JP2009183856A - 粉体薄膜供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】粉体薄膜供給装置が、円盤面を有して鉛直軸線を中心に回転自在に配設された円盤体と、円盤体の上方の鉛直軸線上に位置した粉体供給口を有して円盤面に粉体を連続定量的に供給する粉体供給機と、円盤体の回転および粉体の供給によって円盤面から散布される粉体の落下を案内する誘導外壁と、誘導外壁の下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板を備えている。
【選択図】図1
Description
4:円盤体
6:粉体供給口
8:粉体供給機
10:誘導外壁
10a:平行案内面
11:誘導内壁
F:円盤面
X:鉛直軸線
Claims (4)
- 周縁を水平に位置付けた円盤面を有してこの円の中心を通る鉛直軸線を中心に回転駆動を自在に配設された円盤体と、
円盤体の上方の該鉛直軸線上に位置した粉体供給口を有して円盤面に粉体を連続定量的に供給する粉体供給機と、
円盤体の回転および粉体の供給によって円盤面の外周から水平方向に散布される粉体の落下を案内する円盤体の外側を包囲した誘導外壁と、
誘導外壁の下方に位置して下方に向けて傾斜し落下した粉体の流れを整える整流板とを備えている、
ことを特徴とする粉体薄膜供給装置。 - 該誘導外壁が、該鉛直軸線を挟んで対向した一対の平行案内面を有した長穴状筒体に形成され、
該整流板が、該一対の平行案内面それぞれに対向して一対備えられている、
ことを特徴とする請求項1記載の粉体薄膜供給装置。 - 該整流板の粉体の流下面が、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている、
ことを特徴とする請求項1または2記載の粉体薄膜供給装置。 - 該円盤体の円盤面が、裏面側から気体が均一に通気される多孔板によって形成されている、
ことを特徴とする請求項1から3までのいずれかに記載の粉体薄膜供給装置。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5127568A (en) * | 1974-08-29 | 1976-03-08 | Anzai Seisakusho | Kokuryu no senbetsukiko |
JP2001046980A (ja) * | 1999-08-12 | 2001-02-20 | C & R Separator:Kk | 選別機 |
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-
2008
- 2008-02-06 JP JP2008026006A patent/JP5236960B2/ja active Active
Patent Citations (5)
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