JP2017514583A - X線干渉イメージングシステム - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 136
- LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H lead(2+);trioxido(oxo)-$l^{5}-arsane Chemical compound [Pb+2].[Pb+2].[Pb+2].[O-][As]([O-])([O-])=O.[O-][As]([O-])([O-])=O LFEUVBZXUFMACD-UHFFFAOYSA-H 0.000 claims abstract description 150
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 113
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims abstract description 68
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 146
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 56
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 32
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 25
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 23
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 20
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims description 19
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 18
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010432 diamond Substances 0.000 claims description 17
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 17
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 11
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 9
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 8
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 6
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 6
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 claims description 5
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 5
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011135 tin Substances 0.000 claims description 5
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011133 lead Substances 0.000 claims description 3
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 claims description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims description 2
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 2
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 claims description 2
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 abstract description 45
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 abstract description 14
- 230000009102 absorption Effects 0.000 description 74
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 74
- 238000000034 method Methods 0.000 description 38
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 32
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 28
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 27
- 230000008569 process Effects 0.000 description 23
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 22
- 241000699666 Mus <mouse, genus> Species 0.000 description 17
- 238000013461 design Methods 0.000 description 17
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 16
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 15
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 13
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 13
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 5
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 238000005305 interferometry Methods 0.000 description 5
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 5
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 5
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 5
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- 210000000988 bone and bone Anatomy 0.000 description 4
- XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M caesium iodide Chemical compound [I-].[Cs+] XQPRBTXUXXVTKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 3
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 3
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 210000000481 breast Anatomy 0.000 description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 3
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 3
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 3
- 230000005865 ionizing radiation Effects 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 3
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000011540 sensing material Substances 0.000 description 3
- 210000004872 soft tissue Anatomy 0.000 description 3
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 3
- 238000003325 tomography Methods 0.000 description 3
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000333 X-ray scattering Methods 0.000 description 2
- 231100000987 absorbed dose Toxicity 0.000 description 2
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 2
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 2
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003491 array Methods 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 201000010099 disease Diseases 0.000 description 2
- 208000037265 diseases, disorders, signs and symptoms Diseases 0.000 description 2
- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 description 2
- 238000010191 image analysis Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 238000001727 in vivo Methods 0.000 description 2
- 238000002164 ion-beam lithography Methods 0.000 description 2
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 2
- 238000009607 mammography Methods 0.000 description 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000009103 reabsorption Effects 0.000 description 2
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 2
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 description 2
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 2
- 208000020084 Bone disease Diseases 0.000 description 1
- 230000005461 Bremsstrahlung Effects 0.000 description 1
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 241000700198 Cavia Species 0.000 description 1
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 206010028980 Neoplasm Diseases 0.000 description 1
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 208000001132 Osteoporosis Diseases 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 238000000441 X-ray spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003484 anatomy Anatomy 0.000 description 1
- 230000002528 anti-freeze Effects 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 238000000231 atomic layer deposition Methods 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 239000012472 biological sample Substances 0.000 description 1
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000004078 cryogenic material Substances 0.000 description 1
- 238000013480 data collection Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 238000003745 diagnosis Methods 0.000 description 1
- 238000007435 diagnostic evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000002405 diagnostic procedure Methods 0.000 description 1
- 238000002050 diffraction method Methods 0.000 description 1
- HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N dihydroxidosulfur Chemical compound OSO HRKQOINLCJTGBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004141 dimensional analysis Methods 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000004072 lung Anatomy 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 201000008482 osteoarthritis Diseases 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 230000003252 repetitive effect Effects 0.000 description 1
- 230000026954 response to X-ray Effects 0.000 description 1
- 239000011435 rock Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 210000003437 trachea Anatomy 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000000844 transformation Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004846 x-ray emission Methods 0.000 description 1
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
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- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
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- A61B6/48—Diagnostic techniques
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- A61B—DIAGNOSIS; SURGERY; IDENTIFICATION
- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
- A61B6/40—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis
- A61B6/4007—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis characterised by using a plurality of source units
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- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
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- A61B6/4035—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis the source being combined with a filter or grating
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- A61B6/00—Apparatus or devices for radiation diagnosis; Apparatus or devices for radiation diagnosis combined with radiation therapy equipment
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- A61B6/4064—Arrangements for generating radiation specially adapted for radiation diagnosis specially adapted for producing a particular type of beam
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- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/207—Diffractometry using detectors, e.g. using a probe in a central position and one or more displaceable detectors in circumferential positions
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- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/20—Sources of radiation
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- H01J35/02—Details
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- H01J35/08—Anodes; Anti cathodes
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Abstract
Description
[分野]
本明細書に開示された本発明による複数のX線源で使用されるもの等のターゲットは、本発明の発明者による同時係属中の「STRUCTURED TARGETS FOR X―RAY GENERATION」という名称の米国特許出願(2014年8月21日に出願された米国特許出願第14/465,816号)に詳細に説明されており、その内容は本明細書によってその全体が参照により組み込まれた。上記の参照された同時係属中の出願に開示されたターゲット設計および構成のいずれも、本明細書で開示された任意のX線源または全てのX線源の構成要素としての使用が考慮され得る。
表II:X線材料/基板の組み合わせについてのフィギュア・オブ・メリット
3.1.さらなる吸収グリッド
複数のさらなる実施形態は、さらなる吸収グリッドを有してよく、機能および配置は、散乱した放射(イメージングシステムの分解能より実質的に小さい寸法を有する複数の微細構造からのコンプトン散乱および弾性散乱等)を低減するように設計される。そのグリッドは、上述の様々な実施形態または様々なX線吸収イメージング技術を含む、X線イメージングにおける背景および多くのX線イメージング技術における画像コントラストの減少に寄与する。複数の画像を形成する一次放射線の強度に対する散乱放射線の強度の比は、例えば、照射されている大量の組織を伴うものおよび高エネルギーX線を必要とするものといった大量な散乱が生成される場合にイメージング検査に特に重要であり、従って肥満の患者または(例えば、頭顔、高密度の胸部組織等)複数の高密度の体部分に対する病気診断の有効性を限定する。散乱防止用グリッドにおける現在の技術は、通常、高い放射透過を有する媒体(アルミニウムまたはファイバー材料等)と組み合わされる(通常、鉛のような高いZの材料を用いて製造される)高放射吸収隔壁を有する。それは、グリッド比(複数の構造の高さとそれらの間の間隔との比)、周期、および隔壁幅によって通常特定される。しかしながら、散乱防止用グリッドの使用は、1次ビームの何分の1もが複数の隔壁によって減衰させられるので、患者へのより高い放射線暴露を必要とする。
検出器構成および位置付けの複数の変形例は、本発明に従って構成されたX線システムの信号対雑音比における改善にも寄与し得る。複数の検出器特性の選択によって影響を受け得るフィギュア・オブ・メリットは、変調伝達関数(MTF)および検出量子効率(DQE)である。
3.3変更された検出器を用いる実施形態
存在する臨床、セキュリティ検査、および非破壊的試験用のX線イメージングシステムは、主に吸収コントラスト(隣り合う特徴部の間の減衰の差異)を使用する。X線位相コントラストは(隣り合う特徴部の間の位相シフトの差異)が、特に低いZの材料について、高エネルギーX線においてほぼ全ての材料の吸収コントラストより著しく大きくなり得ることが長い間、認識されている。最近、散乱コントラスト(複数の隣り合う特徴部の間の小さい角度の散乱強度の差異)は、イメージング解像度素子(イメージング解像度より小さい寸法の複数の孔および微細構造等)内の複数のイメージングサブ分解能機能に対して認識されてきた。シングルショット(露光)において、微分位相コントラスト画像、位相コントラスト画像、または散乱コントラスト画像のうち少なくとも1つと組み合わせて吸収コントラスト画像を同時に取得することが可能であるのが非常に望ましい。
本発明の複数の他の実施形態、2つの検出器を有するシステムにおいて、一方の検出器は、分数のTalbot距離の1つにおいて配置され、そのグリッド(アクティブ画素)、間隔(複数のアクティブ画素間の透明な領域)および配置と位置合わせされ、そうすることで、複数の行(および/または列)の中央は、複数のTalbot縞のアンチノードの中央と位置合わせされる。一方、他方の検出器は、第1の検出器の下流側で分数のTalbot距離の別の1つにおいて配置され、そのグリッド(アクティブ画素)、間隔(複数のアクティブ画素の間の、好ましくは透明な領域)および配置と位置合わせされ、そうすることで、複数の行(および/または列)の中央は、複数のTalbot縞のノードの中央と位置合わせされる。そのような間隔および整列を有する一対の検出器を用いることによって、吸収および散乱(暗視野)画像の両方は、「シングルショット」において、同時に収集されてよい。いくつかの実施形態において、2つの検出器の位置は逆にされ得るが、この場合、上流側の検出器の複数のアクティブ画素間の間隔は、X線に対してまだ十分に透明であるべきである。
本発明の複数の実施形態で使用された複数の格子の製造は、Christian David(C.David他、「Fabrication of diffraction gratings for hard x―ray phase contrast imaging」、Microelectron.Eng.84、1172〜1177、2007年)によって前述されたもの等の公知の従来技術の製造プロセスを用いてなされてよい。
表IV:πラジアンのケイ素位相シフトのエッチング深さ
検出器は、X線画像を形成するのに使用される多数の検出器のいずれか1つであってよい。一般に使用されるX線検出器の1つの種類に、X線にさらされたときに可視の光子を放出するヨウ化セシウム(CsI)、タリウムドープのCsI、イットリウムアルミニアムガーネット(YAG)またはスルホキシル酸ガドリニウム(GOS)の層を有するもの等の、蛍光スクリーンまたはシンチレータが含まれる。可視の光子は、次に、多くの場合、蛍光スクリーンによって放出された光子の強度パターンを拡張し、拡大する可視の光学を用いるリレー画像のさらなる形成と共に、可視強度を電子信号へと変換する電子センサによって検出される。リレー光学と共に、電子検出器は、高い分解能のセンサ自体を有する必要はなく、例えば、1024×1024画素を有し、各々が、24μm×24μmの正方形である安価な商業用のCCD検出器または相補型金属酸化膜半導体(CMOS)センサ配列が使用されてもよい。
複数の実施形態は、所望のX線エネルギー帯域幅およびを取得するスペクトルフィルタおよびシステムの様々な構成要素の全てのための配置制御システムを含む、Talbot干渉計に通常含まれる複数の他の構成要素をさらに有してよい。
概念 本文書は、少なくとも以下の概念も示す。
概念1。
X線干渉イメージングシステムであって、
真空チャンバと、
電子ビームのための放出器と、
電子ターゲットと、を有するX線源であって、前記電子ターゲットは、
第1の材料を有する基板と、
上記基板に埋め込まれ、複数のX線発生特性のために選択された第2の材料を含み、複数のサブ線源の周期的パターン内に配置されている、少なくとも複数の離散構造と、を含む、X線源と、
複数のX線のサブ線源によって発せられたX線を回折させるように位置付けられたX線位相シフト格子を形成する複数の周期構造を有するビーム分割X線格子と、
複数のX線検出素子の2次元配列を有し、ビーム分割格子によって回折された複数のX線を検出するように位置付けられたX線検出器と、
ビーム分割X線格子と検出器との間に位置付けられたX線吸収材料を含む複数の隔壁の周期的配列を有する散乱防止用グリッドと、を備える、
X線干渉イメージングシステム。
概念2。
X線位相シフト格子が、およそπラジアンの位相シフトを予め定められたX線波長に導入する複数の構造を備える、概念1に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念3。
X線位相シフト格子が、およそπ/2ラジアンの位相シフトを予め定められたX線波長に導入する複数の構造を備える、概念1に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念4。
ビーム分割X線位相シフト格子は、X線位相シフト格子の周期p1が、
ここで、λは、予め定められたX線波長であり、Lは、ターゲットとビーム分割X線格子との間の距離である、概念1、2または3に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念5。
散乱防止用グリッドの複数の隔壁は、スズ、白金、金、タングステン、タンタル、モリブデン、ニッケル、鉛、銅およびガドリニウムから成る群から選択される高いZの材料を含む、概念1から4および8から10に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念6。
散乱防止用グリッドは、X線透明材料を有する基板をさらに備える、概念1から5および8から10に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念7。
複数の隔壁の1または複数は、複数の特徴部の間の間隙の幅の5倍より高い高さを有する、概念1から6および8から10に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念8。
ビーム分割格子と相互作用するときにX線源によって発せられる複数のX線は、Talbot干渉パターンを形成し、散乱防止用グリッドの複数の隔壁の寸法および周期性は、Talbot干渉パターンの複数の寸法に対応するように選択される、概念4に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念9。
散乱防止用グリッドの複数の隔壁の位置は、複数の隔壁がTalbot干渉パターンの複数のノードと位置合わせされるように設定される、概念8に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念10。
散乱防止用グリッドの複数の隔壁の周期は、Talbot干渉パターンの横方向の周期の整数倍である、概念9に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念11。
第1の散乱防止グリッドと検出器との間に配置されたX線吸収材料を有する第2の散乱防止用グリッドをさらに備える、概念1から10に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念12。
X線干渉イメージングシステムであって、
真空チャンバと、
電子ビームのための放出器と、
電子ターゲットと、を有するX線源であって、前記電子ターゲットは、
第1の材料を含む基板と、
基板に埋め込まれ、複数のX線発生特性のために選択された第2の材料を含み、複数のサブ線源の周期的パターン内に配置された、少なくとも複数の離散構造と、を含む、X線源と、
複数のX線のサブ線源によって発せられた複数のX線を回折させるように位置付けられた、X線位相シフト格子を形成する複数の周期構造を有するビーム分割X線格子と、
複数のX線検出素子の2次元配列を有し、ビーム分割格子によって回折された複数のX線を検出するように位置付けられた、X線検出器と、を備える、X線干渉イメージングシステムであって、
ビーム分割格子と相互作用するときにX線源によって発せられるX線は、Talbot干渉パターンを形成し、複数のX線検出素子の寸法および位置は、Talbot干渉パターンの寸法に対応するように選択される、
X線干渉イメージングシステム。
概念13。
X線位相シフト格子は、予め定められたX線波長に対して、およそπラジアンの位相シフトを導入する複数の構造を有する、概念12に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念14。
X線位相シフト格子は、予め定められたX線波長に対して、およそπ/2ラジアンの位相シフトを導入する複数の構造を有する、概念12に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念15。
ビーム分割X線位相シフト格子は、X線位相シフト格子の周期p1が、
ここで、λは、予め定められたX線波長であり、Lは、ターゲットとビーム分割X線格子との間の距離である、概念12から14に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念16。
検出器は、予め定められた分数のTalbot距離で位置付けられ、複数の検出素子の位置は、複数の検出素子が、Talbot干渉パターンの複数のアンチノードと位置合わせされるように設定される、概念12から15に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念17。
検出器は、予め定められた分数のTalbot距離で位置付けられ、複数の検出素子の位置は、複数のp検出素子がTalbot干渉パターンの複数のノードと位置合わせされるように設定される、概念12から16に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念18。
上記検出器は、予め定められた分数のTalbot距離で位置付けられ、
複数の第2の検出素子を有する第2のX線検出器をさらに備え、
上記第2の検出器も第2の予め定められた分数のTalbot距離で位置付けられ、そのサイズおよび位置は、複数の第2の検出素子が、Talbot干渉パターンの複数のノードとお位置合わせされるように設定される、概念16に記載されたX線干渉イメージングシステム。
概念19。
X線源と、
X線源によって発せられるX線を回折するように位置付けられたX線位相シフト格子を形成する複数の周期構造を有するビーム分割X線格子と、
複数のX線検出素子の2次元配列を有し、ビーム分割格子によって回折された複数のX線を検出するように位置付けられた、X線検出器と、を備えるX線干渉イメージングシステムであって、
ビーム分割格子と相互作用するときにX線源によって発せられる複数のX線は、Talbot干渉パターンを形成し、複数のX線検出素子の寸法および位置は、Talbot干渉パターンの寸法に対応するように選択される、X線干渉イメージングシステム。
概念20。
Talbot干渉パターンのコントラストは、20%より高い、概念19に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念21。
第2の材料および第1の材料についての比(Z2ρ2)/(Z1ρ1)は12より高く、ここでZは原子番号であり、ρは質量密度である、概念1から18に記載のX線干渉計イメージングシステム。
概念22。
選択された第1の材料は、ベリリウム、ダイアモンド、グラファイト、ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、サファイアおよびダイアモンド状炭素から成る群から選択される、概念1から18または21に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念23。
第2の材料は、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ガリウム、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、ニオブ、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、イリジウム、タンタル、タングステン、インジウム、セシウム、バリウム、金、白金、鉛、およびこれらの組み合わせおよびこれらの合金から成る群から選択される、概念1から18または21から22に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念24。
複数の離散構造は類似の形状を有する、概念1から18または21から23に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念25。
類似の形状は、正角プリズム、直角長方プリズム、立方体、三角プリズム、台形プリズム、ピラミッド型、四面体、円柱、球体、卵形、およびたる形から成る群から選択される、概念24に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念26。
複数の離散構造の周期的パターンは正方格子であり、複数の離散構造のうち1または複数について、一次元の幅は、10ミクロン未満である、概念1から18または21から25に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念27。
複数の離散構造の周期的パターンは、一式の平行な線であり、複数の離散構造のうち1または複数について、一次元における幅は、10ミクロン未満であり、鉛直の次元における長さは20ミクロンを超える、概念1から18または21から26に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念28。
ターゲットは、真空チャンバのためのウィンドウとしても機能する、概念1から18または21から27に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念29。
X線検出器はシンチレータを有し、電荷結合素子(CCD)の配列も有する、概念1から28に記載のX線干渉イメージングシステム。
概念30。
第2のX線検出器は、シンチレータを有し、電荷結合素子(CCD)の配列も有する、概念18に記載のX線干渉イメージングシステム。
Claims (30)
- X線干渉イメージングシステムであって、
真空チャンバと、
電子ビームのための放出器と、
電子ターゲットと、を有するX線源であって、
前記電子ターゲットは、
第1の材料を有する基板と、
前記基板に埋め込まれ、複数のX線発生特性のために選択された第2の材料を含み、複数のサブ線源の周期的パターン内に配置されている、少なくとも複数の離散構造と、を含む、X線源と、
X線の前記複数のサブ線源によって発せられた複数のX線を回折するように位置付けられたX線位相シフト格子を形成する複数の周期構造を有するビーム分割X線格子と、
複数のX線検出素子の2次元配列を有し、前記ビーム分割X線格子によって回折された前記複数のX線を検出するように位置付けられたX線検出器と、
前記ビーム分割X線格子と前記X線検出器との間に位置付けられたX線吸収材料を含む複数の隔壁の周期的配列を有する散乱防止用グリッドと、を備える、X線干渉イメージングシステム。 - 前記X線位相シフト格子は、予め定められたX線波長に対し、およそπラジアンの位相シフトを導入する複数の構造を有する、請求項1に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記X線位相シフト格子は、予め定められたX線波長に対し、およそπ/2ラジアンの位相シフトを導入する複数の構造を備える、請求項1に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記散乱防止用グリッドの前記複数の隔壁は、スズ、白金、金、タングステン、タンタル、モリブデン、ニッケル、鉛、銅およびガドリニウムから成る群から選択される高いZの材料を含む、請求項1から4および8から10のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記散乱防止用グリッドは、X線透明材料を含む基板をさらに有する、請求項1から5および8から10のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記複数の隔壁の1または複数は、複数の特徴部の間の間隙の幅の5倍より高い高さを有する、請求項1から6および8から10のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記ビーム分割X線格子と相互作用するときに前記X線源によって発せられる前記複数のX線は、Talbot干渉パターンを形成し、前記散乱防止用グリッドの前記複数の隔壁の寸法および周期性は、Talbot干渉パターンの複数の寸法に対応するように選択される、請求項4に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記散乱防止用グリッドの前記複数の隔壁の位置は、前記複数の隔壁が前記Talbot干渉パターンの複数のノードと位置合わせされるように設定される、請求項8に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記散乱防止用グリッドの前記複数の隔壁の前記周期は、前記Talbot干渉パターンの横方向の周期の整数倍である、請求項9に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記散乱防止用グリッドと前記X線検出器との間に配置されたX線吸収材料を有する第2の散乱防止用グリッドをさらに備える、請求項1から10のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- X線干渉イメージングシステムであって、
真空チャンバと、
電子ビームのための放出器と、
電子ターゲットと、を有するX線源であって、
前記電子ターゲットは、
第1の材料を含む基板と、
前記基板に埋め込まれ、複数のX線発生特性のために選択された第2の材料を含み、複数のサブX線源の周期的パターン内に配置された、少なくとも複数の離散構造と、
を含む、X線源と
X線源と、
前記複数のサブX線源によって発せられた複数のX線を回折するように位置付けられた、X線位相シフト格子を形成する複数の周期構造を有するビーム分割X線格子と、
複数のX線検出素子の2次元配列を有し、前記ビーム分割X線格子によって回折された前記複数のX線を検出するように位置付けられた、X線検出器と、を備える、X線干渉イメージングシステムであって、
前記ビーム分割X線格子と相互作用するときに前記X線源によって発せられる前記複数のX線は、Talbot干渉パターンを形成し、前記複数のX線検出素子の寸法および位置は、Talbot干渉パターンの複数の寸法に対応するように選択される、
X線干渉イメージングシステム。 - 前記X線位相シフト格子は、予め定められたX線波長に対し、およそπラジアンの位相シフトを導入する複数の構造を有する、請求項12に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記X線位相シフト格子は、予め定められたX線波長に対し、およそπ/2ラジアンの位相シフトを導入する複数の構造を備える、請求項12に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記検出器は、予め定められた分数のTalbot距離において位置付けられ、前記複数のX線検出素子の位置は、前記複数のX線検出素子が、前記Talbot干渉パターンの複数のアンチノードと位置合わせされるように設定される、請求項12から15のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記検出器は、予め定められた分数のTalbot距離において位置付けられ、前記複数のX線検出素子の位置は、前記複数のX線検出素子が前記Talbot干渉パターンの複数のノードと位置合わせされるように設定される、請求項12から16のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記X線検出器は、予め定められた分数のTalbot距離において配置され、
複数の第2のX線検出素子を有する第2のX線検出器であって、第2の予め定められた分数のTalbot距離においても位置付けられ、そのサイズおよび位置は、前記複数の第2のX線検出素子が、前記Talbot干渉パターンの複数のノードと位置合わせされるように設定される、前記第2のX線検出器をさらに備える、
請求項16に記載のX線干渉イメージングシステム。 - X線源と、
前記X線源によって発せられる複数のX線を回折するように位置付けられたX線位相シフト格子を形成する複数の周期構造を有するビーム分割X線格子と、
複数のX線検出素子の2次元配列を有し、前記ビーム分割X線格子によって回折された前記複数のX線を検出するように位置付けられた、X線検出器と、を備え、
前記ビーム分割X線格子と相互作用するときに前記X線源によって発せられる前記複数のX線は、Talbot干渉パターンを形成し、前記複数のX線検出素子の複数の寸法および位置は、前記Talbot干渉パターンの複数の寸法に対応するように選択される、X線干渉イメージングシステム。 - 前記Talbot干渉パターンのコントラストは、20%より高い、請求項19に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記第2の材料および第1の材料についての比(Z2ρ2)/(Z1ρ1)は、12より大きく、Zは原子番号であり、ρは質量密度である、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 選択された前記第1の材料は、ベリリウム、ダイアモンド、グラファイト、ケイ素、窒化ホウ素、炭化ケイ素、サファイア、およびダイアモンド状炭素から成る群から選択される、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記第2の材料は、鉄、コバルト、ニッケル、銅、ガリウム、亜鉛、イットリウム、ジルコニウム、モリブデン、ニオブ、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、銀、スズ、イリジウム、タンタル、タングステン、インジウム、セシウム、バリウム、金、白金、鉛、およびこれらの組み合わせおよびこれらの合金から成る群から選択される、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記複数の離散構造は、類似の形状を有する、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記類似の形状は、正角プリズム、直角長方プリズム、立方体、三角プリズム、台形プリズム、ピラミッド型、四面体、円柱、球体、卵形、およびたる形から成る群から選択される、請求項24に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記複数の離散構造の前記周期的パターンは正方格子であり、前記複数の離散構造のうち1または複数について、一次元の幅は、10ミクロン未満である、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記複数の離散構造の前記周期的パターンは、一式の平行な線であり、前記複数の離散構造のうち1または複数について、一次元における幅は、10ミクロン未満であり、鉛直の次元における長さは20ミクロンを超える、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記ターゲットは、前記真空チャンバのためのウィンドウとしても機能する、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記X線検出器は、シンチレータを有し、複数の電荷結合素子(CCD)の配列も有する、請求項1から18のいずれか一項に記載のX線干渉イメージングシステム。
- 前記第2のX線検出器は、シンチレータを有し、複数の電荷結合素子(CCD)の配列も有する、請求項18に記載のX線干渉イメージングシステム。
Applications Claiming Priority (13)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201461987106P | 2014-05-01 | 2014-05-01 | |
US61/987,106 | 2014-05-01 | ||
US201461989743P | 2014-05-07 | 2014-05-07 | |
US61/989,743 | 2014-05-07 | ||
US201461991889P | 2014-05-12 | 2014-05-12 | |
US61/991,889 | 2014-05-12 | ||
US201461993811P | 2014-05-15 | 2014-05-15 | |
US61/993,811 | 2014-05-15 | ||
US14/527,523 | 2014-10-29 | ||
US14/527,523 US20150117599A1 (en) | 2013-10-31 | 2014-10-29 | X-ray interferometric imaging system |
PCT/US2014/063164 WO2015066333A1 (en) | 2013-10-31 | 2014-10-30 | X-ray interferometric imaging system |
USPCT/US2014/063164 | 2014-10-30 | ||
PCT/US2015/028652 WO2015168473A1 (en) | 2014-05-01 | 2015-04-30 | X-ray interferometric imaging system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017514583A true JP2017514583A (ja) | 2017-06-08 |
JP6529984B2 JP6529984B2 (ja) | 2019-06-12 |
Family
ID=54359348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016564245A Active JP6529984B2 (ja) | 2014-05-01 | 2015-04-30 | X線干渉イメージングシステム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP3136970B1 (ja) |
JP (1) | JP6529984B2 (ja) |
CN (2) | CN111166363B (ja) |
WO (1) | WO2015168473A1 (ja) |
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- 2015-04-30 JP JP2016564245A patent/JP6529984B2/ja active Active
- 2015-04-30 WO PCT/US2015/028652 patent/WO2015168473A1/en active Application Filing
- 2015-04-30 CN CN201580021722.8A patent/CN106535769B/zh active Active
- 2015-04-30 EP EP15786098.2A patent/EP3136970B1/en active Active
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---|---|
CN111166363B (zh) | 2023-12-12 |
CN106535769B (zh) | 2020-03-13 |
EP3136970A4 (en) | 2017-10-18 |
CN106535769A (zh) | 2017-03-22 |
EP3136970A1 (en) | 2017-03-08 |
WO2015168473A1 (en) | 2015-11-05 |
JP6529984B2 (ja) | 2019-06-12 |
CN111166363A (zh) | 2020-05-19 |
EP3136970B1 (en) | 2020-11-04 |
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Date | Code | Title | Description |
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A977 | Report on retrieval |
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