JP2009197315A - 鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法 - Google Patents

鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2009197315A
JP2009197315A JP2008072364A JP2008072364A JP2009197315A JP 2009197315 A JP2009197315 A JP 2009197315A JP 2008072364 A JP2008072364 A JP 2008072364A JP 2008072364 A JP2008072364 A JP 2008072364A JP 2009197315 A JP2009197315 A JP 2009197315A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead
free solder
solder alloy
solder
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2008072364A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4375485B2 (ja
Inventor
Hisao Ishikawa
久雄 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HORIZON GIJUTSU KENKYUSHO KK
NIPPON JOINT KK
Original Assignee
HORIZON GIJUTSU KENKYUSHO KK
NIPPON JOINT KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HORIZON GIJUTSU KENKYUSHO KK, NIPPON JOINT KK filed Critical HORIZON GIJUTSU KENKYUSHO KK
Priority to JP2008072364A priority Critical patent/JP4375485B2/ja
Priority to PCT/JP2008/066018 priority patent/WO2009104294A1/ja
Priority to PCT/JP2008/073145 priority patent/WO2009104338A1/ja
Publication of JP2009197315A publication Critical patent/JP2009197315A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4375485B2 publication Critical patent/JP4375485B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22BPRODUCTION AND REFINING OF METALS; PRETREATMENT OF RAW MATERIALS
    • C22B25/00Obtaining tin
    • C22B25/08Refining
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/22Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting characterised by the composition or nature of the material
    • B23K35/24Selection of soldering or welding materials proper
    • B23K35/26Selection of soldering or welding materials proper with the principal constituent melting at less than 400 degrees C
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K35/00Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
    • B23K35/40Making wire or rods for soldering or welding
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C1/00Making non-ferrous alloys
    • C22C1/02Making non-ferrous alloys by melting
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
    • C22CALLOYS
    • C22C13/00Alloys based on tin

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)

Abstract

【課題】現在実用化されている鉛フリーはんだ合金の微細接合部の濡れ性、はんだオーバーボリューム、およびブリッジオーバーリーク性、更には繰返しヒートサイクルによる経時劣化や疲労破断性の改善を目的とし、微小電子部品の微細接合部の接合信頼性を飛躍的に向上させる鉛フリーはんだ合金を提供する。
【解決手段】炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80重量%を含有する油からなる液温180〜300℃の溶液中に、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理し、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去することにより、従来にない物理的機械的物性として柔軟で伸び、靭性に優れ、また溶融時の粘性は従来の鉛フリーはんだ合金に較べて明らかに低くはんだぬれ広がり性が良く、微細接合部の接合信頼性の高いはんだ接合を可能にする。
【選択図】図1

Description

本発明は、半導体パッケージ、電子素子等の実装部材をプリント回路板に回路形成を目的として鉛フリーはんだを用いてはんだ接合する際に、プリント回路板の銅ランドと半導体パッケージ、電子素子等リード端子との間にはんだを介してはんだ接合させる鉛フリーはんだ合金、および該はんだを使用してはんだ接合した半導体装置に関するもので、更に詳しく言えば、現行の鉛フリーはんだ合金よりも物理的機械的物性として遥かに柔軟で伸び、靭性に富み、溶融状態での粘性が低く、ぬれ広がり性が良くて、オーバーボリュームになり難く、狭間隔で隣接するリードへブリッジリークし難く、かつ、はんだ接合した微小接合部の接合信頼性が高いはんだ接合を可能にする鉛フリーはんだ合金、また本発明の該鉛フリーはんだ合金を用いてはんだ接合した半導体装置、及び技術の提供に関するものである。
近年、電子機器はますます高信頼性化と小型軽量化が要求され、トランジスタ、ダイオード、IC、抵抗器、コンデンサーなどの電子素子、コネクターなどの電子部品をプリント回路板にはんだ接合して搭載して電子回路を形成させ、半導体装置や電子装置として広く使用されているが、これら電子素子、電子部品の小型微小化に伴いはんだ接合部も微細化され、ますます高品質信頼性が要求されている。とりわけプリント回路板と電子素子部品間の微小はんだ接合品質には極めて厳しい信頼性が要求されている。
このため、はんだ接合に使用するはんだ合金側にもはんだ接合強度、とりわけ電子素子、電子部品のリードの接合面積およびピッチの微小化に伴うはんだ接合部の高信頼性が要求されている。
また一方では、近年、環境汚染ならびに人体に対する有害性の問題で鉛の使用禁止または規制化が進み、特に電子部品分野においては鉛を含有しない所謂「鉛フリーはんだ合金」がはんだ付け加工に広く使用されており、特に、錫・銀・銅系はんだ合金、及びそれにアンチモンを添加したはんだ合金(特許文献1)、錫・銀・銅系はんだ合金にニッケルまたはゲルマニウムなどを添加したはんだ合金(特許文献2)などが提案され、実用化されている。このほかにも、錫・亜鉛・ニッケル系はんだ合金及び更に銀、銅、ビスマスなどを添加したはんだ合金(特許文献3)など数多くの各種はんだ合金が提案されている。
しかしながら、これらの鉛フリーはんだ合金は溶融時のぬれ性が良くないため、はんだ接合部面積が微細になると、接合部に必要以上の容量ではんだが盛り上がる所謂「オーバーボリューム」やリード間ピッチが狭小の回路では隣接リードにブリッジオーバーしてリークを生じやすい難点があるばかりか、凝固時のはんだの物理的機械的特性の1つである伸びが小さいために通電on−offに伴う繰返しヒートサイクルによるはんだ接合部の疲労破断による導通不良など生じやすく、微小化した電子機器の接続信頼性を損なうことも多い。
特開平5−50286(特許3027441) 特開平11−77366(特許3296289) 特開平9−94688(特許3299091)
本発明は、現在、実用化されている鉛フリーはんだ合金における微小リード・極狭リードピッチ回路の微小部はんだ接合時の難点である上記オーバーボリュームの問題、ブリッジオーバーによる隣接リードとのリークの問題、更には該はんだ接合部の繰返しヒートサイクルによる経時劣化的疲労破断による導通不良の問題を解決することを目的とし、微小電子部品の微細接合部の接合信頼性を飛躍的に向上させる鉛フリーはんだ合金、およびそれを使用することにより微小部のはんだ接合信頼性を飛躍的に向上させた半導体装置を提供するものである。
本発明は、炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80重量%を含有する油からなる液温180〜300℃の溶液中に、現在、広く実用されている通常の鉛フリーはんだ合金、即ち、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理し、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去することにより、従来にない物性を持ったぬれ広がり性が良くて、はんだの物理的機械的物性として柔軟で伸び、靭性に優れ、それを用いてはんだ接合した接合部、特に微細接合部の接合信頼性が高いはんだ接合を可能にするはんだ合金、及びそれを使用することにより微小部のはんだ接合信頼性を飛躍的に向上させた半導体装置、及びその技術の提供に関するものである。
更に詳しく言えば、本発明で用いる有機脂肪酸は炭素数12以下でも使用可能ではあるが吸水性があり、高温で使用する関係からあまり好ましくない。また、炭素数21以上の有機脂肪酸では融点が高いこと及び浸透性が悪くまた取扱いし難く処理後の該鉛フリーはんだ合金の防錆効果も不充分になる。望ましくは炭素数16のパルミチン酸、炭素数18のステアリン酸が最適であり、そのいずれか1種を10〜70重量%と残部エステル合成油からなる液温180〜300℃の溶液を用いることにより、該鉛フリーはんだ合金内部に存在する酸化物や不純金属を除去し、従来にない物理的機械的化学的物性、特に、柔軟で伸び、靭性に富み、溶融時の粘性が低く(見た目の感覚でも従来の鉛フリーはんだと比較して明らかに「さらさら」感がある)、はんだぬれ性のよい優れた清浄な鉛フリーはんだ合金が得られる。
該有機脂肪酸濃度については10重量%以下でも効果はあるが、補充管理など煩雑なこと、また70重量%以上では液粘度も高くなり、該鉛フリーはんだ合金との撹拌抵抗及び混合浸透性に問題を生じるため、好ましくは10〜70重量%である。液温は使用する鉛フリーはんだ合金の融点で決まり、少なくとも該融点以上の高温領域で有機脂肪酸溶液と溶融した該鉛フリーはんだを激しく撹拌接触させる必要がある。
また上限温度は発煙の問題や省エネの観点から300℃程度であり、望ましくは使用する鉛フリーはんだの融点以上の温度〜270℃である。また、エステル合成油を混合する理由は液粘度を下げて均一な撹拌処理を行うこと及び有機脂肪酸の高温発煙性抑制にあり、その濃度は有機脂肪酸濃度で決まる。
撹拌方法は、加熱装置のついたステンレス容器に上記有機脂肪酸とエステル合成油を入れて所定の温度に加温しながら通常のバッチ式ステンレス製インペラ撹拌子などを用いて撹拌して均一に溶液化させ、その中に予め別槽で溶融させた該鉛フリーはんだ合金液を少量ずつ激しく撹拌しながら注入すればよい。撹拌はスタティックミキサーを使うと短時間で該鉛フリーはんだ中の酸化物および不純物の除去が効率的に出来る。
鉛フリーはんだ合金の種類は、実際に錫・銀・銅系とそれにニッケル、ゲルマニウムを添加した市販の合金、及び錫・亜鉛系合金にニッケル、銀を添加した合金を中心に上記本発明の有機脂肪酸とエステル合成油で浸漬撹拌処理を実施しその効果を検証したが、これ以外の鉛フリーはんだ合金に該本発明処理を適用すれば同様の効果が得られるものと類推される。
上記の炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80重量%と残部エステル合成からなる液温180(使用する鉛はんだ合金材料の融点以上の温度)〜300℃の溶液中に、現在、広く実用されている通常の鉛フリーはんだ合金、即ち、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を注入し浸漬撹拌処理すると、該溶融鉛フリーはんだ合金中に存在する錫酸化物、銅酸化物、銀酸化物、あるいはその他の添加金属の酸化物および微量混入している鉄、鉛、珪素、カリウムなどの酸化不純物が有機脂肪酸のカルボニル基と反応して取り込まれケン化物となり、該鉛フリーはんだ合金内部から分離除去される。
撹拌時間は該鉛フリーはんだ合金の投入量および撹拌機の構造および撹拌条件にもよるが、一般的には10〜60分間程度強撹拌すれば充分である。その後、比重差を利用して反応槽最下部より上記酸化物および大半の不純物が分離除去され清浄化された該鉛フリーはんだ合金を溶融状態で鋳型等に取り出し、凝固させ、通常のはんだ付け装置に投入してはんだ接合すればよい。
上述の条件で製造した本発明の鉛フリーはんだ合金の物理的機械的及び化学的特性を調べると、以下の実施例(1〜3)に示した通り、現在広く使われている鉛フリーはんだ合金(比較例1〜3)に較べて、伸び、破断伸びが著しく向上していること、はんだ接合の際のはんだぬれ性も遥かによく、また溶融時の粘性も低く、微小部のはんだ接合に最適な鉛フリーはんだ合金であることが確認された。即ち、リード面積が0.08mmφ、隣接リード間隔が0.08mmの極狭ピッチにおいてもオーバーボリューム、およびブリッジオーバーして隣接リードにリークすることなく、また高低温ヒートサイクルに伴う微小はんだ接合部の疲労破断による電子回路の導通不良もなく、本発明鉛フリーはんだによる接合部の長期接続信頼性が優れていることがわかった。
実施例および比較例
比較例1
銀2.5重量%、銅0.5重量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金
比較例2
銀2.5重量%、銅0.5重量%、ニッケル0.01重量%、ゲルマニウム0.005重量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金
比較例3
亜鉛8.0重量%、ニッケル0.05重量%、銀1.0重量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金
上記比較例1と同じ組成の、銀2.5重量%、銅0.5重量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金を予め溶融させておき、ステアリン酸50重量%と残部エステル合成からなる液温260℃の溶液中に少量ずる滴下しながら上下2段に設置されたステンレスインペラー付回転式撹拌機で激しく撹拌しながら、30分後に処理槽の最下部から還元清浄化された該鉛フリーはんだを取り出し、評価試験に供した。
上記比較例2と同じ組成の、銀2.5重量%、銅0.5重量%、ニッケル0.01重量%、ゲルマニウム0.005重量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金を予め溶融させておき、パルミチン酸40重量%と残部エステル合成からなる液温255℃の溶液中に少量ずる滴下しながら上下2段に設置されたステンレスインペラー付回転式撹拌機で激しく撹拌しながら、60分後に処理槽の最下部から還元清浄化された該鉛フリーはんだを取り出し、評価試験に供した。
上記比較例3と同じ組成の、亜鉛8.0重量%、ニッケル0.05重量%、銀1.0重量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金を予め溶融させておき、パルミチン酸40重量%とステアリン酸20重量%と残部エステル合成からなる液温280℃の溶液中に少量ずる滴下しながら上下2段に設置されたステンレスインペラー付回転式撹拌機で激しく撹拌しながら、20分後に処理槽の最下部から還元清浄化された該鉛フリーはんだを取り出し、評価試験に供した。
物理的機械的評価方法は、上記比較例1〜3及び実施例1〜3の各鉛フリーはんだ合金をステンレス(SUS 304)製鋳造金型(JIS 6号)を用い、評点間距離 L=50mm、直径 8mmφ、チャッキング部長さ L=20mm、直径 10mmφの試験片を作成し、JIS Z 4421)の試験方法により島津製作所製引張り試験機(AG100型)を用い、室温25℃において、それぞれ繰返し3(n=3)で、荷重負荷速度 5mm/minで試験測定した。
また、化学的物性評価方法は、上記比較例1〜3及び実施例1〜3の各鉛フリーはんだ合金をメニスコグラフによるはんだ濡れ性試験方法によりそれぞれ繰返し5(n=5)でゼロクロス時間を測定した。その際、測定ピンは0.4mmφの純銅線を使用した。
その結果は下記[表1]の通り、実施例の清浄化鉛フリーはんだ合金では比較例に較べて物理的機械的特性のうち特に伸びが1.5倍以上大きく、破断し難いことを示唆している。また、はんだ濡れ性でも圧倒的に濡れ易く、溶融状態における粘性、即ち、さらさら感も従来のはんだ合金にない低粘性を保有している。これは、凝固後のはんだ内部結晶組織で見ると、本発明の鉛フリーはんだ合金の場合(実施例1)は結晶粒界が小さい([図1])のに対して、同じ組成で本発明の処理をしていない鉛フリーはんだ合金の場合(比較例2)は柱状結晶の長さが長いことが知見された([図2])。また、伸びの大きさに対して実施例の引張強度は比較例と大差なく、従って、靭性も強靭で長期ヒートサイクル試験での膨張収縮による疲労破壊も生じ難いことが確認された。
Figure 2009197315
産業上の利用の可能性
以上の通り、本発明の技術は明らかに従来の鉛フリーはんだ合金にない高い伸びと強靭性、特に微小面積接合部の繰返しヒートサイクル疲労による接合破断リスクが小さく従って微細化する電子機器のはんだ接合の長期高信頼性確保を可能にする鉛フリーはんだ合金として工業的に価値が高い技術である。
本発明の鉛フリーはんだ合金(実施例2)の内部断面結晶組織事例 従来の鉛フリーはんだ合金(比較例2)の内部断面結晶組織事例
本発明は、半導体パッケージ、電子素子等の実装部材をプリント回路板に回路形成を目的として鉛フリーはんだを用いてはんだ接合する際に、プリント回路板の銅ランドと半導体パッケージ、電子素子等リード端子との間にはんだを介してはんだ接合させる鉛フリーはんだ合金、および該はんだを使用してはんだ接合した半導体装置に関するもので、更に詳しく言えば、現行の鉛フリーはんだ合金よりも物理的機械的物性として遥かに柔軟で伸び、靭性に富み、溶融状態での粘性が低く、ぬれ広がり性が良くて、オーバーボリュームになり難く、狭間隔で隣接するリードへブリッジリークし難く、かつ、はんだ接合した微小接合部の接合信頼性が高いはんだ接合を可能にする鉛フリーはんだ合金、また本発明の該鉛フリーはんだ合金を用いてはんだ接合した半導体装置、及び技術の提供に関するものである。
近年、電子機器はますます高信頼性化と小型軽量化が要求され、トランジスタ、ダイオード、IC、抵抗器、コンデンサーなどの電子素子、コネクターなどの電子部品をプリント回路板にはんだ接合して搭載して電子回路を形成させ、半導体装置や電子装置として広く使用されているが、これら電子素子、電子部品の小型微小化に伴いはんだ接合部も微細化され、ますます高品質信頼性が要求されている。とりわけプリント回路板と電子素子部品間の微小はんだ接合品質には極めて厳しい信頼性が要求されている。
このため、はんだ接合に使用するはんだ合金側にもはんだ接合強度、とりわけ電子素子、電子部品のリードの接合面積およびピッチの微小化に伴うはんだ接合部の高信頼性が要求されている。
また一方では、近年、環境汚染ならびに人体に対する有害性の問題で鉛の使用禁止または規制化が進み、特に電子部品分野においては鉛を含有しない所謂「鉛フリーはんだ合金」がはんだ付け加工に広く使用されており、特に、錫・銀・銅系はんだ合金、及びそれにアンチモンを添加したはんだ合金(特許文献1)、錫・銀・銅系はんだ合金にニッケルまたはゲルマニウムなどを添加したはんだ合金(特許文献2)などが提案され、実用化されている。このほかにも、錫・亜鉛・ニッケル系はんだ合金及び更に銀、銅、ビスマスなどを添加したはんだ合金(特許文献3)など数多くの各種はんだ合金が提案されている。
しかしながら、これらの鉛フリーはんだ合金は溶融時のぬれ性が良くないため、はんだ接合部面積が微細になると、接合部に必要以上の容量ではんだが盛り上がる所謂「オーバーボリューム」やリード間ピッチが狭小の回路では隣接リードにブリッジオーバーしてリークを生じやすい難点があるばかりか、凝固時のはんだの物理的機械的特性の1つである伸びが小さいために通電on−offに伴う繰返しヒートサイクルによるはんだ接合部の疲労破断による導通不良など生じやすく、微小化した電子機器の接続信頼性を損なうことも多い。
特開平5−50286(特許3027441) 特開平11−77366(特許3296289) 特開平9−94688(特許3299091)
本発明は、現在、実用化されている鉛フリーはんだ合金における微小リード・極狭リードピッチ回路の微小部はんだ接合時の難点である上記オーバーボリュームの問題、ブリッジオーバーによる隣接リードとのリークの問題、更には該はんだ接合部の繰返しヒートサイクルによる経時劣化的疲労破断による導通不良の問題を解決することを目的とし、微小電子部品の微細接合部の接合信頼性を飛躍的に向上させる鉛フリーはんだ合金、およびそれを使用することにより微小部のはんだ接合信頼性を飛躍的に向上させた半導体装置を提供するものである。
本発明は、炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80質量%を含有する油からなる液温180〜300℃の溶液中に、現在、広く実用されている通常の鉛フリーはんだ合金、即ち、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理し、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去することにより、従来にない物性を持ったぬれ広がり性が良くて、はんだの物理的機械的物性として柔軟で伸び、靭性に優れ、それを用いてはんだ接合した接合部、特に微細接合部の接合信頼性が高いはんだ接合を可能にするはんだ合金、及びそれを使用することにより微小部のはんだ接合信頼性を飛躍的に向上させた半導体装置、及びその技術の提供に関するものである。
更に詳しく言えば、本発明で用いる有機脂肪酸は炭素数12以下でも使用可能ではあるが吸水性があり、高温で使用する関係からあまり好ましくない。また、炭素数21以上の有機脂肪酸では融点が高いこと及び浸透性が悪くまた取扱いし難く処理後の該鉛フリーはんだ合金の防錆効果も不充分になる。望ましくは炭素数16のパルミチン酸、炭素数18のステアリン酸が最適であり、そのいずれか1種を10〜70質量%と残部エステル合成油からなる液温180〜300℃の溶液を用いることにより、該鉛フリーはんだ合金内部に存在する酸化物や不純金属を除去し、従来にない物理的機械的化学的物性、特に、柔軟で伸び、靭性に富み、溶融時の粘性が低く(見た目の感覚でも従来の鉛フリーはんだと比較して明らかに「さらさら」感がある)、はんだぬれ性のよい優れた清浄な鉛フリーはんだ合金が得られる。
該有機脂肪酸濃度については10質量%以下でも効果はあるが、補充管理など煩雑なこと、また70質量%以上では液粘度も高くなり、該鉛フリーはんだ合金との撹拌抵抗及び混合浸透性に問題を生じるため、好ましくは10〜70質量%である。液温は使用する鉛フリーはんだ合金の融点で決まり、少なくとも該融点以上の高温領域で有機脂肪酸溶液と溶融した該鉛フリーはんだを激しく撹拌接触させる必要がある。
また上限温度は発煙の問題や省エネの観点から300℃程度であり、望ましくは使用する鉛フリーはんだの融点以上の温度〜270℃である。また、エステル合成油を混合する理由は液粘度を下げて均一な撹拌処理を行うこと及び有機脂肪酸の高温発煙性抑制にあり、その濃度は有機脂肪酸濃度で決まる。
撹拌方法は、加熱装置のついたステンレス容器に上記有機脂肪酸とエステル合成油を入れて所定の温度に加温しながら通常のバッチ式ステンレス製インペラ撹拌子などを用いて撹拌して均一に溶液化させ、その中に予め別槽で溶融させた該鉛フリーはんだ合金液を少量ずつ激しく撹拌しながら注入すればよい。撹拌はスタティックミキサーを使うと短時間で該鉛フリーはんだ中の酸化物および不純物の除去が効率的に出来る。
鉛フリーはんだ合金の種類は、実際に錫・銀・銅系とそれにニッケル、ゲルマニウムを添加した市販の合金、及び錫・亜鉛系合金にニッケル、銀を添加した合金を中心に上記本発明の有機脂肪酸とエステル合成汕で浸漬撹拌処理を実施しその効果を検証したが、これ以外の鉛フリーはんだ合金に該本発明処理を適用すれば同様の効果が得られるものと類推される。
上記の炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80量%と残部エステル合成からなる液温180(使用する鉛はんだ合金材料の融点以上の温度)〜300℃の溶液中に、現在、広く実用されている通常の鉛フリーはんだ合金、即ち、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を注入し浸漬撹拌処理すると、該溶融鉛フリーはんだ合金中に存在する錫酸化物、銅酸化物、銀酸化物、あるいはその他の添加金属の酸化物および微量混入している鉄、鉛、珪素、カリウムなどの酸化不純物が有機脂肪酸のカルボニル基と反応して取り込まれケン化物となり、該鉛フリーはんだ合金内部から分離除去される。
撹拌時間は該鉛フリーはんだ合金の投入量および撹拌機の構造および撹拌条件にもよるが、一般的には10〜60分間程度強撹拌すれば充分である。その後、比重差を利用して反応槽最下部より上記酸化物および大半の不純物が分離除去され清浄化された該鉛フリーはんだ合金を溶融状態で鋳型等に取り出し、凝固させ、通常のはんだ付け装置に投入してはんだ接合すればよい。
上述の条件で製造した本発明の鉛フリーはんだ合金の物理的機械的及び化学的特性を調べると、以下の実施例(1〜3)に示した通り、現在広く使われている鉛フリーはんだ合金(比較例1〜3)に較べて、伸び、破断伸びが著しく向上していること、はんだ接合の際のはんだぬれ性も遥かによく、また溶融時の粘性も低く、微小部のはんだ接合に最適な鉛フリーはんだ合金であることが確認された。即ち、リード面積が0.08mmφ、隣接リード間隔が0.08mmの極狭ピッチにおいてもオーバーボリューム、およびブリッジオーバーして隣接リードにリークすることなく、また高低温ヒートサイクルに伴う微小はんだ接合部の疲労破断による電子回路の導通不良もなく、本発明鉛フリーはんだによる接合部の長期接続信頼性が優れていることがわかった。
実施例および比較例
比較例1
銀2.5質量%、銅0.5質量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金
比較例2
銀2.5質量%、銅0.5質量%、ニッケル0.01質量%、ゲルマニウム0.005質量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金
比較例3
亜鉛8.0質量%、ニッケル0.05質量%、銀1.0質量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金
上記比較例1と同じ組成の、銀2.5質量%、銅0.5質量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金を予め溶融させておき、ステアリン酸50質量%と残部エステル合成からなる液温260℃の溶液中に少量ずる滴下しながら上下2段に設置されたステンレスインペラー付回転式撹拌機で激しく撹拌しながら、30分後に処理槽の最下部から還元清浄化された該鉛フリーはんだを取り出し、評価試験に供した。
上記比較例2と同じ組成の、銀2.5質量%、銅0.5質量%、ニッケル0.01質量%、ゲルマニウム0.005質量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金を予め溶融させておき、パルミチン酸40質量%と残部エステル合成からなる液温255℃の溶液中に少量ずる滴下しながら上下2段に設置されたステンレスインペラー付回転式撹拌機で激しく撹拌しながら、60分後に処理槽の最下部から還元清浄化された該鉛フリーはんだを取り出し、評価試験に供した。
上記比較例3と同じ組成の、亜鉛8.0質量%、ニッケル0.05質量%、銀1.0質量%、残部錫からなる鉛フリーはんだ合金を予め溶融させておき、パルミチン酸40重量%とステアリン酸20質量%と残部エステル合成からなる液温280℃の溶液中に少量ずる滴下しながら上下2段に設置されたステンレスインペラー付回転式撹拌機で激しく撹拌しながら、20分後に処理槽の最下部から還元清浄化された該鉛フリーはんだを取り出し、評価試験に供した。
物理的機械的評価方法は、上記比較例1〜3及び実施例1〜3の各鉛フリーはんだ合金をステンレス(SUS 304)製鋳造金型(JIS 6号)を用い、評点間距離 L=50mm、直径 8mmφ、チャッキング部長さ L=20mm、直径 10mmφの試験片を作成し、JIS Z 4421)の試験方法により島津製作所製引張り試験機(AG100型)を用い、室温25℃において、それぞれ繰返し3(n=3)で、荷重負荷速度 5mm/minで試験測定した。
また、化学的物性評価方法は、上記比較例1〜3及び実施例1〜3の各鉛フリーはんだ合金をメニスコグラフによるはんだ濡れ性試験方法によりそれぞれ繰返し5(n=5)でゼロクロス時間を測定した。その際、測定ピンは0.4mmφの純銅線を使用した。
その結果は下記[表1]の通り、実施例の清浄化鉛フリーはんだ合金では比較例に較べて物理的機械的特性のうち特に伸びが1.5倍以上大きく、破断し難いことを示唆している。また、はんだ濡れ性でも圧倒的に濡れ易く、溶融状態における粘性、即ち、さらさら感も従来のはんだ合金にない低粘性を保有している。これは、凝固後のはんだ内部結晶組織で見ると、本発明の鉛フリーはんだ合金の場合(実施例1)は結晶粒界が小さい([図1])のに対して、同じ組成で本発明の処理をしていない鉛フリーはんだ合金の場合(比較例2)は柱状結晶の長さが長いことが知見された([図2])。また、伸びの大きさに対して実施例の引張強度は比較例と大差なく、従って、靭性も強靭で長期ヒートサイクル試験での膨張収縮による疲労破壊も生じ難いことが確認された。
Figure 2009197315
産業上の利用の可能性
以上の通り、本発明の技術は明らかに従来の鉛フリーはんだ合金にない高い伸びと強靭性、特に微小面積接合部の繰返しヒートサイクル疲労による接合破断リスクが小さく従って微細化する電子機器のはんだ接合の長期高信頼性確保を可能にする鉛フリーはんだ合金として工業的に価値が高い技術である。
本発明の鉛フリーはんだ合金(実施例2)の内部断面結晶組織事例 従来の鉛フリーはんだ合金(比較例2)の内部断面結晶組織事例

Claims (4)

  1. プリント回路板を炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80重量%を含有する油からなる液温180〜300℃の溶液中に、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理することにより、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去した電子部品用鉛フリーはんだ合金。
  2. 前記請求項1における有機脂肪酸としてパルミチン酸、ステアリン酸のいずれか1種を10〜70重量%と残部エステル合成油からなる液温180〜300℃の溶液に、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理することにより、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去した電子部品用鉛フリーはんだ合金。
  3. プリント回路板を炭素数が13〜20の有機脂肪酸5〜80重量%を含有する油からなる液温180〜300℃の溶液中に、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理することにより、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去した電子部品用鉛フリーはんだ合金を使用してはんだ接合した半導体装置。
  4. 前記請求項1における有機脂肪酸としてパルミチン酸、ステアリン酸のいずれか1種を10〜70重量%と残部エステル合成油からなる液温180〜300℃の溶液に、錫を主成分としこれに銀、銅、亜鉛、ビスマス、アンチモン、ニッケル、ゲルマニウムのいずれか1種以上の金属を添加した溶融鉛フリーはんだ合金を浸漬し撹拌処理することにより、該鉛フリーはんだ中の酸化物及び不純物を除去した電子部品用鉛フリーはんだ合金を使用してはんだ接合した半導体装置。
JP2008072364A 2008-02-22 2008-02-22 鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法 Active JP4375485B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008072364A JP4375485B2 (ja) 2008-02-22 2008-02-22 鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法
PCT/JP2008/066018 WO2009104294A1 (ja) 2008-02-22 2008-08-29 鉛フリーはんだ合金および半導体装置
PCT/JP2008/073145 WO2009104338A1 (ja) 2008-02-22 2008-12-12 鍚、はんだ合金および半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008072364A JP4375485B2 (ja) 2008-02-22 2008-02-22 鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009197315A true JP2009197315A (ja) 2009-09-03
JP4375485B2 JP4375485B2 (ja) 2009-12-02

Family

ID=40985189

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008072364A Active JP4375485B2 (ja) 2008-02-22 2008-02-22 鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP4375485B2 (ja)
WO (2) WO2009104294A1 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104246996A (zh) * 2012-04-17 2014-12-24 株式会社谷黑组 焊料凸块及其形成方法、以及具备有焊料凸块的基板及其制造方法
TWI643960B (zh) * 2017-06-09 2018-12-11 昇貿科技股份有限公司 無鉛錫合金及使用其之鍍錫銅線
WO2020209330A1 (ja) * 2019-04-09 2020-10-15 石川技研株式会社 はんだ製品の製造方法、はんだ、はんだ付け部品、はんだ製品、プリント配線板、プリント回路板、線材、はんだ付け製品、フレキシブルプリント基板、電子部品、錫成形品の製造方法、錫中間製品の製造方法、錫成形品、錫中間製品および導電部材
JP2021164947A (ja) * 2020-04-08 2021-10-14 石川技研株式会社 はんだ製品、はんだ製品の製造方法、プリント配線板、プリント回路板、線材、はんだ付け製品、フレキシブルプリント基板および電子部品
TWI799696B (zh) * 2020-03-12 2023-04-21 石川久雄 焊料製品之製造方法、焊料、焊接部件、焊料製品、印刷線路板、印刷電路板、線材、焊接製品、可撓印刷電路板、電子部件、錫成品之製造方法、錫半成品之製造方法、錫成品、錫半成品及導電構件

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20210205934A1 (en) * 2017-04-10 2021-07-08 Metallo Belgium Improved process for the production of crude solder
CN111009798B (zh) * 2019-12-20 2022-07-01 中国科学院电工研究所 一种多芯铁基超导接头及其制备方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5040103B1 (ja) * 1969-10-08 1975-12-22
JP2555715B2 (ja) * 1988-10-26 1996-11-20 三菱マテリアル株式会社 はんだ合金微粉末の製造方法
JP3090733B2 (ja) * 1991-09-04 2000-09-25 ソニー株式会社 噴流半田槽
JP2001320162A (ja) * 1998-02-27 2001-11-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd はんだ回収装置と酸化物の除去方法
BRPI0509932A (pt) * 2004-04-16 2007-09-25 P Kay Metal Inc processo de soldagem
DE102004038280B4 (de) * 2004-08-03 2006-07-27 W.C. Heraeus Gmbh Verfahren zum Herstellen von Feinstlotpulvern

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN104246996A (zh) * 2012-04-17 2014-12-24 株式会社谷黑组 焊料凸块及其形成方法、以及具备有焊料凸块的基板及其制造方法
US20150115020A1 (en) * 2012-04-17 2015-04-30 Tanigurogumi Corporation Solder bump, method for forming a solder bump, substrate provided with solder bump, and method for manufacturing substrate
TWI569340B (zh) * 2012-04-17 2017-02-01 Tanigurogumi Corp Method for forming solder bump and method of manufacturing substrate
TWI643960B (zh) * 2017-06-09 2018-12-11 昇貿科技股份有限公司 無鉛錫合金及使用其之鍍錫銅線
CN113748221A (zh) * 2019-04-09 2021-12-03 石川技研株式会社 焊料产品的制造方法、焊料、焊接部件、焊料产品、印刷布线板、印刷电路板、线材、焊接产品、柔性印刷基板、电子部件、锡成型品的制造方法、锡中间产品的制造方法、锡成型品、锡中间产品和导电部件
WO2020209330A1 (ja) * 2019-04-09 2020-10-15 石川技研株式会社 はんだ製品の製造方法、はんだ、はんだ付け部品、はんだ製品、プリント配線板、プリント回路板、線材、はんだ付け製品、フレキシブルプリント基板、電子部品、錫成形品の製造方法、錫中間製品の製造方法、錫成形品、錫中間製品および導電部材
KR20210150453A (ko) * 2019-04-09 2021-12-10 이시카와 테크놀로지 라보라토리 컴퍼니 리미티드 땜납 제품의 제조 방법, 땜납, 납땜 부품, 땜납 제품, 프린트 배선판, 프린트 회로판, 선재, 납땜 제품, 플렉시블 프린트 기판, 전자 부품, 주석 성형품의 제조 방법, 주석 중간제품의 제조 방법, 주석 성형품, 주석 중간제품 및 도전부재
KR102561654B1 (ko) * 2019-04-09 2023-07-31 이시카와 테크놀로지 라보라토리 컴퍼니 리미티드 땜납 제품의 제조 방법, 땜납, 납땜 부품, 땜납 제품, 프린트 배선판, 프린트 회로판, 선재, 납땜 제품, 플렉시블 프린트 기판, 전자 부품, 주석 성형품의 제조 방법, 주석 중간제품의 제조 방법, 주석 성형품, 주석 중간제품 및 도전부재
US11802322B2 (en) 2019-04-09 2023-10-31 Ishikawa Technology Laboratory Co., Ltd. Method for manufacturing solder product, solder, soldered component, printed wiring board, printed circuit board, wire, soldered product, flexible printed board, electronic component, method for manufacturing tin article, method for manufacturing tin intermediate product, tin intermediate product, and conductive member
TWI799696B (zh) * 2020-03-12 2023-04-21 石川久雄 焊料製品之製造方法、焊料、焊接部件、焊料製品、印刷線路板、印刷電路板、線材、焊接製品、可撓印刷電路板、電子部件、錫成品之製造方法、錫半成品之製造方法、錫成品、錫半成品及導電構件
JP2021164947A (ja) * 2020-04-08 2021-10-14 石川技研株式会社 はんだ製品、はんだ製品の製造方法、プリント配線板、プリント回路板、線材、はんだ付け製品、フレキシブルプリント基板および電子部品
JP7026907B2 (ja) 2020-04-08 2022-03-01 石川技研株式会社 はんだ製品の製造方法、プリント回路板、線材、フレキシブルプリント基板および電子部品
JP7500013B2 (ja) 2020-04-08 2024-06-17 石川技研株式会社 プリント配線板

Also Published As

Publication number Publication date
JP4375485B2 (ja) 2009-12-02
WO2009104294A1 (ja) 2009-08-27
WO2009104338A1 (ja) 2009-08-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4375485B2 (ja) 鉛フリーはんだ合金の製造方法及び半導体装置の製造方法
TWI583800B (zh) Solder alloy, solder paste and electronic circuit substrate
EP0985486B1 (en) Leadless solder
WO2010089905A1 (ja) 電子部品用錫またははんだ合金の製造方法、製造装置、及びはんだ合金
JP6804126B1 (ja) 鉛フリーはんだ合金及びはんだ接合部
JP4375491B1 (ja) 電子部品のはんだ付け装置およびはんだ付け方法
JP2010029868A (ja) 無鉛はんだペースト、それを用いた電子回路基板及びその製造方法
JP2011114334A (ja) はんだ皮膜の形成方法及びその装置
JP6708942B1 (ja) はんだ合金、はんだペースト、プリフォームはんだ、はんだボール、線はんだ、脂入りはんだ、はんだ継手、電子回路基板および多層電子回路基板
KR100904651B1 (ko) 웨이브 및 디핑용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및 인쇄회로기판
KR100904652B1 (ko) 웨이브 및 디핑용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및 인쇄회로기판
JP5387808B1 (ja) はんだ合金
KR100904657B1 (ko) 웨이브 및 디핑용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및 인쇄회로기판
Sorokina et al. Influence of No-Clean Flux on the Corrosivity of Various Surface Finishes After Reflow
JP4485604B1 (ja) 電子部品用錫またははんだ合金の製造方法、製造装置、及びはんだ合金
CN115927908A (zh) 软钎料合金和钎焊接头
KR20070082068A (ko) 희석용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및인쇄회로기판
JP6231250B1 (ja) 洗浄剤組成物および洗浄方法
KR100903026B1 (ko) 솔더링용 무연합금
KR100904654B1 (ko) 웨이브 및 디핑용 무연 솔더 조성물과 이를 이용한 전자기기 및 인쇄회로기판
Li et al. Effect of activators and surfactants in halogen-free fluxes on wettability of Sn-0.7 Cu-0.05 Ni solder on Cu substrate
JP2012192434A (ja) フラックス、はんだペースト及び実装基板の製造方法
JPH0951158A (ja) 電子部品の端子処理方法と接続端子
JP2007105798A (ja) はんだ接合部を有する電気・電子機器
JP2009302568A (ja) 半導体装置の製造方法および電子機器の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090616

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090701

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090825

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090831

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4375485

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120918

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130918

Year of fee payment: 4

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250