JP2009175088A - 半導体圧力センサ - Google Patents
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Abstract
【課題】バイアス印加後からセンサの温度が定常状態になるまでの間のオフセット電圧の変動を小さくする。
【解決手段】半導体層2b及び絶縁体層2cの対角線上の角領域に凹部が形成され、この凹部から露出する半導体層2a表面には高濃度のn型不純物を拡散させることにより高濃度n型不純物領域4a,4bが形成されている。またこの高濃度n型不純物領域4a,4b表面にはヒーター電極5a,5bが形成されている。
【選択図】図1
【解決手段】半導体層2b及び絶縁体層2cの対角線上の角領域に凹部が形成され、この凹部から露出する半導体層2a表面には高濃度のn型不純物を拡散させることにより高濃度n型不純物領域4a,4bが形成されている。またこの高濃度n型不純物領域4a,4b表面にはヒーター電極5a,5bが形成されている。
【選択図】図1
Description
本発明は、複数のピエゾ抵抗素子により構成されるブリッジ回路を利用してダイヤフラム部に加えられた圧力を検出する半導体圧力センサに関する。
従来より、ダイヤフラム部表面の離間した複数位置にピエゾ抵抗素子を配置し、このピエゾ抵抗素子によりブリッジ回路を構成することにより、圧力を受けた際にダイヤフラム部に生じる撓みをピエゾ抵抗素子の抵抗値の変化に伴う印加バイアスに対するブリッジ回路の出力電圧の変化として検出する半導体圧力センサが知られている。
特開2001−281085号公報
上記のような構成を有する半導体圧力センサでは、ピエゾ抵抗素子は基板の結晶方位を考慮して配置する必要がある。またセンサ感度を得るためには、ピエゾ抵抗素子はダイヤフラム部に発生する応力の位置を考慮して配置する必要がある。このため従来の半導体圧力センサでは、複数のピエゾ抵抗素子はダイヤフラム部のエッジ部や中央部に配置され、全てのピエゾ抵抗素子が隣接配置されているわけではない。しかしながらこのような複数のピエゾ抵抗素子の配置によれば、バイアス印加後からセンサの温度が定常状態になるまでの間、ピエゾ抵抗素子間に温度差が生じるために、ピエゾ抵抗素子の抵抗値の温度依存性に由来してオフセット電圧(センサに圧力が印加されていない時のブリッジ回路の出力電圧値)の変動が発生する。
本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、バイアス印加後からセンサの温度が定常状態になるまでの間のオフセット電圧の変動を小さくすることが可能な半導体圧力センサを提供することにある。
本発明の第1の態様に係る半導体圧力センサは、第1半導体層と第2半導体層により絶縁体層を挟持する構造を有し、裏面側を加工することにより形成されたダイヤフラム部を備える半導体基板と、ダイヤフラム部の裏面に対応する第2半導体層表面に形成され、ダイヤフラム部に加えられた圧力を抵抗値変化として検出する複数のピエゾ抵抗素子と、第2半導体層表面に形成され、複数のピエゾ抵抗素子を接続してブリッジ回路を構成する拡散リード線と、第1半導体層に電圧を印加するヒーター電極とを有する。
本発明の第2の態様に係る半導体圧力センサは、第1半導体層と第2半導体層により絶縁体層を挟持する構造を有し、裏面側を加工することにより形成されたダイヤフラム部を備える半導体基板と、ダイヤフラム部の裏面に対応する第2半導体層表面に形成され、ダイヤフラム部に加えられた圧力を抵抗値変化として検出する複数のピエゾ抵抗素子と、第2半導体層表面に形成され、複数のピエゾ抵抗素子を接続してブリッジ回路を構成する拡散リード線と、第2半導体層及び絶縁体層の周部を除去することによりに形成された凹部と、凹部において露出する第1半導体層表面に形成された抵抗素子と、抵抗素子に電圧を印加するヒーター電極とを有する。
本発明に係る半導体圧力センサによれば、ヒーター電極に電圧を印加することにより発生する熱を利用して半導体圧力センサ全体を速やかに昇温できるので、バイアス印加後にバイアス印加後からセンサの温度が定常状態になるまでの時間が短縮され、センサ全体の温度が瞬時的に定常状態となる。このため本発明に係る半導体圧力センサによれば、ピエゾ抵抗素子の抵抗値の温度依存性に由来したオフセット電圧の変動を小さくできる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態となる半導体圧力センサについて説明する。
〔第1の実施形態〕
始めに、図1(a)〜(c)を参照して、本発明の第1の実施形態となる半導体圧力センサの構成について説明する。
始めに、図1(a)〜(c)を参照して、本発明の第1の実施形態となる半導体圧力センサの構成について説明する。
本発明の第1の実施形態となる半導体圧力センサ1は、図1(a),(b)に示すように、n型の半導体層(例えばSi)2aと半導体層2bにより絶縁体層(例えばSiO2)2cを挟持するSOI基板2と、SOI基板2の半導体層2aを加工することにより形成されたダイヤフラム部3と、ダイヤフラム部3の裏面に対応する半導体層2b表面に低濃度のp型不純物を注入することにより形成された、ダイヤフラム部3に加えられた圧力を抵抗値変化として検出する複数のピエゾ抵抗素子R1〜R4とを備える。なお本実施形態では、ダイヤフラム部3は半導体層2aを加工することにより半導体層2aと半導体層2bにより絶縁体層2cを挟持する構成になっているが、絶縁体層2cと半導体層2b又は半導体層2bのみによりダイヤフラム部3を形成するようにしてもよい。
ピエゾ抵抗素子R1の一方端は拡散リード線L1を介して電圧出力端子Vout+に接続され、他方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L4を介して接地端子GNDに接続されている。ピエゾ抵抗素子R2の一方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L2を介してバイアス電圧印加用端子Vddに接続され、他方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L1を介して電圧出力端子Vout+に接続されている。
ピエゾ抵抗素子R3の一方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L3を介して電圧出力端子Vout−に接続され、他方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L2を介してバイアス電圧印加用端子Vddに接続されている。ピエゾ抵抗素子R4の一方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L4を介して接地端子GNDに接続され、他方端は半導体層2b表面に形成された拡散リード線L3を介して電圧出力端子Vout−に接続されている。各拡散リード線は半導体層2b表面に高濃度のp型不純物を拡散させることにより形成される。
このような構成を有する半導体圧力センサ1では、ピエゾ抵抗素子R1〜R4は図1(c)に示すようなブリッジ回路を構成している。すなわち、ピエゾ抵抗素子R1及びピエゾ抵抗素子R3とピエゾ抵抗素子R2及びピエゾ抵抗素子R4とがそれぞれ対になってブリッジ回路上で対向配置されている。このような構成によれば、ダイヤフラム部3の一方の表面に圧力が加わると、ダイヤフラム部3の上面と下面との間に差圧が生じることによってダイヤフラム部3に撓みが生じ、この撓みによってピエゾ抵抗素子を構成する結晶が歪んで抵抗値が変化する。そしてピエゾ抵抗素子の抵抗値の変化をブリッジ回路を利用してバイアス電圧印加用端子Vddに印加されたバイアス電圧Biasに対する電圧変化として出力端子Vout+,Vout−から検出する。
この半導体圧力センサ1では、図1(a),(b)に示すように、半導体層2b及び絶縁体層2cの対角線上の角領域に凹部が形成され、この凹部から露出する半導体層2a表面には高濃度のn型不純物を拡散させることにより高濃度n型不純物領域4a,4bが形成されている。またこの高濃度n型不純物領域4a,4b表面にはヒーター電極5a,5bが形成されている。このような構成によれば、バイアス電圧印加用端子Vddにバイアス電圧Biasを印加する際、ヒーター電極5a,5b間にもバイアス電圧を印加することにより半導体層2aに熱を発生させ、この熱により半導体圧力センサ1全体を速やかに昇温することができるので、バイアス印加後からセンサの温度が定常状態になるまでの時間が短縮され、センサ全体の温度が瞬時的に定常状態となる。このためピエゾ抵抗素子の抵抗値の温度依存性に由来したオフセット電圧の変動を小さくできる。なおバイアス電圧印加用端子Vdd及びヒーター電極5a,5b間に印加する電圧は同じであっても異なるようにしてもよい。
〔第2の実施形態〕
次に、図2(a),(b)を参照して、本発明の第2の実施形態となる半導体圧力センサの構成について説明する。
次に、図2(a),(b)を参照して、本発明の第2の実施形態となる半導体圧力センサの構成について説明する。
本発明の第2の実施形態となる半導体圧力センサ1では、図2(a),(b)に示すように、拡散リード線L1〜L4及び電極端子を囲む半導体層2b及び絶縁体層2cの周部に凹部が形成され、この凹部から露出する半導体層2a表面には低濃度のp型不純物を拡散させることにより低濃度p型不純物領域7が形成されている。またこの低濃度p型不純物領域7の対角線上の角領域には高濃度のp型不純物を拡散させることにより高濃度p型不純物領域6a,6bが形成され、この高濃度p型不純物領域6a,6b上にはヒーター電極5a,5bが形成されている。このような構成によれば、バイアス電圧印加用端子Vddにバイアス電圧Biasを印加する際、ヒーター電極5a,5b間にもバイアス電圧を印加することにより低濃度p型不純物領域7に熱を発生させ、この熱により半導体圧力センサ1全体を速やかに昇温することができるので、バイアス印加後からセンサの温度が定常状態になるまでの時間が短縮され、センサ全体の温度が瞬時的に定常状態となる。このためピエゾ抵抗素子の抵抗値の温度依存性に由来したオフセット電圧の変動を小さくできる。なおバイアス電圧印加用端子Vdd及びヒーター電極5a,5b間に印加する電圧は同じであっても異なるようにしてもよい。
以上、本発明者らによってなされた発明を適用した実施の形態について説明したが、この実施の形態による本発明の開示の一部をなす記述及び図面により本発明は限定されることはない。すなわち、上記実施の形態に基づいて当業者等によりなされる他の実施の形態、実施例及び運用技術等は全て本発明の範疇に含まれることは勿論である。
1:半導体圧力センサ
2:SOI基板
2a,2b:半導体層
2c:絶縁体層
3:ダイヤフラム部
4a,4b:高濃度n型不純物領域
5a,5b:ヒーター電極
6a,6b:高濃度p型不純物領域
7:低濃度p型不純物領域
GND:接地端子
R1,R2,R3,R4:ピエゾ抵抗素子
Vdd:バイアス電圧印加用端子
Vout+,Vout−:出力端子
2:SOI基板
2a,2b:半導体層
2c:絶縁体層
3:ダイヤフラム部
4a,4b:高濃度n型不純物領域
5a,5b:ヒーター電極
6a,6b:高濃度p型不純物領域
7:低濃度p型不純物領域
GND:接地端子
R1,R2,R3,R4:ピエゾ抵抗素子
Vdd:バイアス電圧印加用端子
Vout+,Vout−:出力端子
Claims (2)
- 第1半導体層と第2半導体層により絶縁体層を挟持する構造を有し、裏面側を加工することにより形成されたダイヤフラム部を備える半導体基板と、
前記ダイヤフラム部の裏面に対応する前記第2半導体層表面に形成され、当該ダイヤフラム部に加えられた圧力を抵抗値変化として検出する複数のピエゾ抵抗素子と、
前記第2半導体層表面に形成され、前記複数のピエゾ抵抗素子を接続してブリッジ回路を構成する拡散リード線と、
前記第1半導体層に電圧を印加するヒーター電極と
を有することを特徴とする半導体圧力センサ。 - 第1半導体層と第2半導体層により絶縁体層を挟持する構造を有し、裏面側を加工することにより形成されたダイヤフラム部を備える半導体基板と、
前記ダイヤフラム部の裏面に対応する前記第2半導体層表面に形成され、当該ダイヤフラム部に加えられた圧力を抵抗値変化として検出する複数のピエゾ抵抗素子と、
前記第2半導体層表面に形成され、前記複数のピエゾ抵抗素子を接続してブリッジ回路を構成する拡散リード線と、
前記第2半導体層及び前記絶縁体層の周部を除去することによりに形成された凹部と、
前記凹部において露出する第1半導体層表面に形成された抵抗素子と、
前記抵抗素子に電圧を印加するヒーター電極と
を有することを特徴とする半導体圧力センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008016436A JP2009175088A (ja) | 2008-01-28 | 2008-01-28 | 半導体圧力センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2008016436A JP2009175088A (ja) | 2008-01-28 | 2008-01-28 | 半導体圧力センサ |
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JP2009175088A true JP2009175088A (ja) | 2009-08-06 |
Family
ID=41030327
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JP2008016436A Pending JP2009175088A (ja) | 2008-01-28 | 2008-01-28 | 半導体圧力センサ |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8607646B2 (en) | 2010-03-30 | 2013-12-17 | Honda Motor Co., Ltd. | Force sensor chip and acceleration sensor chip |
-
2008
- 2008-01-28 JP JP2008016436A patent/JP2009175088A/ja active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8607646B2 (en) | 2010-03-30 | 2013-12-17 | Honda Motor Co., Ltd. | Force sensor chip and acceleration sensor chip |
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