JP2009183856A - 粉体薄膜供給装置 - Google Patents

Abstract

【課題】粉体を、粉粒の大きさにかかわらず、薄い均一の膜厚で、連続定量的に、かつ凝集、付着を防止して、安定して供給することができる、粉体薄膜供給装置を提供する。
【解決手段】粉体薄膜供給装置が、円盤面を有して鉛直軸線を中心に回転自在に配設された円盤体と、円盤体の上方の鉛直軸線上に位置した粉体供給口を有して円盤面に粉体を連続定量的に供給する粉体供給機と、円盤体の回転および粉体の供給によって円盤面から散布される粉体の落下を案内する誘導外壁と、誘導外壁の下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板を備えている。
【選択図】図１

Description

本発明は、ホッパなどに貯留した粉体を薄膜状にして供給する粉体薄膜供給装置に関する。

粉体を薄膜状にして供給する粉体薄膜供給装置は、粉体中の異物の検知・除去、パン・菓子等の食品製造における手粉供給、粉体原料の吸水剤・滑り防止剤・食品味剤などのシート状にした供給など、種々の分野に用いられている。

粉体薄膜供給装置としては、ベルトコンベアによるもの、振動フィーダによるもの、長いロールを用いて隙間から供給するものなど、種々の装置が開発され実用されている（例えば、許文献１参照）。
特開２０００−８４４９６号公報（図１）

しかしながら、従来の粉体薄膜供給装置には、次のとおりの、さらなる改善の望まれている課題がある。

すなわち、粉体が、特に薬品のような極微細粉の場合には、均一の薄膜にするのが難しい。また、粉体を薄膜にする過程において、ほとんどの粉体は粒子同士が付着する凝集現象を起こし、塊の発生、壁面に付着など、均一な薄膜を連続してつくることができない。粉体の流れる部分を振動させる、ハンマリングするなどしても、均一な薄い膜にすることはできなかった。

本発明は上記事実に鑑みてなされたもので、その技術的課題は、ホッパなどに貯留した粉体を、粉粒の大きさにかかわらず、薄い均一の膜厚で、連続定量的に、かつ凝集、付着を防止して、安定して供給することができる、新規な粉体薄膜供給装置を提供することである。

本発明者は、種々実験および検討を重ねた結果、上記の技術的課題を解決することができる粉体薄膜供給装置を開発した。

すなわち、本発明によれば粉体薄膜供給装置として、周縁を水平に位置付けた円盤面を有してこの円の中心を通る鉛直軸線を中心に回転駆動を自在に配設された円盤体と、円盤体の上方の該鉛直軸線上に位置した粉体供給口を有して円盤面に粉体を連続定量的に供給する粉体供給機と、円盤体の回転および粉体の供給によって円盤面の外周から水平方向に散布される粉体の落下を案内する円盤体の外側を包囲した誘導外壁と、誘導外壁の下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板とを備えている、ことを特徴とする粉体薄膜供給装置が提供される。

好適には、該誘導外壁は、該鉛直軸線を挟んで対向した一対の平行案内面を有した長穴状筒体に形成され、該整流板は、該一対の平行案内面それぞれに対向して一対備えられている。また、該整流板の粉体の流下面は、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成され、該円盤体の円盤面は、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている。

本発明に従って構成された粉体薄膜供給装置は、円盤面を有して回転駆動される円盤体と、円盤面に粉体を連続定量的に供給する粉体供給機と、円盤面の外周縁から散布される粉体の落下を案内する誘導外壁と、その下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板を備えている。

したがって、円盤面に連続定量的に供給された粉体は、遠心力によって周縁に向けて均一に広げられ外周から均一で薄い膜状になって散布され、誘導外壁によって下方に傾斜した整流板上に案内され、整流板上を自重で流下し整流されるので、ホッパなどに貯留した粉体を、粉粒の大きさにかかわらず、薄い均一の膜厚で、連続定量的に、かつ凝集、付着を防止して、安定して供給することができる。

以下、本発明に従って構成された粉体薄膜供給装置について、好適実施形態を図示している添付図面を参照して、さらに詳細に説明する。

図１を参照して説明する。全体を番号２で示す粉体薄膜供給装置は、周縁を水平に位置付けた円盤面Ｆを有してこの円の中心を通る鉛直軸線Ｘを中心に回転駆動を自在に配設された円盤体４と、円盤体４の上方の鉛直軸線Ｘ上に位置した粉体供給口６を有して円盤面Ｆに粉体を連続定量的に供給する粉体供給機８と、円盤体４の回転および粉体の供給によって円盤面Ｆの外周から水平方向に散布される粉体の落下を案内する円盤体４の外側を包囲した誘導外壁１０と、誘導外壁１０の下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板１２を備えている。

円盤体４は、上面が平板の円盤面Ｆを備えた中空円盤状に形成され、下面が、下方に設置された駆動装置１４から延びる駆動軸１６に接続され支持されている。円盤面Ｆの中央には鉛直軸線Ｘを中心にして、粉体供給口６から供給された粉体を滑らかに円盤面Ｆに拡散させる環状突起４ａが備えられている。円盤体４については後にさらに詳述する。

粉体供給機８は、周知の例えば特公平４−５３７７８号公報に開示されているもので、粉体貯槽８ａ内の底部に、外周部に複数個の計量室を有した回転テーブル８ｂを備え、回転テーブル８ｂを電動モータ８ｃによって所定方向に回転させることにより、計量室に流入した粉体が、回転に応じて順次粉体供給口６に送られるものである。

図１とともに図２、図３を参照して説明する。誘導外壁１０は、鉛直軸線Ｘを挟んで対向した一対の平行案内面１０ａ、１０ａと、平行案内面１０ａ、１０ａそれぞれの両端部を結ぶ円弧面１０ｂ、１０ｂを有した長穴状筒体に形成され、上面は蓋板１０ｃによって閉じられている。蓋板１０ｃは粉体供給口６を形成する筒体に一体に取付けられている。

誘導外壁１０の大きさは、一対の平行案内面１０ａ、１０ａの間隔Ｌに対して一対の円弧面１０ｂ、１０ｂの間隔は（π／２）Ｌに設定されている。平行案内面１０ａ、１０ａそれぞれには、円盤面Ｆの半径方向外方に位置し円盤面Ｆから拡散される粉体を下方に向けて案内する断面三角形状の、円弧面１０ｂまで延びた案内片１０ｄが、互いを平行にして備えられている。

円盤体４の下方には下面に隣接して円筒状の上面が閉じられた誘導内壁１１が備えられている。誘導内壁１１は、円盤体４の外縁と略同じ大きさの外径を有し下方の整流板１２まで延びている。円盤体４の円盤面Ｆの外周から水平方向に散布される粉体は、誘導外壁１０とこの誘導内壁１１の間の空間を通って落下する。

整流板１２は、矩形平板状に形成され一対備えられ、それぞれが誘導外壁１０の一対の平行案内面１０ａ、１０ａに対向した位置に配設されている。一対の整流板１２、１２はそれぞれ傾斜角度θ、実施例においては４５°、で下方に傾け上端を付き合わせ山形にして、その稜線に円直線軸線Ｘを直行させて配設されている。

整流板１２は、中空箱状に形成され、粉体が流れ落ちる流下面Ｒは、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成され、裏面側の箱状空間に気体が導入される。

図１とともに図４を参照して説明する。円盤体４の粉体が流れる円盤面Ｆも裏面の中空部側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている。

整流板１３および円盤体４の多孔板としては、周知の、エアレーション用、フィルター用などに用いられる、高分子ポリエチレンによる多孔質プラスチック成形体が採用されている。

円盤体４の駆動装置１４は、駆動軸１６を支持する支持部１８と、支持部１８の下端に取付けられ駆動軸１６を回転作動させる電動モータ２０を備えている。支持部１８は、箱体１８ａの中に一体に取付けられた筒体１８ｂを備え、駆動軸１６は中空軸に形成されて筒体１８ｂの中に一対の球軸受１８ｃを介して回転自在に取付けられている。箱体１８ａの外部から導入される気体が、筒体１８ｂの部分から中空の駆動軸１６を通して円盤体４の中空部に送られる。

主として図１を参照して説明する。一対の整流板１２、１２および円盤体４に通気する気体としての、圧力空気供給源２２の圧力空気が、円盤体４の駆動装置１４および一対の整流板１２、１２に、それぞれ開度調整自在な開閉弁２４を介して供給される。多孔板を通す圧力空気は、主として粉体の付着を防止するためであり、粉体の流れを乱すものであってはならないので、その量は開閉弁２４によって調整される。

上述したとおりの粉体薄膜供給装置２の作用効果について説明する。

粉体薄膜供給装置２は、円盤面Ｆを有して回転駆動される円盤体４と、円盤面Ｆに粉体を連続定量的に供給する粉体供給機８と、円盤面Ｆの外周縁から散布される粉体の落下を案内する誘導外壁１０と、その下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板１２を備えている。

そして、円盤面Ｆに連続定量的に供給された粉体は、遠心力によって周縁に向けて均一に広げられ、外周から均一で薄い膜状になって散布され、誘導外壁１０によって整流板１２上に案内され、下方に傾斜した整流板１２上を自重によって流れ落ち整流される。したがって、ホッパなどに貯留した粉体を、粉粒の大きさにかかわらず、薄い均一の膜厚で、連続定量的に、さらに粉体の凝集、付着を防止して、安定して供給することができる。

また、誘導外壁１０は、鉛直軸線Ｘを挟んで対向した一対の平行案内面１０ａ、１０ａを有した長穴状筒体に形成され、整流板１２は、一対の平行案内面１０ａ、１０ａそれぞれに対向して一対備えられている。したがって、一対の平行案内面１０ａ、１０ａを備えた誘導外壁１０は、円盤面Ｆから遠心力によって散布された薄い膜状になった粉体を、平行案内面１０ａ、１０ａに対向した下方の一対の整流板１２、１２上に薄い膜状で案内することができる。

さらに、整流板１２の粉体の流下面Ｒは、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成され、円盤体４の円盤面Ｆも、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている。したがって、粉体の流下面Ｒおよび円盤面Ｆへの凝集・付着を確実に防止でき、薄い均一の膜厚を容易に形成することができる。

以上、本発明を実施例に基づいて詳細に説明したが、本発明は上記の実施例に限定されるものではなく、例えば下記のように、本発明の範囲内においてさまざまな変形あるいは修正ができるものである。

本発明の実施の形態においては、誘導外壁１０は平行案内面１０ａ、１０ａを有した長穴状筒体に形成され、整流板１２は矩形平板状に形成されているが、薄膜供給先の受入れ形態などに応じて、例えば、誘導外壁を真円筒体に、整流板を円錐面状にするなど、適宜に変形することができる。

本発明の実施の形態においては、整流板１２の傾斜角度θは４５°に設定したが、粉体の性状などに応じて、角度θは適宜に設定すればよい。

本発明に従って構成された粉体薄膜供給装置の側面図。 図１のＡ−Ａ方向に見た断面図。 図１のＢ−Ｂ方向に見た断面図。 円盤体の駆動装置の詳細図。

符号の説明

２：粉体薄膜供給装置
４：円盤体
６：粉体供給口
８：粉体供給機
１０：誘導外壁
１０ａ：平行案内面
１１：誘導内壁
Ｆ：円盤面
Ｘ：鉛直軸線

Claims (4)

1. 周縁を水平に位置付けた円盤面を有してこの円の中心を通る鉛直軸線を中心に回転駆動を自在に配設された円盤体と、
   円盤体の上方の該鉛直軸線上に位置した粉体供給口を有して円盤面に粉体を連続定量的に供給する粉体供給機と、
   円盤体の回転および粉体の供給によって円盤面の外周から水平方向に散布される粉体の落下を案内する円盤体の外側を包囲した誘導外壁と、
   誘導外壁の下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板とを備えている、
   ことを特徴とする粉体薄膜供給装置。
2. 該誘導外壁が、該鉛直軸線を挟んで対向した一対の平行案内面を有した長穴状筒体に形成され、
   該整流板が、該一対の平行案内面それぞれに対向して一対備えられている、
   ことを特徴とする請求項１記載の粉体薄膜供給装置。
3. 該整流板の粉体の流下面が、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている、
   ことを特徴とする請求項１または２記載の粉体薄膜供給装置。
4. 該円盤体の円盤面が、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている、
   ことを特徴とする請求項１から３までのいずれかに記載の粉体薄膜供給装置。

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