JP2009226275A - 排ガス浄化触媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】多孔質隔壁21を多角形格子状に配して軸方向に延びる多数のセル22を形成した多孔質基材2を有する排ガス浄化触媒体1である。セル22は排ガス流路221を形成し、排ガス流路221の上流28側又は下流29側には還元触媒領域11が形成されている。下流29側又は上流28側には酸化触媒領域12が形成されている。還元触媒領域11と酸化触媒領域12との間には酸素濃度調整領域13が形成されている。上流側28及び下流側29には、還元触媒領域11及び酸化触媒領域12のうち互いに異なる触媒領域がそれぞれ形成されている。
【選択図】図2
Description
排ガス浄化触媒体において、触媒反応である酸化還元反応を円滑に進めるためには、排ガスの脈動による触媒環境の空燃比の変動を緩和し、適度な酸素濃度を維持する必要がある。そのため、自動車用三元触媒やNOx吸蔵還元触媒等のように酸素吸蔵放出能を有する助触媒と上記触媒成分とを同時に担持することが主流となっている。
即ち、上記助触媒とRh等の貴金属元素からなる上記触媒成分とを併用すると、逆にRhを一時的に酸素被毒状態にしてしまい、Rhの活性を一時的に失活させてしまうという懸念があった。
また、貴金属元素や助触媒粒子自身が熱により移動したり、あるいは、粒子同士が会合して合金化し、当初の機能を失ってしまうという問題があった。
そのため、従来の排ガス浄化触媒体においては、上述の失活及び触媒機能の低下等を予め考慮しつつ要求される浄化能を維持するために、新車時の触媒必要量より、7割程度過剰な貴金属元素や助触媒を担持する措置がとられており、環境負荷とコスト高という点で問題になっていた。
また、HC、CO、NOxを同時に浄化できる三元触媒の分野においても、例えば、機能の異なる複数のモノリスを配置し、三元触媒を有するモノリスの下流にさらにHC浄化機能を担うモノリスを別途配置する方法が開示されている(特許文献2参照)。
また、三元触媒を有するモノリスの下流にさらにHC浄化機能を担うモノリスを別途配置する方法においては、依然としてRhと助触媒との併用によるRh機能の失活の懸念があると共に、貴金属元素同士の合金化して触媒性能が低下してしまうおそれがあった。
該排ガス浄化触媒体は、多孔質隔壁を多角形格子状に配して軸方向に延びる多数のセルを形成した多孔質基材を有し、上記セルは排ガス流路を形成しており、
上記排ガス流路の上流側又は下流側のいずれか一方には、上記多孔質隔壁の表面に還元能を有する還元貴金属触媒を担持させた還元触媒領域が形成されており、他方には、上記多孔質隔壁の表面に酸化能を有する酸化貴金属触媒と酸素濃度調整能を有する助触媒とを担持させた酸化触媒領域が形成されており、
上記還元触媒領域と上記酸化触媒領域との間には、上記多孔質隔壁の表面に酸素濃度調整能を有する助触媒を担持させた酸素濃度調整領域が形成されていることを特徴とする排ガス浄化触媒体にある(請求項1)。
上記排ガス浄化触媒体は、多孔質隔壁を多角形格子状に配して軸方向に延びる多数のセルを形成した多孔質基材を有し、上記排ガス浄化触媒体において上記セルは排ガス流路を形成している。上記多孔質基材のセルの断面形状は、三角形、四角形、及び六角形等の多角形状とすることができる。また、上記多孔質基材の形状としては、種々の形状を採用することができるが、例えば円筒形状等とすることができる。
上記還元触媒領域は、上記助触媒を含有していないことが好ましい。
この場合には、上記還元触媒領域において、上記還元貴金属触媒の酸素被毒を抑制して、上記還元貴金属触媒は、優れた還元能をより長期間安定して発揮することができる。
この場合には、Rhの優れた還元力を生かして上記還元貴金属触媒はより優れた還元能を示すことができ、上記排ガス浄化触媒体のNOxに対する浄化作用を向上させることができる。具体的には上記還元貴金属触媒としては、例えばRh、Rhの酸化物、及びRhと他の金属元素との複合酸化物等を用いることができる。
この場合には、上記還元貴金属触媒の還元能の低下を抑制し、上記排ガス浄化触媒体は、より長期間安定にNOxに対する浄化作用を示すことができる。
即ち、Rhは、優れた還元能を示すことができる反面、他の貴金属と反応して合金化して失活し易い。上記のごとくRhのみを採用することにより、他の貴金属との合金化を防止し、上記還元貴金属触媒は長期間安定して優れた触媒性能を維持することができる。
上記酸化貴金属触媒は、Pt及び/又はPdを含有することが好ましい(請求項5)。
この場合には、上記酸化貴金属触媒はより優れた酸化能を示すことができ、上記排ガス浄化触媒体のHC及びCOに対する浄化作用を向上させることができる。
具体的には上記酸化貴金属触媒としては、例えばPt、Pd、Pt酸化物、Pd酸化物、PtとPdの複合酸化物、及びPt又はPdと他の金属元素との複合酸化物等を用いることができる。
上記助触媒は、Ce、Zr、Al、Mg、Ti、及びSiから選ばれる元素の酸化物、又はこれら2種以上の元素の複合酸化物を含有することが好ましい(請求項6)。
この場合には、上記助触媒は優れた酸素吸蔵放出能を発揮することができる。
上述の元素の酸化物としては、具体的には、例えばCeO2、ZrO2、Al2O3、MgO、TiO2、SiO2等を用いることができる。また、上述の複合酸化物としては、例えばCe、Zr、Al、Mg、Ti、及びSiから選ばれる2種以上の元素を含有する複合酸化物、又はCe、Zr、Al、Mg、Ti、及びSi選ばれる1種以上の元素と、他の元素との複合酸化物等を用いることができる。
この場合には、上記助触媒の酸素吸蔵放出能をより一層向上させ、上記還元触媒領域及び上記酸化触媒領域における上述の浄化をより効率よく行うことができる。
この場合には、上記還元貴金属触媒、上記酸化貴金属触媒、及び上記助触媒の耐熱性を向上させることができる。そのため、高温下に曝される上記排ガス浄化触媒体の耐久性を向上させることができる。
上述の各触媒が担持された上記担持層の形成にあたっては、例えば上記多孔質基材の上記多孔質隔壁の表面に予め上記担持層を形成し、該担持層に各触媒を担持させることができる。また、上記担持層を形成する上述のAl2O3等からなる粒子に各触媒を担持させ、この複合粒子を上記多孔質基材の上記多孔質隔壁の表面に担持させて上記担持層を形成することもできる。
Al2O3からなる場合には、上記担持層は、上記還元貴金属触媒、上記酸化貴金属触媒、及び上記助触媒を優れた結着力で担持できると共に、例えばコージェライト等からなる上記多孔質基材にしっかりと結合させることができる。またこの場合には、担持層の表面積を大きくすることができ、排ガスの浄化をより効率よく行うことができる。
また、SiO2からなる場合には、上記還元貴金属触媒、上記酸化貴金属触媒等、及び上記助触媒と上記担持層との密着性が向上し、高温下での長時間の使用においても、触媒成分(還元貴金属触媒及び酸化貴金属触媒)の凝集等による触媒劣化、つまりシンタリングを抑制することができる。その結果、触媒成分の活性を高い状態に維持することが可能となり、高温下における耐久性を向上させることができる。特に、高温下における耐久性が向上する組合せとしては、SiO2粒子(上記担体)とCeO2粒子(上記助触媒)、SiO2粒子(上記担体)とCeO2−ZrO2固溶体粒子(上記助触媒)等がある。
この場合には、上記酸化貴金属触媒による浄化をより効率よく行うことができ、上記排ガス浄化触媒体の浄化作用を向上させることができる。
この場合には、上記多孔質基材は、熱膨張係数が低く、耐熱衝撃性に優れたものとなる。そのため、上記排ガス浄化触媒体は、高温下での使用においても、優れた耐久性を示すことができる。
好ましくは、上記還元触媒領域、上記酸化触媒領域、及び上記酸素濃度調整領域は、上記多孔質基材の上記軸方向の全長の1/10〜1/2の幅で形成されていることがよい。
各領域が上記多孔質基材の上記軸方向の全長の1/10未満の場合には、各領域におけるそれぞれ還元能、酸化能、及び酸素濃度調節能が不十分になってしまうおそれがある。より好ましは、1/4以上の幅で形成されていることがよい。一方、各領域の少なくとも1つが1/2を越える場合には、その他の領域が小さくなり、充分な触媒能を発揮することができなくなるおそれがある。
より具体的に例えば長さ100mm、直径φ100mmの円柱状モノリスを上記多孔質基材として用いた場合には、各領域は上記多孔質基材の軸方向における幅で約10mm〜50mmに調整することができる。
図1及び図2に示すごとく、本例の排ガス浄化触媒体1は、エンジンから排出される排ガス中に含まれる少なくともHC、CO、及びNOxの有害成分を浄化するために用いられる。排ガス浄化触媒体1は、多孔質隔壁21を多角形格子状に配して軸方向に延びる多数のセル22を形成した多孔質基材2を有する。セル22は、排ガスの通り道である排ガス流路221を形成している。
また、図2及び図3(b)に示すごとく、排ガス流路221の下流端29側には、多孔質隔壁21の表面200に酸化能を有する酸化貴金属触媒4と酸素濃度調整能を有する助触媒5とを担持させた酸化触媒領域12が形成されている。
また、図2及び図3(c)に示すごとく、還元触媒領域11と酸化触媒領域12との間には、多孔質隔壁21の表面200に酸素濃度調整能を有する助触媒5を担持させた酸素濃度調整領域13が形成されている。
図2、図3(a)、及び図3(b)に示すごとく、排ガス流路221の上流28側及び下流29側には、還元触媒領域11及び酸化触媒領域12のうちそれぞれ互いに異なる触媒領域が形成されている。
本例においては、図1〜図3に示すごとく、多孔質基材2は、コージェライトセラミックスよりなり、多数の細孔を有する円筒状の多孔質体である。多孔質隔壁21は、四角格子状に配され、セル22の断面形状は、四角形状になっている。
酸化触媒領域12においては、アルミナ(Al2O3)からなる担持層6上に、粒径約1〜20nmのCeO2/ZrO2固溶体粒子からなる助触媒5と、粒径約0.5〜1nmのPt粒子からなる酸化貴金属触媒4とが担持されている(図3(b)参照)。酸化貴金属触媒4は、一部は担持層6上に直接担持されており、残りの一部は助触媒5上に担持されている。
酸素濃度調整領域13においては、アルミナ(Al2O3)からなる担持層6上に、粒径約1〜20nmCeO2/ZrO2固溶体からなる助触媒5が担持されている(図3(c)参照)。
本例においては、多孔質基材の多孔質隔壁に担持層を形成し、次いで、多孔質基材の軸方向の一方の端部から2/3の領域に助触媒を担持させ、さらに同じ側の端部から1/3の領域に酸化貴金属触媒を担持させる。次に、もう一方の端部から1/3の領域に還元貴金属触媒を担持させて、排ガス浄化触媒体を作製する。
以下、詳細に説明する。
即ち、まず、アルミナ粒子(日産化学製、アルミナゾル520)を準備し、このアルミナ粒子約100mlを純水500ml中に分散させてアルミナ粒子分散スラリーを作製した。次に、アルミナ粒子分散スラリー中に多孔質基材(モノリス)を含浸させて、多孔質基材全体に均一にアルミナ粒子をコートした(直接含浸法)。その後、温度400℃で仮焼することにより、多孔質基材2の表面200を覆う、アルミナよりなる担持層6を形成した(図3(a)〜(c)参照)。担持層6は、多孔質基材2の多孔質隔壁21の表面全体に形成されている。
即ち、まず、水またはエタノール等の有機溶媒等からなる溶媒500ml中にCe−Zr複合酸化物25gを添加した。次いで、30分間攪拌しながら25kHzの超音波を照射することすることにより、Ce−Zr複合酸化物をナノオーダに微細化させると共に、溶媒中に分散させたCe−Zr複合酸化物スラリーを得た。このスラリーを、遠心分離機(日立工機製、CR20G)によって洗浄した。このようにして、助触媒の前駆体粒子のスラリーを得た。
即ち、まず、水またはエタノール等の有機溶媒などからなる溶媒250ml中にPtCl2(フルヤ金属製)0.1gを分散させ、さらにPtCl2のPtへの還元助剤であるアルカノールアミン(和光純薬工業製)を約10ml添加した。次いで、得られたスラリーを超音波発生器(ソノリアクター、本多電子製)にセットし、30分間攪拌しながら25kHzの超音波を照射した。この超音波照射により塩化白金(PtCl2)が還元され、Pt粒子となる。
その後、スラリー中のPt粒子を遠心分離機によって洗浄した。このようにして酸化貴金属触媒のスラリーを得た。
Rh粒子は、上述のPt粒子のスラリーと同様の方法により得ることができる。即ち、PtCl2の代わりにRhCl3を用い、その他は上述のPt粒子の作製方法と同様の操作を行うことにより、Rh粒子のスラリーを得た。
即ち、まず、多孔質基材の軸方向における一方の端部から多孔質基材の長さの約1/3までの領域をRh粒子のスラリーへ浸漬し、多孔質基材にRh粒子を担持させた。次に、熱風発生器を用いて温度150℃の熱風を照射し、乾燥させた。この浸漬と照射とを繰り返し行い、Rh粒子を0.3g/L担持させた。これにより、多孔質基材2に還元触媒領域11を形成した(図2参照)。
その後、上記多孔質基材を温度500℃で2時間焼成した。これにより、Ce−Zr複合酸化物からなる助触媒の前駆体粒子からCeO2/ZrO2固溶体からなる助触媒を生成した。
そのため、排ガス浄化触媒体1においては、還元触媒領域11における還元作用、酸化触媒領域12における酸化作用、及び酸素濃度調整領域13における酸素濃度調整作用を、互いに妨げることなく、充分に発揮させることができる。
11 還元触媒領域
12 酸化触媒領域
13 酸素濃度調整領域
2 多孔質基材
21 多孔質隔壁
22 セル
221 排ガス流路
28 上流端
29 下流端
3 還元貴金属触媒
4 酸化貴金属触媒
5 助触媒
Claims (10)
- エンジンから排出される排ガス中に含まれる少なくともHC、CO、及びNOxの有害成分を浄化する排ガス浄化触媒体であって、
該排ガス浄化触媒体は、多孔質隔壁を多角形格子状に配して軸方向に延びる多数のセルを形成した多孔質基材を有し、上記セルは排ガス流路を形成しており、
上記排ガス流路の上流側又は下流側のいずれか一方には、上記多孔質隔壁の表面に還元能を有する還元貴金属触媒を担持させた還元触媒領域が形成されており、他方には、上記多孔質隔壁の表面に酸化能を有する酸化貴金属触媒と酸素濃度調整能を有する助触媒とを担持させた酸化触媒領域が形成されており、
上記還元触媒領域と上記酸化触媒領域との間には、上記多孔質隔壁の表面に酸素濃度調整能を有する助触媒を担持させた酸素濃度調整領域が形成されていることを特徴とする排ガス浄化触媒体。 - 請求項1において、上記還元触媒領域、上記酸化触媒領域、及び上記酸素濃度調整領域は、上記多孔質基材の上記軸方向の全長の1/10〜1/2の幅で形成されていることを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1又は2において、上記還元貴金属触媒は、Rhを含有することを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1〜3のいずれか一項において、上記還元貴金属触媒は、金属元素としてRhのみを含有することを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1〜4のいずれか一項において、上記酸化貴金属触媒は、Pt及び/又はPdを含有することを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1〜5のいずれか一項において、上記助触媒は、Ce、Zr、Al、Mg、Ti、及びSiから選ばれる元素の酸化物、又はこれら2種以上の元素の複合酸化物を含有することを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1〜6のいずれか一項において、上記助触媒は、CeO2/ZrO2固溶体からなることを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1〜7のいずれか一項において、上記多孔質基材の上記多孔質隔壁の表面には、Al2O3、MgO、Y2O3、TiO2、SiO2、Ni2O3、W2O3から選ばれる1種以上の化合物を含有する担持層が形成されており、上記還元貴金属触媒、上記酸化貴金属触媒、及び上記助触媒は、上記担持層に担持されていることを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項8において、上記酸化触媒領域における上記酸化貴金属触媒は、上記助触媒及び/又は上記担持層に担持されていることを特徴とする排ガス浄化触媒体。
- 請求項1〜9のいずれか一項において、上記多孔質基材は、コージェライトセラミックスからなることを特徴とする排ガス浄化触媒体。
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