JP2009179427A - 搬送装置および真空成膜装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】大径部を有する段差付きローラによってシート状物を搬送すると共に、段差付きローラの小径部とシート状物との間隙を含む閉空間を形成して、この閉空間にガスを供給することにより、前記課題を解決する。
【選択図】図2
Description
また、これらの機能性フィルムの製造に、スパッタリングやプラズマCVD等の真空成膜法による成膜(薄膜形成)が利用されている。
このような成膜方法を実施する設備として、長尺な基板(ウェブ状の基板)をロール状に巻回してなる供給ロールと、成膜済の基板をロール状に巻回する巻取りロールとを用いる、いわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll)の成膜装置が知られている。このロール・ツー・ロールの成膜装置は、プラズマCVDによって基板に成膜を行なう成膜室を通過する所定の経路で、供給ロールから巻取りロールまで長尺な基板を挿通し、供給ロールからの基板の送り出しと、巻取りロールによる成膜済基板の巻取りとを同期して行いつつ、成膜室において、搬送される基板に連続的に成膜を行なう。
当然の事であるが、ローラ等の搬送手段は、シート状物を損傷することなく搬送することが要求される。ところが、回転速度や搬送速度の変動に起因するローラ周速とシート状物速度の速度差、シート状物のテンション変動等によって、ローラとシート状物とが摺接してしまい、これにより、シート状物の表面にスリ傷が入るなど、シート状物を損傷してしまう場合が有る。また、表面に軟性の有機膜等が形成されている場合などは、シート状物へのローラの押圧力によって、シート状物が損傷し、また、シート状物の表面性状が劣化してしまう可能性も有る。
また、シート状物の表面に真空成膜等によって成膜を行なう際に、シート状物の表面損傷や表面性状劣化が生じていると、結晶の適正な成長の妨げとなって、目的とする特性を有する薄膜が成膜できず、さらに、薄膜の割れや抜け等の原因ともなる。その結果、例えば、真空成膜法でガスバリア膜を成膜するガスバリアフィルムの製造や、真空成膜法で反射防止膜を成膜する光反射防止フィルムの製造など、機能性フィルムの製造等において、目的とする性能を有する製品が製造できず、歩留まりの低下等が生じてしまう。
このような問題を解決するために、各種のシート状物の搬送手段が提案されている。
また、両端に径の大きな大径部を有し、この大径部でシート状物の端部(幅方向(搬送方向と直交する方向)の端部)を支持してシート状物を搬送する、段差付きローラも知られている。
ところが、この搬送ローラは、シート状物の搬送中は、常にローラから気体を噴出させているので、前述のような真空成膜装置に利用した場合には、真空度の低下や変動、ガスコンタミの原因となり、成膜に悪影響を与える可能性が高いので、真空成膜装置に使用することは極めて困難である。
しかしながら、段差付きローラを用いた場合には、幅の広いシート状物や、重量が大きいシート状物では、シート状物の中央領域(幅方向の中央)の弛みやシワが生じてしまい、搬送が不安定になり、また、ローラとの接触/摺接によって、シート状物の損傷や表面性状の劣化が生じてしまう場合も有る。
また、前記ガス供給手段は、不活性ガスを前記閉空間に供給するのが好ましい。
しかも、段差付きローラとシート状物とを利用して閉空間を形成して、この閉空間にガスを導入するので、外部空間の圧力に与える影響も極めて少ない。従って、真空成膜装置にも、好適に利用可能である。
そのため、本発明の真空成膜装置によれば、基板の表面損傷や表面性状劣化に起因する、膜の結晶成長の悪化、膜の割れや抜け等の発生を抑制して、好適な膜を成膜でき、目的とする性能を有する製品を安定して製造できる。
この成膜装置10は、長尺な基板Zをロール状に巻回してなる基板ロール20から基板Zを送り出し、長手方向に搬送しつつ基板Zに成膜(膜の形成)を行なって、成膜した基板Zをロール状に巻き取る、前述のいわゆるロール・ツー・ロール(Roll to Roll)による成膜を行なう装置である。
供給室12、成膜室14および巻取り室16は、排気ライン24を介して真空排気手段22によって真空排気され、基板Zへの成膜に応じた所定の真空度(圧力)に保たれる。
本発明の成膜装置10において、真空排気手段22には、特に限定はなく、ターボポンプ、メカニカルブースターポンプ、ロータリーポンプなどの真空ポンプ、さらには、クライオコイル等の補助手段、到達真空度や排気量の調整手段等を利用する、真空成膜装置に用いられている公知の真空排気手段が、各種、利用可能である。
成膜装置10において、長尺な基板Zを巻回してなる基板ロール20は、供給室12の回転軸26に装填される。
基板ロール20が回転軸26に装填されると、基板Zは、基板ロール20から引き出されて、供給室12から、成膜室14を通り、巻取り室16の巻取り軸30に至る所定の搬送経路を通される(送通される)。成膜装置10においては、基板ロール20からの基板Zの送り出しと、巻取り軸30における機能性フィルム10の巻き取りとを同期して行なって、長尺な基板Zを所定の搬送経路で長手方向に搬送しつつ、基板Zへの成膜を連続的に行なう。
また、本発明のシート状物の搬送装置は、このような基板として利用可能なもの以外にも、長尺なシート状物であれば、各種のものが搬送可能である。
また、前述のように、供給室12には、排気ライン24を介して真空排気手段22が接続され、供給室12内を、成膜室14における成膜圧力に応じた所定の真空度(圧力)に減圧する。これにより、供給室12の圧力が、成膜室14の成膜に悪影響を与えることを防止する。
なお、図示例の成膜装置10は、好ましい態様として、供給室12および巻取り室16も真空排気して、成膜室14における成膜圧力に応じて、供給室12および巻取り室16も真空とするが、本発明は、これに限定はされない。例えば、供給室12および巻取り室16には、真空排気せずに、基板Zが通過するスリットを、基板Zに接触することなく、かつ、基板Zが通過可能な最小限のサイズとすることにより、成膜室14を略気密に構成してもよい。あるいは、供給室12および巻取り室16は、真空排気せずに、供給室12および巻取り室16と、成膜室14との間に、基板Zが通過するサブチャンバを設け、このサブチャンバ内を真空ポンプによって真空にしてもよい。
供給室12から供給された基板Zは、搬送装置34によって所定の経路で搬送され、ドラム36の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム36によって支持されて所定の搬送経路を搬送されつつ、成膜手段40によって所定の膜を成膜され、ガイドローラ38によって所定の搬送経路に案内されて、巻取り室16に搬送される。
なお、搬送装置34は、本発明のシート状物の搬送装置に掛かるものである。搬送装置34、すなわち本発明の搬送装置に関しては、後に詳述する。
シャワー電極42のドラム36との対向面には、全面に、かつ、均一な密度で、多数の貫通孔が形成される。また、シャワー電極42の内部空間には、ガス供給手段46(そのガス供給管46a)が接続される。
公知のガス供給手段は、ガスの供給源、流量の調製手段等、各種の真空成膜装置で利用されている公知のもので構成すればよい。
また、図示例の成膜室14においては、ドラム36は、シャワー電極42の対向電極として作用するように、接地(アース)されている。あるいは、ドラム36も、高周波電源に接続されてもよい。
この仕切り板48は、シャワー電極42から排出されたガスが不要な領域に拡散するもので、すなわち、基板Zの搬送方向における、実質的な成膜領域を規定する部材である。
これにより、反応ガスを励起してプラズマを生成し、基板Zの表面に、プラズマCVDによる成膜を行なう。
中でも、後述する本発明のシート状物の搬送装置の特性を考慮すると、各種のCVD法やスパッタリングのように、ガスの供給を必要とする真空成膜法は、好適である。
図2に、成膜室14の搬送装置34を例示して、本発明の搬送装置の一例を概念的に示す。なお、供給室12の搬送装置28(および、それ以外の本態様の搬送装置)は、段差付きローラに基板Zが巻き掛かる領域、および、段差付きローラに基板Zが巻き掛からない領域に応じて、ハウジング(筐体)が段差付きローラを覆おう領域やハウジングの形状が異なるのみであり、基本的な構成は、図2に示す構成と同様である。
なお、図1では、搬送装置34は、基板Zを水平方向から鉛直方向に搬送するので、搬送装置34は、図2(A)において、時計方向に45°程度回転した状態で配置される。
段差付きローラ52は、基板Zの搬送経路に応じて、大径部58に基板Zの端部を巻き掛けて、基板Zをドラム36に向かう所定の搬送経路に案内/搬送する。なお、基板Zの端部とは、基板Zの幅方向の端部で、すなわち搬送方向と直交する方向の端部である。
従って、搬送装置34においては、基板Zは、段差付きローラ52の大径部58にのみ接触/支持されて搬送され、小径部60には接触しない。
ここで、一般的に、長尺なシート状物、特に、表面に用途に応じた膜を成膜されてなる基板Zは、端部まで全てが製品として使用されることは無く、製品サイズ等に応じて端部近傍は切断され、あるいは、使用されても、目的とする機能を発現する必要がない場合が多い。すなわち、長尺なシート状物の端部すなわち基板Zの端部は、性能や特性が劣化あるいは低下していても、製品として問題は生じない。
言い換えれば、本発明のシート状物の搬送装置においては、段差付きローラの大径部は、搬送するシート状物(基板Z)が製品になった際に、除去される領域あるいは製品として作用(機能)する必要が無い端部に接触して、シート状物を搬送するのが好ましい。
すなわち、ハウジング54は、段差付きローラ52の基板Zが巻き掛けられていない領域(開放領域)に対応して、この開放領域を覆って閉塞し、段差付きローラ52および基板Zと共にチャンバ(室/部屋)を構成して、小径部60と基板Zとの間の空間を含む閉空間を形成する。
従って、本発明においては、ハウジング54(本発明を構成する閉空間の形成手段)が、段差付きローラ52および基板Zと共に形成する閉空間は、完全に密閉されない略閉空間であってもよい。具体的には、後述するガス供給による閉空間内のガス圧によって基板Zの中央領域を適正に支持できるように、前記小径部60と基板Zとの間を含む空間を、ハウジング54、段差付きローラ52および基板Zによって全体的に囲み込むようにすればよい。好ましくは、ハウジング54、段差付きローラ52および基板Zによって形成する閉空間は、前記小径部60と基板Zとの間を含み、かつ、段差付きローラ52の回転や基板Zの搬送を安定かつ安全に行なうための止むを得ない間隙以外を閉塞する、略閉空間である。
このガス供給手段56は、前記ガス供給手段46と同様、公知のものを用いればよい。
このような、シート状物の表面の損傷や表面性状の劣化は、例えば、光学フィルムであれば光の散乱等の原因となり、また、図示例のような真空成膜における基板Zであれば、成膜される膜の膜質劣化や、膜の割れ、抜けの原因となるのも、前述のとおりである。
従って、本発明の搬送装置34においては、段差付きローラ52に接触するのは、基板Zの端部のみであるので、製品になる中央領域は段差付きローラ52に接触しない。また、前記閉空間にガスを供給することにより、大径部58に支持されない基板Zの中央領域をガス圧(閉空間外部との差圧)によって支持できる。そのため、幅の広い基板Zや重量の有る基板Zでも、中央領域の弛みやシワを生じることを防止できるので、安定した基板Zの搬送が可能で、また、弛みによる基板Zの中央領域とローラとの接触/摺接、ローラによる押圧などによる基板Zの損傷や表面性状の劣化を、好適に防止できる。
しかも、本発明の搬送装置34を利用する本発明の成膜装置10によれば、真空成膜によって、基板Zの損傷や表面性状の劣化に起因する、膜質の低下や膜の割れや抜け等の無い、適正な膜を安定して成膜できる。すなわち、図示例の成膜装置10は、真空中で成膜面に接触する搬送手段に、本発明の搬送装置を利用することにより、成膜面の損傷や表面性状の劣化を好適に防止して、真空成膜による適正な膜の成膜を安定して行なうことを実現し、目的とする性能を有する製品を、安定して製造することを可能にしている。
なお、ガス供給手段56が閉空間に導入するガスは、1種には限定されず、複数種のガスを前記閉空間に導入してもよい。
このような構成を有することにより、搬送装置34の閉空間へのガスの供給が、成膜に与える影響を、大幅に低減できる。
成膜室14から搬送された成膜済の基板Zは、ガイドローラ64に案内されて巻取り軸30に搬送され、巻取り軸30によって、ロール状に巻回される。
なお、供給室12と同様、巻取り室16には、排気ライン24を介して真空排気手段22が接続され、巻取り室16内を、成膜室14における成膜圧力に応じた真空度に減圧することにより、成膜室14の圧力に悪影響を与えることを防止する。
しかしながら、本発明の真空成膜装置は、これに限定はされず、成膜面に接触する搬送手段を、全て、本発明の搬送装置としてもよい。あるいは、成膜した膜の表面のみを保護すれば良い場合には、ドラム36(成膜領域)よりも下流の成膜面に接触する搬送手段のみ、本発明の搬送装置としてもよい。さらに、基板Zの裏面(成膜面と逆面)を保護したい場合には、基板Zの裏面に接触する搬送手段を、本発明の搬送装置としてもよい。
この搬送装置70も、両端に大径部74を有する段差付きローラ72を用い、この大径部74に基板Zの両端部を巻き掛けて、基板Z(長尺なシート状物)を所定の方向に搬送/案内する。
また、段差付きローラ72の小径部76は中空状で、小径部76を貫通する貫通孔78が形成される。さらに、図3では省略するが、この小径部76の内部には、前述のガス供給手段56が接続され、ガスが供給される。
第1ローラ80および第2ローラ82は、段差付きローラ72の大径部74と共に、基板Zを挟持搬送するニップローラである。図3に示すように、搬送装置70に搬送された基板Zは、第1ローラ80に案内されて大径部74に巻き掛けられて搬送され、第2ローラ82に案内されて大径部74から離脱して所定の方向に搬送される。すなわち、基板Zは、第1ローラ80から第2ローラ82に至るまでの間、段差付きローラ72の大径部74に巻き掛かっている。
すなわち、この搬送装置70においては、段差付きローラ72と共に基板Zを挟持する2本のニップローラを用いて、段差付きローラ72の大径部74の略全周に基板Zを巻き掛けることにより、基板Zと小径部76との間を含む閉空間を段差付きローラ72と基板Zとで形成する。言い換えれば、この態様では、段差付きローラ72と基板Zのみでチャンバを構成して、段差付きローラ72の凹部を閉空間とする。
また、前述のように、段差付きローラ72の小径部76から、基板Zと小径部76との間に、ガス供給手段56からガスが供給される。小径部76には、貫通孔78が形成されるので、ガスは、段差付きローラ72と基板Zとで形成された閉空間に供給される。
また、閉空間を形成して、基板Zと小径部76との間を含む閉空間にガスを導入するので、真空成膜装置にも、好適に利用可能である。
12 供給室
14 成膜室
16 巻取り室
20 基板ロール
22 真空排気手段
24 排気ライン
26 回転軸
28,34,70 搬送装置
30 巻取り軸
36 ドラム
38,64 ガイドローラ
40 成膜手段
42 シャワー電極
44 高周波電源
46,56 ガス供給手段
52,72 段差付きローラ
54 ハウジング
58,74 大径部
60,76 小径部
78 貫通孔
80 第1ローラ
82 第2ローラ
Z 基板
Claims (7)
- 長尺なシート状物を、このシート状物の長手方向に搬送する搬送装置であって、
前記シート状物の搬送方向と直交する方向に離間して、他の領域よりも径の大きな大径部を有し、この大径部で前記シート状物を支持して搬送する段差付きローラと、
前記段差付きローラの小径部と前記シート状物との間を含む閉空間を形成する手段と、
前記閉空間にガスを供給するガス供給手段とを有することを特徴とする搬送装置。 - 前記閉空間を形成する手段が、前記段差付きローラにシート状物が巻き掛かっていない領域に対応して、この領域を閉塞する筐体であり、
前記ガス供給手段は、この筐体内にガスを供給する請求項1に記載の搬送装置。 - 前記閉空間を形成する手段が、前記シート状物を段差付きローラの大径部の略全周に巻き掛けて、前記大径部と共に前記シート状物を挟持搬送する挟持搬送手段であり、
前記ガス供給手段は、前記段差付きローラの小径部から、前記閉空間にガスを導入する請求項1に記載の搬送装置。 - 前記ガス供給手段は、不活性ガスを前記閉空間に供給する請求項1〜3のいずれかに記載の搬送装置。
- 長尺な基板を長手方向に搬送しつつ、前記基板の表面に真空成膜法によって成膜する真空成膜装置であって、
真空チャンバと、
長尺な基板を所定の経路で長手方向に搬送する、前記請求項1〜4のいずれかに記載の搬送装置を含む搬送手段と、
前記搬送手段によって搬送される基板に、真空成膜法による成膜を行なう成膜手段とを有することを特徴とする真空成膜装置。 - 前記成膜手段は、ガスの供給を必要とする成膜方法によって前記基板に成膜を行なうものであり、前記搬送装置のガス供給手段は、前記成膜手段による成膜のために供給されるガスの少なくとも1種を、前記閉空間に供給する請求項5に記載の真空成膜装置。
- 前記搬送手段は、前記搬送装置の段差付きローラの大径部が、前記基板の成膜面に接触するように、前記基板を搬送する請求項5または6に記載の真空成膜装置。
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