物も含まれる。分子または分子の集合体が、回転対称性を有し、一定の配向を付与できる化合物であることが好ましい。ディスコティック液晶性化合物から形成する光学異方性層は、最終的に光学異方性層に含まれる化合物がディスコティック液晶性化合物である必要はなく、例えば、低分子のディスコティック液晶性分子が熱や光で反応する基を有しており、結果的に熱、光で反応により重合または架橋し、高分子量化し液晶性を失った化合物も含まれる。ディスコティック液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。

ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。従って、重合性基を有するディスコティック液晶性化合物は、下記式（５）で表わされる化合物であることが好ましい。

一般式（５）
Ｄ（−ＬＱ）_ｒ
（一般式（５）中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｑは重合性基であり、ｒは４〜１２の整数である。）
円盤状コアの（Ｄ）の例を以下に示す。以下の各例においてＬＱ（またはＱＬ）は、二価の連結基（Ｌ）と重合性（Ｑ）との組み合わせを意味する。

一般式（５）において、二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−、−Ｓ−およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基であることが好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−、−ＮＨ−、−Ｏ−および−Ｓ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることがさらに好ましい。二価の連結基（Ｌ）は、アルキレン基、アリーレン基、−ＣＯ−および−Ｏ−からなる群より選ばれる二価の基を少なくとも二つ組み合わせた二価の連結基であることが最も好ましい。アルキレン基の炭素原子数は、１〜１２であることが好ましい。アルケニレン基の炭素原子数は、２〜１２であることが好ましい。アリーレン基の炭素原子数は、６〜１０であることが好ましい。

二価の連結基（Ｌ）の例を以下に示す。左側が円盤状コア（Ｄ）に結合し、右側が重合性基（Ｑ）に結合する。ＡＬはアルキレン基またはアルケニレン基、ＡＲはアリーレン基を意味する。なお、アルキレン基、アルケニレン基およびアリーレン基は、置換基（例、アルキル基）を有していてもよい。
Ｌ１：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ２：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ３：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ４：−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ５：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ６：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ７：−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ８：−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、
Ｌ９：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ１０：−ＮＨ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１１：−Ｏ−ＡＬ−、
Ｌ１２：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ１３：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１４：−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−ＡＬ−、
Ｌ１５：−Ｏ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、
Ｌ１６：−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１７：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−、
Ｌ１８：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ１９：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ２０：−Ｏ−ＣＯ−ＡＲ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ２１：−Ｓ−ＡＬ−、
Ｌ２２：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−、
Ｌ２３：−Ｓ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、
Ｌ２４：−Ｓ−ＡＬ−Ｓ−ＡＬ−、
Ｌ２５：−Ｓ−ＡＲ−ＡＬ−。

一般式（５）の重合性基（Ｑ）は、重合反応の種類に応じて決定する。重合性基（Ｑ）の例を以下に示す。

重合性基（Ｑ）は、不飽和重合性基（Ｑ１、Ｑ２、Ｑ３、Ｑ７、Ｑ８、Ｑ１５、Ｑ１６、Ｑ１７）またはエポキシ基（Ｑ６、Ｑ１８）であることが好ましく、不飽和重合性基であることがさらに好ましく、エチレン性不飽和重合性基（Ｑ１、Ｑ７、Ｑ８、Ｑ１５、Ｑ１６、Ｑ１７）であることが最も好ましい。具体的なｒの値は、円盤状コア（Ｄ）の種類に応じて決定される。なお、複数のＬとＱの組み合わせは、異なっていてもよいが、同一であることが好ましい。

ハイブリッド配向では、ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）と支持体の面との角度、すなわち傾斜角が、光学異方性層の深さ（すなわち、透明支持体に垂直な）方向でかつ偏光膜の面からの距離の増加と共に増加または減少している。角度は、距離の増加と共に増加することが好ましい。さらに、傾斜角の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加および減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよい。しかしながら、傾斜角は連続的に変化することが好ましい。

ディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）の平均方向（各分子の長軸方向の平均）は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいは配向膜の材料を選択することにより、またはラビング処理方法を選択することにより、調整することができる。また、表面側（空気側）のディスコティック液晶性化合物の長軸（円盤面）方向は、一般にディスコティック液晶性化合物あるいはディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調整することができる。

ディスコティック液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマーおよびポリマーなどを挙げることができる。長軸の配向方向の変化の程度も、上記と同様に、液晶性分子と添加剤との選択により調整できる。

ディスコティック液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤および重合性モノマーは、ディスコティック液晶性化合物と相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。添加成分の中でも重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基を有する化合物）の添加が好ましい。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用いると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることができる。

前記光学異方性層は、ディスコティック液晶性化合物とともにポリマーを含有していてもよい。該ポリマーは、ディスコティック液晶性化合物とある程度の相溶性を有し、ディスコティック液晶性化合物に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロースおよびセルロースアセテートブチレートを挙げることができる。ディスコティック液晶性化合物の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、ディスコティック液晶性化合物に対して０．１〜１０質量％の範囲にあることが好ましく、０．１〜８質量％の範囲にあることがより好ましく、０．１〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、７０〜３００℃が好ましく、７０〜１７０℃がさらに好ましい。

［液晶性分子の配向状態の固定］
配向させた液晶性分子を、配向状態を維持して固定することができる。固定化は、重合反応により実施することが好ましい。重合反応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが含まれる。光重合反応が好ましい。

光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各公報記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号公報記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号公報記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各公報記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号公報記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号、米国特許４２３９８５０号の各公報記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号公報記載）が含まれる。

光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％の範囲にあることが好ましく、０．５〜５質量％の範囲にあることがさらに好ましい。

液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。

照射エネルギーは、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０Ｊ／ｃｍ^２の範囲にあることが好ましく、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜５０００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがより好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２〜８００ｍＪ／ｃｍ^２の範囲にあることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。

保護層を、光学異方性層の上に設けてもよい。

前記光学異方性層は、前記液晶性化合物の少なくとも一種と、所望により重合性開始剤、フッ素系ポリマー等の添加剤を含有する塗布液を調製し、該塗布液を配向膜表面に塗布・乾燥することで形成することができる。

フッ素系化合物としては、従来公知の化合物が挙げられるが、具体的には、例えば特開２００１−３３０７２５号公報明細書中の段落番号［００２８］〜［００５６］に記載のフッ素系化合物等が挙げられる。

塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロエタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。２種類以上の有機溶媒を併用してもよい。

均一性の高い光学補償フィルムを作製する場合には、前記塗布液の表面張力が２５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、２２ｍＮ／ｍ以下であることが更に好ましい。

塗布液の塗布は、公知の方法（例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法）により実施できる。

［偏光板］
（偏光膜）
本発明の偏光板に使用可能な偏光膜は、Ｏｐｔｉｖａ社製のものに代表される塗布型偏光膜、またはバインダーとヨウ素もしくは二色性色素とからなる偏光膜が好ましい。

偏光膜におけるヨウ素および二色性色素は、バインダー中で配向することで偏向性能を発現する。ヨウ素および二色性色素は、バインダー分子に沿って配向するか、もしくは二色性色素が液晶のような自己組織化により一方向に配向することが好ましい。

汎用の偏光子は、例えば、延伸したポリマーを、浴槽中のヨウ素もしくは二色性色素の溶液に浸漬し、バインダー中にヨウ素、もしくは二色性色素をバインダー中に浸透させることで作製することができる。

汎用の偏光膜は、ポリマー表面から４μｍ程度（両側合わせて８μｍ程度）にヨウ素もしくは二色性色素が分布しており、十分な偏光性能を得るためには、少なくとも１０μｍの厚みが必要である。浸透度は、ヨウ素もしくは二色性色素の溶液濃度、同浴槽の温度、同浸漬時間により制御することができる。

上記のように、バインダー厚みの下限は、１０μｍであることが好ましい。一方、厚みの上限については、特に限定はしないが、偏光板を液晶表示装置に使用した場合に発生する光漏れ現象の観点からは、薄ければ薄い程よい。現在、汎用の偏光板（約３０μｍ）以下であることが好ましく、２５μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がさらに好ましい。２０μｍ以下であると、光漏れ現象は、１７インチの液晶表示装置では、観察されなくなる。

偏光膜のバインダーは架橋していてもよい。架橋しているバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーを用いることができる。官能基を有するポリマーあるいはポリマーに官能基を導入して得られるバインダーを、光、熱あるいはｐＨ変化により、バインダー間で反応させて偏光膜を形成することができる。

また、架橋剤によりポリマーに架橋構造を導入してもよい。反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてバインダー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、バインダー間を架橋することにより形成することができる。

架橋は一般に、ポリマーまたはポリマーと架橋剤の混合物を含む塗布液を、透明支持体上に塗布したのち、加熱を行なうことにより実施される。最終商品の段階で耐久性が確保できればよいため、架橋させる処理は、最終の偏光板を得るまでのいずれの段階で行なってもよい。

偏光膜のバインダーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。ポリマーの例には、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリスチレン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、ポリビニルトルエン、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、塩素化ポリオレフィン（例、ポリ塩化ビニル）、ポリエステル、ポリイミド、ポリ酢酸ビニル、ポリエチレン、カルボキシメチルセルロース、ポリプロピレン、ポリカーボネートおよびそれらのコポリマー（例、アクリル酸／メタクリル酸重合体、スチレン／マレインイミド重合体、スチレン／ビニルトルエン重合体、酢酸ビニル／塩化ビニル重合体、エチレン／酢酸ビニル重合体）が含まれる。水溶性ポリマー（例、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコール）が好ましく、ゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。

ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールのケン化度は、７０〜１００％が好ましく、８０〜１００％がさらに好ましく、９５〜１００％が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜５０００が好ましい。

変性ポリビニルアルコールは、ポリビニルアルコールに対して、共重合変性、連鎖移動変性あるいはブロック重合変性により変性基を導入して得られる。共重合変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−Ｓｉ（ＯＨ）_３、Ｎ（ＣＨ_３）_３・Ｃｌ、Ｃ_９Ｈ_１９ＣＯＯ−、−ＳＯ_３Ｎａ、−Ｃ_１２Ｈ_２５を導入することができる。連鎖移動変性では、変性基として、−ＣＯＯＮａ、−ＳＨ、−ＳＣ_１２Ｈ_２５を導入することができる。変性ポリビニルアルコールの重合度は、１００〜３０００が好ましい。変性ポリビニルアルコールについては、特開平８−３３８９１３号、同９−１５２５０９号および同９−３１６１２７号の各公報に記載がある。

ケン化度が８５〜９５％の未変性ポリビニルアルコールおよびアルキルチオ変性ポリビニルアルコールが特に好ましい。

ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールは、２種以上を併用してもよい。

バインダーの架橋剤は、多く添加すると、偏光膜の耐湿熱性を向上させることができる。ただし、バインダーに対して架橋剤を５０質量％以上添加すると、ヨウ素、もしくは二色性色素の配向性が低下する。架橋剤の添加量は、バインダーに対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１５質量％がさらに好ましい。

バインダーは、架橋反応が終了した後でも、反応しなかった架橋剤をある程度含んでいる。ただし、残存する架橋剤の量は、バインダー中に１．０質量％以下であることが好ましく、０．５質量％以下であることがさらに好ましい。バインダー層中に１．０質量％を超える量で架橋剤が含まれていると、耐久性に問題が生じる場合がある。すなわち、架橋剤の残留量が多い偏光膜を液晶表示装置に組み込み、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合に、偏光度の低下が生じることがある。

架橋剤については、米国再発行特許２３２９７号公報に記載がある。また、ホウ素化合物（例、ホウ酸、硼砂）も、架橋剤として用いることができる。

二色性色素としては、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素あるいはアントラキノン系色素が用いられる。二色性色素は、水溶性であることが好ましい。二色性色素は、親水性置換基（例、スルホ、アミノ、ヒドロキシル）を有することが好ましい。

二色性色素の例には、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・イエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・オレンジ７２、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド３９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド７９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８１、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・レッド８９、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・バイオレット４８、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー６７、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・ブルー９０、Ｃ．Ｉ．ダイレクト・グリーン５９、Ｃ．Ｉ．アシッド・レッド３７が含まれる。二色性色素については、特開平１−１６１２０２号、同１−１７２９０６号、同１−１７２９０７号、同１−１８３６０２号、同１−２４８１０５号、同１−２６５２０５号、同７−２６１０２４号の各公報に記載がある。二色性色素は、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩またはアミン塩として用いられる。２種類以上の二色性色素を配合することにより、各種の色相を有する偏光膜を製造することができる。偏光軸を直交させた時に黒色を呈する化合物（色素）を用いた偏光膜、あるいは黒色を呈するように各種の二色性分子を配合した偏光膜または偏光板が、単板透過率および偏光率とも優れており好ましい。

液晶表示装置のコントラスト比を高めるためには、偏光板の透過率は高い方が好ましく、偏光度も高い方が好ましい。偏光板の透過率は、波長５５０ｎｍの光において、３０〜５０％の範囲にあることが好ましく、３５〜５０％の範囲にあることがさらに好ましく、４０〜５０％の範囲にある（偏光板の単板透過率の最大値は５０％である）ことが最も好ましい。偏光度は、波長５５０ｎｍの光において、９０〜１００％の範囲にあることが好ましく、９５〜１００％の範囲にあることがさらに好ましく、９９〜１００％の範囲にあることが最も好ましい。

偏光膜と光学異方性層、あるいは、偏光膜と配向膜を、接着剤を介して配置することも可能である。接着剤は、ポリビニルアルコール系樹脂（アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基による変性ポリビニルアルコールを含む）やホウ素化合物水溶液を用いることができる。その中でもポリビニルアルコール系樹脂が好ましい。接着剤層の厚みは、乾燥後に０．０１〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５〜５μｍの範囲にあることが特に好ましい。

（偏光板の製造）
偏光膜は、歩留まりの観点から、バインダーを偏光膜の長手方向（ＭＤ方向）に対して、１０〜８０度傾斜して延伸するか（延伸法）、もしくはラビングした（ラビング法）後に、ヨウ素、二色性染料で染色することが好ましい。傾斜角度は、ＬＣＤを構成する液晶セルの両側に貼り合わされる２枚の偏光板の透過軸と液晶セルの縦または横方向のなす角度にあわせるように延伸することが好ましい。

通常の傾斜角度は４５度である。しかし、最近は、透過型、反射型および半透過型ＬＣＤにおいて必ずしも４５度でない装置が開発されており、延伸方向はＬＣＤの設計にあわせて任意に調整できることが好ましい。

延伸法の場合、延伸率は２．５〜３０．０倍が好ましく、３．０〜１０．０倍がさらに好ましい。延伸は、空気中でのドライ延伸で実施できる。また、水に浸漬した状態でのウェット延伸を実施してもよい。ドライ延伸の延伸率は、２．５〜５．０倍が好ましく、ウェット延伸の延伸率は、３．０〜１０．０倍が好ましい。延伸工程は、斜め延伸を含め数回に分けて行ってもよい。数回に分けることによって、高倍率延伸でもより均一に延伸することができる。斜め延伸前に、横あるいは縦に若干の延伸（幅方向の収縮を防止する程度）を行ってもよい。なお。ここでいう延伸率とは、延伸前にフィルムに標点を付けておき、その延伸前の長さ（Ｌ）と延伸後の長さ（Ｌ’）の比（Ｌ’／Ｌ）で表される。

延伸は、二軸延伸におけるテンター延伸を左右異なる工程で行うことによって実施できる。上記二軸延伸は、通常のフィルム製膜において行われている延伸方法と同様である。二軸延伸では、左右異なる速度によって延伸されるため、延伸前のバインダーフイルムの厚みが左右で異なるようにする必要がある。流延製膜では、ダイにテーパーを付けることにより、バインダー溶液の流量に左右の差をつけることができる。

以上のように、偏光膜のＭＤ方向に対して１０〜８０度斜め延伸されたバインダーフイルムが製造される。

ラビング法では、ＬＣＤの液晶配向処理工程として広く採用されているラビング処理方法を応用することができる。すなわち、膜の表面を、紙やガーゼ、フェルト、ゴムあるいはナイロン、ポリエステル繊維を用いて一定方向に擦ることにより配向を得る。一般には、長さおよび太さが均一な繊維を平均的に植毛した布を用いて数回程度ラビングを行うことにより実施される。ロール自身の真円度、円筒度、振れ（偏芯）がいずれも３０μｍ以下であるラビングロールを用いて実施することが好ましい。ラビングロールへのフィルムのラップ角度は、０．１〜９０度が好ましい。ただし、特開平８−１６０４３０号公報に記載されているように、３６０度以上巻き付けることで、安定なラビング処理を得ることもできる。

長尺フィルムをラビング処理する場合は、フィルムを搬送装置により一定張力の状態で１〜１００ｍ／ｍｉｎの速度で搬送することが好ましい。ラビングロールは、任意のラビング角度設定のためフィルム進行方向に対し水平方向に回転自在とされることが好ましい。０〜６０度の範囲で適切なラビング角度を選択することが好ましい。液晶表示装置に使用する場合は、４０〜５０度が好ましい。４５度が特に好ましい。

［液晶表示装置］
本発明のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法により製造された光学フィルムは種々のモードの液晶表示装置に用いることができる。以下、各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について説明する。

（ＴＮモード液晶表示装置）
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。

ＴＮモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。

セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホメオトロピック配向（円盤面が寝ている水平配向）のディスコティック液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向（長軸の傾きが偏光膜との距離に伴って変化している配向）のディスコティック液晶性化合物で補償することができる。

また、セル中央部分の棒状液晶性化合物に対しては、ホモジニアス配向（長軸が寝ている水平配向）の棒状液晶性化合物もしくは（透明）支持体で補償し、セルの基板近傍の棒状液晶性化合物に対しては、ハイブリット配向のディスコティック液晶性化合物で補償することもできる。

ホメオトロピック配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が８５〜９５度の状態で配向している。

ホモジニアス配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が５度未満の状態で配向している。

ハイブリット配向の液晶性化合物は、液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の面との角度が１５度以上であることが好ましく、１５度〜８５度であることがさらに好ましい。

支持体もしくはディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層、さらにはホメオトロピック配向したディスコティック液晶性化合物とホモジニアス配向した棒状液晶性化合物の混合体からなる光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が４０ｎｍ〜２００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が０〜７０ｎｍであることが好ましい。

ホメオトロピック配向（水平配向）しているディスコティック液晶性化合物層およびホモジニアス配向（水平配向）している棒状液晶性化合物層に関しては、特開平１２−３０４９３１号および同１２−３０４９３２号の各公報に記載されている。ハイブリット配向しているディスコティック液晶性化合物層に関しては、特開平８−５０２０６号公報に記載がある。

（ＯＣＢモード液晶表示装置）
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性化合物を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各公報に開示されている。棒状液晶性化合物が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードと呼ばれる。

ＯＣＢモードの液晶セルもＴＮモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性化合物が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性化合物が寝た配向状態にある。

黒表示にＴＮモードと液晶の配向は同じ状態であるため、好ましい態様もＴＮモード対応を同じである。ただし、ＴＮモードに比べ、ＯＣＢモードの方がセル中央部で液晶性化合物が立ち上がった範囲が大きいために、ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層について、若干のレターデーション値の調整が必要である。具体的には、支持体上のディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。

（ＶＡモード液晶表示装置）
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性化合物が実質的に垂直に配向している。

ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性化合物を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ． Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性化合物を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。

ＶＡモードの液晶表示装置の黒表示において、液晶セル中の棒状液晶性化合物は、そのほとんどが、立ち上がった状態であるため、ディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層で液晶性化合物を補償し、別に、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向し、棒状液晶性化合物の長軸の平均配向方向と偏光膜の透過軸方向との角度が５度未満である光学異方性層で偏光板の視角依存性を補償することが好ましい。

支持体もしくはディスコティック液晶性化合物がホメオトロピック配向している光学異方性層、もしくは、棒状液晶性化合物がホモジニアス配向している光学異方性層は、Ｒｔｈレターデーション値が１５０ｎｍ〜５００ｎｍであり、Ｒｅレターデーション値が２０〜７０ｎｍであることが好ましい。

（その他の液晶表示装置）
ＥＣＢモードおよびＳＴＮモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考え方で光学的に補償することができる。

（ハ）反射防止層の付与（反射防止フィルム）
本発明のシクロオレフィン系樹脂フィルムの上に反射防止層を付与しても良い。反射防止膜は、一般に、防汚性層でもある低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を透明基体上に設けて形成される。

屈折率の異なる無機化合物（金属酸化物等）の透明薄膜を積層させた多層膜として、化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理（紫外線照射：特開平９−１５７８５５号公報、プラズマ処理：特開２００２−３２７３１０号公報）して薄膜を形成する方法が挙げられる。

一方、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が各種提案されている。

上述したような塗布による反射防止フィルムに最上層表面が微細な凹凸の形状を有する防眩性を付与した反射防止層から成る反射防止フィルムも挙げられる。

本発明のシクロオレフィン系樹脂フィルムは前記いずれの方式にも適用できるが、特に好ましいのが塗布による方式（塗布型）である。

（ハ−１）塗布型反射防止フィルムの層構成
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。

高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
また、透明支持体と中屈折率層との間に、ハードコート層を設けてもよい。さらには、中屈折率ハードコート層、高屈折率層および低屈折率層からなってもよい。

例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。

また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。

反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。また、膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

（ハ−２）高屈折率層および中屈折率層
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒子サイズ１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子およびマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。

高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。

このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８号公報、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（：特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、特許番号ＵＳ６２１０８５８Ｂ１、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。

マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。

さらに、ラジカル重合性および／またはカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物およびその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。

また、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。

高屈折率層の屈折率は、−般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。

（ハ−３）低屈折率層
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。

耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。

含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。

例えば、特開平９−２２２５０３号公報明細書段落番号［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報明細書段落番号［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報明細書段落番号［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。

シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造を有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。

架橋または重合性基を有する含フッ素および／またはシロキサンのポリマーの架橋または重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。

また、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。

例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。

低屈折率層は、前記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０号公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。

低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されてもよい。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。

低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

（ハ−４）ハードコート層
ハードコート層は、反射防止フィルムに物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。

ハードコート層は、光および／または熱の硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。

前記硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、また、加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。

これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。

ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等記載のものが挙げられる。

高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。

ハードコート層は、平均粒子サイズ０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。

ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。

ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。また、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

（ハ−５）前方散乱層
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合の、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与するために設ける。前記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。

例えば、前方散乱係数を特定化した特開平１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等が挙げられる。

（ハ−６）その他の層
前記の層以外に、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

（ハ−７）塗布方法
反射防止フィルムの各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法（米国特許２６８１２９４号明細書）により、塗布により形成することができる。

（ハ−８）アンチグレア機能
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、３〜３０％であることが好ましく、５〜２０％であることがさらに好ましく、７〜２０％であることが最も好ましい。

反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、低屈折率層の下層（高屈折率層、中屈折率層またはハードコート層）に比較的大きな粒子（粒子サイズ０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、最上層（防汚性層）を、塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法として、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等記載）等が挙げられる。

《測定法》
以下に本発明で使用した測定法について記載する。

（１）Ｒｔｈ／Ｒｅ比、Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジ
［１］製膜フィルムの両端５ｃｍずつスリットした後、全幅に亘り等間隔で２０点サンプリング（３cm×３cmの正方形）した。この時正方形の各辺をＭＤ（製膜方向）、ＴＤ（幅方向）に平行に切り出した。

［２］サンプルフィルムを２５℃・相対湿度６０％に５時間以上調湿後、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ：王子計測器（株）製）を用いて、相対湿度２５℃・６０％において、上述のようにサンプルフィルム表面に対し垂直方向および、フィルム面法線から±５０°まで１０°ずつ傾斜させて方向から波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値を測定した。

［３］垂直（法線）方向から面内のレターデーション（Ｒｅ）、垂直方向、±１０〜４０°方向の測定値から厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を算出した。

［４］これらの各測定点のＲｔｈ／Ｒｅ比の平均値を「Ｒｅ／Ｒｔｈ比」とした。また、２０点のＲｔｈ／Ｒｅ比の中で最大値と最小値の差を「Ｒｔｈ／Ｒｅ比のレンジ」とした。

（２）熱寸法変化、熱寸法変化むら
［１］下記サンプルの全幅を５等分した点でサンプリングする。
イ） ＭＤサンプル：ＭＤ１５ｃｍ×ＴＤ５ｃｍ
ロ） ＴＤサンプル：ＴＤ１５ｃｍ×ＭＤ５ｃｍ
［２］各サンプルを２５℃、６０％ｒｈで３時間以上調湿し、この環境中で１０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長する。これをＬ１とする。

［３］各サンプルを８０℃、ｄｒｙ２００時間放置後、２５℃、６０％ｒｈで３時間以上調湿し、この環境中で１０ｃｍ基長のピンゲージを用い測長する。これをＬ２とする。

［４］下記式からＭＤ，ＴＤの各点（１０点）の熱寸法変化を測定し、この平均値を熱寸法変化とする。

熱寸法変化（％）＝１００×｜Ｌ２−Ｌ１｜／Ｌ１
［５］上記１０点中の熱寸法変化（絶対値）の最大値と最小値の差を、１０点の熱寸法変化の平均値で割り百分率でしめしたものを熱寸法変化むらした。

（３）表面粗さ
コンパクトレーザー干渉計（富士写真光機（株）製 Ｆ６０１）を用いてＲａを測定した。

（４）ガラス転移温度（Ｔｇ）
走査型示差熱量計（ＤＳＣ）の測定パンにサンプルを２０ｍｇ入れた。これを窒素気流中で、１０℃／分で３０℃から２５０℃まで昇温した後（１ｓｔ−ｒｕｎ）、３０℃まで−１０℃／分で冷却した。この後、再度３０℃から２５０℃まで昇温した（２ｎｄ−ｒｕｎ）。２ｎｄ−ｒｕｎでベースラインが低温側から偏奇し始める温度をガラス転移温度（Ｔｇ）とした。

以下に実施例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

ＴＩＣＯＮＡ社製の商品名 [ＴＯＰＡＳ グレード６０１３ Ｔｇは１３９℃]を除湿乾燥機（露点―４０℃）で１１０℃４時間乾燥させ、樹脂中の水分率を３０ｐｐｍ以下にした。この樹脂に、日油株式会社製ユニスターＨ４７６（ペンタエリスリトールテトラステアレート 融点６３℃）あるいはユニスターＨ４７６Ｄ（ペンタエリスリトールジステアレート 融点５３℃）とチバガイギー社製イルガノックス１０１０（ラジカルトラップ剤 融点１１５℃）とを図３の表に示す量混合し、加熱タンブラーを用いて、ペレットを図３の表に示す温度で加温しながら均一混合を行った。混合加温したペレットを、φ１００ｍｍの単軸押出機（Ｌ／Ｄ＝３０ 圧縮比２．０）を用いて可塑化させ、Ｔダイより押出しを行ない、φ３００ｍｍの金属製弾性ロールを用いたタッチロール製膜によりフィルム製膜を行った。フィルム厚みは、図３の表に示す厚みになるようにフィルム製膜を行った。製膜は、シリンダ部の酸素濃度の雰囲気下で、シリンダ設定温度２６０℃、吐出量１５０ｋｇ／時間、ロール温度１３０℃で実施し、異物濾過のため、メッシュサイズ５ミクロンのリーフディスク型のフィルターを用いた。

また、実施例２３，２４については、ＴＯＰＡＳ グレード６０１３ にイルガノックス１０１０を０．０５％まぶした状態で、シリンダ設定温度２６０℃の二軸同方向回転押出機（φ４５ Ｌ／Ｄ＝３５ ２ベントタイプ）を用いて可塑化させ、ダイヘッドより押出しを行ない、ホットカットあるいはアンダーウオーターカット法により丸形状ペレットを作製した。このペレットに、日油株式会社製ユニスターＨ４７６（ペンタエリスリトールテトラステアレート 融点６３℃）あるいはユニスターＨ４７６Ｄ（ペンタエリスリトールジステアレート 融点５３℃）とチバガイギー社製イルガノックス１０１０（ラジカルトラップ剤 融点１１５℃）とをペレット化に使用した量と合わせた量が、図３の表に示す量になるように混合し、加熱タンブラーを用いて、ペレットを図３の表に示す温度で加温しながら均一混合を行った。このペレットを用いて同様の製膜を行った。

試験条件、結果を図３の表１に示す。

尚、製膜性の評価は、原料投入部で原料同士がブロッキングすることなく樹脂原料が供給出来、安定製膜出来る状態を◎、ブロッキングの懸念があるが、振動装置等を備え付けることにより安定に原料が供給される状態を○、振動装置等によって改善を行っても、まれにブロッキングが発生する状態を△、樹脂がブロッキングして供給されない状態を×とした。フィルムヘイズの評価は、ＡＳＴＭ Ｄ−１００３法による測定で、０．７％未満を◎、０．７％以上〜１．０％未満を○、１．０％以上〜２．０％未満を△、２．０％以上を×とした。滑り性の評価は、ＡＳＴＭ Ｄ−１８９４法による静摩擦測定の結果、０．７未満を◎、０．７以上０．８未満を○、０．８以上１．０未満を△、１．０以上を×とした。そして、総合評価は、全ての項目で◎のものを◎、◎以外の項目が１つ以上あるが良好な加工適性と物性を有するものを○、◎以外の項目が１つ以上あり加工適性と物性にやや問題があるものを△、１項目でも×があるものを×とした。

表１から分かるように、ペレットのガラス転移温度以下の融点を有する滑剤又はペレットのガラス転移温度以下で液体状態である滑剤０．０１〜３．０ｗｔ％と、熱安定剤０．０１〜０．５ｗｔ％と、ペレットのガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋４０℃に加温したペレットと、を混合し、混合した混合物を酸素濃度０．１％以上の雰囲気下で可塑化させて製膜されたシクロオレフィン系樹脂フィルムは、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２で含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下であることが分かる。

そして、円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２で含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のゲルが１０個／ｍｍ^２以下のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製膜を行ったものは、総合評価が△以上であることが分かる。

従って、以上の実験１〜２９から、シクロオレフィン系樹脂フィルムの溶融製膜において、本発明によれば、ゲルの発生による光学特性の低下を抑制し、冷却ドラム上で滑って品質が低下することのない、高品質のシクロオレフィン系樹脂フィルムを得ることができることが分かる。

本発明が適用されるフィルム製造装置の構成図 ホッパーと押出機の構成を示す概略図 本発明の実施例の説明図

符号の説明

１０…フィルム製造装置、１２…シクロオレフィン系樹脂フィルム、１４…製膜工程部、１６…縦延伸工程部、１８…横延伸工程部、２０…巻取工程部、２２…押出機、２４…ダイ、２６…冷却ドラム、３２…シリンダ、３４…スクリュー軸、３６…スクリュー羽根、３８…スクリュー、４０…供給口、４２…吐出口、４４…ホッパー、４４’…真空ホッパー、４６…配管、４８…配管、５０…真空ポンプ、５２…供給口、Ａ…供給部、Ｂ…圧縮部、Ｃ…計量部、Ｄ…シリンダ内径、Ｌ…シリンダ長さ

Claims (9)

1. 円形度が０．７以上である円相当径０．５μｍ以上３μｍ以下のサイズのゲルを５０〜２０００個／ｍｍ^２含み、円形度が０．７以上である円相当径１０μｍ以上のサイズのゲルが１０個／ｍｍ^２以下であることを特徴とするシクロオレフィン系樹脂フィルム。
2. シクロオレフィン系樹脂を溶融して製膜するシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法であって、
   ペレットのガラス転移温度以下の融点を有する滑剤又はペレットのガラス転移温度以下で液体状態である滑剤０．０１〜３．０ｗｔ％と、
   熱安定剤０．０１〜０．５ｗｔ％と、
   ガラス転移温度（Ｔｇ）〜Ｔｇ＋４０℃に加温したシクロオレフィン系樹脂を含有するペレットと、を混合し、
   前記混合した混合物を、酸素濃度０．１％以上１０％以下の雰囲気下で可塑化させて製膜されることを特徴とするシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。
3. 前記ペレットは、角の無い丸形状のペレットであることを特徴とする請求項２に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。
4. 前記角の無い丸形状のペレットは、ホットカット及びアンダーウオーターカットによりカッティングされたペレットであることを特徴とする請求項３に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。
5. 前記ノルボルネン系樹脂は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１２０℃以上であることを特徴とする請求項２〜４の何れか１に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。
6. タッチロール法により製膜したことを特徴とする請求項２〜５の何れか１に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。
7. フィルム厚みが、２０〜３００μｍの範囲であることを特徴とする請求項２〜６の何れか１に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。
8. 請求項１に記載のシクロオレフィン系樹脂がノルボルネン系樹脂であることを特徴とするシクロオレフィン系樹脂フィルム。
9. 前記シクロオレフィン系樹脂がノルボルネン系樹脂であることを特徴とする請求項２〜７の何れか１に記載のシクロオレフィン系樹脂フィルムの製造方法。

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