JP2009224399A - 有機elデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板と、基板上の少なくとも1つの直列接続有機EL素子群とを有する有機ELデバイスであって、直列接続有機EL素子群は、第1電極、有機EL層、および第2電極をこの順に有する複数の有機EL素子から構成され、複数の有機EL素子は有機EL層を共有し、各有機EL素子を構成する第2電極は、隣接する有機EL素子を構成する第1電極と、有機EL層に設けられた1つまたは複数の貫通孔の部分で電気的に接続され、それによって複数の有機EL素子は直列接続されていることを特徴とする有機ELデバイス。
【選択図】図4
Description
直列接続有機EL素子群は、基板側から、独立した複数の電極パターンとして配置された第1電極、第1電極を覆うように配置された有機EL層、および独立した複数の電極パターンとして配置された第2電極をこの順に有する複数の有機EL素子から構成され、
複数の有機EL素子は有機EL層を共有し、
有機EL層は、厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有し、
各有機EL素子を構成する第2電極は、隣接する有機EL素子を構成する第1電極と、1つまたは複数の貫通孔の部分で電気的に接続され、それによって複数の有機EL素子は直列接続され、
第1電極および第2電極の少なくとも一方は透明電極である
ことを特徴とする有機ELデバイスを提供する。
本発明の有機ELデバイスの基板10としては、当該技術において知られている、表面が平滑である様々な基板を用いることができる。たとえば、ガラス基板などの透明基板を用いることができる。透明基板は、光透過性に優れ(400〜700nmの波長域において80%以上の透過率を有する)、透明電極、有機EL層、反射電極等の積層される層の形成に用いられる条件(溶媒、温度等)に耐え、寸法安定性に優れていることが好ましい。透明基板の例としては、ガラス基板の他、ポリオレフィン、アクリル樹脂(ポリメチルメタクリレートを含む)、ポリエステル樹脂(ポリエチレンテレフタレートを含む)、ポリカーボネート樹脂、あるいはポリイミド樹脂などの各種プラスチックで形成された剛直性樹脂基板もしくは可撓性フィルム等が挙げられる。
本発明の有機ELデバイスの「有機EL素子」は、基板10側から少なくとも第1電極20、有機EL層30、および第2電極40をこの順に有するように構成され、基板10の上面に平面的に配置される。1つの有機EL素子の第2電極40は、有機EL層30に設けられた貫通孔30hを通して、隣接する有機EL素子の第1電極20と、それぞれの一端で電気的に接続されている。複数の有機EL素子は、有機EL層30を共有し、直列接続有機EL素子群を構成する。
本発明の有機EL素子の第1電極20は、陽極または陰極のいずれかとして機能する電極である。第1電極20は、透明電極または反射電極のいずれであってもよい。
本発明の有機EL素子の第2電極40は、陽極または陰極のいずれかとして機能する電極である。第2電極40は、反射電極または透明電極であることができる。ただし、第1電極20および第2電極40が同時に反射電極であることはなく、いずれか一方は透明電極である。
透明電極は、波長400〜800nmの光に対して好ましくは50%以上、より好ましくは85%以上の透過率を有することが好ましい。透明電極を形成するための材料は、ITO(In−Sn酸化物)、IZO(In−Zn酸化物)、Al−Sn酸化物(ATO)、NESA膜、Sn酸化物、In酸化物、Zn酸化物、Zn−Al酸化物、Zn−Ga酸化物、および、これらの酸化物に対してF、Sbなどのドーパントを添加した導電性透明金属酸化物を含む。透明電極は、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100〜300nmの範囲内の厚さを有することが望ましい。通常、透明電極は、導電性透明金属酸化物をスパッタ法を用いて堆積させることによって形成される。ここで、矩形状またはその他の所望の形状の部分電極からなる透明電極を形成する場合には、所望の形状を与えるマスクを用いる堆積法で形成してもよいし、あるいは有機EL層形成前であれば全面堆積の後にフォトリソグラフィ法を用いてパターニングしてもよい。
反射電極を形成するための材料として、高反射率の金属、アモルファス合金、または微結晶性合金を用いることが好ましい。高反射率の金属は、Al、Ag、Mo、W、Ni、Crなどを含む。高反射率のアモルファス合金は、NiP、NiB、CrPおよびCrBなどを含む。高反射率の微結晶性合金は、NiAlなどを含む。反射電極は、通常50nm以上、好ましくは50nm〜1μm、より好ましくは100〜300nmの範囲内の厚さを有することが望ましい。反射電極を陰極として用いる場合には、前述の高反射率の金属、アモルファス合金または微結晶性合金に対して、仕事関数が小さい材料であるリチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属、カルシウム、マグネシウム、ストロンチウムなどのアルカリ土類金属を添加して合金化し、電子注入効率を向上させることができる。反射電極を陽極として用いる場合には、反射電極と有機EL層30との界面に、前述の導電性透明金属酸化物の層を設けて、有機EL層30に対する正孔注入の効率を向上させてもよい。反射電極は、それを形成する材料に依存して、蒸着法(抵抗加熱蒸着法または電子ビーム加熱蒸着法)、スパッタ法、イオンプレーティング法、レーザアブレーション法などの当該技術において知られている任意の方法を用いて形成することができる。ここで、矩形状またはその他の所望の形状の部分電極からなる反射電極を形成する場合には、所望の形状を与えるマスクを用いる堆積法で形成してもよいし、あるいは有機EL層形成前であれば全面堆積の後にフォトリソグラフィ法を用いてパターニングしてもよい。
本発明の有機EL素子の有機EL層30は、第1電極20および第2電極40から注入されるキャリアを再結合させて、所望の波長分布を有する光を発するための層である。有機EL層30によって、隣接する有機EL素子の第1電極20間、および第1電極20と第2電極40との間の短絡を防止することができる。本発明の有機EL層30は、第1電極20上に一体的に形成することができ、および、厚さ方向に貫通し、第1電極20の一端の上面に開口部が位置する貫通孔30hを有することを特徴とする。
(1)陽極/有機発光層/陰極
(2)陽極/正孔注入層/有機発光層/陰極
(3)陽極/有機発光層/電子注入層/陰極
(4)陽極/正孔注入層/有機発光層/電子注入層/陰極
(5)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子注入層/陰極
(6)陽極/正孔注入層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
(7)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/有機発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
有機EL層30に設けられた貫通孔30hによって、第2電極40を第1電極20と電気的に接続することができる。貫通孔30hは、第1電極20上に設けられた有機EL層30を厚さ方向に貫通し、第1電極20の上面に達するように設定される。貫通孔30hの形状、大きさ、数(範囲)、位置は、実用しうる有機ELデバイスを得るために重要な変動要因である。貫通孔30hは、円形その他の任意の形状をとることができる。貫通孔30hが円形である場合は、製造のバラツキを考えると、好ましい孔径は10μmより大きい範囲である。貫通孔30hの好ましい数は、第1および第2電極20、40の大きさおよび貫通孔30hの形状、大きさ等に依存する。電極あたり1個であっても実用上問題がないが、製造のバラツキおよび電流のバランスを考えると複数個であることが好ましい。また、貫通孔30hは、第1電極20の端面から0.1mmから0.2mmの範囲に孔の端がくるように配置されていることが好ましい。たとえば、第1電極20のパターン形状を20mm角の正方形とした場合に、第1電極20の端面から0.6mmの位置に中心を有する孔径1mmの貫通孔を1mm間隔で10個形成することができる。
パッシベーション層は、可視域における透明性が高く(400〜700nmの範囲で透過率50%以上)、100℃以上のTgを有し、表面硬度が鉛筆硬度で2H以上である層である。第1電極20または第2電極40のいずれかに接触する位置に設けられる場合、パッシベーション層は絶縁性であることが要求される。パッシベーション層の材料は、たとえば、イミド変性シリコ−ン樹脂、無機金属化合物(TiO、Al2O3、SiO2等)をアクリル、ポリイミド、シリコ−ン樹脂等中に分散したもの、紫外線硬化型樹脂としてエポキシ変性アクリレ−ト樹脂、アクリレ−トモノマ−/オリゴマ−/ポリマ−の反応性ビニル基を有した樹脂、レジスト樹脂、ゾル−ゲル法にて形成される無機化合物、フッ素系樹脂等を含む。前述の材料を用いるパッシベーション層の形成法には、たとえば、湿式法(スピンコ−ト法、ロ−ルコ−ト法、キャスト法等)およびゾル−ゲル法等の慣用の手法を用いることができる。また、パッシベーション層として、ガスおよび有機溶剤に対するバリア性を有し、可視域における透明性が高く(400〜700nmの範囲で透過率50%以上)、該パッシベーション層に、好ましくは2H以上の膜硬度を付与する無機材料を用いてもよい。たとえば、SiOx、SiNx、SiNxOy、AlOx、TiOx、TaOx、ZnOx等の無機酸化物、無機窒化物等が使用できる。これら無機酸化物または無機窒化物を用いるパッシベーション層の形成方法としては、たとえば、スパッタ法、CVD法、真空蒸着法等の慣用の手法を用いることができる。上述のパッシベーション層は単層でも、あるいは複数の層が積層されたものでもよい。
本発明の色変換層は、少なくとも1種の蛍光材料を含む。本発明において好適に用いることができる蛍光材料は、Alq3(トリス(8−キノリノラト)アルミニウム錯体)などのアルミキレート系色素、3−(2−ベンゾチアゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン6)、3−(2−ベンゾイミダゾリル)−7−ジエチルアミノクマリン(クマリン7)、クマリン135などのクマリン系色素、ソルベントイエロー43、ソルベントイエロー44のようなナフタルイミド系色素などの低分子有機蛍光色素を含む。また、蛍光材料として、ポリフェニレン系、ポリアリーレン系、ポリフルオレン系に代表される各種高分子発光材料を用いてもよい。別法として、前述の蛍光材料に第2蛍光材料を加えた2種の蛍光材料の混合物を用いて色変換層を形成してもよい。この構成においては、前述の蛍光材料が色変換層への入射光、好ましくは有機EL素子の発する青色〜青緑色の光を吸収し、吸収したエネルギーを第2蛍光材料に移動させ、第2蛍光材料が所望の波長の光を放射する。本発明において第2蛍光材料として好適に用いることができる蛍光材料は、ジエチルキナクリドン(DEQ)などのキナクリドン誘導体;4−ジシアノメチレン−2−メチル−6−(p−ジメチルアミノスチリル)−4H−ピラン(DCM−1、下記式(I))、DCM−2(下記式(II))、およびDCJTB(下記式(III))などのシアニン色素;ローダミンB、ローダミン6Gなどのキサンテン系色素;ピリジン1などのピリジン系色素;4,4−ジフルオロ−1,3,5,7−テトラフェニル−4−ボラ−3a,4a−ジアザ−s−インダセン(下記式(IV));ルモゲンFレッド;ナイルレッド(下記式(V))などの低分子有機蛍光色素を含む。あるいはまた、各種低分子発光材料、各種高分子EL発光材料も適用できる。
以下の工程に従い、本発明の有機ELデバイスを作製した(図4参照)。
(a) 基板10として、透明基板(1737ガラス、コーニング社製)を準備した。
(b) 基板10上に、蒸着法にて色変換層50を形成した。詳細には、第1蛍光材料:クマリン6と第2蛍光材料:DCM−2との混合物(モル比はクマリン6:DCM−2=48:2)を用いて、膜厚0.5μmの赤色変換層50Rを形成した。
(c) 工程(b)で得られた色変換層50上に、窒化シリコン(SiN)を厚さ100nmに積層して、パッシベーション層60とした。積層には、プラズマCVD法を用いた(原料ガスとしてモノシラン(SiH4)、アンモニア(NH3)および窒素(N2)を使用)。このとき、基板温度を100℃以下に保った。
以下の工程に従い、本発明の有機ELデバイスを作製した(図5参照)。
(a) 基板10として、透明基板(1737ガラス、コーニング社製)を準備した。
(b) 基板10の一方の面上に、所定のパターンの開口部を有するメタルマスクを用いたスパッタ法でIZO(In−Zn酸化物、出光興産株式会社製)を積層して、所定のパターンを有する膜厚200nmの透明第1電極20を形成した。ここで、所定のパターンとは、20個の20mm角の正方形を100μmの間隔で直線的に配置したものである。
工程(d)において、所定のパターンを、20個の20mm角の正方形を100μmの間隔で曲線的に配置した以外は実施例1と同様にして、本発明の有機ELデバイスを作製した(図6参照)。
以下の工程に従い、比較例の有機ELデバイスを作製した(図2参照)。
(a) 基板10として、透明基板(1737ガラス、コーニング社製)を準備した。
(b) 基板10上に、スパッタ法で厚さ200nmのIZO(In−Zn酸化物、出光興産株式会社製)を全面蒸着した。次いで、フォトリソグラフィ法を用いて、該IZOから所定のパターン状の透明第1電極20を形成した。ここで、所定のパターンとは、20個の20mm角の正方形を100μmの間隔で直線的に配置したものである。
実施例および比較例の有機ELデバイスについて、直列接続有機EL素子群の製造歩留まり(%)を、電源−電圧特性(リーク不良の評価)および発光特性を測定することにより、総合的に評価した。発光特性は、大塚電子株式会社のマルチチャネルフォトデテクター(MCPD−3000)および株式会社トプコンの輝度計(BM−9)で測定した。実施例および比較例4について製造歩留まりを比較した。
評価結果を、以下の第2表および第3表に示す。
20 第1電極
30 有機EL層
30h 貫通孔
40 第2電極
50、52、54 色変換層
60、70 パッシベーション層
91〜9m 直列接続有機EL素子群
110 装置
111 石英窓
112 シールドリング
113 レーザー光
210 セラミック基板
220 金属パターン
230 LED
240 ヒートシンク
250 蛍光樹脂層
x 有効発光領域の幅
y 発光領域間の距離
d 隣接する第1電極20間の距離
t 有機EL層30の厚さ
Claims (8)
- 基板と、前記基板上の少なくとも1つの直列接続有機EL素子群とを有する有機ELデバイスであって、
前記直列接続有機EL素子群は、前記基板側から、独立した複数の電極パターンとして配置された第1電極、前記第1電極を覆うように配置された有機EL層、および独立した複数の電極パターンとして配置された第2電極をこの順に有する複数の有機EL素子から構成され、
前記複数の有機EL素子は前記有機EL層を共有し、
前記有機EL層は、厚さ方向に貫通する複数の貫通孔を有し、
各有機EL素子を構成する前記第2電極は、隣接する有機EL素子を構成する前記第1電極と、1つまたは複数の前記貫通孔の部分で電気的に接続され、それによって前記複数の有機EL素子は直列接続され、
前記第1電極および前記第2電極の少なくとも一方は透明電極である
ことを特徴とする有機ELデバイス。 - 少なくとも1つの色変換層をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の有機ELデバイス。
- 前記少なくとも1つの色変換層が、前記基板と前記第1電極との間;前記基板の前記直列接続有機EL素子群とは反対側の面上;および前記第2電極の上面からなる群から選択される少なくとも1つに配置されていることを特徴とする請求項2に記載の有機ELデバイス。
- 複数の直列接続有機EL素子群を含むことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の有機ELデバイス。
- 前記基板が透明基板であり、第1電極が透明電極であることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の有機ELデバイス。
- 前記基板と前記第1電極との間に、パッシベーション層をさらに含むことを特徴とする請求項5に記載の有機ELデバイス。
- 前記第1電極および前記第2電極の両方が透明電極であることを特徴とする請求項5または6に記載の有機ELデバイス。
- 前記第2電極上にパッシベーション層をさらに含むことを特徴とする請求項1から7のいずれか一項に記載の有機ELデバイス。
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