JP2009216531A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2009216531A5
JP2009216531A5 JP2008060432A JP2008060432A JP2009216531A5 JP 2009216531 A5 JP2009216531 A5 JP 2009216531A5 JP 2008060432 A JP2008060432 A JP 2008060432A JP 2008060432 A JP2008060432 A JP 2008060432A JP 2009216531 A5 JP2009216531 A5 JP 2009216531A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
substrate
measuring apparatus
measurement object
stage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008060432A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP5147468B2 (ja
JP2009216531A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2008060432A priority Critical patent/JP5147468B2/ja
Priority claimed from JP2008060432A external-priority patent/JP5147468B2/ja
Publication of JP2009216531A publication Critical patent/JP2009216531A/ja
Publication of JP2009216531A5 publication Critical patent/JP2009216531A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5147468B2 publication Critical patent/JP5147468B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2008060432A 2008-03-11 2008-03-11 計測装置および露光装置 Expired - Fee Related JP5147468B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008060432A JP5147468B2 (ja) 2008-03-11 2008-03-11 計測装置および露光装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008060432A JP5147468B2 (ja) 2008-03-11 2008-03-11 計測装置および露光装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2009216531A JP2009216531A (ja) 2009-09-24
JP2009216531A5 true JP2009216531A5 (enExample) 2011-04-28
JP5147468B2 JP5147468B2 (ja) 2013-02-20

Family

ID=41188543

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008060432A Expired - Fee Related JP5147468B2 (ja) 2008-03-11 2008-03-11 計測装置および露光装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5147468B2 (enExample)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5787483B2 (ja) * 2010-01-16 2015-09-30 キヤノン株式会社 計測装置及び露光装置
KR20160021301A (ko) 2010-11-12 2016-02-24 에베 그룹 에. 탈너 게엠베하 웨이퍼 스택에 있는 결함 및 층 두께를 측정하기 위한 측정 장치 및 측정 방법
JP6196119B2 (ja) * 2013-10-11 2017-09-13 大塚電子株式会社 形状測定装置及び形状測定方法
JP2015166751A (ja) * 2015-07-03 2015-09-24 エーファウ・グループ・エー・タルナー・ゲーエムベーハー ウェーハスタック内の層厚さ及び欠陥を測定する測定デバイス及び方法
JP7735055B2 (ja) * 2020-02-28 2025-09-08 キヤノン株式会社 識別装置、分別方法
WO2021172274A1 (ja) * 2020-02-28 2021-09-02 キヤノン株式会社 識別装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3444749B2 (ja) * 1997-04-04 2003-09-08 株式会社日立製作所 粒子分布検出方法
JP4460659B2 (ja) * 1997-10-22 2010-05-12 株式会社ルネサステクノロジ 薄膜の膜厚計測方法及びその装置並びにそれを用いた薄膜デバイスの製造方法及びその製造装置
JP2004219092A (ja) * 2003-01-09 2004-08-05 Univ Waseda リアルタイム分光画像分析装置及び分析方法
JP2006071784A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Tokyo Seimitsu Co Ltd 共焦点顕微鏡、外観検査装置及び半導体外観検査装置
JP2006098368A (ja) * 2004-09-30 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 全反射減衰を利用したセンサー
JP2007142078A (ja) * 2005-11-17 2007-06-07 Nikon Corp 位置計測方法及び装置、露光方法及び装置、測定検査装置、並びにプログラム

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8654191B2 (en) Defect inspection device and defect inspection method for silicon wafer
JP5337050B2 (ja) 車両用成形ガラスのひずみを反射された光学像により自動的に定量分析する方法
TW571072B (en) System for simultaneous projections of multiple phase-shifted patterns for the three-dimensional inspection of an object
JP2009216531A5 (enExample)
CN1795536A (zh) 位置信息测量方法及装置、和曝光方法及装置
JP6232831B2 (ja) 分光特性取得装置、画像評価装置及び画像形成装置
JP2010515027A5 (enExample)
JP6355316B2 (ja) 光透過性フィルムの欠陥検出方法
WO2016200096A1 (ko) 3차원 형상 측정장치
US11974046B2 (en) Multimodality multiplexed illumination for optical inspection systems
KR100612932B1 (ko) 3차원 형상 측정장치 및 방법
KR20110086222A (ko) 3차원 형상 측정장치
CN109297434A (zh) 基于光学相干层析的全深式曲面轮廓测量装置及控制方法
JP2004325296A (ja) 光学式移動量検出装置及び電子機器及び搬送処理システム
JP2013521525A (ja) 校正システムを有するパターン発生器
US20050274913A1 (en) Object data input apparatus and object reconstruction apparatus
JP5147468B2 (ja) 計測装置および露光装置
US20100309309A1 (en) Method for precisely detecting crack width
JP2008198966A (ja) ウエーハ欠陥検査装置
KR101436572B1 (ko) 광삼각법을 이용한 3차원형상 측정장치
WO2018088827A1 (ko) 3차원 형상 측정 장치 및 측정 방법
CN113513997B (zh) 光源、光路系统、单目采集系统、传感器及应变检测系统
KR100950590B1 (ko) 집광 조명을 이용한 스캐닝 모아레 측정방법
TWM543370U (zh) 一種測試圖樣；以及檢測鏡頭用光箱
JP2012154709A (ja) 三次元形状計測装置