JP2009217261A - 回折格子を使用した集光素子及びこれの製造方法{Light−condensingdeviceandmethodoffabricatingthesame} - Google Patents
回折格子を使用した集光素子及びこれの製造方法{Light−condensingdeviceandmethodoffabricatingthesame} Download PDFInfo
- Publication number
- JP2009217261A JP2009217261A JP2009049520A JP2009049520A JP2009217261A JP 2009217261 A JP2009217261 A JP 2009217261A JP 2009049520 A JP2009049520 A JP 2009049520A JP 2009049520 A JP2009049520 A JP 2009049520A JP 2009217261 A JP2009217261 A JP 2009217261A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- diffraction grating
- horizontal
- vertical
- region
- central block
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
- B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
- B29D11/00009—Production of simple or compound lenses
- B29D11/00365—Production of microlenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B3/00—Simple or compound lenses
- G02B3/02—Simple or compound lenses with non-spherical faces
- G02B3/08—Simple or compound lenses with non-spherical faces with discontinuous faces, e.g. Fresnel lens
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/18—Diffraction gratings
- G02B5/1876—Diffractive Fresnel lenses; Zone plates; Kinoforms
- G02B5/188—Plurality of such optical elements formed in or on a supporting substrate
- G02B5/1885—Arranged as a periodic array
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2059—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a scanning corpuscular radiation beam, e.g. an electron beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Ophthalmology & Optometry (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
【解決手段】上記集光素子は、中央ブロック、上記中央ブロックの左右に各々位置する一対の垂直回折格子ブロック、及び上記中央ブロックの上下に各々位置する一対の水平回折格子ブロックを備える。上記垂直回折格子ブロックは、垂直軸方向に延長されたライン形態のお互いに平行した垂直回折格子を備え、上記水平回折格子ブロックは、水平軸方向に延長されたライン形態のお互いに平行した水平回折格子を備える。
【選択図】図1
Description
C 中央ブロック
VB1、VB2 垂直回折格子ブロック
HB1、HB 水平回折格子ブロック
Claims (8)
- 中央ブロック;
上記中央ブロックの左右に各々位置して、垂直軸方向に延長されたライン形態のお互いに平行した垂直回折格子を備える一対の垂直回折格子ブロック;及び、
上記中央ブロックの上下に各々位置して、水平軸方向に延長されたライン形態のお互いに平行した水平回折格子を備える一対の水平回折格子ブロックを含む集光素子。 - 請求項1において、
上記中央ブロックの4つの隅部に隣接して位置する斜線回折格子ブロックをさらに含む集光素子。 - 請求項2において、
上記斜線回折格子ブロックの各々は、斜線方向に配列された四角六面体回折格子を備える集光素子。 - 中央領域、上記中央領域の上下左右に各々位置する上部領域、下部領域、左側領域及び右側領域を備えるモールディング基板を提供して、
上記左右側領域内にお互いに平行した垂直トレンチラインを形成して、上記上下部領域内にお互いに平行した水平トレンチラインを形成する段階;及び、
上記トレンチラインを備えるモールディング基板上に光学樹脂を提供し、中央ブロック、上記中央ブロックの左右に各々位置して、垂直軸方向に延長されたライン形態のお互いに平行した垂直回折格子を備える一対の垂直回折格子ブロック、及び上記中央ブロックの上下に各々位置して、水平軸方向に延長されたライン形態のお互いに平行した水平回折格子を備える一対の水平回折格子ブロックを有する集光素子を形成する段階を含む集光素子製造方法。 - 請求項4において、
上記トレンチラインを形成する段階は、上記モールディング基板上にレジストパターンを形成する段階、及び上記レジストパターンをマスクとして上記モールディング基板を蝕刻する段階を含む集光素子製造方法。 - 請求項5において、
上記レジストパターンは、電子ビームリソグラフィ法を使用して形成する集光素子製造方法。 - 請求項4において、
上記モールディング基板は、高速中性粒子ビームを使用して蝕刻する集光素子製造方法。 - 請求項4において、
上記モールディング基板は、上記中央領域の4つの隅部に隣接する中間領域をさらに含み、上記トレンチラインを形成すると同時に、上記中間領域に斜線方向に隣接して配列された四角六面体トレンチを形成する集光素子製造方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020080020910A KR100934542B1 (ko) | 2008-03-06 | 2008-03-06 | 회절격자를 사용한 집광 소자 및 이의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009217261A true JP2009217261A (ja) | 2009-09-24 |
Family
ID=41053332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009049520A Pending JP2009217261A (ja) | 2008-03-06 | 2009-03-03 | 回折格子を使用した集光素子及びこれの製造方法{Light−condensingdeviceandmethodoffabricatingthesame} |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8176912B2 (ja) |
JP (1) | JP2009217261A (ja) |
KR (1) | KR100934542B1 (ja) |
CN (1) | CN101576624B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016510910A (ja) * | 2013-03-05 | 2016-04-11 | ラムバス・インコーポレーテッド | 高解像度レンズなし光学検知の奇対称を有する位相格子 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2011029214A1 (zh) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | Yuan Jianzhong | 太阳能聚光装置 |
US8553331B2 (en) * | 2009-12-16 | 2013-10-08 | Flir Systems, Inc. | Selective diffractive optical element and a system including the same |
CN111477703B (zh) * | 2020-04-14 | 2022-01-18 | 北京工业大学 | 一种大孔径高速光电探测器 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0961610A (ja) * | 1994-10-31 | 1997-03-07 | Nippon Steel Corp | バイナリーオプティクス及びそれを用いた集光光学系並びにレーザ加工装置 |
JP2001201627A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-07-27 | Asahi Optical Co Ltd | 回折素子の製造方法 |
JP2005166704A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Canon Inc | 集光型太陽電池モジュールの製造方法 |
JP2005215372A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Sony Corp | 画像表示素子及び画像プロジェクタ装置 |
JP2005343022A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 転写画像形成材料製造用仮支持体及び転写画像形成材料の製造方法 |
JP2007316517A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57132130A (en) | 1981-02-09 | 1982-08-16 | Canon Inc | Focusing screen |
JP2004012791A (ja) * | 2002-06-06 | 2004-01-15 | Nikon Corp | 補助光投影装置 |
JP4623723B2 (ja) * | 2004-06-18 | 2011-02-02 | 大日本印刷株式会社 | 回折光学素子及びこれを利用した光学ローパスフィルター |
JP2009217123A (ja) * | 2008-03-12 | 2009-09-24 | Fujinon Corp | 回折格子型ローパスフィルタ |
-
2008
- 2008-03-06 KR KR1020080020910A patent/KR100934542B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2009
- 2009-03-03 JP JP2009049520A patent/JP2009217261A/ja active Pending
- 2009-03-06 CN CN2009101191698A patent/CN101576624B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2009-03-06 US US12/399,395 patent/US8176912B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0961610A (ja) * | 1994-10-31 | 1997-03-07 | Nippon Steel Corp | バイナリーオプティクス及びそれを用いた集光光学系並びにレーザ加工装置 |
JP2001201627A (ja) * | 2000-01-17 | 2001-07-27 | Asahi Optical Co Ltd | 回折素子の製造方法 |
JP2005166704A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Canon Inc | 集光型太陽電池モジュールの製造方法 |
JP2005215372A (ja) * | 2004-01-30 | 2005-08-11 | Sony Corp | 画像表示素子及び画像プロジェクタ装置 |
JP2005343022A (ja) * | 2004-06-03 | 2005-12-15 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 転写画像形成材料製造用仮支持体及び転写画像形成材料の製造方法 |
JP2007316517A (ja) * | 2006-05-29 | 2007-12-06 | Toppan Printing Co Ltd | 回折格子 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2016510910A (ja) * | 2013-03-05 | 2016-04-11 | ラムバス・インコーポレーテッド | 高解像度レンズなし光学検知の奇対称を有する位相格子 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20090095775A (ko) | 2009-09-10 |
CN101576624B (zh) | 2011-04-13 |
US20090225423A1 (en) | 2009-09-10 |
KR100934542B1 (ko) | 2009-12-29 |
CN101576624A (zh) | 2009-11-11 |
US8176912B2 (en) | 2012-05-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7461294B2 (ja) | 透過型メタサーフェスレンズ統合 | |
US11372149B2 (en) | Depth-modulated slanted gratings using gray-tone lithography and slant etch | |
US20090170038A1 (en) | Method for producing fine structure | |
JP2009217261A (ja) | 回折格子を使用した集光素子及びこれの製造方法{Light−condensingdeviceandmethodoffabricatingthesame} | |
JP6012692B2 (ja) | マイクロレンズアレイの形成方法および固体撮像装置の製造方法 | |
CN112394428B (zh) | 一种微透镜结构及其制作方法、显示器件 | |
CN1437069A (zh) | 用于轴外照射的光掩模及其制造方法 | |
JP4573418B2 (ja) | 露光方法 | |
JP2006339359A (ja) | 微細構造体の製造方法、電子機器 | |
WO2016121369A1 (ja) | 光学素子及び集光型太陽光発電装置 | |
JP2009236945A (ja) | ワイヤーグリッド偏光子およびその製造方法 | |
JP2020520480A (ja) | 周波数倍増式干渉リソグラフィを使用したワイヤグリッド偏光板の製造方法 | |
JP5136288B2 (ja) | 濃度分布マスク及びその製造方法 | |
JP2009008885A (ja) | 濃度分布マスク | |
KR20090072462A (ko) | 나노렌즈의 제조방법 | |
WO2024014272A1 (ja) | メタレンズ、メタレンズの製造方法、電子機器、メタレンズの設計方法 | |
US20230417964A1 (en) | Diffractive optical elements and methods for manufacturing diffractive optical elements | |
TW202043936A (zh) | 大面積高解析度特徵縮減微影技術 | |
JP2009151257A (ja) | 傾斜露光リソグラフシステム | |
JP2022095086A (ja) | 受光素子 | |
Atthi et al. | Design and fabrication of diffractive phase element for minimizing the focusing spot size beyond diffraction limit | |
EP4334764A1 (en) | Fabrication of optical gratings using a resist contoured based on grey-scale lithography | |
Ting et al. | Gray-level 3D resist process and its application | |
KR100476819B1 (ko) | 임의형상을 나노미터급으로 패터닝하기 위한 노광장치 및마스크 | |
TW201202123A (en) | Manufacturing equipment of nano-scale structure array and production method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101102 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20110128 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20110203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110302 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120110 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20120703 |