JP2009215086A - 合成シリカガラスの製造装置及びこの製造装置を用いた合成シリカガラスの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】脈理がなく、内部に欠陥がない合成シリカガラスを製造できる合成シリカガラスの製造装置及びこの製造装置を用いた合成シリカガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】バーナ7は、可燃性ガスを噴出する、同心円状に配置された外管7a及び内管7bと、外管7aと内管7bとの間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第1の支燃性ガスノズル7cと、内管7bの中心部に配置された、原料ガスを噴出するソースノズル7eと、内管7bとソースノズル7eとの間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第2の支燃性ガスノズル7fとを有し、内管7bから噴出する可燃性ガスと第2の支燃性ガスノズル7fから噴出する支燃性ガスとにより、ターゲット4に向く火炎流が形成されると共に、外管7aから噴出する可燃性ガスと第1の支燃性ガスノズル7cから噴出する支燃性ガスとにより、炉体2の内壁に向く放射状の火炎流が形成される。
【選択図】図3
【解決手段】バーナ7は、可燃性ガスを噴出する、同心円状に配置された外管7a及び内管7bと、外管7aと内管7bとの間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第1の支燃性ガスノズル7cと、内管7bの中心部に配置された、原料ガスを噴出するソースノズル7eと、内管7bとソースノズル7eとの間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第2の支燃性ガスノズル7fとを有し、内管7bから噴出する可燃性ガスと第2の支燃性ガスノズル7fから噴出する支燃性ガスとにより、ターゲット4に向く火炎流が形成されると共に、外管7aから噴出する可燃性ガスと第1の支燃性ガスノズル7cから噴出する支燃性ガスとにより、炉体2の内壁に向く放射状の火炎流が形成される。
【選択図】図3
Description
本発明は合成シリカガラスの製造装置及びこの製造装置を用いた合成シリカガラスの製造方法に関する。
現在、紫外線透過材料として250nm以下の波長の光透過性がよく、不純物含有量の極めて少ない合成シリカガラスが用いられている。
この合成シリカガラスは、一般的には紫外線(400nm以下)領域の波長を吸収してしまう原因となりうる金属不純物の混入を避ける目的で、高純度のケイ素化合物、例えば四塩化ケイ素(SiCl4)などの気体を、酸水素炎中に導入し、火炎加水分解させて、シリカ微粒子を直接回転する耐熱性ターゲット上に堆積・溶融ガラス化させ、透明なガラスとして製造されている。
この合成シリカガラスは、一般的には紫外線(400nm以下)領域の波長を吸収してしまう原因となりうる金属不純物の混入を避ける目的で、高純度のケイ素化合物、例えば四塩化ケイ素(SiCl4)などの気体を、酸水素炎中に導入し、火炎加水分解させて、シリカ微粒子を直接回転する耐熱性ターゲット上に堆積・溶融ガラス化させ、透明なガラスとして製造されている。
一方、ターゲット上に堆積せず、浮遊するシリカ微粒子や反応生成ガス等を排気するために、排気口を有した合成炉(炉体)が用いられるが、合成炉の形状によっては合成炉内のガス流れが引き起こす気流によって、浮遊シリカ微粒子がインゴット合成面(溶融シリカ付着面)に飛来し、欠陥(気泡、インクルージョン)を招く原因となっていた。
この問題を解決する方策として、壁面に沿って常温の不活性ガスを流す合成シリカガラス製造装置が特開平7−109134号公報(特許文献1)、特開2006−16292号公報(特許文献2)で提案されている。
また、特開2000−26126号公報(特許文献3)に記載されているように、合成炉の内壁面に沿った火炎流を形成する方法が提案されている。
特開平7−109134号公報
特開2006−16292号公報
特開2000−26126号公報
ところで、特許文献1,2記載された合成シリカガラス製造装置にあっては、常温の不活性ガスを流した場合には、炉内温度を低下させるため、合成シリカガラスの合成条件が変化し、脈理等の欠陥が生じやすいという欠点があった。また、常温の不活性ガスを炉内へ流すためのノズルの温度が低く、このノズルの周辺にシリカ微粒子が付着しやすく、ノズルを詰まらせる虞れがあり、付着したシリカ微粒子がインゴット合成面に飛来し、欠陥(気泡、インクルージョン)を招く原因となっていた。
また、特許文献3に記載された合成シリカガラス製造装置にあっては、合成バーナからの火炎と前記火炎とが緩衝する虞れがあり、このため合成シリカガラスに脈理等の欠陥が生じやすいという欠点があった。
本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、炉内温度を低下させることなく、炉内壁、ノズル等へのシリカ微粒子の付着を抑制すると共に、シリカ微粒子のインゴット合成面への飛来を抑制することによって、脈理がなく、内部に欠陥がない合成シリカガラスを製造できる合成シリカガラスの製造装置及びこの製造装置を用いた合成シリカガラスの製造方法を提供することを目的とする。
上述した目的を達成するため、本発明に係る合成シリカガラス製造装置は、炉体と、前記炉体内部に回転可能に設置されたインゴット形成用のターゲットと、前記ターゲットに対向して設けられたシリカガラス合成用のバーナとを少なくとも備えた合成シリカガラス製造装置であって、前記バーナは、可燃性ガスを噴出する、同心円状に配置された外管及び内管と、前記外管と前記内管との間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第1の支燃性ガスノズルと、前記内管の中心部に配置された、原料ガスを噴出するソースノズルと、前記内管と前記ソースノズルとの間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第2の支燃性ガスノズルとを有し、前記内管から噴出する可燃性ガスと前記第2の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記ターゲットに向く火炎流が形成されると共に、前記外管から噴出する可燃性ガスと前記第1の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記炉体の内壁に向く放射状の火炎流が形成されることを特徴としている。
このように構成されているため、ターゲットに向けて噴出される火炎流とは別に、バーナから炉体内壁に向けて二次的な火炎流が放射状に形成され、この放射状の火炎流によりインゴット溶融面を覆うことができる。
これにより、ターゲットに堆積せずに浮遊するシリカ微粒子は、その放射状の火炎流に巻き込まれ、炉体の内壁面に沿って下方へと流される。
したがって、炉体内で浮遊するシリカ微粒子をインゴット溶融面に到達させることなく炉体外に排出し、インゴット内への気泡、異物の混入を抑制することができ、内部に欠陥のない合成シリカガラスを得ることができる。
また、炉内温度の低下や火炎流同士の緩衝がないため、脈理がなく屈折率が均質な合成シリカガラスを得ることができる。
これにより、ターゲットに堆積せずに浮遊するシリカ微粒子は、その放射状の火炎流に巻き込まれ、炉体の内壁面に沿って下方へと流される。
したがって、炉体内で浮遊するシリカ微粒子をインゴット溶融面に到達させることなく炉体外に排出し、インゴット内への気泡、異物の混入を抑制することができ、内部に欠陥のない合成シリカガラスを得ることができる。
また、炉内温度の低下や火炎流同士の緩衝がないため、脈理がなく屈折率が均質な合成シリカガラスを得ることができる。
ここで、前記外管と前記第1の支燃性ガスノズルの噴出口は、前記ソースノズルの噴出方向に対して、前記炉体の内壁側に向けて10°以上45°以下の範囲内で傾斜した状態に設けられていることが望ましい。
上述した目的を達成するため、本発明に係る合成シリカガラス製造方法は、前記した合成シリカガラス製造装置を用いて製造する合成シリカガラスの製造方法であって、前記内管から噴出する可燃性ガスと前記第2の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記ターゲットに向く火炎流が形成されると共に、前記ソースノズルからの原料ガスが、前記ターゲットに向く火炎流により加水分解され、シリカガラス微粒子がターゲット上に堆積・溶融ガラス化され、かつ、前記外管から噴出する可燃性ガスと前記第1の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記炉体の内壁に向く放射状の火炎流が形成され、ターゲット上に堆積しないシリカガラス微粒子が前記炉体の内壁に向く放射状の火炎流に巻き込まれ、炉体の内壁面に沿って下方へと流されることを特徴としている。
本発明によれば、脈理がなく、内部に欠陥がない合成シリカガラスを製造することができる合成シリカガラス製造装置および合成シリカガラス製造方法を提供することができる。
本発明の一実施形態の合成シリカガラス製造装置について、図1乃至図4に基づいて説明する。
本発明の合成シリカガラス製造装置1は、下部が大気に常時開放されている炉体2を備えている。この炉体2は耐火物からなり、その頂部にシリカガラス合成用のバーナ7が設置されている。尚、前記炉体2の水平断面は円形に形成されている。
また、前記炉体2の内部には、回転可能に設置されたインゴット形成用のターゲット4と、前記ターゲット4を回転及び昇降するインゴット昇降軸5が設けられている。
更に、炉体2の下部には、ターゲット4に堆積されなかったシリカ微粒子を排気する排気口3が設けられている。そしてまた、前記排気口3に接続された排気管11、排気ファン10からなる排気手段9が設けられている。
更に、炉体2の下部には、ターゲット4に堆積されなかったシリカ微粒子を排気する排気口3が設けられている。そしてまた、前記排気口3に接続された排気管11、排気ファン10からなる排気手段9が設けられている。
本発明は、バーナ7のノズル構造に特徴を有する。図2、図3に基づき、バーナ7のノズル構造について説明する。尚、図2は、バーナ7の噴出口の平面図、図3は、図2のA−A矢視断面図である。
図2、図3に示すように、このバーナ7は、外管7aと、この外管7a内側に同心円状に設けられた内管7bとを有する。外管7a、内管7bの各々は、可燃性ガス(H2)を噴出する管として設けられている。
図2、図3に示すように、このバーナ7は、外管7aと、この外管7a内側に同心円状に設けられた内管7bとを有する。外管7a、内管7bの各々は、可燃性ガス(H2)を噴出する管として設けられている。
前記外管7a内周面と前記内管7b外周面との間の隙間には、各々のノズル口から支燃性ガス(O2)を噴出する複数の支燃性ガスノズル7c(第1の支燃性ガスノズル)が、その隙間により形成された円周に沿って均等に配置されている。この外管7aと支燃性ガスノズル7cとにより第2の火炎流噴射手段が形成されている。
また、内管7bの中心部に原料ガスとして高純度のケイ素化合物の気体を噴出するソースノズル7eが設けられ、これの外周側に同心円状に配置され、前記ソースノズル7eとの間から支燃性ガス(O2)を噴出する支燃性ガスノズル7dが設けられている。
また、内管7bと支燃性ガスノズル7dとの間の空間には、各々のノズル口から支燃性ガス(O2)を噴出する複数の支燃性ガスノズル7f(第2の支燃性ガスノズル)が、その空間によって形成される円周に沿って2重の円を形成するように均等に配置されている。この内管7bと支燃性ガスノズル7fとにより第1の火炎流噴射手段が形成されている。
また、図3の断面図に示すように、外管7aと支燃性ガス管7cの噴射口は、それぞれ、ソースノズル7fの噴出方向に対して炉体2の内壁側に向けて所定角度(例えば10°以上45°以下の範囲内)傾斜した状態に形成されている。
そしてまた、前記内管7bの内側に配置されるノズルの噴出口は、全て前記ソースノズル7eの中心軸前方に向くよう内側に傾斜して配置されている。
そしてまた、前記内管7bの内側に配置されるノズルの噴出口は、全て前記ソースノズル7eの中心軸前方に向くよう内側に傾斜して配置されている。
このようなノズル配置により、内管7b内からはターゲット4に向けて酸水素炎が噴出され、ソースノズル7eから噴出される高純度のケイ素化合物の気体を火炎加水分解し、シリカ微粒子となすようにされている。
一方、外管7aと内管7bとの間の隙間からは、炉体2(炉体2)の内壁面に向け、酸水素炎が放射状に噴出され、炉内に二次的な火炎流が形成される。この二次的な放射状の火炎流によりインゴット溶融面が覆われ、インゴットに堆積しなかった浮遊するシリカ微粒子が、インゴット溶融面に到達しないようになされている。
一方、外管7aと内管7bとの間の隙間からは、炉体2(炉体2)の内壁面に向け、酸水素炎が放射状に噴出され、炉内に二次的な火炎流が形成される。この二次的な放射状の火炎流によりインゴット溶融面が覆われ、インゴットに堆積しなかった浮遊するシリカ微粒子が、インゴット溶融面に到達しないようになされている。
尚、外管7aにより炉内壁方向に流れを形成するガスは、炉内温度の低下、インゴット特性への悪影響を回避するため、ガス量の比率を、水素:酸素=2:0.8以上0.9以下とすることが望ましい。
このように構成された合成シリカガラス製造装置1においては、次のように合成シリカガラスの製造が行われる。
先ず、高純度のケイ素化合物、例えば四塩化ケイ素(SiCl4)などの気体を、開口するバーナ7を用いて酸水素炎中に導入する。
先ず、高純度のケイ素化合物、例えば四塩化ケイ素(SiCl4)などの気体を、開口するバーナ7を用いて酸水素炎中に導入する。
そして、高純度のケイ素化合物を火炎加水分解させた、シリカガラス微粒子を直接回転するターゲット4上に堆積・溶融ガラス化させ、堆積速度に合わせてバーナ7からインゴット6の溶融シリカ付着面6aまでの距離を一定に保つように引き下げながら合成シリカガラスの製造を行う。
炉内空気はインゴット6の周囲に沿って上方から下方に流れ、排気口3から炉体2外に排気される。
ここで、図4に示すように、バーナ7からは、ターゲット4に向けて酸水素炎F1が噴出され、前記のように火炎加水分解されたシリカガラス微粒子がターゲット4上に堆積・溶融ガラス化される。
また、同時に炉体2の内壁側に向けて放射状の火炎流F2が形成される。この火炎流F2はインゴット溶融面を覆い、インゴットに堆積しなかったシリカ微粒子は、火炎流F2の流れに巻き込まれ、炉体2の内壁面に沿って下方へと流される。
ここで、図4に示すように、バーナ7からは、ターゲット4に向けて酸水素炎F1が噴出され、前記のように火炎加水分解されたシリカガラス微粒子がターゲット4上に堆積・溶融ガラス化される。
また、同時に炉体2の内壁側に向けて放射状の火炎流F2が形成される。この火炎流F2はインゴット溶融面を覆い、インゴットに堆積しなかったシリカ微粒子は、火炎流F2の流れに巻き込まれ、炉体2の内壁面に沿って下方へと流される。
したがって、ターゲット上に堆積せず、浮遊するシリカ微粒子はインゴット溶融面に到達することなく空気と共に速やかかつ確実に炉体2外に排気され、インゴット6の内部に欠陥として残存することがない。
また、炉内温度の低下や火炎流同士の緩衝がないため、脈理がなく屈折率が均質な合成シリカガラスが得られる。
また、炉内温度の低下や火炎流同士の緩衝がないため、脈理がなく屈折率が均質な合成シリカガラスが得られる。
(実施例1)
図1に示す合成シリカガラス製造装置を用いて、インゴットを合成した。この装置は、図1に示すように、バーナ7が炉体2上部からターゲット4にその先端を向けて設置されており、バーナ7のノズル構造を図2、図3に示した構造とした。
尚、外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて10・傾斜した状態に形成した。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、インゴットには不純物及び気泡の混入は認められなかった。
図1に示す合成シリカガラス製造装置を用いて、インゴットを合成した。この装置は、図1に示すように、バーナ7が炉体2上部からターゲット4にその先端を向けて設置されており、バーナ7のノズル構造を図2、図3に示した構造とした。
尚、外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて10・傾斜した状態に形成した。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、インゴットには不純物及び気泡の混入は認められなかった。
(実施例2)
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて30・傾斜した状態に形成した。
その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、インゴットには不純物及び気泡の混入は認められなかった。
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて30・傾斜した状態に形成した。
その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、インゴットには不純物及び気泡の混入は認められなかった。
(実施例3)
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて45・傾斜した状態に形成した。
その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、インゴットには不純物及び気泡の混入は認められなかった。
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて45・傾斜した状態に形成した。
その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、インゴットには不純物及び気泡の混入は認められなかった。
(比較例1)
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向と同一方向(傾斜0°)に向けて形成した。その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、ノズル7からの水素酸素火炎流は、図5に示すようにターゲット4方向に向けて噴出される火炎流F3のみとなり、製造されたインゴットには2個の不純物と3個の気泡が混入した。
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向と同一方向(傾斜0°)に向けて形成した。その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、ノズル7からの水素酸素火炎流は、図5に示すようにターゲット4方向に向けて噴出される火炎流F3のみとなり、製造されたインゴットには2個の不純物と3個の気泡が混入した。
(比較例2)
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて60・傾斜した状態に形成した。
その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、製造されたインゴットには4個の不純物と1個の気泡が混入した。
外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し炉体2の内壁側に向けて60・傾斜した状態に形成した。
その他の装置構成、条件は実施例1と同一とした。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、製造されたインゴットには4個の不純物と1個の気泡が混入した。
(比較例3)
外管7a及び支燃性ガス管7cを有さない従来のバーナを用い、その他の条件を実施例1と同一として合成シリカガラスの製造を行った。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、ノズル7からの水素酸素火炎流は、ターゲット4方向に向けて噴出される火炎流F1のみとなり、製造されたインゴットには7個の不純物と5個の気泡が混入した。
外管7a及び支燃性ガス管7cを有さない従来のバーナを用い、その他の条件を実施例1と同一として合成シリカガラスの製造を行った。
この構成により合成シリカガラスを製造した結果、ノズル7からの水素酸素火炎流は、ターゲット4方向に向けて噴出される火炎流F1のみとなり、製造されたインゴットには7個の不純物と5個の気泡が混入した。
以上の実施例の結果、外管7a及び支燃性ガス管7cの噴出口を夫々、ソースノズル7fの噴出方向に対し、炉体2の内壁側に向けて10°以上45°以下の範囲内で傾斜した状態に形成することで、内部に欠陥の無いインゴットを製造できることを確認した。
1 合成シリカガラス製造装置
2 炉体
3 排気口
4 ターゲット
6 インゴット
6a 溶融シリカ付着面
7 バーナ
9 排気手段
10 排気ファン
11 排気管
2 炉体
3 排気口
4 ターゲット
6 インゴット
6a 溶融シリカ付着面
7 バーナ
9 排気手段
10 排気ファン
11 排気管
Claims (3)
- 炉体と、前記炉体内部に回転可能に設置されたインゴット形成用のターゲットと、前記ターゲットに対向して設けられたシリカガラス合成用のバーナとを少なくとも備えた合成シリカガラス製造装置であって、
前記バーナは、可燃性ガスを噴出する、同心円状に配置された外管及び内管と、前記外管と前記内管との間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第1の支燃性ガスノズルと、前記内管の中心部に配置された、原料ガスを噴出するソースノズルと、前記内管と前記ソースノズルとの間に配置され、支燃性ガスを噴出する複数の第2の支燃性ガスノズルとを有し、
前記内管から噴出する可燃性ガスと前記第2の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記ターゲットに向く火炎流が形成されると共に、
前記外管から噴出する可燃性ガスと前記第1の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記炉体の内壁に向く放射状の火炎流が形成されることを特徴とする合成シリカガラスの製造装置。 - 前記外管と前記第1の支燃性ガスノズルの噴出口は、前記ソースノズルの噴出方向に対して、前記炉体の内壁側に向けて10°以上45°以下の範囲内で傾斜した状態に設けられていることを特徴とする請求項1記載の合成シリカガラスの製造装置。
- 前記請求項1及び請求項2に記載された合成シリカガラス製造装置を用いて製造する合成シリカガラスの製造方法であって、
前記内管から噴出する可燃性ガスと前記第2の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記ターゲットに向く火炎流が形成されると共に、前記ソースノズルからの原料ガスが、前記ターゲットに向く火炎流により加水分解され、シリカガラス微粒子がターゲット上に堆積・溶融ガラス化され、
かつ、前記外管から噴出する可燃性ガスと前記第1の支燃性ガスノズルから噴出する支燃性ガスとにより、前記炉体の内壁に向く放射状の火炎流が形成され、ターゲット上に堆積しないシリカガラス微粒子が前記炉体の内壁に向く放射状の火炎流に巻き込まれ、炉体の内壁面に沿って下方へと流されることを特徴とする合成シリカガラスの製造方法。
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JP2021020818A (ja) * | 2019-07-24 | 2021-02-18 | クアーズテック徳山株式会社 | 合成シリカガラス製造装置、及びこの装置を用いた合成シリカガラスの製造方法 |
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