JP2009176344A - 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 87
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 82
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 108
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 74
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 34
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 46
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 31
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 18
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 claims description 8
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 4
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 12
- -1 abrasive residues Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 description 6
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 6
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 5
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 4
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 3
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 2
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 238000010835 comparative analysis Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000010365 information processing Effects 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000006748 scratching Methods 0.000 description 1
- 230000002393 scratching effect Effects 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical class [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Images
Abstract
【課題】ガラス基板に磁性膜等の情報記録膜を形成した情報記録媒体において、その表面への突起の形成を抑制でき表面の平滑性を向上させることが可能な情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程PR1と、研磨工程PR1の後に、洗浄液を用いてガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程PR2と、スクラブ洗浄工程PR2の後にガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程PR3とを有し、スクラブ洗浄工程PR2の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる。
【選択図】図1
【解決手段】情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程PR1と、研磨工程PR1の後に、洗浄液を用いてガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程PR2と、スクラブ洗浄工程PR2の後にガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程PR3とを有し、スクラブ洗浄工程PR2の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる。
【選択図】図1
Description
本発明は、ハードディスクドライブ用の情報記録媒体である磁気ディスク(ハードディスク)に用いる情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法に関する。
情報処理機器に代表される電気製品に用いられるガラス基板には、高い清浄度が求められる。また、ハードディスクドライブ記憶装置に用いられる化学強化ガラス基板では、大容量化に伴い、磁気ヘッド浮上高さ(フライングハイト:frying height)を低減するために、表面に突起が存在せず、平滑性の高いガラス基板が必要とされる。このような化学強化ガラス基板は、その表面に情報記録膜を形成することにより、情報記録媒体として供される。情報記録の高密度化のためには、例えば、ハードディスクドライブでは、磁気ヘッドと情報記録媒体との間隔を小さくする必要がある。
ハードディスクドライブにおいて、磁気ヘッドと情報記録媒体との衝突は、ガラス基板の表面に存在する突起の存在が原因の1つとして発生する。この突起は、ガラス基板表面に付着した異物が原因で形成される。ガラス基板上の異物除去方法については従来から研究が行われているが、低フライングハイト化が進むにつれて平滑性に関する要求が厳しくなり、従来ならば問題とならないような微小な異物も欠点の原因とされるようになってきた。
ガラス基板の平滑化のためには、通常、酸化セリウムやコロイダルシリカを用いた研磨を行う(例えば、特許文献1、2参照)。ガラス基板表面を平滑したのちに化学強化を行うことにより、ガラス基板の強度を向上させる。
ガラス基板上の異物の種類としては、研磨剤残渣、ガラス研磨くず、微小な鉄粉、ステンレス片などの金属を含む粒子等がある。例えば、研磨剤残渣、ガラス研磨くず、鉄粉などの粒子がガラス基板に付着した状態、あるいは、化学強化処理液中に鉄粉などの粒子が存在する状態で化学強化処理を行うと、化学強化工程で起こる酸化反応と加熱作用とによって、ガラス基板上にこの粒子が固着して突起が形成されることが知られている( 例えば、特許文献3参照)。
このような研磨剤残渣、ガラス研磨くず、鉄粉などの粒子が付着したガラス基板上に、磁性膜等からなる情報記録膜を形成すると、突起が形成されてしまい、欠陥の原因となる。この突起は、現在知られている一般的なガラス洗浄方法を用いた場合、化学強化工程後における洗浄では、その除去が困難であるということが知られている。したがって、突起形成を抑制するためには、化学強化工程前および強化工程中において、粒子の付着を抑制することが必要である。
鉄粉などの粒子を除去する一つの方法としては、化学強化室内の雰囲気から鉄粉等の異物を除去するために、クリーンルーム内において化学強化工程を行う方法が提案されている(例えば、特許文献4−6等参照)。
鉄粉などの粒子を除去する他の方法としては、化学強化塩中に含まれる鉄粉等を除去するために、フィルタリング等の方法で鉄粉含有量を少なくした強化塩を使用する方法(例えば、特許文献7−9参照)、発塵の少ないガラス保持具を使用する方法、発塵の少ない強化槽を使用する方法などが提案されている(例えば、特許文献10−13参照)。また、研磨剤残渣やガラス研磨くずを除去する方法の一つとしては、研磨後に酸やアルカリによりガラスのエッチングを行い、リフトオフにより除去する技術が提案されている(例えば、特許文献14−33参照)。この方法では、酸もしくはアルカリを用いてガラス表面をエッチングするため、異物部分がマスクとなった場合になだらかな突起が生成される。さらには表面の粗さ制御が難しいという欠点がある。
研磨後に砥粒を用いてスクラブを行う方法は、例えば、特許文献34−36に開示されている。
特許文献36が開示する技術は、ダイヤやアルミナ等の研磨剤により表面を研磨するが、ガラスよりも砥粒が硬いため表面にキズ(テクスチャ)がついてしまう欠点がある。
また、特許文献34及び特許文献35が開示する技術は、酸やアルカリ洗浄後に懸濁液を用いたスクラブ洗浄を行うものであるが、懸濁液が残渣となる可能性がある。
また、特許文献37は二酸化珪素の粒子を主成分とする懸濁液を洗浄液としてガラス基板にスクラブ洗浄を施し、その後にガラス基板を形成するガラス材料に対してエッチング能を有する洗浄薬液を使用して洗浄処理を施す技術を開示する。
特許文献36が開示する技術は、ダイヤやアルミナ等の研磨剤により表面を研磨するが、ガラスよりも砥粒が硬いため表面にキズ(テクスチャ)がついてしまう欠点がある。
また、特許文献34及び特許文献35が開示する技術は、酸やアルカリ洗浄後に懸濁液を用いたスクラブ洗浄を行うものであるが、懸濁液が残渣となる可能性がある。
また、特許文献37は二酸化珪素の粒子を主成分とする懸濁液を洗浄液としてガラス基板にスクラブ洗浄を施し、その後にガラス基板を形成するガラス材料に対してエッチング能を有する洗浄薬液を使用して洗浄処理を施す技術を開示する。
情報記録媒体の記憶容量のさらなる増大化は、これまで以上のガラス基板の平滑性を必要とし、ガラス基板を研磨するために研磨砥粒の粒子径も小さいものが求められる。そのため、様々な洗浄方法が提案されているが、完全には異物を取り除くことができず、目的の洗浄品質を持つガラス基板を得ることが困難であった。
本発明は、上記の事情に鑑みて成されたものであり、その目的は、ガラス基板に磁性膜等の情報記録膜を形成した情報記録媒体において、その表面への突起の形成を抑制でき表面の平滑性を向上させることが可能な情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法を提供することにある。
本発明に係る情報記録媒体用ガラス基板の製造方法は、情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程と、前記研磨工程の後に、洗浄液を用いて前記ガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程と、前記スクラブ洗浄工程の後に前記ガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程とを有し、前記スクラブ洗浄工程の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる、ことを特徴とする。
上記構成において、前記研磨工程に用いる研磨砥粒が、酸化セリウム及びコロイダルシリカの少なくとも1つから選択される、構成を採用できる。
上記構成において、前記酸化亜鉛微粒子の平均粒径が0.5μm以下である、構成を採用できる。
上記構成において、前記酸洗浄工程に用いられる酸が、pH4以下である、構成を採用できる。
本発明に係る情報記録媒体の製造方法は、情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程と、前記研磨工程の後に、洗浄液を用いて前記ガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程と、前記スクラブ洗浄工程の後に前記ガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程と、前記ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成する磁性層形成工程と、を有し、前記スクラブ洗浄工程の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる、ことを特徴とする。
本発明に係る情報記録媒体用ガラス基板は、磁気ディスク用ガラス基板請求項1ないし4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板であって、磁気抵抗型ヘッドで再生される磁気ディスクの製造に用いられるガラス基板であることを特徴とする。
本発明によれば、表面への突起の形成が抑制され、平滑性に優れた情報記録媒体用ガラス基板が得られる。
以下、本発明の最良の実施形態について、添付図面を参照しつつ説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る情報記録媒体及びこれに用いるガラス基板の製造方法の工程図である。
本実施形態に係る製造方法は、研磨工程PR1と、スクラブ洗浄工程PR2と、酸洗浄工程PR3と、磁性層形成工程PR4とを含む。
図1は、本発明の一実施形態に係る情報記録媒体及びこれに用いるガラス基板の製造方法の工程図である。
本実施形態に係る製造方法は、研磨工程PR1と、スクラブ洗浄工程PR2と、酸洗浄工程PR3と、磁性層形成工程PR4とを含む。
研磨工程PR1は、酸化セリウムやシリカ(酸化ケイ素)を主成分とする研磨剤でガラス基板を仕上げ研磨する。ガラス基板は、例えば、磁気抵抗型ヘッドで再生される磁気ディスクの製造に用いられるガラス基板である。
スクラブ洗浄工程PR2は、研磨工程PR1の後に、酸化亜鉛微粒子を含む洗浄液を用いてガラス基板をスクラブ洗浄する。洗浄液は、溶媒が例えば、水であり、この溶媒に0.5μm以下の酸化亜鉛微粒子を分散させたものを用いることが好ましい。
また、洗浄液に含まれる界面活性剤は、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも1種を用いることが好ましい。界面活性剤として、アニオン系界面活性剤を用いる場合には、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、燐酸エステル塩の低分子の化合物及び高分子型化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種が用いられることが好ましい。界面活性剤として、ノニオン系界面活性剤を用いる場合には、多価アルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、脂肪酸酸化エチレン、ポリプロピレングリコール酸化エチレン、脂肪族アミンおよび脂肪族アミドの酸化エチレン化合物、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルからなる群から選ばれた少なくとも1種が用いられることが好ましい。
また、洗浄液に含まれる界面活性剤は、アニオン系界面活性剤及びノニオン系界面活性剤からなる群から選ばれた少なくとも1種を用いることが好ましい。界面活性剤として、アニオン系界面活性剤を用いる場合には、例えば、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸エステル塩、燐酸エステル塩の低分子の化合物及び高分子型化合物からなる群から選ばれた少なくとも1種が用いられることが好ましい。界面活性剤として、ノニオン系界面活性剤を用いる場合には、多価アルコール、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、脂肪酸酸化エチレン、ポリプロピレングリコール酸化エチレン、脂肪族アミンおよび脂肪族アミドの酸化エチレン化合物、ポリオキシエチレン脂肪酸エステルからなる群から選ばれた少なくとも1種が用いられることが好ましい。
酸洗浄工程PR3は、スクラブ洗浄工程PR2の後に、ガラス基板を酸洗浄する。酸洗浄溶液には、無機酸もしくは有機酸溶液が用いられる。酸洗浄溶液として無機酸を用いる場合には、塩酸、硫酸、硝酸等から選ばれ、pH4以下に調整された酸洗浄溶液を用いることが好ましい。酸洗浄溶液として有機酸を用いる場合には、カルボン酸等から選ばれ、pH4以下に調整された酸洗浄溶液を用いることが好ましい。
磁性層形成工程PR4は、研磨、洗浄後のガラス基板に少なくとも磁性層を形成し、ハードディスクとする工程である。
以下、本発明の実施例を説明する。なお、本発明は、その要旨を超えない限り、以下に説明する実施例の構成に限定されるものではない。
研磨工程
平均粒径0.1μm、または、0.02μmのコロイダルシリカを約10wt%含み、pHが9.5に調整されたスラリを用いて、ガラス基板を以下に示す表1の研磨条件で仕上げ研磨した。
平均粒径0.1μm、または、0.02μmのコロイダルシリカを約10wt%含み、pHが9.5に調整されたスラリを用いて、ガラス基板を以下に示す表1の研磨条件で仕上げ研磨した。
スクラブ洗浄工程
(1) 酸化亜鉛洗浄剤の調整
平均粒径0.1〜0.5μm(3wt%)とポリオキシエチレンアルキルエーテル(5wt%)、純水(92wt%)を混ぜ合わせ、超音波で攪拌して分散させた。
酸化亜鉛微粒子でのコンタクト洗浄は、ガラス表面にスクラッチを入れずにコロイダルシリカを除去することを目的にしているので、酸化亜鉛微粒子の平均粒径は0.5μm以下であれば粒度分布は問わないが、微小なコロイダルシリカを除去することを目的とする場合、酸化亜鉛微粒子の平均粒径は微小なものが好ましい。
(2)ガラス基板のコンタクトクリーニング(スクラブ洗浄)
研磨後のガラス基板を、対抗する一組の円形のPVA(ポリビニルアルコール)スポンジ(アイオン社製)に、洗浄剤を供給しながら挟み込み、基板とスポンジを回転させながら洗浄を行った。
尚、酸化亜鉛微粒子でのコンタクト洗浄後も多段での酸を用いたコンタクト洗浄を行っても良いが、酸化亜鉛を酸で溶解除去すると言う観点からは、浸漬洗浄がより好ましい。
また、コンタクトクリーニングに用いられるスポンジは研磨等に用いられるパッドを用いても良く、材質も発泡タイプ、不織布タイプ、スエードタイプまたは積層タイプなどがあるが、その材質や構造などは特に限定されるものではない。
(1) 酸化亜鉛洗浄剤の調整
平均粒径0.1〜0.5μm(3wt%)とポリオキシエチレンアルキルエーテル(5wt%)、純水(92wt%)を混ぜ合わせ、超音波で攪拌して分散させた。
酸化亜鉛微粒子でのコンタクト洗浄は、ガラス表面にスクラッチを入れずにコロイダルシリカを除去することを目的にしているので、酸化亜鉛微粒子の平均粒径は0.5μm以下であれば粒度分布は問わないが、微小なコロイダルシリカを除去することを目的とする場合、酸化亜鉛微粒子の平均粒径は微小なものが好ましい。
(2)ガラス基板のコンタクトクリーニング(スクラブ洗浄)
研磨後のガラス基板を、対抗する一組の円形のPVA(ポリビニルアルコール)スポンジ(アイオン社製)に、洗浄剤を供給しながら挟み込み、基板とスポンジを回転させながら洗浄を行った。
尚、酸化亜鉛微粒子でのコンタクト洗浄後も多段での酸を用いたコンタクト洗浄を行っても良いが、酸化亜鉛を酸で溶解除去すると言う観点からは、浸漬洗浄がより好ましい。
また、コンタクトクリーニングに用いられるスポンジは研磨等に用いられるパッドを用いても良く、材質も発泡タイプ、不織布タイプ、スエードタイプまたは積層タイプなどがあるが、その材質や構造などは特に限定されるものではない。
酸洗浄工程
(1)洗浄
スクラブ洗浄後の基板を酸洗浄機用カセットに搭載し、酸洗浄機により浸漬洗浄を行った。浸漬洗浄は完全に酸化亜鉛微粒子を除去することを目的としているので、1槽で行っても良いが純水リンスと組み合わせての、多段での浸漬洗浄が好ましく、繰り返し行っても良い。
(2)洗浄品質評価
ガラス基板の洗浄品質の評価であるパーティクルカウントおよびスクラッチカウントは、OSA-6100(KLA-Tencor 社製)を用いて行った。
(1)洗浄
スクラブ洗浄後の基板を酸洗浄機用カセットに搭載し、酸洗浄機により浸漬洗浄を行った。浸漬洗浄は完全に酸化亜鉛微粒子を除去することを目的としているので、1槽で行っても良いが純水リンスと組み合わせての、多段での浸漬洗浄が好ましく、繰り返し行っても良い。
(2)洗浄品質評価
ガラス基板の洗浄品質の評価であるパーティクルカウントおよびスクラッチカウントは、OSA-6100(KLA-Tencor 社製)を用いて行った。
以下、表2に示す実施例1−13、比較例1−4について説明する。
実施例1は、研磨装置に20枚ガラス基板を並べ、平均粒径0.1μmのコロイダルシリカを供給しながら研磨を行った。
また、研磨後のガラス基板を、対抗する一組のPVAスポンジに平均粒径0.1μmの酸化亜鉛洗浄剤を供給しながら挟み込み、基板とスポンジを回転させながら洗浄を行った。さらに、スクラブ洗浄後のガラス基板を、酸洗浄機用カセット(20枚)に搭載し、pH1.5に調整した硫酸水溶液を洗浄槽に建浴してある洗浄機により浸漬洗浄を行った。
上記工程を5回繰り返し、ガラス基板を100枚準備して行った。ガラス基板の洗浄品質評価は、OSA−6100を用いて行い、パーティクルおよびスクラッチの面あたり個数の測定を行った。
また、研磨後のガラス基板を、対抗する一組のPVAスポンジに平均粒径0.1μmの酸化亜鉛洗浄剤を供給しながら挟み込み、基板とスポンジを回転させながら洗浄を行った。さらに、スクラブ洗浄後のガラス基板を、酸洗浄機用カセット(20枚)に搭載し、pH1.5に調整した硫酸水溶液を洗浄槽に建浴してある洗浄機により浸漬洗浄を行った。
上記工程を5回繰り返し、ガラス基板を100枚準備して行った。ガラス基板の洗浄品質評価は、OSA−6100を用いて行い、パーティクルおよびスクラッチの面あたり個数の測定を行った。
実施例2は、酸洗浄にpH2に調整した硫酸水溶液を用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例3は、酸洗浄にpH3に調整した硫酸水溶液を用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例4は、酸洗浄にpH4に調整した硫酸水溶液を用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例5は、酸化亜鉛洗浄剤に用いる酸化亜鉛の平均粒径を0.2μmにした以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例6は、酸化亜鉛洗浄剤に用いる酸化亜鉛の平均粒径を0.3μmにした以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例7は、酸化亜鉛洗浄剤に用いる酸化亜鉛の平均粒径を0.4μmにした以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例8は、酸化亜鉛洗浄剤に用いる酸化亜鉛の平均粒径を0.5μmにした以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例9は、酸洗浄にpH3に調整した硝酸水溶液用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例10は、酸洗浄にpH3に調整した塩酸水溶液用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例11は、酸洗浄にpH3に調整したクエン酸水溶液用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例12は、酸洗浄にpH3に調整したリンゴ酸水溶液用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例13は、研磨に平均粒径0.02μm程度のコロイダルシリカ用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
比較例1は、スクラブ洗浄に純水を用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
比較例2は、酸洗浄にpH5に調整した硫酸水溶液を用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
比較例3は、酸化亜鉛洗浄剤に用いる酸化亜鉛の平均粒径を1.0μmにした以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
比較例4は、酸化亜鉛洗浄剤に用いる酸化亜鉛の平均粒径を1.0μmにし、さらには酸洗浄にpH5に調整した硫酸水溶液を用いた以外は実施例1と同様な工程で評価を行った。
実施例と比較例の比較評価
実施例1〜13は、0.5μm以下の酸化亜鉛微粒子を含む洗浄剤によりガラス基板の表面に残るコロイダルシリカ残渣、または、ガラス研磨屑が完全除去され、続くpH4以下の酸溶液による浸漬洗浄により酸化亜鉛微粒子も完全に除去されており、良好な情報記録媒体用のガラス基板が得られていることが判る。
実施例1〜13は、0.5μm以下の酸化亜鉛微粒子を含む洗浄剤によりガラス基板の表面に残るコロイダルシリカ残渣、または、ガラス研磨屑が完全除去され、続くpH4以下の酸溶液による浸漬洗浄により酸化亜鉛微粒子も完全に除去されており、良好な情報記録媒体用のガラス基板が得られていることが判る。
比較例1は、スクラブ洗浄の洗浄剤に酸化亜鉛微粒子を用いなかったために、コロイダルシリカの残渣また、ガラス研磨くずが基板上に残っているのがわかる。
比較例2は、酸洗浄に用いられる酸洗浄溶液のpHが高いために、洗浄剤に用いた酸化亜鉛微粒子が溶解できずに基板上に残っているのがわかる。
比較例3は、洗浄剤に用いた酸化亜鉛微粒子の粒径が大きいために、スクラブ洗浄でスクラッチが発生しているのがわかる。
比較例4は、酸洗浄に用いられる酸洗浄溶液のpHが高いために、洗浄剤に用いた酸化亜鉛微粒子が溶解できずに基板上に残っているのがわかる。また、洗浄剤に用いた酸化亜鉛微粒子の粒径が大きいために、スクラブ洗浄でスクラッチが発生しているのがわかる。
以上の結果より、研磨後のスクラブ洗浄で用いる洗浄剤に含まれる酸化亜鉛微粒子の平均粒径は0.55μm以下であること、スクラブ洗浄後の酸洗浄で用いる酸のpHが4以下であることが必要であるとの知見が得られた。
PR1…研磨工程
PR2…スクラブ洗浄工程
PR3…酸洗浄工程
PR4…磁性層形成工程
PR2…スクラブ洗浄工程
PR3…酸洗浄工程
PR4…磁性層形成工程
Claims (6)
- 情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程と、
前記研磨工程の後に、洗浄液を用いて前記ガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程と、
前記スクラブ洗浄工程の後に前記ガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程とを有し、
前記スクラブ洗浄工程の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる、ことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨工程に用いる研磨砥粒が、酸化セリウム及びコロイダルシリカの少なくとも1つから選択される、
ことを特徴とする請求項1に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記酸化亜鉛微粒子の平均粒径が0.5μm以下である、ことを特徴とする請求項1又は2に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 前記酸洗浄工程に用いられる酸が、pH4以下であることを特徴とする、請求項1ないし3のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
- 情報記録媒体用のガラス基板を研磨砥粒を主成分として研磨加工する研磨工程と、
前記研磨工程の後に、洗浄液を用いて前記ガラス基板の表面をスクラブ洗浄するスクラブ洗浄工程と、
前記スクラブ洗浄工程の後に前記ガラス基板の表面を酸洗浄する酸洗浄工程と、
前記ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成する磁性層形成工程と、を有し、
前記スクラブ洗浄工程の洗浄液に酸化亜鉛微粒子を含有する洗浄液を用いる、ことを特徴とする情報記録媒体の製造方法。 - 請求項1ないし4に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造されたガラス基板であって、磁気抵抗型ヘッドで再生される磁気ディスクの製造に用いられるガラス基板であることを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008011815A JP2009176344A (ja) | 2008-01-22 | 2008-01-22 | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
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ID=41031281
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JP (1) | JP2009176344A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113021081A (zh) * | 2019-12-23 | 2021-06-25 | 福旸技术开发有限公司 | 玻璃基板表面粗糙化的方法 |
-
2008
- 2008-01-22 JP JP2008011815A patent/JP2009176344A/ja active Pending
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