JP2009195349A - X線撮像装置、及び、これに用いるx線源 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】X線源10は、基板11と、複数のストライプ部12とを備える。複数のストライプ部12は、基板11の表面上に配置されている。かつ、複数のストライプ部12は、互いに間隔を置いて配置されている。さらに、複数のストライプ部の配置間隔dsは、ほぼ一定とされている。基板11又はストライプ部12のうちのいずれか一方は、励起ビームの照射によって必要量のX線を発生する金属とされている。
【選択図】図1
Description
X線源と、励起ビーム源と、第一格子と、第二格子と、X線画像検出器とを備えており、
前記X線源は、基板と、複数のストライプ部とを備えており、
前記複数のストライプ部は、前記基板の表面上に配置されており、
かつ、前記複数のストライプ部は、互いに間隔を置いて配置されており、
さらに、前記複数のストライプ部の配置間隔は、ほぼ一定とされており、
前記基板又は前記ストライプ部のうちのいずれか一方は、前記ビーム源からの励起ビームの照射によって必要量のX線を発生する材質とされており、
前記励起ビーム源は、前記基板の表面へ前記励起ビームを照射する構成となっており、
前記第一格子は、前記X線源から発生したX線を回折する構成となっており、
前記第二格子は、前記第一格子で回折したX線を回折する構成となっており、
前記X線画像検出器は、前記第二格子で回折したX線を検出する構成となっている
ことを特徴とするX線撮像装置。
前記基板は、回転軸を中心として回転可能とされており、
さらに、前記基板の表面は、前記回転軸に対して回転対称となる形状とされており、
前記ストライプ部は、前記基板の表面上において、前記基板の回転方向にほぼ沿う方向に延長されている
ことを特徴とする項目1に記載のX線撮像装置。
前記複数のストライプ部前記第一格子の表面上への射影が、前記第一格子を構成する格子部材とほぼ平行となるように配置された
ことを特徴とする項目1又は2に記載のX線撮像装置。
X線撮像装置に用いられるX線源であって、
前記X線源は、基板と、複数のストライプ部とを備えており、
前記複数のストライプ部は、前記基板の表面上に配置されており、
かつ、前記複数のストライプ部は、互いに間隔を置いて配置されており、
さらに、前記複数のストライプ部の配置間隔は、ほぼ一定とされており、
前記基板又は前記ストライプ部のうちのいずれか一方は、励起ビームの照射によって必要量のX線を発生する材質とされている
ことを特徴とするX線源。
項目1〜3のいずれか1項に記載したX線撮像装置を用いたX線撮像方法であって、以下のステップを含む:
(1)前記励起ビーム源から前記基板の表面へ励起ビームを照射することによって、前記X線源からX線を発生させるステップ;
(2)前記第一格子が、前記ターゲットから発生したX線を回折するステップ;
(3)前記第二格子が、前記第一格子で回折したX線を回折するステップ、
(4)前記X線画像検出器が、前記第二格子で回折したX線を検出するステップ。
まず、第1実施形態に係るX線源の構成を説明する。このX線源10(図1参照)は、X線撮像装置に用いられるものである。
本実施形態に係るX線源の動作を以下に説明する。まず、励起ビーム源(電子源)20から発生した電子線を、X線源10の表面に向けて照射する。この照射は従来の技術と同様である。
つぎに、本発明の第2実施形態に係るX線源210を、図3に基づいて説明する。この第2実施形態の説明においては、第1実施形態と同様の構成については、同一の符号を用いることにより、説明を簡略化する。
本実施形態に係るX線源の動作を以下に説明する。まず、励起ビーム源(電子源)20から発生した電子線を、X線源210の表面に向けて照射する。
つぎに、本発明の第3実施形態に係るX線源310を、図4に基づいて説明する。この第3実施形態の説明においては、第1実施形態と同様の構成については、同一の符号を用いることにより、説明を簡略化する。
本実施形態に係るX線源の動作を以下に説明する。まず、励起ビーム源(電子源)20から発生した電子線2を、X線源310の表面に向けて照射する。
次に、第4実施形態として、前記したいずれかの実施形態に係るX線源を用いたX線撮像装置を説明する。以下においては、第1実施形態で説明したX線源10の使用を前提とするが、他の形態のX線源を使用することもできる。
以下、X線撮像装置の詳しい実施例を説明する(図5及び図6参照)。第1格子30は、X線源10から所定の距離R1だけ隔てて配置される。第1格子30からさらに距離R2を隔てて、第2格子40を配置する。被写体(被試験体)60は、第1格子30の直前に置くのが一般的である。しかし、原理的には、X線源10と第2格子40との間に被写体60があればよい。画像検出器50は第2格子40のすぐ背後に設置する。
である。mは、第1格子30が位相格子である場合は半整数、吸収格子である場合は整数である。ただし、実際のR2は、この条件で与えられる値に対して数%の誤差で近ければ問題ない。ここまではタルボ干渉計としての構成例である。
を満たしていればよい。nは正の整数である。ここで、周期dmは、ライン状のX線における「見かけの周期」と言うことができる。
の関係を満たす。ここで、θは、X線を取り出す方向の中心軸lと基板11の表面とが成す角度である。従来の技術では、X線の取り出し方向角θを小さく選ぶことにより、実効的なX線の輝度を増す方法が知られている。ここで、本実施形態によれば、ストライプ部12のパターンを1/sinθ倍だけ大きく形成してもよいことになる。したがって、本実施形態によれば、ストライプ部12を形成する際の寸法精度の要求が軽減されるという利点もある。
10・210・310 X線源
11・211・311 基板
12・211・311 ストライプ部
20 励起ビーム源(電子源)
30 第1格子
40 第2格子
50 X線画像検出器
60 被写体
70 X線取り出し窓
l X線を取り出す方向の中心軸
p 基板の回転軸
ds ストライプ部のピッチ
Claims (5)
- X線源と、励起ビーム源と、第一格子と、第二格子と、X線画像検出器とを備えており、
前記X線源は、基板と、複数のストライプ部とを備えており、
前記複数のストライプ部は、前記基板の表面上に配置されており、
かつ、前記複数のストライプ部は、互いに間隔を置いて配置されており、
さらに、前記複数のストライプ部の配置間隔は、ほぼ一定とされており、
前記基板又は前記ストライプ部のうちのいずれか一方は、前記励起ビーム源からの励起ビームの照射によって必要量のX線を発生する材質とされており、
前記励起ビーム源は、前記基板の表面へ前記励起ビームを照射する構成となっており、
前記第一格子は、前記X線源から発生したX線を回折する構成となっており、
前記第二格子は、前記第一格子で回折したX線を回折する構成となっており、
前記X線画像検出器は、前記第二格子で回折したX線を検出する構成となっている
ことを特徴とするX線撮像装置。 - 前記基板は、回転軸を中心として回転可能とされており、
さらに、前記基板の表面は、前記回転軸に対して回転対称となる形状とされており、
前記ストライプ部は、前記基板の表面上において、前記基板の回転方向にほぼ沿う方向に延長されている
ことを特徴とする請求項1に記載のX線撮像装置。 - 前記複数のストライプ部から前記第一格子の表面上への射影が、前記第一格子を構成する格子部材とほぼ平行となるように配置された
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線撮像装置。 - X線撮像装置に用いられるX線源であって、
前記X線源は、基板と、複数のストライプ部とを備えており、
前記複数のストライプ部は、前記基板の表面上に配置されており、
かつ、前記複数のストライプ部は、互いに間隔を置いて配置されており、
さらに、前記複数のストライプ部の配置間隔は、ほぼ一定とされており、
前記基板又は前記ストライプ部のうちのいずれか一方は、励起ビームの照射によって必要量のX線を発生する材質とされている
ことを特徴とするX線源。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載したX線撮像装置を用いたX線撮像方法であって、以下のステップを含む:
(1)前記励起ビーム源から前記基板の表面へ励起ビームを照射することによって、前記X線源からX線を発生させるステップ;
(2)前記第一格子が、前記ターゲットから発生したX線を回折するステップ;
(3)前記第二格子が、前記第一格子で回折したX線を回折するステップ、
(4)前記X線画像検出器が、前記第二格子で回折したX線を検出するステップ。
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Cited By (32)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010063646A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
WO2010109909A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 株式会社リガク | X線発生装置とそれを用いた検査装置 |
WO2010109912A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲットと、その加工方法 |
JP2010236986A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
JP2015047306A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 国立大学法人大阪大学 | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
JP2017514583A (ja) * | 2014-05-01 | 2017-06-08 | シグレイ、インコーポレイテッド | X線干渉イメージングシステム |
US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
US10349908B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
WO2019171920A1 (ja) * | 2018-03-06 | 2019-09-12 | 国立大学法人東北大学 | 放射線位相撮像装置 |
US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
US10658145B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
US10732132B2 (en) | 2016-03-14 | 2020-08-04 | Shimadzu Corporation | Radiation phase contrast imaging device |
US10845491B2 (en) | 2018-06-04 | 2020-11-24 | Sigray, Inc. | Energy-resolving x-ray detection system |
US10962491B2 (en) | 2018-09-04 | 2021-03-30 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray fluorescence with filtering |
US10976273B2 (en) | 2013-09-19 | 2021-04-13 | Sigray, Inc. | X-ray spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US11056308B2 (en) | 2018-09-07 | 2021-07-06 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
US11143605B2 (en) | 2019-09-03 | 2021-10-12 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
US11152183B2 (en) | 2019-07-15 | 2021-10-19 | Sigray, Inc. | X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
US11215572B2 (en) | 2020-05-18 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and a plurality of detector elements |
US11549895B2 (en) | 2020-09-17 | 2023-01-10 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
US11686692B2 (en) | 2020-12-07 | 2023-06-27 | Sigray, Inc. | High throughput 3D x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9031201B2 (en) | 2010-07-05 | 2015-05-12 | Canon Kabushiki Kaisha | X-ray source, X-ray imaging apparatus, and X-ray computed tomography imaging system |
WO2015078690A1 (en) | 2013-11-28 | 2015-06-04 | Koninklijke Philips N.V. | Talbot effect based nearfield diffraction for spectral filtering |
CN107106101B (zh) | 2014-12-22 | 2020-04-24 | 株式会社岛津制作所 | 放射线相位差摄影装置 |
JP2018128579A (ja) | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 株式会社島津製作所 | 回折格子の製造方法 |
US10441234B2 (en) | 2017-06-15 | 2019-10-15 | Shimadzu Corporation | Radiation-phase-contrast imaging device |
JP6838531B2 (ja) * | 2017-09-06 | 2021-03-03 | 株式会社島津製作所 | 放射線位相差撮影装置 |
US11175241B2 (en) | 2018-01-12 | 2021-11-16 | Shimadzu Corporation | X-ray phase image capturing system |
JP7200816B2 (ja) | 2019-04-22 | 2023-01-10 | 株式会社島津製作所 | X線位相イメージング装置およびx線位相コントラスト画像生成方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60103940A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-08 | 株式会社東芝 | X線撮影装置 |
JPH0498300U (ja) * | 1990-08-20 | 1992-08-25 | ||
JP2005142160A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | 複数ターゲット式陽極組立体及びその作動システム |
JP2005158474A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Rigaku Corp | X線管 |
EP1731099A1 (en) * | 2005-06-06 | 2006-12-13 | Paul Scherrer Institut | Interferometer for quantitative phase contrast imaging and tomography with an incoherent polychromatic x-ray source |
WO2007008530A1 (en) * | 2005-07-08 | 2007-01-18 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Backprojection reconstruction method for ct imaging |
JP2007206075A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | X線装置の焦点−検出器装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007125833A1 (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | The University Of Tokyo | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
-
2008
- 2008-02-20 JP JP2008038181A patent/JP5158699B2/ja active Active
-
2009
- 2009-02-16 WO PCT/JP2009/052555 patent/WO2009104560A1/ja active Application Filing
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60103940A (ja) * | 1983-11-11 | 1985-06-08 | 株式会社東芝 | X線撮影装置 |
JPH0498300U (ja) * | 1990-08-20 | 1992-08-25 | ||
JP2005142160A (ja) * | 2003-11-07 | 2005-06-02 | Ge Medical Systems Global Technology Co Llc | 複数ターゲット式陽極組立体及びその作動システム |
JP2005158474A (ja) * | 2003-11-26 | 2005-06-16 | Rigaku Corp | X線管 |
EP1731099A1 (en) * | 2005-06-06 | 2006-12-13 | Paul Scherrer Institut | Interferometer for quantitative phase contrast imaging and tomography with an incoherent polychromatic x-ray source |
WO2007008530A1 (en) * | 2005-07-08 | 2007-01-18 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Backprojection reconstruction method for ct imaging |
JP2007206075A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Siemens Ag | X線装置の焦点−検出器装置 |
Cited By (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010063646A (ja) * | 2008-09-11 | 2010-03-25 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
WO2010109909A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 株式会社リガク | X線発生装置とそれを用いた検査装置 |
WO2010109912A1 (ja) * | 2009-03-27 | 2010-09-30 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲットと、その加工方法 |
US8644451B2 (en) | 2009-03-27 | 2014-02-04 | Shozo Aoki | X-ray generating apparatus and inspection apparatus using the same therein |
JP5548188B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-07-16 | 株式会社リガク | X線発生装置とそれを用いた検査装置 |
JP5548189B2 (ja) * | 2009-03-27 | 2014-07-16 | 株式会社リガク | X線発生装置のターゲットと、その加工方法 |
JP2010236986A (ja) * | 2009-03-31 | 2010-10-21 | Fujifilm Corp | 放射線位相画像撮影装置 |
JP2015047306A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 国立大学法人大阪大学 | X線撮像装置及びx線撮像方法 |
US10297359B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | X-ray illumination system with multiple target microstructures |
US10416099B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-09-17 | Sigray, Inc. | Method of performing X-ray spectroscopy and X-ray absorption spectrometer system |
US10269528B2 (en) | 2013-09-19 | 2019-04-23 | Sigray, Inc. | Diverging X-ray sources using linear accumulation |
US10976273B2 (en) | 2013-09-19 | 2021-04-13 | Sigray, Inc. | X-ray spectrometer system |
USRE48612E1 (en) | 2013-10-31 | 2021-06-29 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10304580B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-05-28 | Sigray, Inc. | Talbot X-ray microscope |
US10349908B2 (en) | 2013-10-31 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | X-ray interferometric imaging system |
US10653376B2 (en) | 2013-10-31 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | X-ray imaging system |
JP2017514583A (ja) * | 2014-05-01 | 2017-06-08 | シグレイ、インコーポレイテッド | X線干渉イメージングシステム |
US10401309B2 (en) | 2014-05-15 | 2019-09-03 | Sigray, Inc. | X-ray techniques using structured illumination |
US10352880B2 (en) | 2015-04-29 | 2019-07-16 | Sigray, Inc. | Method and apparatus for x-ray microscopy |
US10295486B2 (en) | 2015-08-18 | 2019-05-21 | Sigray, Inc. | Detector for X-rays with high spatial and high spectral resolution |
US10732132B2 (en) | 2016-03-14 | 2020-08-04 | Shimadzu Corporation | Radiation phase contrast imaging device |
US10466185B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-11-05 | Sigray, Inc. | X-ray interrogation system using multiple x-ray beams |
US10247683B2 (en) | 2016-12-03 | 2019-04-02 | Sigray, Inc. | Material measurement techniques using multiple X-ray micro-beams |
WO2019171920A1 (ja) * | 2018-03-06 | 2019-09-12 | 国立大学法人東北大学 | 放射線位相撮像装置 |
JPWO2019171920A1 (ja) * | 2018-03-06 | 2020-10-22 | 国立大学法人東北大学 | 放射線位相撮像装置 |
US10578566B2 (en) | 2018-04-03 | 2020-03-03 | Sigray, Inc. | X-ray emission spectrometer system |
US10845491B2 (en) | 2018-06-04 | 2020-11-24 | Sigray, Inc. | Energy-resolving x-ray detection system |
US10989822B2 (en) | 2018-06-04 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | Wavelength dispersive x-ray spectrometer |
US10991538B2 (en) | 2018-07-26 | 2021-04-27 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
US10658145B2 (en) | 2018-07-26 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | High brightness x-ray reflection source |
US10656105B2 (en) | 2018-08-06 | 2020-05-19 | Sigray, Inc. | Talbot-lau x-ray source and interferometric system |
US10962491B2 (en) | 2018-09-04 | 2021-03-30 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray fluorescence with filtering |
US11056308B2 (en) | 2018-09-07 | 2021-07-06 | Sigray, Inc. | System and method for depth-selectable x-ray analysis |
US11152183B2 (en) | 2019-07-15 | 2021-10-19 | Sigray, Inc. | X-ray source with rotating anode at atmospheric pressure |
US11143605B2 (en) | 2019-09-03 | 2021-10-12 | Sigray, Inc. | System and method for computed laminography x-ray fluorescence imaging |
US11175243B1 (en) | 2020-02-06 | 2021-11-16 | Sigray, Inc. | X-ray dark-field in-line inspection for semiconductor samples |
US11215572B2 (en) | 2020-05-18 | 2022-01-04 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and a plurality of detector elements |
US11428651B2 (en) | 2020-05-18 | 2022-08-30 | Sigray, Inc. | System and method for x-ray absorption spectroscopy using a crystal analyzer and a plurality of detector elements |
US11549895B2 (en) | 2020-09-17 | 2023-01-10 | Sigray, Inc. | System and method using x-rays for depth-resolving metrology and analysis |
US11686692B2 (en) | 2020-12-07 | 2023-06-27 | Sigray, Inc. | High throughput 3D x-ray imaging system using a transmission x-ray source |
US11885755B2 (en) | 2022-05-02 | 2024-01-30 | Sigray, Inc. | X-ray sequential array wavelength dispersive spectrometer |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5158699B2 (ja) | 2013-03-06 |
WO2009104560A1 (ja) | 2009-08-27 |
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