JPH0747261A

JPH0747261A - 粉粒体処理装置

Info

Publication number: JPH0747261A
Application number: JP1466594A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Tsujimoto; 広行辻本; Toyokazu Yokoyama; 豊和横山
Original assignee: Hosokawa Micron Corp
Current assignee: Hosokawa Micron Corp
Priority date: 1993-06-04
Filing date: 1994-02-08
Publication date: 1995-02-21
Anticipated expiration: 2016-03-07
Also published as: JP3143309B2

Abstract

(57)【要約】【目的】被処理物に対する気体の接触が部分的に不足
気味となり、それによって、各種粉粒体処理が能率よく
行われないことがある、という従来の問題を解消し得る
手段を提供する。【構成】回転円盤１０を、ケーシング１の底部からの
供給気体を受けてその気体を上向き又は斜め上向きに通
気させる通気体に構成し、その通気体の上向き通気能力
又は斜め上向き通気能力を外周側ほど大きく設定してあ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、粉粒体の造粒、水分や
溶剤を含む湿潤粉粒体の乾燥、粉粒体表面への適宜コー
ティング層のコーティング、気体と接触する粉粒体の化
学反応又は物理反応に基づく粉粒体の調製等、被処理物
としての粉粒体に気体を接触させることを少なくとも含
む各種粉粒体処理を有効に行うために開発された粉粒体
処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、前記装置を用いて原料粉粒体を
造粒する場合、前記装置の本体外殻を構成する円筒状の
ケーシングの下部に形成された処理部内へ原料粉粒体を
供給すると共に、その原料粉粒体に対して溶媒に溶かし
たバインダーを添加した上で、それら被処理物を前記処
理部内にて混合・攪拌することにより、前記バインダー
の介在による隣接粉粒体の一体化に基づく造粒が行われ
るようになっている。このような造粒を行う従来装置と
しては、前記混合・攪拌を行うための処理部を前記ケー
シング下部に形成すべく、上方空間が原料粉粒体の貯留
部となる回転円盤を、前記ケーシング下部における鉛直
方向の回転軸芯周りに回転自在に設けたものがあった。
このような従来装置を使用して前記造粒を行う場合、前
記貯留部における被処理物に、前記回転円盤の回転によ
る遠心力が付与されるので、その被処理物は、前記回転
円盤上を遠心方向へ流動して前記ケーシングの内壁近傍
に至った後、その内壁に沿うように上昇した上で、前記
ケーシングの中心方向斜め下方へ流動して前記回転円盤
上の中心部（又は中心寄り部分）へ戻され、更に、これ
らの一連の循環的な流動現象が繰り返されることによ
り、前記造粒のための被処理物の混合・攪拌が行われる
ようになる。更に、本発明者等は、上記従来装置を更に
改良した改良装置として、前記処理部における被処理物
の混合・攪拌が有効に行われるように、図１４に示すよ
うに構成した装置を先に提案している。即ち、回転円盤
１０の上面に、ケーシング１の底部からの通気を受けて
その通気を被処理物の貯留部Ａへ噴出するための気体噴
出口１０ａを、回転円盤１０の径方向外向きに開口させ
た状態に形成した装置を先に提案している。その改良装
置を使用して前記造粒を行う場合、貯留部Ａにおける被
処理物が上述したように遠心力を受ける上、その被処理
物が、気体噴出口１０ａから径方向外向きへ噴出される
気体によって、環状に浮遊した状態となりつつ外向き移
動力を受けるので、それらの相乗作用によって、前記一
連の循環的な流動現象（図１４中の貯留部Ａにおける矢
印参照）が有効に繰り返されて前記混合・攪拌が有効に
行われるようになる。このような改良装置は、上述した
ような粉粒体の造粒を行う場合のみならず、水分や溶剤
を含む湿潤粉粒体の乾燥、粉粒体表面への適宜コーティ
ング層のコーティング、気体と接触する粉粒体の化学反
応又は物理反応に基づく粉粒体の調製等の各種処理を行
う場合においても、前記各種処理のための混合・攪拌
が、前記遠心力及び前記気体噴出口１０ａからの噴出気
体の相乗作用によって有効に行われ、もって、前記各種
処理が有効に行われるようになる。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
改良装置においても、以下に述べるような更に改良すべ
き問題があった。例えば、被処理物としての粉粒体を造
粒させるには、被処理物の混合・攪拌による造粒現象そ
のものを本質的に生じさせる必要があるのは勿論である
が、前記造粒の処理条件次第では、前記造粒を実際に遂
行させるために、前記本質的な造粒現象そのもの以外の
乾燥現象、即ち、前記溶媒を含む被処理物に気体を接触
させて前記溶媒を除去するという付帯的な乾燥現象を、
前記造粒現象そのもの以上のレベルに生じさせなければ
ならないことがある。ところで、被処理物が混合・攪拌
されて前記一連の循環的な流動現象を示している状態で
は、被処理物が、前記処理部の外周部寄りほど多く（即
ち、内周部寄りほど少なく）存在して偏在状態となって
いるが、前記乾燥現象を前記処理部の外周部及び内周部
において有効に生じさせるためには、前記被処理物に接
触させる気体の供給量を、前記被処理物の偏在状態に合
わせて、前記処理部の外周部寄りほど多く設定しなけれ
ばならないにも拘らず、上述の改良装置においても、前
記気体供給量は上述したようには設定されておらず、そ
れによって、外周部寄りの被処理物の乾燥に長時間を要
し、被処理物の造粒処理全体も能率よく遂行されないこ
とがある、という問題があった。このような問題は、上
述した造粒処理に特有の問題というものではなく、水分
や溶剤を含む湿潤粉粒体の乾燥、粉粒体表面への適宜コ
ーティング層のコーティング、気体と接触する粉粒体の
化学反応又は物理反応に基づく粉粒体の調製等、粉粒体
に気体を接触させることを少なくとも含む各種粉粒体処
理においても、同様に発生する。即ち、前記造粒処理以
外の各種粉粒体処理が行われるときにも、前記造粒処理
の場合と同様、各種粉粒体処理過程において被処理物が
前記処理部において前記循環的な流動現象が生じるよう
になり、その流動現象が生じている状態では、前記造粒
処理の場合と同様の事情に基づいて外周部寄りの被処理
物の気体との接触が不足気味となり、それによって、前
記各種粉粒体処理が能率よく行われないことがある、と
いう問題があった。本発明は、このような実情に着目し
てなされたものであり、被処理物に対する気体の接触が
部分的に不足気味となり、それによって、各種粉粒体処
理も能率よく行われないことがある、という上記従来の
問題を解消し得る手段を提供することを目的としてい
る。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る粉粒体処理
装置（以下、本発明装置という）の特徴構成は、粉粒体
を貯留し、その貯留粉粒体に対して気体を接触させるこ
とを含む処理を行うための処理部を、円筒状のケーシン
グの下部に形成すべく、上方空間が前記粉粒体の貯留部
となる回転円盤を、前記ケーシング下部における鉛直方
向の回転軸芯周りに回転自在に設けてある粉粒体処理装
置であって、前記回転円盤を、前記ケーシングの底部か
らの供給気体を受けてその気体を上向き又は斜め上向き
に通気させる通気体に構成し、その通気体の上向き通気
能力又は斜め上向き通気能力を外周側ほど大きく設定し
てある点にある。

【０００５】

【作用】上記特徴構成を備えた本発明装置においては、
前記通気体に構成された回転円盤の上向き通気能力又は
斜め上向き通気能力が外周側ほど大きく設定されている
ので、上記本発明装置を使用して各種粉粒体処理を行う
場合に、その処理過程において前述したように被処理物
が外周部寄りほど多く存在して偏在状態となっているに
も拘らず、多く偏在する外周部寄りの被処理物に対し、
前記通気体経由の気体が多く供給されるようになり、そ
れによって、外周部寄りの被処理物に対する気体の接触
の不足が相殺されるようになる。

【０００６】

【発明の効果】従って、前記各種粉粒体処理が、外周部
寄りの被処理物に対する気体の接触の不足によって能率
よく行われないという事態が回避され、もって、前記各
種粉粒体処理が全体として有効に行われるようになる、
という効果が生じる。

【０００７】

【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。尚、各実施例を示す図面（従来例を示す図面も含
む）において、同一の符号で表示した部分は同一又は相
当の部分を示している。

【０００８】〔第１実施例〕図１〜図２には、本発明装
置の第１実施例としての造粒装置が示されており、その
造粒装置においては、その装置内へ原料粉体（粉粒体の
一種）及びバインダーが造粒原料として供給された後、
その装置の駆動によって、前記造粒原料が所望状態の粉
体へ造粒されるようになっている。

【０００９】図２中、１は、前記造粒装置の本体外殻を
構成するケーシングであり、そのケーシング１は、上部
が下部よりも若干拡径した円筒状体よりなる。前記ケー
シング１の上部には、前記造粒原料を前記ケーシング１
内へ供給するための供給部１５が設けられている。ま
た、前記ケーシング１の下部には、前記供給部１５から
の供給物（即ち、前記造粒原料）を一旦貯留する貯留部
Ａが設けられている。そして、前記貯留部Ａにおいて、
前記粉体の造粒が行われるようになっている。

【００１０】前記ケーシング１の側方には、エアーフィ
ルター４ａ付きの送風装置４が設けられており、その送
風装置４から前記ケーシング１内への給気は、ヒーター
５にて適宜温度に加熱された上で前記ケーシング１の底
部側方に設けられている給気口１ａ経由で前記ケーシン
グ１の底部へ供給されるようになっている。尚、前記ヒ
ーター５による前記給気の加熱は、前記ヒーター５の出
口部に設けられた温度センサー５ａによる前記給気の温
度測定値が設定温度と合致するように制御されつつ行わ
れるようになっている。

【００１１】前記ケーシング１内には、前記供給部１５
から前記造粒原料としての原料粉体及びバインダーが供
給されるようになっているが、それら造粒原料のうちの
原料粉体は、前記供給部１５へバッチ方式で投入された
後、前記貯留部Ａへ供給されるようになっている。一
方、前記造粒原料のうちのバインダーは、前記ケーシン
グ１内の中心部に鉛直姿勢に配置され、且つ、上端供給
部８ａ（その部分には、圧縮空気供給装置６及びバイン
ダー供給装置７からの配管の下流端が接続されている）
が前記供給部１５の上部に配置され、且つ、下端噴霧部
８ｂ（その部分は、前記貯留部Ａへ向けて前記バインダ
ーを噴霧する噴霧口として機能する）が前記ケーシング
１内の下部下方に開口した噴霧装置８によって前記貯留
部Ａへ噴霧供給されるようになっている。即ち、前記バ
インダーは、前記バインダー供給装置７から供給されつ
つ前記圧縮空気供給装置６からの圧縮空気をキャリアガ
スとして前記噴霧装置８によって前記貯留部Ａへ噴霧供
給されるようになっている。

【００１２】尚、前記圧縮空気供給装置６及びバインダ
ー供給装置７からの配管の一部（上述した配管の中途か
ら分岐された配管）が、前記ケーシング１の下部側方の
バインダー供給口１ｂに接続されて、前記ケーシング１
内に開口しており、その開口部からも、バインダーが圧
縮空気をキャリアガスとして適宜供給されるようになっ
ている。更に、濾過部２には、その部分の吸引排気を行
うための排気装置９へ通じる配管も接続されており、ま
た、前記濾過部２内には、前記フィルター２ａを洗浄す
るために圧縮空気を前記フィルター２ａに吹き付けるブ
ローチューブ２ｂも設けられている。そのブローチュー
ブ２ｂには前記圧縮空気供給装置６からの配管が一部分
岐された上で接続されている。

【００１３】尚、前記バインダーは、溶媒に溶けた状態
で前記貯留部Ａへ供給されるようになるので、その溶媒
は、前記造粒が行われるのと並行して又は若干遅延した
状態で除去される必要がある。そこで、前記造粒装置に
おいては、前記貯留部Ａにおける造粒原料に対して下記
通気体経由の気体を供給することにより、両者を接触さ
せて前記溶媒の除去（即ち、乾燥）を行うようにしてい
る。

【００１４】前記ケーシング１の下部には、図１に示す
ように、上方空間が前記造粒原料の貯留部Ａとなる回転
円盤１０が、鉛直方向の回転軸芯周りに回転自在に設け
られている。前記回転円盤１０は、ケーシング１の底部
からの供給気体を受けてその気体を上向き又は斜め上向
きに通気させる通気体に構成されている。更に詳しく
は、前記回転円盤１０は、通気性を有するステンレス鋼
焼結体よりなり且つ中心部に貫通孔１０ｂが形成された
環状多孔板の複数枚が、上下複数段に隙間なく積み重ね
られた上で一体化されることにより、前記通気体に構成
されている。前記複数枚の環状多孔板は、それらを積み
重ねた状態で略円錐体状となるように、上段側に配置さ
れるものほど外径寸法が小さい寸法に設定されている。
従って、前記回転円盤１０は、前記積み重ね状態の通気
体の厚さが外周側ほど段階的に薄くなり、その厚さ変化
に基づいて、前記通気体の上向き通気能力又は斜め上向
き通気能力が外周側ほど大きくなっている（図１中の矢
印参照）。前記ケーシング１の下部には、その底部下方
に配置されたモーター１３の駆動力によって鉛直方向の
回転軸芯周りに回転自在で、且つ、上下複数段に隙間な
く積み重ねられた前記環状多孔板の各貫通孔１０ｂに嵌
合挿通自在な回転軸１１が設けられている。前記貫通孔
１０ｂに挿通状態の前記回転軸１１の上端部（その部分
には雄ネジが形成されている）に、全体形状が略円錐体
状で且つ内部に下向き開口の雌ネジが凹設された締結キ
ャップ１２を、前記雌雄ネジの螺合によって締め付ける
ことにより、前記回転円盤１０が前記回転軸芯周りに回
転自在に設けられている。尚、図１中の１４は、前記貯
留部Ａとケーシング１底部の気体供給部とを別空間に区
画するための隔壁板であり、その隔壁板１４も、外周部
を除いて通気性を有する通気板に構成されている。ま
た、前記ケーシング１の下部内周面と前記回転円盤１０
の外縁部との隙間Ｓからも、前記ケーシング１の底部に
供給される給気の一部が前記貯留部Ａへ噴出されるよう
になっている。

【００１５】このように構成された本発明装置によっ
て、所望状態の粉体への造粒処理を実行する場合、先
ず、供給部１５から原料粉体を供給し、その原料粉体を
貯留部Ａに貯留させた後、回転円盤１０を回転駆動させ
る。そして、その回転駆動を続行しつつ、前記原料粉体
に対して噴霧装置８を用いて上方から前記バインダーを
添加する。このような処理を行うと、前記原料粉体及び
前記バインダーよりなる造粒原料（以下、単に粉体とい
う）は、回転円盤１０の回転による遠心力及び回転円盤
１０の上面傾斜面に沿う下方への移動力が付与され、そ
れらの相乗作用によって、前記粉体は、回転円盤１０の
上部傾斜面から外周方向へ流動してケーシング１の内壁
近傍に至った後、その内壁に沿うように上昇した上で、
ケーシング１の中心方向斜め下方へ流動して回転円盤１
０の上部傾斜面の上側へ戻され、更には、これらの循環
的な流動現象が繰り返されるようになる。しかも、前記
通気体（即ち、前記回転円盤１０）の上向き通気能力又
は斜め上向き通気能力が外周側ほど大きく設定されてい
るので、前記造粒の過程において前記循環的な流動現象
に基づいて粉体が外周部寄りほど多く存在して偏在状態
となっているにも拘らず、多く偏在する外周部寄りの粉
体に対し、前記通気体経由の気体が多く供給されるよう
になり、それによって、外周部寄りの粉体に対する気体
の接触の不足が相殺されるようになる。尚、上述したよ
うに径の異なる多孔板を積み重ねただけでは、内外での
通気能力差が十分に得られないときには、上段側に配置
される多孔板ほど気孔の微細なものにすればよい。

【００１６】〔第２実施例〕前記回転円盤１０を、前記
通気能力が外周側ほど大きくなった通気体に構成するの
に、図３及び図４に示すように、円盤基材となる非通気
性の円板に対し、径の異なる多数の円弧状又は円環状ス
リット１０ｄ（図示の例では、円弧状スリット１０ｄ）
を、同心状に形成し、それら円弧状又は円環状スリット
１０ｄの夫々に、外周側ほど気孔の粗大な多孔板１０ｅ
を且つ内周側ほど気孔の微細な多孔板１０ｅを隙間なく
埋め込んだ第２実施例が考えられる。この実施例によれ
ば、円弧状又は円環状スリット１０ｄに埋め込まれた多
孔板１０ｅを経由する気体の通気能力が多孔板１０ｅの
気孔の大きさに基づいて外周側ほど大きくなる。

【００１７】〔第３実施例〕前記回転円盤１０を、前記
通気能力が外周側ほど大きくなった通気体に構成するの
に、図５に示すように、円盤基材となる非通気性の円錐
板に対し、径の異なる多数の円弧状スリット１０ｄを形
成し、それら円弧状スリット１０ｄの夫々に多孔板１０
ｅを隙間なく埋め込んだ第３実施例が考えられる。この
実施例においては、多数の円弧状スリット１０ｄの開口
面積を第２実施例のように外周側ほど大きくしなくて
も、前記円錐板の厚さが外周側ほど薄くなっているの
で、円弧状スリット１０ｄに埋め込まれた多孔板１０ｅ
を経由する気体の通気能力は、必然的に外周側ほど大き
くなる。

【００１８】〔第４実施例〕前記回転円盤１０を、前記
通気能力が外周側ほど大きくなった通気体に構成するの
に、図６に示すように、円盤基材となる円錐板全体を多
孔体にて構成した第４実施例が考えられる。この実施例
においては、前記円錐板の厚さが外周側ほど薄くなって
いるので、その円錐板を経由する気体の通気能力は、必
然的に外周側ほど大きくなる。しかも、その変化は連続
的に生じる。

【００１９】〔第５実施例〕例えば、第２実施例の回転
円盤１０に対し、その上下面に前記通気を妨げない保護
薄板１０ｆを図７に示すように装着した第５実施例が考
えられる。この実施例によれば、被処理物の回転円盤１
０に対する摺接による回転円盤１０の摩耗が、前記保護
薄板１０ｆの存在によって抑止される。更に、孔径の小
さな多孔薄板を用いることにより、原料粉体による基材
多孔体の目詰まりを防止することができる。

【００２０】〔第６実施例〕前記回転円盤１０を回転軸
１１に取り付けるときに使用される前記締結キャップ１
２に対し、被処理物の攪拌のための風を生じさせるフィ
ン１６を図８に示すように付設した第６実施例も考えら
れる。この実施例によれば、回転軸１１の回転に伴って
フィン１６による風が生じ、その風によって前記造粒の
ための混合・攪拌が助成される。また、前記フィン１６
は、前記締結キャップ１２を取り外すときに同時に取り
外されるので、その交換作業が容易である。尚、前記フ
ィン１６の平面視形状は波形であっても直線形であって
もよい。また、前記フィン１６の付設に替えて、前記締
結キャップ１２の箇所に前記風の吹出手段（図外）を付
設しても前記混合・攪拌の助成効果がある。

【００２１】〔第７実施例〕前記回転円盤１０を、図９
に示すような一体成形品の多孔板１０にて構成した実施
例も考えられる。即ち、その多孔板１０は、その下面が
平面状に形成され、その上面が多孔板１０の肉厚が外周
側ほど厚くなるような円滑曲面に形成され、しかも多孔
板１０の成形体としての密度は外周側ほど適度に疎に形
成され、もって、多孔板１０の通気性は、外周側の板厚
の増加を加味しても外周側の方が良好なものとなってい
る。尚、図中、１０ｊは多孔板１０の補強部材である。
この実施例によれば、多孔板１０上面の外周側ほど高い
円滑曲面に沿って粉体が案内されるので、粉体の転動作
用の促進と外周側への粉体の偏寄りを抑制することがで
きるという副次的効果が生じる。

【００２２】〔第８実施例〕前記回転円盤１０を構成す
るために上下積み重ねられる複数の通気体として、図１
０に示すように、上下向きの貫通小孔が多数形成された
円板（各円板毎の貫通小孔のピッチを相異させておく）
を使用し、且つ、前記複数の通気体毎の回転速度を相互
に相異させておくようにした第７実施例が考えられる。
この実施例によれば、各円板毎の貫通小孔の位置が上下
一致した状態と不一致の状態とが何度も繰り返されるの
で、前記回転円盤１０を経由して上向きに又は斜め上向
きに通気される気体が断続的に噴射されて乱れた気流が
生じるようになり、その気流の乱れに基づいて、前記造
粒や乾燥等が一層有効に行われるようになる。

【００２３】〔第９実施例〕前記回転円盤１０を構成す
るために上下積み重ねられる複数の通気体として、図１
１及び図１２に示すように、斜め上下向きの貫通小孔が
多数形成された円板（隣接する円板の貫通小孔の向きを
相互に相異させておく）を使用する第７実施例が考えら
れる。この実施例によれば、前記回転円盤１０を経由し
て斜め上向きに通気される気体が乱れて斜め上向き噴射
されるようになり、その乱れに基づいて、前記造粒や乾
燥等が一層有効に行われるようになる。

【００２４】〔第１０実施例〕前記回転円盤１０を経由
する気体の上向き通気を、脈動状態にすると、前記通気
体の多孔に詰まった粉体を吹き落とすことができる。

【００２５】〔第１１実施例〕前記機能を果たす回転円
盤１０を構成するのに、図１３に示すように、前記回転
円盤１０に対し、円盤径方向へ延び且つ円盤外縁側ほど
幅広のスリット１０ｋを複数個（本実施例では４個）形
成した実施例も考えられる。尚、前記スリット１０ｋ
は、円盤厚さ方向において、前記円盤１０の回転（その
回転方向は、図１３中の白抜矢符にて示す）に伴って前
記スリット１０ｋ内へ粉体が入り込むことを回避する方
向に傾斜させておくこととする。また、図１３におい
て、１６は攪拌用のフィンであり、単なる矢符は通気方
向を示している。

【００２６】〔別実施例〕本発明装置は、上述した粉体
の造粒を行う場合以外にも、水分や溶剤を含む湿潤粉体
を乾燥させる場合にも、また、粉体表面への適宜コーテ
ィング層のコーティングを行う場合にも有効に適用する
ことができる。また、本発明装置は、気体との接触によ
る化学反応に基づく粉体の調製を行う場合においても有
効に適用することができる。例えば、消石灰の粉体に塩
素ガスを接触させてサラシ粉を製造するときにも、本発
明装置を有効に適用することができる。更に、本発明装
置は、気体との接触による物理反応に基づく粉体の調製
を行う場合においても有効に適用することができる。例
えば、水素吸蔵物質に水素ガスを接触させて水素吸蔵物
質に水素を吸蔵させる場合にも、本発明装置を有効に適
用することができる。

【００２７】また、上述の各実施例においては、被処理
物の径が比較的小さい粉体に対して各種処理を行うため
に、本発明装置を適用したものであったが、被処理物の
径が比較的小さい粉体（粉粒体の一種）に対して各種処
理を行うときのみならず、被処理物の径が比較的大きい
粒体に対しても各種処理を行うときにおいても、本発明
装置を有効に適用することができる。即ち、粉体、粒体
を問わず、各種粉粒体に対して本発明装置を適用するこ
とができる。

【００２８】尚、特許請求の範囲の項に図面との対照を
便利にするために符号を記すが、該記入により本発明は
添付図面の構成に限定されるものではない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明装置（第１実施例）の要部を示す縦断面
図

【図２】本発明装置（第１実施例）の全体構成図

【図３】本発明装置（第２実施例）の要部を示す縦断面
図

【図４】その平面図

【図５】本発明装置（第３実施例）の要部を示す縦断面
図

【図６】本発明装置（第４実施例）の要部を示す縦断面
図

【図７】本発明装置（第５実施例）の要部を示す縦断面
図

【図８】本発明装置（第６実施例）の要部を示す縦断面
図

【図９】本発明装置（第７実施例）の要部を示す縦断面
図

【図１０】本発明装置（第８実施例）の要部を示す縦断
面図

【図１１】本発明装置（第９実施例）の要部を示す斜視
図

【図１２】その平面図

【図１３】本発明装置（第１１実施例）の要部を示す斜
視図

【図１４】本発明者等が先に提案した装置の要部を示す
縦断面図

【符号の説明】

１ケーシング１０回転円盤Ａ貯留部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｂ０５Ｃ 19/02 6804−4ＤＦ２６Ｂ 17/10 Ｂ 9140−3Ｌ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】粉粒体を貯留し、その貯留粉粒体に対し
て気体を接触させることを含む処理を行うための処理部
を、円筒状のケーシング（１）の下部に形成すべく、上
方空間が前記粉粒体の貯留部（Ａ）となる回転円盤（１
０）を、前記ケーシング（１）下部における鉛直方向の
回転軸芯周りに回転自在に設けてある粉粒体処理装置で
あって、前記回転円盤（１０）を、前記ケーシング（１）の底部
からの供給気体を受けてその気体を上向き又は斜め上向
きに通気させる通気体に構成し、その通気体の上向き通
気能力又は斜め上向き通気能力を外周側ほど大きく設定
してある粉粒体処理装置。