JP2009161846A - プラズマ処理容器内部材の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、1組のアノード11とカソード12を有するプラズマ溶射装置を用いて従来と同じ方法で気孔率5%以上のY2O3の溶射膜21を形成する。その後、この溶射膜21の上に、気孔率が5%未満のY2O3の溶射膜22を形成する。気孔率が5%未満の溶射膜の形成方法は、つぎの通りである。1組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が10〜45μmのY2O3の粉末状素材を供給する。粒径を通常のプラズマ溶射の場合より小さくすることで、気孔率が5%未満のY2O3の溶射膜22を形成することができる。
【選択図】 図1
Description
図2は、図1における溶射膜の断面図を、模式的に示した図である。金属製或いはセラミック製の基材20の表面は、前述したようにサンドブラストなどによって粗面化されている。また、溶射膜21、22は、溶融粒子が付着して固化するため、表面が平面にならず、凹凸に富んだ形状となっている。図2は、溶射膜22を基材(プラズマ処理容器内部材)20の表面に垂直な面で切断した断面を示している。図2では溶射膜21がなく、溶射膜22のみの場合を示しているが、溶射膜21についても測定方法は同じである。
を本発明における溶射膜21、22の気孔率とした。
12 カソード
20 基材
21 気孔率5%以上のY2O3の溶射膜
22 気孔率5%未満のY2O3の溶射膜
22a 気孔
Claims (4)
- 金属製の基材の表面に大気プラズマ溶射により気孔率が5%以上のY2O3溶射皮膜を形成し、該溶射皮膜の上に、気孔率が5%未満のY2O3溶射皮膜を重ねて形成することを特徴とするプラズマ処理容器内部材の製造方法。
- 金属製の基材の表面に大気プラズマ溶射によりAl2O3の溶射皮膜を形成し、該溶射皮膜の上に、気孔率が5%未満のY2O3溶射皮膜を重ねて形成することを特徴とするプラズマ処理容器内部材の製造方法。
- 前記気孔率が5%以上のY2O3の溶射膜と前記基材表面との間に、中間層を形成することを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理容器内部材の製造方法。
- 金属製の基材の表面に、気孔率5%以上で、厚さが50〜170μmのY2O3の溶射皮膜を形成した後、1組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が10〜45μmのY2O3の粉末状素材を供給し、大気圧の下で基材の表面に気孔率5%未満で、厚さが10〜70μmのY2O3の溶射皮膜を形成することを特徴とするプラズマ処理容器内部材の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008028546A JP2009161846A (ja) | 2007-12-10 | 2008-02-08 | プラズマ処理容器内部材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007317841 | 2007-12-10 | ||
JP2008028546A JP2009161846A (ja) | 2007-12-10 | 2008-02-08 | プラズマ処理容器内部材の製造方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008077896A Division JP2009161848A (ja) | 2007-12-10 | 2008-03-25 | プラズマ処理容器内部材の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2009161846A true JP2009161846A (ja) | 2009-07-23 |
JP2009161846A5 JP2009161846A5 (ja) | 2009-11-12 |
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ID=40964783
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008028546A Pending JP2009161846A (ja) | 2007-12-10 | 2008-02-08 | プラズマ処理容器内部材の製造方法 |
JP2008077896A Pending JP2009161848A (ja) | 2007-12-10 | 2008-03-25 | プラズマ処理容器内部材の製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008077896A Pending JP2009161848A (ja) | 2007-12-10 | 2008-03-25 | プラズマ処理容器内部材の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP2009161846A (ja) |
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- 2008-02-08 JP JP2008028546A patent/JP2009161846A/ja active Pending
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120523 |
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A02 | Decision of refusal |
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